JPH048639Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH048639Y2 JPH048639Y2 JP1987195583U JP19558387U JPH048639Y2 JP H048639 Y2 JPH048639 Y2 JP H048639Y2 JP 1987195583 U JP1987195583 U JP 1987195583U JP 19558387 U JP19558387 U JP 19558387U JP H048639 Y2 JPH048639 Y2 JP H048639Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- ceramic layer
- electric heater
- heater
- infrared
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Resistance Heating (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本考案は、はんだのリフロー、樹脂のキユア
ー、さらには食品の乾燥、木材、塗装面の加熱、
あるいは医療用の加熱等の処理に使用される赤外
線ヒータ、特に、波長領域が４〜25μmの遠赤外
線を放射する赤外線ヒータに関する。
ー、さらには食品の乾燥、木材、塗装面の加熱、
あるいは医療用の加熱等の処理に使用される赤外
線ヒータ、特に、波長領域が４〜25μmの遠赤外
線を放射する赤外線ヒータに関する。
（従来の技術）
近時の電子機器では軽量・小型化の傾向から小
さな面積に多数の電子部品を搭載したプリント基
板（以下「高密度実装基板」という）が用いられ
るようになつてきた。従つて高密度実装基板にお
いて電子部品をクリームはんだで接合したり、或
いはこれらを接着材で接合する時には、クリーム
はんだを溶解させ、また接着材を硬化させるため
の熱を電子部品の間隙に十分に侵入させなければ
ならない。このときの加熱装置としてはトンネル
内の上下に赤外線ヒータを設置したリフロー炉が
用いられる。リフロー炉の赤外線ヒータはシース
ヒータだけを設置したり、或いは鉄板にヒータを
取付けたもので、その放射波長は3μm以下のもの
であつた。
さな面積に多数の電子部品を搭載したプリント基
板（以下「高密度実装基板」という）が用いられ
るようになつてきた。従つて高密度実装基板にお
いて電子部品をクリームはんだで接合したり、或
いはこれらを接着材で接合する時には、クリーム
はんだを溶解させ、また接着材を硬化させるため
の熱を電子部品の間隙に十分に侵入させなければ
ならない。このときの加熱装置としてはトンネル
内の上下に赤外線ヒータを設置したリフロー炉が
用いられる。リフロー炉の赤外線ヒータはシース
ヒータだけを設置したり、或いは鉄板にヒータを
取付けたもので、その放射波長は3μm以下のもの
であつた。
（考案が解決しようとする問題点）
ところで赤外線は直進するため、高密度実装基
板では電子部品が邪魔となつて、クリームはんだ
や接着剤が塗布された箇所にまで十分に赤外線が
到達しないことがあつた。それ故、クリームはん
だでのはんだ付けは、はんだ付け不良を起こした
り、また接着剤での接合では接着剤が完全に硬化
せず剥離してしまうということがあつた。
板では電子部品が邪魔となつて、クリームはんだ
や接着剤が塗布された箇所にまで十分に赤外線が
到達しないことがあつた。それ故、クリームはん
だでのはんだ付けは、はんだ付け不良を起こした
り、また接着剤での接合では接着剤が完全に硬化
せず剥離してしまうということがあつた。
また、従来の赤外線ヒータは波長領域が3μm以
下であるが、該波長域の赤外線は白色のものへの
吸収、特にはんだのような金属への吸収があまり
良くなく、従つてリフロー炉でクリームはんだを
完全に溶解させるためには、シースヒータへの電
流を多く流して発熱量を多くしなければならなか
つた。しかるに3μm以下のは波長の赤外線は黒色
のものによく吸収されるため、黒色をした電子部
品ばかりが加熱されることになる。しかも、クリ
ームはんだや接着剤への加熱を目的として温度を
上げると電子部品はさらに加熱され、ついには熱
損傷により機能劣化を起こしたり、全く使用不可
能な状態になつてしまうものがあつた。
下であるが、該波長域の赤外線は白色のものへの
吸収、特にはんだのような金属への吸収があまり
良くなく、従つてリフロー炉でクリームはんだを
完全に溶解させるためには、シースヒータへの電
流を多く流して発熱量を多くしなければならなか
つた。しかるに3μm以下のは波長の赤外線は黒色
のものによく吸収されるため、黒色をした電子部
品ばかりが加熱されることになる。しかも、クリ
ームはんだや接着剤への加熱を目的として温度を
上げると電子部品はさらに加熱され、ついには熱
損傷により機能劣化を起こしたり、全く使用不可
能な状態になつてしまうものがあつた。
よつて、本考案の目的は、高密度実装基板にお
いて搭載部品の間隙をも十分に加熱するばかりで
なく、クリームはんだや接着剤への熱吸収のよい
赤外線を放射する赤外線ヒータを提供することに
ある。
いて搭載部品の間隙をも十分に加熱するばかりで
なく、クリームはんだや接着剤への熱吸収のよい
赤外線を放射する赤外線ヒータを提供することに
ある。
（問題点を解決するための手段）
上記目的を達成すべく、本考案者が種々検討を
重ねたところ、赤外線ヒータの熱源自体を熱源と
した熱風を吹き出させること、赤外線照射源とし
てセラミツクス層を用いることにより効率的に加
熱が可能となること、および通気性セラミツクス
層を利用することにより両者を機能的に結合で
き、その相乗的作用効果が効果的に発揮されるこ
とを知り、本考案を完成した。
重ねたところ、赤外線ヒータの熱源自体を熱源と
した熱風を吹き出させること、赤外線照射源とし
てセラミツクス層を用いることにより効率的に加
熱が可能となること、および通気性セラミツクス
層を利用することにより両者を機能的に結合で
き、その相乗的作用効果が効果的に発揮されるこ
とを知り、本考案を完成した。
本考案の要旨とするところは、空胴体内に電熱
ヒータを設置するとともに、加熱されて赤外線を
放射する通気性セラミツクス層を備えた三次元網
状金属体または多孔質金属焼結体から成る通気性
加熱面を前記電熱ヒータ上に設置し、さらに前記
空胴内であつて前記電熱ヒータの背後に送風装置
を設け前記通気性加熱面を経て加熱気体を吹き出
させるべく構成したことを特徴とする赤外線ヒー
タである。
ヒータを設置するとともに、加熱されて赤外線を
放射する通気性セラミツクス層を備えた三次元網
状金属体または多孔質金属焼結体から成る通気性
加熱面を前記電熱ヒータ上に設置し、さらに前記
空胴内であつて前記電熱ヒータの背後に送風装置
を設け前記通気性加熱面を経て加熱気体を吹き出
させるべく構成したことを特徴とする赤外線ヒー
タである。
本考案において使用する加熱により赤外線を放
射するセラミツクスとしては、Ａ203、Ti02、
Cr203、Mg0、Zr02、Si02等であり、これらは例
えば電鋳により製造される三次元網状構造を有す
る多孔質金属板、つまり三次元網状金属体（商品
名”セルメツト”（住友電工製）または通気性を
有する多孔質焼結金属支持体に焼付けたり、溶射
することにより設置される。
射するセラミツクスとしては、Ａ203、Ti02、
Cr203、Mg0、Zr02、Si02等であり、これらは例
えば電鋳により製造される三次元網状構造を有す
る多孔質金属板、つまり三次元網状金属体（商品
名”セルメツト”（住友電工製）または通気性を
有する多孔質焼結金属支持体に焼付けたり、溶射
することにより設置される。
本考案において使用する送風装置は、代表的に
は回転フアンであつて、回転翼によつて強制的に
送風を行う形式のものであれば、具体的構造は特
に制限されない。空洞体内にあつて電熱ヒータの
背後に設置することから、可及的に小形かつ強力
な送風装置が好ましい。
は回転フアンであつて、回転翼によつて強制的に
送風を行う形式のものであれば、具体的構造は特
に制限されない。空洞体内にあつて電熱ヒータの
背後に設置することから、可及的に小形かつ強力
な送風装置が好ましい。
かくして、本考案によれば、セラミツクス層の
支持体として金属支持体を使用していることか
ら、セラミツクス単独の場合と比較して強度的に
もはるかに優れ、しかも金属体の熱伝導がよいこ
とからセラミツクス層が設けられた加熱面の隅々
まで均一に加熱され、したがつて遠赤外線放射率
が全体的に均一化され全体の放射効率も改善され
る。
支持体として金属支持体を使用していることか
ら、セラミツクス単独の場合と比較して強度的に
もはるかに優れ、しかも金属体の熱伝導がよいこ
とからセラミツクス層が設けられた加熱面の隅々
まで均一に加熱され、したがつて遠赤外線放射率
が全体的に均一化され全体の放射効率も改善され
る。
また、本考案によれば、通気性加熱面を構成す
るのは、多孔質金属焼結体または三次元網状金属
体であつて、いわゆるパンチ孔板と比較して、セ
ラミツクス層の加熱が金属伝導によるばかりでな
く気体の対流による直接的加熱が行われるためか
なり改善される。
るのは、多孔質金属焼結体または三次元網状金属
体であつて、いわゆるパンチ孔板と比較して、セ
ラミツクス層の加熱が金属伝導によるばかりでな
く気体の対流による直接的加熱が行われるためか
なり改善される。
このように本考案によれば、空胴体内および通
気性加熱面を通過する時に加熱された気体は上記
通気性加熱面を通つて被加熱体に吹き付けられ、
赤外線が到達しないような狭い間隙でも容易に侵
入し、また通気性加熱面を構成する加熱されたセ
ラミツクス層からは金属や白色物への吸収の良好
な４〜25μmの赤外線が放射される。このように
熱風と赤外線を共用することによりその相乗作用
で高密度実装基板に対しクリームはんだや接着剤
の熱処理をさらに効率的に行うことができる。
気性加熱面を通過する時に加熱された気体は上記
通気性加熱面を通つて被加熱体に吹き付けられ、
赤外線が到達しないような狭い間隙でも容易に侵
入し、また通気性加熱面を構成する加熱されたセ
ラミツクス層からは金属や白色物への吸収の良好
な４〜25μmの赤外線が放射される。このように
熱風と赤外線を共用することによりその相乗作用
で高密度実装基板に対しクリームはんだや接着剤
の熱処理をさらに効率的に行うことができる。
（実施例）
本考案にかかる赤外線ヒータは、添付図面にも
示すように、箱状空胴体１、電熱ヒータ２、通気
性セラミツクス層３および送風装置８から構成さ
れている。
示すように、箱状空胴体１、電熱ヒータ２、通気
性セラミツクス層３および送風装置８から構成さ
れている。
第１図は本考案の１実施例を一部破壊して示す
斜視図および第２図は第１図のＡ−Ａ線に沿つた
断面図である。
斜視図および第２図は第１図のＡ−Ａ線に沿つた
断面図である。
箱状空胴体１内にはシースの電熱ヒータ２が蛇
行状態で水平に設置されている。該電熱ヒータの
上には通気性のある金属支持体５を介して通気性
セラミツクス層３が設置されている。通気性のあ
る金属支持体とは、金属粉を粗状に焼結した多孔
質焼結金属板、或いは金属を電解液で電鋳した三
次元金属網状体（商品名：セルメツト）であり、
セラミツクス層３の支持体としての機能、要求さ
れる通気性等を考慮すれば、電鋳により得られる
三次元金属網状体が好ましいものである。
行状態で水平に設置されている。該電熱ヒータの
上には通気性のある金属支持体５を介して通気性
セラミツクス層３が設置されている。通気性のあ
る金属支持体とは、金属粉を粗状に焼結した多孔
質焼結金属板、或いは金属を電解液で電鋳した三
次元金属網状体（商品名：セルメツト）であり、
セラミツクス層３の支持体としての機能、要求さ
れる通気性等を考慮すれば、電鋳により得られる
三次元金属網状体が好ましいものである。
また通気性セラミツクス層は後述する送風装置
から送風される気体を容易に通過させるもので、
通気性金属支持体上に設置する場合はセラミツク
ス質を焼付けたり、溶射することにより通気状態
にすることができる。
から送風される気体を容易に通過させるもので、
通気性金属支持体上に設置する場合はセラミツク
ス質を焼付けたり、溶射することにより通気状態
にすることができる。
箱状空洞体１にあつて電熱ヒータ２の背後には
送風装置８が設けられている。図示例では回転翼
９を備えたフアンである。駆動軸１０は電動機１
１に接続されている。この送風装置８の取付けは
適宜行うことができる。
送風装置８が設けられている。図示例では回転翼
９を備えたフアンである。駆動軸１０は電動機１
１に接続されている。この送風装置８の取付けは
適宜行うことができる。
本考案にかかる赤外線ヒータはリフロー炉のト
ンネル内に上下に設置して使用するのに特に適し
ているが、それにのみ制限されるものではない。
ンネル内に上下に設置して使用するのに特に適し
ているが、それにのみ制限されるものではない。
次に、本考案の赤外線ヒータの使用状態につい
て図面にもとずいて説明する。
て図面にもとずいて説明する。
先ず電熱ヒータ２に通電を行う。電熱ヒータ２
が加熱されると、その上に置かれた通気性加熱面
を構成する金属支持体５およびセラミツクス層３
が加熱され、さらには電熱ヒータ２の置かれた箱
状空胴体１内も加熱されることになる。斯様に全
てが十分加熱されたならば、電熱ヒータ２の背後
に設けられた、図示例では回転フアンである送風
装置を起動させて背後から強制的に送風する。必
要により、箱状空洞体１を気密に構成するととも
に気体流入口を設け、そこから気体（空気または
N2、CO2、Ar，He等の不活性ガス）を箱状空胴
体１内に導入するように構成してもよい。かかる
送風手段によつて気体は熱い箱状空胴体１内で加
熱され、さらに熱い通気性金属支持体５、セラミ
ツクス層３を通過する時に加熱されて熱風となつ
て出てくる。つまり、本考案の赤外線ヒータでは
加熱されたセラミツクスから波長４〜25μmの遠
赤外線が放射されるとともにセラミツクス層の通
気孔からは熱風が吹出してくるものである。
が加熱されると、その上に置かれた通気性加熱面
を構成する金属支持体５およびセラミツクス層３
が加熱され、さらには電熱ヒータ２の置かれた箱
状空胴体１内も加熱されることになる。斯様に全
てが十分加熱されたならば、電熱ヒータ２の背後
に設けられた、図示例では回転フアンである送風
装置を起動させて背後から強制的に送風する。必
要により、箱状空洞体１を気密に構成するととも
に気体流入口を設け、そこから気体（空気または
N2、CO2、Ar，He等の不活性ガス）を箱状空胴
体１内に導入するように構成してもよい。かかる
送風手段によつて気体は熱い箱状空胴体１内で加
熱され、さらに熱い通気性金属支持体５、セラミ
ツクス層３を通過する時に加熱されて熱風となつ
て出てくる。つまり、本考案の赤外線ヒータでは
加熱されたセラミツクスから波長４〜25μmの遠
赤外線が放射されるとともにセラミツクス層の通
気孔からは熱風が吹出してくるものである。
（考案の効果）
本考案にかかる赤外線ヒータをリフロー炉に設
置してクリームはんだや接着剤を塗布した高密度
実装基板の加熱を行つた場合、セラミツクス層か
らは金属や樹脂によく吸収される４〜25μmの遠
赤外線が放射されるため、クリームはんだや接着
剤が効率よく加熱され、またセラミツクス層の通
気孔から吹き出る熱風は高密度実装基板の各部分
間に侵入して赤外線が届きにくい箇所を加熱す
る。従つて、本考案の赤外線ヒータは遠赤外線と
熱風の長所を十分に発揮するとともに、この相乗
作用でクリームはんだ付けや接着剤での接合を完
全なものにするという優れた効果を有している。
置してクリームはんだや接着剤を塗布した高密度
実装基板の加熱を行つた場合、セラミツクス層か
らは金属や樹脂によく吸収される４〜25μmの遠
赤外線が放射されるため、クリームはんだや接着
剤が効率よく加熱され、またセラミツクス層の通
気孔から吹き出る熱風は高密度実装基板の各部分
間に侵入して赤外線が届きにくい箇所を加熱す
る。従つて、本考案の赤外線ヒータは遠赤外線と
熱風の長所を十分に発揮するとともに、この相乗
作用でクリームはんだ付けや接着剤での接合を完
全なものにするという優れた効果を有している。
なお、以上の説明はリフロー炉に本考案にかか
る赤外線ヒータを使用した例にもとずいている
が、すでに述べたように本考案は加熱処理一般に
適用可能であることは、理解されよう。
る赤外線ヒータを使用した例にもとずいている
が、すでに述べたように本考案は加熱処理一般に
適用可能であることは、理解されよう。
第１図は、本考案の実施例の一部破壊斜視図；
および第２図は、第１図のＡ−Ａ線に沿つた断面
図である。 １……箱状空胴体、２……電熱ヒータ、３……
通気性セラミツクス層、８……送風装置、５……
通気性金属支持体。
および第２図は、第１図のＡ−Ａ線に沿つた断面
図である。 １……箱状空胴体、２……電熱ヒータ、３……
通気性セラミツクス層、８……送風装置、５……
通気性金属支持体。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 空胴体内に電熱ヒータを設置するとともに、
加熱されて赤外線を放射する通気性セラミツク
ス層を備えた三次元網状金属体または多孔質金
属焼結体から成る通気性加熱面を前記電熱ヒー
タ上に設置し、さらに前記空胴内であつて前記
電熱ヒータの背後に送風装置を設け前記通気性
加熱面を経て加熱気体を吹き出させるべく構成
したことを特徴とする赤外線ヒータ。 (2) 前記送風手段が回転フアンである、実用新案
登録請求の範囲第１項に記載の赤外線ヒータ。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987195583U JPH048639Y2 (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 | |
| DE3804704A DE3804704A1 (de) | 1987-02-17 | 1988-02-15 | Infrarot-heizvorrichtung |
| GB8803597A GB2201320B (en) | 1987-02-17 | 1988-02-17 | Infrared heater |
| US07/352,227 US5058196A (en) | 1987-02-17 | 1989-05-15 | Electric infrared heater having a gas permeable electroformed porous metallic panel coated with a porous ceramic far-infrared radiating layer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987195583U JPH048639Y2 (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0198494U JPH0198494U (ja) | 1989-06-30 |
| JPH048639Y2 true JPH048639Y2 (ja) | 1992-03-04 |
Family
ID=31486256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987195583U Expired JPH048639Y2 (ja) | 1987-02-17 | 1987-12-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH048639Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0726050Y2 (ja) * | 1990-11-27 | 1995-06-14 | 株式会社今井製作所 | 自動半田付け機 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6026192U (ja) * | 1983-07-28 | 1985-02-22 | 日本碍子株式会社 | 板状赤外線ヒ−タ |
| FR2556547B1 (fr) * | 1983-12-12 | 1986-09-05 | Acir | Generateur electrique perfectionne de rayons infrarouges constituant epurateur d'atmosphere |
| JPH035821Y2 (ja) * | 1985-08-15 | 1991-02-14 | ||
| JPH0315928Y2 (ja) * | 1986-03-14 | 1991-04-05 |
-
1987
- 1987-12-23 JP JP1987195583U patent/JPH048639Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0198494U (ja) | 1989-06-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0625919Y2 (ja) | 赤外線ヒータ | |
| US5058196A (en) | Electric infrared heater having a gas permeable electroformed porous metallic panel coated with a porous ceramic far-infrared radiating layer | |
| CN101648304A (zh) | 回流焊炉的回风装置 | |
| JP2010078244A (ja) | 加熱調理器 | |
| JPH048638Y2 (ja) | ||
| TW200526099A (en) | Dual stage pre-heater | |
| CN216776121U (zh) | 一种用于雾化的发热组件 | |
| JP3818713B2 (ja) | 熱風加熱装置 | |
| JPH0440603Y2 (ja) | ||
| JP2509779Y2 (ja) | 赤外線ヒ―タ | |
| JPH1157580A (ja) | 乾燥装置ユニット | |
| JPH11118158A (ja) | 加熱調理器 | |
| JPH0195227A (ja) | 電子レンジ用発熱体 | |
| JPS5770325A (en) | Heating cooker | |
| JP3495205B2 (ja) | 加熱装置 | |
| KR20080005014U (ko) | 조리장치 | |
| JP3095831U (ja) | 遠赤外線発熱体ユニット | |
| JPH0510596A (ja) | 暖房機とその製造方法および製造装置 | |
| JPH03263517A (ja) | 調理器 | |
| JPH0642391B2 (ja) | 加熱調理器 | |
| JPS6056893U (ja) | 熱風発生装置用の熱遮蔽装置 | |
| JPS62159975U (ja) | ||
| JPH04339561A (ja) | 自動はんだ付け装置用プリヒータ | |
| JPS5926162Y2 (ja) | 高周波加熱装置 | |
| KR200184320Y1 (ko) | 전자 렌지용 컨벡션 어셈블리 |