JPH0485713A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 り粟上立村且分肚 本発明は、磁気ヘッドに関するものであり、詳細には、
Ｒ−ＤＡＴや高密度ＦＤＤ装置等に使用される平行型Ｍ
　Ｉ　Ｇ　（Ｍｅｔａｌ　Ｉｎ　Ｇａｐ）　ヘッドにお
けるギャップ構造を改善して高密度記録を実現した磁気
ヘッドに関するものである。

従来旦改孟 磁気記録の分野においては、情報信号の高密度記録化や
高周波数化等が進められており、これに対応して磁気記
録媒体としてＦ　ｅ　ｒ　Ｃｏ　＋　Ｎ　ｉ等の強磁性
金属粉を磁性粉に用いたいわゆるメタルテープや磁性金
属材料を蒸着などの真空薄膜形成技術によりベースフィ
ルム上に直接被着したいわゆる蒸着テープ等が実用化さ
れ普及してきている。このような状況から磁気ヘッドに
対しては、例えば高い抗磁力や残留磁束密度を有する磁
気記録媒体に対して良好な記録再生を行うために、磁気
ヘッドのコア材料が高飽和磁束密度、高透磁率を有する
ことなど様々な特性が要求されている。

かかる諸要求を満たす磁気ヘッドを、例えばフェライト
材等の強磁性酸化物材料単体で作製することは難しく、
そこで高飽和磁束密度を有する強磁性金属薄膜、例えば
センダストなどと組み合わせて磁気ヘッドを構成したい
わゆる複合型の磁気ヘッドが提案されている。このセン
ダストはすてに公知である通りＦ　ｅ　ｒ　Ａ　ＩＩＳ
　ｔを主組成とする合金であり、例えば雑誌「電子材料
Ｊ　１９８１年６月号Ｐ２Ｏ６に示されるように、飽和
磁束密度Ｂｓが９５００Ｇａｕｓｓ　＋抗磁力Ｈｃが２
ＱｍＯｅ、実効透磁率ｕｅｆｆが３００００　ａｔ　３
００ＨＺ　、　　ビッカース硬度Ｈｖが５００というよ
うな優れた特性を備えているものである。

従来の上記複合型磁気ヘッドでは、例えば第６図ないし
第８図に示すように巻線係止溝９　ａ　＋９ｂ、巻線挿
通穴１０を形成した磁気コア部２ａ。

２ｂの材料であるフェライトと、コアチップの頂端面８
において、磁気ギャップｇを形成する金属薄膜５との付
着力を向上させるため、各コア２ａ、２ｂの磁気ギャッ
プｇを形成しているエツジ部位２ａ＋２ｂの端面に蒸着
あるいはスパッタ法（不活性ガス雰囲気、特にアルゴン
ガス）などにより、付着強化膜６を５００〜７００人の
厚さに被着形成しておき、その上にセンダストなどの金
属薄膜５を被着させる。この時、付着力強化膜６は元素
周期律表で第１Ｖａ〜ＶＩａ族に含まれる金属の中から
選択され、例えばＣｒ、Ｔ＋が多く用いられている。こ
のように形成した磁気ヘッド部２に銅製の線材７を巻回
して磁気ヘッド１を得ていた。また、付着力強化膜６と
して、これらの金属単体ではなく、拡散を防止するため
の酸化膜、すなわちＳｉＯ２などの薄膜１４を３００λ
〜５００人の膜厚で形成し、それをはさみこんで積層構
造とすることにより、第９図ないし第１０図に示すよう
な磁気へラドコア１５とすることも行われていた。

また、公開特許公報率１−２２３ＧＯ６号において、磁
気コア半休の磁性膜の形成面に比透磁率／膜厚が１００
μｍ”という磁性材を下地膜として形成することにより
、殆どコンタ−効果が発生しない磁気ヘッドが得られる
との特許例もある。

よ” 上述した、平行型ＭＩＧヘッド１は、その製造上溝切り
加工が簡単な点でその製作が容易であるという利点を存
する。しかしながら、そのコアチップ２を製造するのに
、所望の薄膜をスパッタリング等で形成した後、アニー
ルやガラス融着などの熱処理工程を経るため、付着力強
化膜６を形成するＣｒ等の金属が、フェライトコア２ａ
、２ｂ中のＯと熱的に拡散することで結び付き、フェラ
イトコア２　ａ　＋　２　ｂと付着力強化膜６との界面
近傍で劣化層６ａが形成され磁気特性が劣化する。

すなわち、磁気ギャップｇに対して平行な金属薄膜５と
の間に上記劣化層６ａが形成されると、この部分の磁気
抵抗が大きくなって磁気ギャップｇと平行な疑似ギャッ
プｇ１５ｇ２となる。そうすると、このＭＩＧヘッド１
，１５により磁気媒体１１に書き込まれた情報を再生す
る際、周波数特性に疑似ギャップによるうねり現象が発
生したり、正確な再生が困難になったりしてエラーが多
発するという不都合があった。

さらに、上記拡散の影響によりギャップ形成面ｇ−９ｇ
ｂに微小な凹凸が生じ、正確な磁気ギャップ形成が困難
となり、ギヤツブ内気泡やギヤツブ大不良の原因となっ
ていた。

また、第９図ないし第１０図に示すような拡散防止膜と
してＳｉＯ２などの薄層１４を形成した磁気へラドコア
１５においても、フェライトコア２　ａ　ｔ　２　ｂと
付着力強化膜６との界面近傍で磁気特性が劣化してしま
い、疑似ギャップとなる。さらに拡散防止層の厚みは３
００Å以上なければ拡散を止めることができず、厚くし
すぎると、今度はそれ自身が疑似ギャップとして作用し
たり、Ｃｒによる付着力強度が劣化するといった問題が
あり、膜厚の制御が非常に難しい。

そこて、本発明の主要な目的は、製作が容易でしかも、
疑似ギャップからのコンタ−効果による周波数特性のう
ねりの発生しにくい構造を有する平行型ＭＩＧヘッドを
提供することにある。

−　　　　　　ための 本発明は、多結晶フェライトからなる一対のコアの磁気
ギャップを形成するエツジ部位に、下地酸化膜と元素周
期律表で第１ａ〜ＶＩａ族中の金属からなる付着力強化
膜を介して、高飽和磁束密度を有する強磁性体の金属薄
膜を磁気ギャップに平行に設けた磁気ヘッドにおいて、
上記下地酸化膜の膜厚を５〜２５人、付着力強化膜の膜
厚を５〜２００人に形成したことを特徴とする。

■ 上記の技術的手段によれば、一対のフェライト製コアの
磁気ギャップを形成するエツジ部位に、下地酸化膜を５
〜２５人、次に付着力強化膜を５〜２００人を介して強
磁性体の金属薄膜を設けることにより、付着力強化膜を
形成する金属が、アニールやコア接合一体化時の温度で
フェライトコア中に拡散して磁気特性劣化層を形成する
のを防止し、十分な膜の付着力を得ることができる。

災胤桝 本発明の一実施例を第１図ないし第５図を参照して以下
に説明する。第６図ないし第１０図と同一参照符号は同
一物を示し、その説明を省略する。

本発明の特徴は上記フェライトコア２　ａ　＋　　２　
ｂと金属薄膜５との間に下地酸化膜１２を５〜２５人、
付着力強化膜６を５〜２００人の厚さに介在形成したこ
とである。

上記下地酸化膜１２の膜厚に関しては、膜厚を２５Å以
上厚くすると、下地酸化膜が疑似ギャップとして影響を
出しはじめる。また、フェライトコア２ａ、２ｂと金属
薄膜５との密着性も悪くなり膜ハガレを発生する。また
逆に、下地酸化膜１２の膜厚を５λ以下に薄くすると、
下地酸化膜の機能を失い、付着力強化膜６に使っている
金属とフェライトコア中のＯとが半分以上結合してしま
い、磁気特性の劣化層を形成して疑似ギャップとなる。

付着力強化膜の膜厚は、５λ以下では、金属薄膜との密
着性に問題がある。また逆に２００人以上では、アニー
ルやガラス融着などの熱処理時の拡散量が強磁性体であ
る金属薄膜の磁気特性の低下を引き起こし良好な磁気ヘ
ッド特性を得られない。

第４図に下地酸化膜を１００人、付着力強化膜を４００
人とした時の実施例の結果を曲線Ａで示す。

疑似ギャップによるコンタ−効果で周波数特性のうねり
が１．５ｄＢと大きく、疑似ギャップが大きいことが判
る。

第５図に本発明の下地酸化膜厚および付着力強化膜厚で
の実施例の結果を曲線Ｂで示す。コンタ−効果による周
波数特性のうねりが０．３ｄＢと小さく押さえられてい
ることが判る。

光肌二史果 本発明によれば、一対のフェライト製コアを接合一体化
してなるコアチップの頂端面に磁気ギャップを形成し、
磁気ギャップに位置するコアのエツジ部位に、下地酸化
膜および付着力強化膜を介して強磁性体の金属薄膜を設
ける際、下地酸化膜の膜厚および付着力強化膜の膜厚を
最適化したことにより、付着力強化膜を形成する金属が
フェライトコアと強磁性金属薄膜の間に磁気劣化層の影
響が出ない適度な拡散を示し、殆どコンタ−効果のない
磁気ヘッドが得られた。また、付着力強化膜の拡散が少
ないため、それに伴うギヤツブ内気泡やギヤツブ大不良
による歩留りの低下を改善できるとともに、強磁性金属
薄膜自身の磁気特性劣化が防止されて出力特性が十分大
きな信頼性の高い磁気ヘッドを得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図と第２図は、本発明に係る磁気ヘッドの一実施例
を示す斜視図と平面図、第３図は第１図磁気ヘッドの磁
気ギャップ近傍部分を示す要部拡大断面図、第４図と第
５図は本発明の実施例の結果を示す周波数−出力レベル
特性図である。第６図と第７図および第９図は従来の磁
気ヘッドの一具体例を示す斜視図と平面図、第８図は第
６図磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍部分を示す要部拡大
断面図、第１０図は第９図の磁気ヘッドの磁気ギャップ
近傍部分を示す要部拡大断面図である。 ２・・・コアチップ、 ２ａ＋２ｂ・・・コア、 ５・・・金属薄膜、 ６・・・付着力強化膜、 ８・・・頂端面、 １２・・・拡散防止層、 ｇ・・・磁気ギャップ。 竿 閃 第 図 一一一帰　濁凌靭ｆ 〔間１〕 β１−

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 強磁性酸化物の多結晶フェライトからなる一対のコアの
   磁気ギャップを形成するエッジ部に、下地酸化膜と元素
   周期律表で、第IVａ〜VIａ族中の金属からなる付着力強
   化膜を介して、高飽和磁束密度を有する強磁性体の金属
   薄膜を磁気ギャップに平行に設けた磁気ヘッドにおいて
   、 上記下地酸化膜の膜厚を５〜２５Åおよび付着力強化膜
   の膜厚を５〜２００Åで介在・形成したことを特徴とす
   る磁気ヘッド。