JPH01155509A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、ビデオテープデツキ、磁気記録装置などに
用いられる磁気ヘッドに関する。

［従来の技術］ 上記のような磁気ヘッドにおいては、磁気的性質（飽和
磁束密度Ｂｓが高いこと、透磁率が高いことなど）の他
に、機械的性質（耐摩耗性が高いこと、成形性が良いこ
と）が良好であることが要求される。そのような特性を
得るために、ヘッドのコアの基部に、透磁率が高く、比
抵抗が大きい酸化物磁性体のＭｎ−Ｚｎフェライトを用
い、そのギャップ形成面にスパッタリングを行って合金
磁性体であるセンダス１などの被膜を形成するようにし
た複合型ヘッドが用いられている。このような場合、酸
化物磁性体の表面に直接合金磁性体をスパッタリングし
ても、両者の付着強度が充分でないために、機械加工な
どにおいて両者の間（こ微小な剥離が生じ、歩留りを低
下させることになる。そこで、両者の付着強度を上げる
ために、間にクロムからなる中間膜層を形成することが
行なわれていた。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、上記のような従来の技術においては、ク
ロム層が酸化物磁性体層と合金磁性体層との付着強度を
上げて微小剥離の生成を防ぐが、ヘッド製造の際のガラ
スボンディング時における昇温により、クロムが合金磁
性体層に拡散してその磁気特性を変化させるほか、酸化
物磁性体中の酸素が中間層を通して合金磁性体中に拡散
し、酸素の減少部分が本来のフェライトの結晶構造を維
持できなくなって磁気特性が低下し、合金磁性体初期形
成層及び酸化物磁性体の酸素欠乏層、あるいはクロムか
らなる中間膜層が擬似ギャップを生成するという不具合
があった。

この発明は、合金磁性体と酸化物磁性体の付着強度を保
ちつつ、これらの各部の間の元素の拡散による上記合金
磁性体初期形成層及び酸化物磁性体の酸素欠乏層の生成
を防いで、磁気ギャップと合金磁気体膜形成面とが平行
な構造を持つ、いわゆる単純ＭＩＧヘッドによる擬似ギ
ャップの形成を抑制することを目的とするものである。

［問題点を解決するための手段］ 上記のような問題点を解決するために、この発明は、酸
化物磁性体と合金磁性体層との間に、ｒＶａ属もしくは
Ｖａ属の金属元素、例えばＴ　ｉ、　Ｚ　ｒ。

１−Ｉｆ、Ｖ　、Ｎｂ、Ｔａ、またはこれらの金属元素
の酸化物からなる中間膜層を形成したものである。

［作用］ このような磁気ヘッドにおいては、■ａ、　Ｖａｔｉ？
ｉの金属元素またはこれらの金属酸化物は、センダスト
などの合金磁性体に拡散しにくいので、ガラスボンディ
ング時において、合金磁性体にこれらの元素が拡散して
磁気特性を劣化させることがない。また、この中間膜層
は酸素の拡散を妨げるので、ガラスボンディング時に、
酸化物磁性体中の酸素が中間層を通って合金磁性体層に
拡散せず、酸化物磁性体の磁気特性の劣化を防ぐ。

［実施例］ 以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明する。

第１図及び第２図はこの発明を用いた磁気ヘッドを示す
もので、Ｍｎ−Ｚｎフェライトからなるｌコア亀及びＣ
コア２を突き合わけて構成されている。これらのコア１
．２のギャップ部は、第１図に示すように、コア素材で
あるＭｎ−Ｚｎフェライトの上にＴｉからなる中間膜層
３が形成され、さらにその上にセンダスト合金磁性体層
４が形成され、このセンダスト合金磁性体層４が５ｉＯ
ｙのギャップスペーサ層５を介して接合された構造にな
っており、ギャップ部の側部の溝をガラス６により充填
してボンディングされている。

以下、この磁気ヘッドの製造方法について記すと、第３
図に示すものはＭｎ−Ｚｎフェライトのコアブロック７
であり、−面に複数の溝８が平行に長さ方向に形成され
、このｄ−１８の間の平面がギャップ面９になる。溝８
を有する側のブロック上面に、スパッタリングにより、
以下の条件でＴｉの被膜（中間膜層３）を形成した。

スパッタリング：マグネトロンスパッタリングターゲッ
ト：９９．９９ｗｔ％チタン 電源：高周波電源、２　ＫＷ 雰囲気：　Ｉ　ｍＴ　ｏｒｒＡ　ｒ 温度：１００℃ この上にさらにセンダスト合金磁性体層４をスパッタリ
ングにより形成し、ブロック上面に溝に直交する巻線溝
１０及び補強溝１１を形成し、−方のブロックの上面に
Ｓ　ｉ　Ｏを等のギャップスペーサ層５を形成し、互い
に突き合わせた状態で、溶融したガラス６を１ｒ４８に
充填して固化させる。そして、第３図に矢印で示すよう
に、＞Ｉ＃　８に沿ってコアブロック７を切断し、所定
の機械加工を行って、第２図に示すような磁気ヘッドと
する。

このように製造された磁気ヘッドの作用を確認するため
に、ギャップ面９にＴｉからなる中間膜層３及びセンダ
スト合金層４を形成した試料を作り、これを、ガラスボ
ンディングを想゛定した所定の温度（５７０℃）におい
て非酸化性雰囲気（Ｎ、ガス）中で所定の時間（２０ｗ
ｉｎ）焼鈍を行い、焼鈍の前後におけるギャップ面９の
近傍における各元素の分布の変化をオージェ電子分光（
ＡＥＳ）により調べた（第４図及び第５図参照）。また
、比較例として、Ｔｉの替わりにＣｒを用いたものを同
様に分析した（第６図及び第７図参照）。

これらの結果に見られるように、本実施例においては、
焼鈍の後においてもＴｉのセンダスト合金層４への拡散
がほとんど見られないのに対し、従来例においては、Ｃ
「のセンダスト合金層への拡散が見られる。

酸素の分布については、第４図において焼鈍の前にすで
にＴｉ層中にかなりの酸素が含まれているのが見られる
が、これは、センダスト合金をスバッタリング形成（３
５０℃）するときにＴｉが酸化されるものである。本実
施例においては、酸素分布は焼鈍の前後で特に変わりが
なく、フェライト層の中間膜層近傍における磁気特性の
変化が少ないことが推定されるが、従来例においては、
当該部分の酸素量が大きく減少しており、フェライト本
来の結晶構造から解離しているものと推定される。これ
は、ＴｉあるいはＩＶａ、Ｖａ属の金属は、そのゲッタ
ー効果（酸素を捕らえて不動態化する効果）により酸化
物となり、酸素の拡散に対してバリヤーとして作用する
（バリヤー効果）からであると思われる。

本実施例と比較例の効果をさらに具体的に比較するため
に、それぞれのヘッドに高周波電流を流してギャップの
磁気出力を測定した（第７図及び第８図）。これによれ
ば、従来の中間膜層３としてＣｒを用いたものは一定の
周波数毎に出力の低下が見られる。これは、擬似ギャッ
プにおける出力損失があるためと考えられる。一方、実
施例においては、全周波数域においてｍらかな出力が得
られており、擬似ギャップの発生がほとんどないことが
確認できる。

なお、上記の実施例においては、中間膜層３の素材とし
て′ｒｉを用いたが、ＩＶａ属もしくは■ａｒｉＡに属
する金属元素またはこれらの酸化物であれば上記と同様
の作用効果を有ずろものであり、適宜選択が可能である
。

［発明の効果］ 以上詳述したように、この発明は、酸化物磁性体と合金
磁性体層との間に、ＩＶａ属またはＶａ属の金属元素ま
たはその酸化物からなる中間膜層を形成したものであり
、酸化物磁性体と合金磁性体の併行強度を保持しつつ、
製造時の昇温によるギャップ部における各層の間の元素
の拡散を妨げ、各層の磁気特性の劣化を防止し、擬似ギ
ャップの発生を防止することができる。そして、これに
より、酸化物磁性体と合金磁性体の磁気的機械的特徴を
生かしたρ；性能の磁気ヘッドを提供することができる
ものである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の要部を示す平面図、第２
図は同じく斜視図、第３図はその製造方法を示す斜視図
、第４図は実施例のギャップ部の被膜形成直後の組成を
オージェ電子分光装置で調べた結果を示すグラフ、第５
図はその焼鈍後の結果のグラフ、第６図は従来例の被膜
形成直後の組成を調べた結果のグラフ、第７図はその焼
鈍後の結果のグラフ、第８図は実施例の磁気ヘッドの特
性を示すグラフ、第９図は従来例の磁気ヘッドの特性を
示すグラフである。 １．２・・・・・・コア（酸化物磁性体）、３・・・・
・・中間膜層、４・・・・・・合金磁性体層。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 酸化物磁性体からなる一対のコアのギャップ面に、IVａ
   属もしくはＶａ属に属する金属元素またはその酸化物か
   らなる中間膜層を介して合金磁性体層が形成されている
   ことを特徴とする磁気ヘッド。