JPH048414B2 - - Google Patents
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はシクロヘキセンを分子状酸素で酸化し
てシクロヘキサノンを製造する方法に関するもの
である。 シクロヘキサノンはカプロラクタム、アジピン
酸等の製造原料、高沸点溶媒等において古くから
多量に用いられており、工業的にきわめて有用な
物質である。通常シクロヘキサノンはシクロヘキ
サンを酸化してシクロヘキサノールとシクロヘキ
サノン混合物を得、蒸留して分離後シクロヘキサ
ノールは脱水素してシクロヘキサノンとする方
法、およびフエノールを選択的水素添加によつて
シクロヘキサノンとする方法によつて製造されて
いるが、前記方法であるシクロヘキサンを酸化す
る場合生成物のシクロヘキサノンが原料シクロヘ
キサンよりも酸化されやすいため転化率をきわめ
て低くしなければならないばかりかシクロヘキサ
ノールとシクロヘキサノンとの分離及びシクロヘ
キサノールの脱水素を実施する必要があるという
不都合を有している。又後記方法であるフエノー
ルを選択的水素添加する場合、原料フエノールが
比較的高価である。よつて安価な原料を使用し、
より効率良くシクロヘキサノンを製造する方法が
切に望まれており、このような方法としては例え
ば特開昭57−156428号公報、特開昭57−156429号
公報、英国特許1122040号に示されている液相で
脂肪族アルコールの共存下触媒としてパラジウム
化合物と銅化合物および/もしくは鉄化合物とか
らなるいわゆるワツカー型触媒を用いシクロヘキ
センを分子状酸素により酸化する方法が公知であ
る。 しかしながら、これらワツカー型の触媒を使用
する方法においては、パラジウムの酸化還元電位
が高すぎて、銅化合物および鉄化合物としては塩
化物のみが有効であり、塩化物以外はまつたく効
果を発揮しないかもしくはきわめてわずかの効果
しか得られず工業的実施に当つては多量の試剤を
使用しなければならないという不都合を有してい
る。又塩化物を使用する場合にはCl-イオンの強
い腐食性のためにチタン等のひじように高価な装
置を使用する必要があるばかりか、有機塩素化合
物の生成があるという不都合を有している。 本発明者らはシクロヘキセンと分子状酸素より
シクロヘキサノンを製造するに際し、これら従来
法の欠点を克服し、より簡単な方法でしかもシク
ロヘキセンの転化率を高め、高い選択率で効率よ
くシクロヘキサノンを得る方法につき鋭意検討を
重ねた結果本発明に至つた。すなわち本発明はパ
ラジウム化合物とビスマス化合物とを含む複合系
触媒を用い、液相でシクロヘキセンを分子状酸素
で効率よく酸化し、シクロヘキサノンを得る方法
である。 本発明方法のシクロヘキセンは、ベンゼンの部
分水素添加あるいはシクロヘキサンの部分脱水素
あるいはフエニルシクロヘキシルパーオキサイド
およびフエニルシクロヘキサンの分解等によつて
得られるシクロヘキセンもしくは多量のベンゼン
および/もしくはシクロヘキサンを含むシクロヘ
キセン等が好適に用いられる。一般にこれらの方
法によつて製造されるシクロヘキセンに含まれる
ベンゼン、シクロヘキサンは沸点が余りにも接近
しているため分離精製してシクロヘキセンのみを
得ることは実用的には極めて困難であるが、本発
明方法を実施する場合にはこれら混合系からシク
ロヘキセンを分離精製することなく反応原料とし
て使用できる。 本発明に用いるパラジウム化合物としては硫酸
パラジウム、硝酸パラジウム等の無機塩、酢酸パ
ラジウム、プロピオン酸パラジウム等の有機酸
塩、およびアルミナ、ゼオライト、シリカ、シリ
カアルミナ、活性炭に担持したパラジウムなどが
用いられる。 好ましくは硝酸パラジウム、及び担持したパラ
ジウムである。担持したパラジウムは一般的に担
持パラジウム触媒として入手可能なものでよい。 ビスマス化合物は、硝酸ビスマス、硫酸ビスマ
ス、酸化ビスマス、ビスマスの有機錯塩などであ
り、好ましくは硝酸ビスマスである。 ビスマス化合物とパラジウム化合物の比率はパ
ラジウム原子1グラム原子に対しビスマス原子は
1グラム原子以上30グラム原子以下である。ビス
マス化合物の比率が大きい程、シクロヘキセンの
反応率、選択率が向上するが30グラム原子より多
くなると、大きくする割に該反応率、選択率が向
上しない。 シクロヘキセンに対するパラジウム化合物の比
率は、シクロヘキセン1モルに対して、パラジウ
ム原子0.0001〜0.1グラム原子程度である。 この比率が小さいと反応速度が低くなり反応時
間が長くなり少くとも0.0001グラム原子は必要で
あるが、あまり多くなると液相中に固体粉粒体が
多くなり取扱いにくくなるので0.1グラム原子以
下が望ましい。 本発明で言うところの分子状酸素は、純酸素ガ
スまたは酸素ガスを反応に不活性な希釈剤、例え
ば窒素、ヘリウム等で希釈した混合ガス、および
空気等であり、反応系に存在させる酸素の量は反
応に必要な化学量論モル以上であればよく、また
反応時の圧力は1Kg/cm2G以上の加圧系が望まし
く、反応時の最高使用圧力は設備費および爆発等
に関する安全性より決定される。 本発明における反応温度は触媒の添加量および
種類、反応圧力によつて異なるが、一般には反応
温度が250℃以上では副反応が増大するばかりか、
高価な設備を要するし、20℃より反応温度が低い
場合には反応速度の大幅な低下および反応熱の効
果的な除去が困難となるので、通常20〜250℃の
温度範囲が使用される。 特に好ましくは40〜160℃の温度範囲が用いら
れる。 本発明の触媒を使用し、シクロヘキセンのみ又
はベンゼンおよび/もしくはシクロヘキサン共存
下のシクロヘキセンを分子状酸素と接触させるこ
とによつてシクロヘキサノンを得ることは可能で
あるが、シクロヘキサノンをさらに効率よく得る
ためにはエタノール、プロパノール、ブタノール
等の脂肪族アルコールを共存させることが望まし
い。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例により何ら制限を受け
るものではない。なお、反応生成物の分析にはガ
スクロマトグラフイーを用いた。なお選択率は
(反応によつて生成したシクロヘキサノンのモル
数)/(シクロヘキセンの反応前のモル数−シク
ロヘキセンの反応後のモル数)、転換率は(シク
ロヘキセンの反応前のモル数−シクロヘキセンの
反応後のモル数)/(シクロヘキセンの反応前の
モル数)である。 実施例 1 27.3gのベンゼンおよび20.5gのシクロヘキセ
ンおよび94.0gのエタノールを300ccのクーラー
付丸底フラスコに仕込み、触媒として10.2gの硝
酸ビスマスおよび0.52gの硝酸パラジウムを添加
した後純度99%酸素(残りは窒素)を5/Hr
連続的に十分撹拌した液中へ供給した。反応温度
を50℃に設定し、4時間反応させた後、反応生成
物を分析した結果、シクロヘキセンの転化率は48
%、シクロヘキサノンの選択率は49%であつた。 比較例 1 実施例1において硝酸ビスマスを添加しない以
外は全く同様にして処理した。得られた反応生成
物を分析した結果シクロヘキセンの転化率は16
%、シクロヘキサノンの選択率は1.4%であつた。 実施例 2 実施例1と同じ組成のベンゼン、シクロヘキセ
ン、エタノール混合物141.8gを実施例1で用い
たと同一装置に仕込み、触媒として9.7gの硝酸
ビスマスおよび5.4gの市販5%pd−活性炭担持
触媒(日本エンゲルハルド社製)を添加した後、
純度99%酸素(残りは窒素)を5/Hr連続的
に十分撹拌した液中へ供給した。反応温度を55℃
に設定し、4時間反応させた後反応生成物を分析
した結果シクロヘキセンの転化率は39%、シクロ
ヘキサノンの選択率は66%であつた。 比較例 2 実施例2において硝酸ビスマスを添加しない以
外は全く同様にして処理した。得られた反応生成
物を分析した結果シクロヘキセンの転化率は92%
であり、シクロヘキサノンの選択率は1%以下で
あつた。 実施例 3〜6 20.5gのシクロヘキサンおよび20.5gのシクロ
ヘキセンおよび94.0gn−プロピルアルコール
を、実施例1で用いたと同一装置に仕込み、触媒
として8.2gの硝酸ビスマスおよび第1表に示し
たパラジウム触媒を添加した後、実施例1と同様
な方法で反応を行つた。反応生成物を分析した結
果を第1表に示す。 【表】
てシクロヘキサノンを製造する方法に関するもの
である。 シクロヘキサノンはカプロラクタム、アジピン
酸等の製造原料、高沸点溶媒等において古くから
多量に用いられており、工業的にきわめて有用な
物質である。通常シクロヘキサノンはシクロヘキ
サンを酸化してシクロヘキサノールとシクロヘキ
サノン混合物を得、蒸留して分離後シクロヘキサ
ノールは脱水素してシクロヘキサノンとする方
法、およびフエノールを選択的水素添加によつて
シクロヘキサノンとする方法によつて製造されて
いるが、前記方法であるシクロヘキサンを酸化す
る場合生成物のシクロヘキサノンが原料シクロヘ
キサンよりも酸化されやすいため転化率をきわめ
て低くしなければならないばかりかシクロヘキサ
ノールとシクロヘキサノンとの分離及びシクロヘ
キサノールの脱水素を実施する必要があるという
不都合を有している。又後記方法であるフエノー
ルを選択的水素添加する場合、原料フエノールが
比較的高価である。よつて安価な原料を使用し、
より効率良くシクロヘキサノンを製造する方法が
切に望まれており、このような方法としては例え
ば特開昭57−156428号公報、特開昭57−156429号
公報、英国特許1122040号に示されている液相で
脂肪族アルコールの共存下触媒としてパラジウム
化合物と銅化合物および/もしくは鉄化合物とか
らなるいわゆるワツカー型触媒を用いシクロヘキ
センを分子状酸素により酸化する方法が公知であ
る。 しかしながら、これらワツカー型の触媒を使用
する方法においては、パラジウムの酸化還元電位
が高すぎて、銅化合物および鉄化合物としては塩
化物のみが有効であり、塩化物以外はまつたく効
果を発揮しないかもしくはきわめてわずかの効果
しか得られず工業的実施に当つては多量の試剤を
使用しなければならないという不都合を有してい
る。又塩化物を使用する場合にはCl-イオンの強
い腐食性のためにチタン等のひじように高価な装
置を使用する必要があるばかりか、有機塩素化合
物の生成があるという不都合を有している。 本発明者らはシクロヘキセンと分子状酸素より
シクロヘキサノンを製造するに際し、これら従来
法の欠点を克服し、より簡単な方法でしかもシク
ロヘキセンの転化率を高め、高い選択率で効率よ
くシクロヘキサノンを得る方法につき鋭意検討を
重ねた結果本発明に至つた。すなわち本発明はパ
ラジウム化合物とビスマス化合物とを含む複合系
触媒を用い、液相でシクロヘキセンを分子状酸素
で効率よく酸化し、シクロヘキサノンを得る方法
である。 本発明方法のシクロヘキセンは、ベンゼンの部
分水素添加あるいはシクロヘキサンの部分脱水素
あるいはフエニルシクロヘキシルパーオキサイド
およびフエニルシクロヘキサンの分解等によつて
得られるシクロヘキセンもしくは多量のベンゼン
および/もしくはシクロヘキサンを含むシクロヘ
キセン等が好適に用いられる。一般にこれらの方
法によつて製造されるシクロヘキセンに含まれる
ベンゼン、シクロヘキサンは沸点が余りにも接近
しているため分離精製してシクロヘキセンのみを
得ることは実用的には極めて困難であるが、本発
明方法を実施する場合にはこれら混合系からシク
ロヘキセンを分離精製することなく反応原料とし
て使用できる。 本発明に用いるパラジウム化合物としては硫酸
パラジウム、硝酸パラジウム等の無機塩、酢酸パ
ラジウム、プロピオン酸パラジウム等の有機酸
塩、およびアルミナ、ゼオライト、シリカ、シリ
カアルミナ、活性炭に担持したパラジウムなどが
用いられる。 好ましくは硝酸パラジウム、及び担持したパラ
ジウムである。担持したパラジウムは一般的に担
持パラジウム触媒として入手可能なものでよい。 ビスマス化合物は、硝酸ビスマス、硫酸ビスマ
ス、酸化ビスマス、ビスマスの有機錯塩などであ
り、好ましくは硝酸ビスマスである。 ビスマス化合物とパラジウム化合物の比率はパ
ラジウム原子1グラム原子に対しビスマス原子は
1グラム原子以上30グラム原子以下である。ビス
マス化合物の比率が大きい程、シクロヘキセンの
反応率、選択率が向上するが30グラム原子より多
くなると、大きくする割に該反応率、選択率が向
上しない。 シクロヘキセンに対するパラジウム化合物の比
率は、シクロヘキセン1モルに対して、パラジウ
ム原子0.0001〜0.1グラム原子程度である。 この比率が小さいと反応速度が低くなり反応時
間が長くなり少くとも0.0001グラム原子は必要で
あるが、あまり多くなると液相中に固体粉粒体が
多くなり取扱いにくくなるので0.1グラム原子以
下が望ましい。 本発明で言うところの分子状酸素は、純酸素ガ
スまたは酸素ガスを反応に不活性な希釈剤、例え
ば窒素、ヘリウム等で希釈した混合ガス、および
空気等であり、反応系に存在させる酸素の量は反
応に必要な化学量論モル以上であればよく、また
反応時の圧力は1Kg/cm2G以上の加圧系が望まし
く、反応時の最高使用圧力は設備費および爆発等
に関する安全性より決定される。 本発明における反応温度は触媒の添加量および
種類、反応圧力によつて異なるが、一般には反応
温度が250℃以上では副反応が増大するばかりか、
高価な設備を要するし、20℃より反応温度が低い
場合には反応速度の大幅な低下および反応熱の効
果的な除去が困難となるので、通常20〜250℃の
温度範囲が使用される。 特に好ましくは40〜160℃の温度範囲が用いら
れる。 本発明の触媒を使用し、シクロヘキセンのみ又
はベンゼンおよび/もしくはシクロヘキサン共存
下のシクロヘキセンを分子状酸素と接触させるこ
とによつてシクロヘキサノンを得ることは可能で
あるが、シクロヘキサノンをさらに効率よく得る
ためにはエタノール、プロパノール、ブタノール
等の脂肪族アルコールを共存させることが望まし
い。 以下実施例により本発明を更に詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例により何ら制限を受け
るものではない。なお、反応生成物の分析にはガ
スクロマトグラフイーを用いた。なお選択率は
(反応によつて生成したシクロヘキサノンのモル
数)/(シクロヘキセンの反応前のモル数−シク
ロヘキセンの反応後のモル数)、転換率は(シク
ロヘキセンの反応前のモル数−シクロヘキセンの
反応後のモル数)/(シクロヘキセンの反応前の
モル数)である。 実施例 1 27.3gのベンゼンおよび20.5gのシクロヘキセ
ンおよび94.0gのエタノールを300ccのクーラー
付丸底フラスコに仕込み、触媒として10.2gの硝
酸ビスマスおよび0.52gの硝酸パラジウムを添加
した後純度99%酸素(残りは窒素)を5/Hr
連続的に十分撹拌した液中へ供給した。反応温度
を50℃に設定し、4時間反応させた後、反応生成
物を分析した結果、シクロヘキセンの転化率は48
%、シクロヘキサノンの選択率は49%であつた。 比較例 1 実施例1において硝酸ビスマスを添加しない以
外は全く同様にして処理した。得られた反応生成
物を分析した結果シクロヘキセンの転化率は16
%、シクロヘキサノンの選択率は1.4%であつた。 実施例 2 実施例1と同じ組成のベンゼン、シクロヘキセ
ン、エタノール混合物141.8gを実施例1で用い
たと同一装置に仕込み、触媒として9.7gの硝酸
ビスマスおよび5.4gの市販5%pd−活性炭担持
触媒(日本エンゲルハルド社製)を添加した後、
純度99%酸素(残りは窒素)を5/Hr連続的
に十分撹拌した液中へ供給した。反応温度を55℃
に設定し、4時間反応させた後反応生成物を分析
した結果シクロヘキセンの転化率は39%、シクロ
ヘキサノンの選択率は66%であつた。 比較例 2 実施例2において硝酸ビスマスを添加しない以
外は全く同様にして処理した。得られた反応生成
物を分析した結果シクロヘキセンの転化率は92%
であり、シクロヘキサノンの選択率は1%以下で
あつた。 実施例 3〜6 20.5gのシクロヘキサンおよび20.5gのシクロ
ヘキセンおよび94.0gn−プロピルアルコール
を、実施例1で用いたと同一装置に仕込み、触媒
として8.2gの硝酸ビスマスおよび第1表に示し
たパラジウム触媒を添加した後、実施例1と同様
な方法で反応を行つた。反応生成物を分析した結
果を第1表に示す。 【表】
Claims (1)
- 1 液相でシクロヘキセンを分子状酸素で酸化す
ることによりシクロヘキサノンを製造する方法に
おいて、パラジウム化合物とビスマス化合物とか
ら成る複合系触媒を用いることを特徴とするシク
ロヘキサノンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58201830A JPS6092235A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | シクロヘキサノンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58201830A JPS6092235A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | シクロヘキサノンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092235A JPS6092235A (ja) | 1985-05-23 |
| JPH048414B2 true JPH048414B2 (ja) | 1992-02-17 |
Family
ID=16447597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58201830A Granted JPS6092235A (ja) | 1983-10-26 | 1983-10-26 | シクロヘキサノンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092235A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4841078B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2011-12-21 | 株式会社ダイセル | カルボニル化合物の製造方法 |
-
1983
- 1983-10-26 JP JP58201830A patent/JPS6092235A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6092235A (ja) | 1985-05-23 |
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