JPH0494094A - 薄膜el素子 - Google Patents

薄膜el素子

Info

Publication number
JPH0494094A
JPH0494094A JP2210467A JP21046790A JPH0494094A JP H0494094 A JPH0494094 A JP H0494094A JP 2210467 A JP2210467 A JP 2210467A JP 21046790 A JP21046790 A JP 21046790A JP H0494094 A JPH0494094 A JP H0494094A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
concentration
emitting layer
matrix
rare earth
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2210467A
Other languages
English (en)
Inventor
Koyata Takahashi
小弥太 高橋
Koji Shibuya
渋谷 孝二
Akio Kondo
近藤 昭夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP2210467A priority Critical patent/JPH0494094A/ja
Publication of JPH0494094A publication Critical patent/JPH0494094A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電圧を印加することにより発光を呈するEL(
エレクトロルミネッセンス)発光層を有してなる薄膜E
L素子に関し、特に多色発光を有する平面デイスプレィ
に好適な薄膜EL素子に関する。
[従来の技術〕 薄膜EL素子は、全固体薄型でコントラストの高い高品
質の表示ができる等の優れた特徴をもつ。
このような薄膜EL素子の有するEL発光層の材料とし
ては一般に黄橙色発光を呈するMnを含有するZnSが
知られており、これは既に実用化され、計測機器、各種
情報機器への応用が進んでいる。また、近年より多くの
情報を表示するため1こ、多色あるいは、フルカラー表
示の可能な薄膜EL素子が望まれ、さかんに研究されて
いる。薄膜EL素子で多色表示をするために、RGB発
光を呈するEL発光層が研究されており、その材料とし
ては赤色ではEuを含有するC B S % S mを
含有するZnSなどが、緑色ではTbを含有するZn5
SCeを含有するCaSなどが、更に青色ではCeを含
有するSrSなどがその対象となってL)る。また、薄
膜EL素子で多色表示をするため1こ、白色発光を呈す
る薄膜EL素子にカラーフィルりを重ねる方法も提案さ
れており、白色発光を呈するEL発光層の材料としてC
e及びEuを含有するSrSあるいはCeを含有するS
rS薄膜及びMnを含有するZnS薄膜を積層した材料
などが研究されている。
ところで、上述した材料をEL発光層として用いた薄膜
EL素子の発光の安定性については従来から様々報告さ
れており、例えばZnS系の材料では、Mnを含有した
ZnSをEt発光層とじた薄膜EL素子は2万〜10万
時間の安定性が確認されており、Tbを含有するZnS
をEL発光層とした薄膜EL素子は1万時間程度の安定
性が報告され実用化の一歩手前まできている(昭和63
年秋期 第49回応用物理学会学術講演会 講演手積 
plolo)。また、希土類金属を含有したアルカリ土
類金属′硫化物の材料では、Euを含有したCaSをE
L発光層として用いた薄膜EL素子は4 KHz駆動で
700時間以上発光特性が安定であることが報告されて
おり(昭和61年春期第33回応用物理学会学術講演会
 講演手積 p619)、この値は通常の周波数(30
〜60H2)で駆動する条件では5万時間以上に相当す
る。
一般的に平面型デイスプレィへ薄膜EL素子を適用する
場合、通常の周波数(30〜60 Hz)で駆動する条
件で2万〜5万時間の発光特性の安定性が要求され、更
に具体的には、発光開始電圧の変化が10ボルト以内、
駆動電圧での輝度の劣化が20%以内であることが必要
である。しかしながら、ZnS系の材料及びEuを含有
したCaS以外の材料、特に多色表示をするために必要
な材料であるEu以外の希土類金属を含有したアルカリ
土類金属硫化物の材料をEL発光層として用いた薄膜E
L素子は上記条件を満足するものではなく、その安定性
に問題があった。例えば、Ceを含有したSrSをEL
発光層とした薄膜EL素子の安定性が報告されているが
、この薄膜EL素子は輝度、発光開始電圧の安定性に問
題があることが指摘されている(SID  89  ダ
イジェストp321あるいはスブリンガー プロシーデ
インゲス イン フィジックス 38巻 エレクトロル
ミネセンス 132頁など)。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、Eu以外の希土類金属を含有するアル
カリ土類金属硫化物をEL発光層として用いた薄膜EL
素子において、長時間の安定性を達成せしめることにあ
る。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは上記課題を解決するために、鋭意検討を行
なった結果、希土類金属を含有するアルカリ土類金属硫
化物の母体中にPを添加し、更に母体中の希土類金属の
濃度及びP濃度を規定した材料をEL発光層として用い
ることにより、長時間の安定性を示す薄膜EL素子が得
られることを見出だし本発明を完成するに至った。すな
わち本発明は、EL発光層及び該EL発光層に電圧を印
加する手段を有してなる薄膜EL素子において、EL発
光層が、MgS、CaS%S rS又はBaSを母体と
し、該母体中にLax Ce、Pr。
Nds Sm5Gd、Tb、Dy5no、Er。
Tm、Yb及びLuよりなる群から選択された少なくと
も一種以上の希土類金属及びPを含有する薄膜を含み、
該薄膜中の上記希土類金属の合計の濃度が0.03〜3
.0at11%、Pの濃度が上記希土類金属の合計の濃
度に対して1.3〜4.0倍であることを特徴とする薄
膜EL素子である。本発明の薄膜EL素子はEL発光層
に特徴のあるものであり、このEL発光層はMgS、C
aS。
SrS又はBaSのアルカリ土類金属硫化物を母体とし
、該母体中に希土類金属及びPを含有する薄膜を含み、
かつ該薄膜中の希土類金属及びPの濃度が規定されたも
のである。ここで、母体中に希土類金属及びPを含有す
る薄膜を含むEL発光層とは、EL発光層が上記薄膜の
みから形成されること、EL発光層が上記薄膜と他の薄
膜を積層して形成されることなどを示す。また、本発明
において、母体中の希土類金属の濃度は、希土類金属の
原子数/母体中の総原子数により規定される。
本発明の薄膜EL素子は、EL発光層が上述の薄膜を含
むことにより、その輝度において安定性を示すものとな
る。なお、その理由は明らかではないが、Eu以外の希
土類金属は三価であり、このような希土類金属がアルカ
リ土類硫化物中に含有する際に生じるアルカリ土類金属
欠損がPにより消滅し、またPは硫黄とイオン半径が比
較的近いことにあると推測される。また、本発明の薄膜
EL素子のEL発光層に含まれるPの濃度は、母体中に
含有されるEu以外の希土類金属の合計の濃度に対して
1.5〜3.0倍であることが更に好ましく、上記範囲
の含有量とすることにより、得られる薄膜EL素子は更
に高輝度、長寿命となる。
また、本発明の薄膜EL素子において、特にEL発光層
が、CaSを母体とし、該母体中にCe及びPを含有す
る薄膜を含み、該薄膜中のCeの濃度が0.03〜0.
4atg+%、Pの濃度が上記Ceの濃度に対して1.
3〜4.0倍である薄膜EL素子は高い輝度の安定した
緑色発光を呈し、EL発光層が、SrSを母体とし、該
母体中にCe及びPを含有する薄膜を含み、該薄膜中の
Ceの濃度が0. 03〜0.4atm%、Pの濃度が
上記Ceの濃度に対して1.3〜4.0倍である薄膜E
L素子は高い輝度の安定した青色発光を呈する。
更に、EL発光層が、SrSを母体とし、該母体中にC
e、Eu及びPを含有する薄膜を含み、該薄膜中(7)
 Ce (7)濃度が0. 04〜0.4atI11%
、Euの濃度が0. 01〜0. 03atI11%、
Pの濃度が上記Ceの濃度に対して1.3〜4.0倍で
ある薄膜EL素子及びEL発光層が、SrSを母体とし
、該母体中にCe及びPを含有する薄膜とMnを含有す
るZnS薄膜を積層してなり、該積層を構成するSrS
を母体とする麺膜中のCeの濃度が0. 03〜0.4
atm%、Pの濃度が上記Ceの濃度に対して1.3〜
4.0倍であり、上記Zn5R膜中のMn濃度(M n
原子数/ Z n S薄膜中の全原子数)が0.1〜1
.Oatm%である薄膜EL素子は高い輝度の安定した
白色発光を呈するので、これにカラーフィルターを重ね
ることにより、多色表示の可能な薄膜EL素子を得るこ
とができる。
本発明の薄膜EL素子の構造は上述したEL発光層及び
該EL発光層に電圧を印加する手段を有していれば特に
限定されず、第1図に示す構造のものなどが例示される
。第1図において、EL発光層4には透明電極2及び背
面電極6により電圧が印加される。また、本発明の薄膜
EL素子における発光層の厚みは特に限定されないが、
薄膜EL素子の駆動電圧、明るさなどを考慮して0. 
5〜2,5μmとすることが好ましい。
本発明の薄膜EL素子のEL発光層は例えばスパッタリ
ング法、蒸着法、CVD法、MOCVD法、ALE法等
種々の薄膜形成技術により形成することができる。この
うち、EL発光層を蒸着法により形成する場合、EL発
光層の母体となる硫化物に希土類金属及びPを添加した
蒸発源が用いられ、蒸発源へのPの添加は種々のリン酸
塩、赤リン、リン化ストロンチウムなどのリン化物の添
加により行われるが、特にNH4H2PO4を用いるこ
とが好ましく、これによってEL発光層中のP濃度の調
整が容易になる。
また、いずれの成膜法においても、成膜後に真空中、不
活性ガス中あるいは硫化水素中で400〜700℃の温
度で熱処理をすることが好ましく、このことにより得ら
れる薄膜EL素子の発光特性の安定化が促進される。
[実施例] 以下、本発明を実施例により示すが、本発明は何らこれ
らに限定されるものではない。
(実施例1) 第1図に示す薄膜EL素子を次のとおり作製した。はじ
めに、ガラス基板1の上にフォトエツチングにより透明
電極2をストライブ状に形成し、この上に第一絶縁層3
を形成した。第一絶縁層3は、厚さ0.03μmのS 
iO2薄膜及び厚さ0.17μmのSi3N4薄膜をR
Fスパッタリング法により積層して形成した。次に第一
絶縁層3上に厚さ約1.1μmのEL発光層4を形成し
た。EL発光層4は、SrSに0.08atm%のCe
  S  とNH4H2PO4を混合して成型したベレ
ットを蒸発原料とした電子ビーム蒸着法により形成し、
蒸着条件は基板温度を650℃と一定にして、到達真空
度を3 X 10−6Torr以下とし、蒸着中はI 
X 10−’Torrの硫化水素を導入して雰囲気の制
御を行ない、堆積速度は5人/秒とした。
その結果、EL発光層中のCe濃度は0.09atmX
となった。なお、EL発光層中のP濃度は蒸発原料中の
NH4H2PO4の含有量を変化させることにより調整
した。その後、EL発光層4の上に第二絶縁層5の形成
をRFスパッタリング法によりSi3N4薄膜を厚み0
.15μm、5rTa206薄膜を厚み0.05μm積
層して行ない、更にこの上に背面電極6として金属A1
1を0゜1μmの厚みて透明電極と直交するように形成
して薄膜EL素子を形成した。
次に得られた薄膜EL素子の特性試験を行なった。特性
試験にあたり、薄膜EL素子には湿気防止対策として背
面ガラスを取り付け、該背面ガラスと薄膜EL素子との
空間部分に注入口からシリカゲルを含んだシリコンオイ
ルを注入し、注入口の封止を行なった。また特性試験は
、透明電極2と背面電極6との間にI KHz正弦波電
圧を印加しながら輝度などを測定する方法で行ない、薄
膜EL素子の寿命を測定するためのエージングは、駆動
周波数5 K)Izで初期の発光開始電圧に対して50
ボルト高い電圧を印加して行なった。なお、このエージ
ングの条件は、通常の素子駆動条件に対して約100〜
200倍の加速である。
特性試験として、はじめに得られた薄膜EL素子の発光
開始電圧に対して60ボルト高い電圧での輝度(L6o
)の経時変化n1定を行なった。また、経過時間におい
ては薄膜EL素子のエージングを行なった。その測定結
果を第2図に示す(初期輝度を1.0に規格化している
)。測定の結果、Pを0.12atm%以上含有するE
L発光層を有する薄膜EL素子は300時間のエージン
グ後でも初期の80%以上の輝度を保持し、特に0.2
3atm%のPを含有したものについては1000時間
エージング後でも初期の8096以上の輝度を保持して
いた。
第3図にエージング10時間後に対する300時間後の
発光開始電圧の変化量を示す。0,10atm%以上P
を含んだEL発光層を有する薄膜EL素子の発光開始電
圧の変化量は10ボルト以内であり、特に0.17at
m%以上のPを含んだ試料において発光開始電圧の変化
量は4ボルト以内とかなり良好であった。
第4図にEL発光層中のP濃度に対する色度座標の依存
性を示す。P濃度の増加に伴い、色度座標は青色にシフ
トした。また、薄膜EL素子の輝度の絶対値は、第5図
に示すように、初期ではPを含有しないEL発光層を有
する薄膜EL素子が高く、24時間エージング以降はP
濃度が0.1〜0 、 2 atm%含有するEL発光
層を有する薄膜EL素子が最も高かった。
(実施例2) 実施例1と同様の方法で薄膜EL素子を作製した。たた
し、EL発光層中のCe濃度を0.1〜0.5atm%
とし、CeとPの比が1〜3になるようにして薄膜EL
素子を幾種類か作製した。次に得られた薄膜EL素子の
5KHz、300時間エジング後のL60を測定した。
その結果、P / Ceが1.3以上で300時間エー
ジング後においても初期の80%以上の輝度を保持した
。第6図にL6oのPとCeの比(P / Ce )に
対する依存性を示す(初期輝度を1.0に規格化してい
る)。
また、得られた薄膜EL素子の初期輝度の測定を行なっ
た。第7図にP / Ceが2の場合のEL発光層中の
Ce濃度に対する初期輝度の依存性を示す。初期輝度は
EL発光層中のCefi度が0 、 1〜0 、 2 
atm%で最も高く、0.4atw%を越えた場合、そ
の半分以下の値となった。
(実施例3) 実施例1と同様の方法でEL素子を作製した。
ただし、EL発光層中のCe濃度を0.1atm%、P
濃度を0. 2ats%となるようにして、発光層4を
蒸着した後、5 X 10−6Torrの真空中におい
て600℃で1時間熱処理を行なって薄膜EL素子を作
製した。また、比較のために熱処理を行わない薄膜EL
素子も同時に作製した。
第8図にa)熱処理を行わなかった試料とb)熱処理を
行った試料の輝度−電圧特性の経時変化を比較して示す
。熱処理を行わなかった薄膜EL素子の場合、エージン
グ31時間以降、発光開始電圧の上昇に伴い輝度−電圧
特性の傾きが緩やかに減少し、そのためL6oの経時変
化は、31時間から300時間まで約10%であるが一
定電圧での輝度は20%程度低下した。それに対して、
熱処理を行った薄膜EL素子では、エージング31時間
以降、発光開始電圧は少し上昇したが、輝度電圧特性は
ほとんど平行移動した。そのためし6oは31時間から
300時間まててほとんど変化はなく、一定電圧での輝
度の変化でも10%以内であった。
(実施例4) 実施例1と同様の方法でEL素子を作製した。
ただし、EL発光層4の母体をCaSとしてCe濃度が
0.1atm%、P濃度がOatm%、0.2atm%
となるようにして、EL発光層4を蒸着後、5X10−
6Torrの真空中において600℃で1時間熱処理を
行なった。得られた素子の5KHz、300時間エージ
ング後でのし は初期のL6oに対してP濃度がOat
口%の場合20%であり、0.2atm%の場合95%
であった。この素子は、高輝度な緑色発光を呈した。
(実施例5) 実施例1と同様の方法でEL素子を作製した。
ただし、SrSに添加する希土類金属をP「とし、Pr
a度が0.1atm%、P濃度がOatll1%、0゜
2atI11%となるようにして、EL発光層4を蒸着
後、5 X 10−6Torrの真空中において600
℃で1時間熱処理を行なった。この素子の初期のL6o
はEL発光層中のP濃度がOata+%の場合も、0゜
2atm%の場合もほぼ同じ値であった。また、5KH
zs300時間エージング後でのし は初期のし6o(
;対してP濃度が0atIo%の場合55%まで減少し
た。
一方、P濃度が0.2atm%の場合、エージング後2
0時間まで輝度が急激に上昇し、”60は初期のL6o
の150%となり、その後も緩やかに輝度が上昇し、3
00時間エージング後のL6oは初期のL6oの165
%となった。また、発光開始電圧はP濃度に拘らず30
0時間エージング後において変化量は7ボルト以内であ
った。
以上の結果より、SrSを母体とし、該母体中にPr及
びPを含有したEL発光層を有する薄膜EL素子は、発
光層中へのPの添加より、輝度が上昇し、エージングに
より安定性が与えられることがわかる。なおこの素子は
、高輝度な補色関係のスペクトルをもつ白色発光を呈し
た。
(実施例6) 実施例1と同様の方法で薄膜EL素子を作製した。ただ
し、SrSに添加する希土類金属をTbとしてTb濃度
が1.Oatm%、P濃度が0at11%、1.5at
s%、2. 5atm%となるようにして、EL発光層
4を蒸着後、5 X 10−6Torrの真空中におい
て600℃で1時゛間熱処理を行なった。この素子の5
KHz、300時間エージング後でのL60は初期のL
60に対してP濃度がOatm%の場合25%、1.5
atm%の場合83%、2.5at印%の場合90%で
あった。この素子は、高輝度な緑色発光を示した。
(実施例7) 実施例1と同様の方法でEL素子を作製した。
ただし、SrSに添加する希土類金属をCe及びEuと
して、Ce濃度が0.1at+g%、Eu濃度が0.0
2atm%、P濃度がOatI1%、0.13atm%
、0.2atm%となるようにし、EL発光層4を蒸着
後、5 X 10−6Torrの真空中において600
℃で1時間熱処理を行なった。この素子の5KIIz、
300時間エージング後でのL60は初期のし6oに対
してP濃度がOatm%の場合3296.0.13at
e%の場合82%、0.2atm%の場合98%であっ
た。この素子は、高輝度な450〜700 nll1ま
での幅広いスペクトルをもつ白色発光を示した。
更にこの薄膜EL素子と赤、緑、青のカラーフィルター
を組み合わせることにより、良好な赤、緑、青の発光が
得られた。
(実施例8) 実施例1と同様の方法てEL素子を作製した。
ただし、発光層4が2層構造になるように、最初に基板
温度を230℃として電子ビーム共蒸着法によりMnを
0.4ati%含むZnS薄膜を0. 5μm形成した
後、この薄膜上にSrSを母体とし、該母体中にCe及
びPを含有する薄膜を積層した。
なお、SrSを母体とする薄膜は、基板温度を650℃
として、I X 10−’Torrの硫化水素雰囲気で
形成し、Ce濃度を0.1atm%、P濃度を0ate
%、0. 2ata%となるように厚み1’、Oμm蒸
着して形成し、その後5 x 10−6Torrの真空
中において600℃で1時間熱処理を行なった。この素
子の5kHz、300時間エージング後でのL80は初
期のL80に対してP濃度がOat*%の場合50%、
0. 2atm%の場合96%であった。この素子は初
期において高輝度な450〜650 nmまでの幅広い
スペクトルをもつ白色発光を呈した。
300時間エージング後で発光色はP濃度が0ate%
の場合、Ceを含有したSrS薄膜からの発光が非常に
弱くなり、Mnを含有したZnS薄膜からの発光色であ
る黄橙色となった。それに対してP濃度が0.2atm
%の場合300時間後においても発光色はほとんど変わ
らず、良好な白色発光を呈し、このEL素子と赤、緑、
青のカラーフィルターを組み合わせることにより、高輝
度で良好な赤、緑、青の発光か得られた。
[発明の効果] 以上述べたように、本発明の薄膜EL素子は、多色表示
に用いることのできるRGB発光あ′るいは白色発光を
呈する希土類金属を含有するアルカリ土類金属硫化物を
EL発光層とするものであり、その長時間の安定性を達
成できたものである。従って、本発明の薄膜EL素子に
より、長時間信頼性のある多色発光EL素子が実現でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の薄膜EL素子の構造の一例を示す断
面図である。 第2図は、実施例1において行なった本発明の薄膜EL
素子のL60の経時変化の測定の結果を示す図である。 第3図は、実施例1において行なった本発明の薄膜EL
素子のエージング10時間後に対する300時間後の発
光開始電圧の変化量の測定の結果を示す図である。 第4図は、実施例1において作製した本発明の薄膜EL
素子の色度座標を示す図である。 第5図は、実施例1において行なった本発明の薄膜EL
素子のエージング初期、24時間後および300時間後
の輝度の測定の結果を示す図である。 第6図は、実施例2において行なった本発明の薄膜EL
素子の初期のL80と300時間エージング後のL6o
の測定の結果を示す図である。 第7図は、実施例2において行なった本発明の薄膜EL
素子の初期輝度の測定の結果を示す図である。 第8図は、実施例3において行なった本発明の薄膜EL
素子の輝度−電圧特性の経時変化の測定の結果を示す図
である。図中、a)はEL発光層の形成過程において熱
処理を行わなかった素子の測定結果、b)は熱処理を行
なった素子の測定結果を各々示す。 第2図 経過時間(時間) 第3図 P濃度(atm@10) 第4図 図中数字はP濃度(atm’/J 第5図 P濃度(at鴫) 輝度−(cd/rn”) 第6図 第7図 Ce濃度(atrn% ) 輝度L60仕φゴ)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) EL発光層及び該EL発光層に電圧を印加する
    手段を有してなる薄膜EL素子において、EL発光層が
    、MgS、CaS、SrS又はBaSを母体とし、該母
    体中にLa、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、D
    y、Ho、Er、Tm、Yb及びLuよりなる群から選
    択された少なくとも一種以上の希土類金属及びPを含有
    する薄膜を含み、該薄膜中の上記希土類金属の合計の濃
    度が0.03〜3.0atm%、Pの濃度が上記希土類
    金属の合計の濃度に対して1.3〜4.0倍であること
    を特徴とする薄膜EL素子。
  2. (2) EL発光層が、CaSを母体とし、該母体中に
    Ce及びPを含有する薄膜を含み、該薄膜中のCeの濃
    度が0.03〜0.4atm%、Pの濃度が上記Ceの
    濃度に対して1.3〜4.0倍であることを特徴とする
    請求項第(1)項に記載の薄膜EL素子。
  3. (3) EL発光層が、SrSを母体とし、該母体中に
    Ce及びPを含有する薄膜を含み、該薄膜中のCeの濃
    度が0.03〜0.4atam%、Pの濃度が上記Ce
    の濃度に対して1.3〜4.0倍であることを特徴とす
    る請求項第(1)項に記載の薄膜EL素子。
  4. (4) EL発光層が、SrSを母体とし、該母体中に
    Ce、Eu及びPを含有する薄膜を含み、該薄膜中のC
    eの濃度が0.04〜0.4atm%、Euの濃度が0
    .01〜0.03atm%、Pの濃度が上記Ceの濃度
    に対して1.3〜4.0倍であることを特徴とする請求
    項第(1)項に記載の薄膜EL素子。
  5. (5) EL発光層が、SrSを母体とし、該母体中に
    Ce及びPを含有する薄膜とMnを含有するZnS薄膜
    を積層してなり、上記SrSを母体とする薄膜中のCe
    の濃度が0.03〜0.4atm%、Pの濃度が上記C
    eの濃度に対して1.3〜4.0倍であり、上記ZnS
    薄膜中のMn濃度が0.1〜1.0atm%であること
    を特徴とする請求項第(1)項に記載の薄膜EL素子。
JP2210467A 1990-08-10 1990-08-10 薄膜el素子 Pending JPH0494094A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2210467A JPH0494094A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 薄膜el素子

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2210467A JPH0494094A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 薄膜el素子

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0494094A true JPH0494094A (ja) 1992-03-26

Family

ID=16589823

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2210467A Pending JPH0494094A (ja) 1990-08-10 1990-08-10 薄膜el素子

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0494094A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6939189B2 (en) 1999-05-14 2005-09-06 Ifire Technology Corp. Method of forming a patterned phosphor structure for an electroluminescent laminate
US7538483B2 (en) 2002-08-07 2009-05-26 Sanyo Electric Co., Ltd. Inorganic electroluminescent device and method of fabricating the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6939189B2 (en) 1999-05-14 2005-09-06 Ifire Technology Corp. Method of forming a patterned phosphor structure for an electroluminescent laminate
US7427422B2 (en) 1999-05-14 2008-09-23 Ifire Technology Corp. Method of forming a thick film dielectric layer in an electroluminescent laminate
US7586256B2 (en) 1999-05-14 2009-09-08 Ifire Ip Corporation Combined substrate and dielectric layer component for use in an electroluminescent laminate
US7538483B2 (en) 2002-08-07 2009-05-26 Sanyo Electric Co., Ltd. Inorganic electroluminescent device and method of fabricating the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5677594A (en) TFEL phosphor having metal overlayer
JP2840185B2 (ja) 蛍光体薄膜とこれを用いた薄膜elパネル
US5939825A (en) Alternating current thin film electroluminescent device having blue light emitting alkaline earth phosphor
JP2795194B2 (ja) エレクトロルミネッセンス素子とその製造方法
JP4308648B2 (ja) チオアルミン酸塩蛍光体膜の単独ソーススパッタリング
US6072198A (en) Electroluminescent alkaline-earth sulfide phosphor thin films with multiple coactivator dopants
JPS6346117B2 (ja)
JPH0494094A (ja) 薄膜el素子
JPH0272592A (ja) 薄膜el素子
JP3987263B2 (ja) アルミネート青色発光蛍光体材料とそれを用いて構成した青色発光薄膜エレクトロルミネッセンス素子
JPH03187191A (ja) 薄膜el素子
JP2828019B2 (ja) エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
JPH03187190A (ja) 薄膜el素子およびその製造法
JP4516390B2 (ja) 蛍光体
JP2006351357A (ja) 赤色el素子
JPH04196088A (ja) 薄膜el素子
JPS63995A (ja) 薄膜発光層材料
JPH0265094A (ja) 薄膜el素子及びその製造方法
JPS6298597A (ja) 薄膜el素子
JPH0869881A (ja) 薄膜el素子の製造方法
JPS63274090A (ja) 薄膜el素子
JPH07240278A (ja) 薄膜el素子
JPS6380498A (ja) 薄膜el素子
JPS6319797A (ja) 薄膜el素子
JPH03167783A (ja) 薄膜el素子およびその製造法