JPH0487639U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0487639U JPH0487639U JP12972590U JP12972590U JPH0487639U JP H0487639 U JPH0487639 U JP H0487639U JP 12972590 U JP12972590 U JP 12972590U JP 12972590 U JP12972590 U JP 12972590U JP H0487639 U JPH0487639 U JP H0487639U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processed
- semiconductor manufacturing
- electrode plate
- processing liquid
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Formation Of Insulating Films (AREA)
Description
第1図は本考案の浮遊式メツキ治具の分解断面
図、第2図はこの治具を用いたメツキ装置を示す
概略構成図、第3図は従来のメツキ治具の分解断
面図、第4図は従来のメツキ装置の概略構成図で
ある。 11……半導体ウエーハ、12……メツキ液(
処理液)、13……平形Oリング、14……治具
本体、15……吸着ステージ、16……電極端子
、17……本体、18……メツキ槽(処理槽)、
19……電極板。
図、第2図はこの治具を用いたメツキ装置を示す
概略構成図、第3図は従来のメツキ治具の分解断
面図、第4図は従来のメツキ装置の概略構成図で
ある。 11……半導体ウエーハ、12……メツキ液(
処理液)、13……平形Oリング、14……治具
本体、15……吸着ステージ、16……電極端子
、17……本体、18……メツキ槽(処理槽)、
19……電極板。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 処理対象物を電極板と対向して処理液に浸
漬し、この処理対象物と電極板間に電圧を印加す
る半導体製造装置において、 処理対象物をOリングを介してステージ上に吸
着させたことを特徴とする半導体製造装置。 (2) 請求項1において、処理対象物を処理液中
に水平に配設したことを特徴とする半導体製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12972590U JPH0487639U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12972590U JPH0487639U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0487639U true JPH0487639U (ja) | 1992-07-30 |
Family
ID=31877116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12972590U Pending JPH0487639U (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0487639U (ja) |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP12972590U patent/JPH0487639U/ja active Pending
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