JPH0499626A - 捺染スクリーンの製造方法 - Google Patents

捺染スクリーンの製造方法

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Publication number
JPH0499626A
JPH0499626A JP21747590A JP21747590A JPH0499626A JP H0499626 A JPH0499626 A JP H0499626A JP 21747590 A JP21747590 A JP 21747590A JP 21747590 A JP21747590 A JP 21747590A JP H0499626 A JPH0499626 A JP H0499626A
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JP
Japan
Prior art keywords
screen
laser beam
pattern
laser oscillator
center shaft
Prior art date
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Pending
Application number
JP21747590A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Yonemitsu
米光 孝
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ISHIZAKA SHOJI KK
Original Assignee
ISHIZAKA SHOJI KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、捺染用のフラントスクリーンの製造方法に
関するもので、特にレーザビームを走査してスクリーン
上に捺染模様を形成する方法に関するものである。
(従来の技術) 布帛の捺染に用いられるスクリーンには、円筒状のロー
タリスクリーンと平板状のフラットスクリーンとがある
。フラットスクリーンに捺染模様を形成する従来の方法
は、枠にスクリーン紗を貼り、怒光剤を塗布して乾燥し
たものにネガフィルムを当てて露光し、水洗により露光
部分を除去して模様を形成するというものである。一方
ロークリスクリーンにおいては、基材シートとして多数
の微細な孔を設けたニッケルシートを用い、これに樹脂
コーティングを施したものに模様データによって変調さ
れたレーザビームを走査し、コーテイング膜を除去して
模様を形成するという方法が利用されるようになってき
ている。この場合のレーザビームの走査は、第6図に示
すようにレーザ発振器3をロークリスクリーン21の中
心軸C方向に往復移動させて主走査を行い、ロークリス
クリーン21をその中心軸Cまわりにゆっくりと回転し
て副走査を行うといういわゆるラスクスキャン方式でス
クリーンの表面に平面模様を形成している。
(発明が解決しようとする課題) ロークリスクリーンで実用されているレーザビームによ
る模様形成方法をフラットスクリーンに適用すれば、第
7図に示すようにレーザ発振器3を往復移動させて主走
査を行い、フラ7)スクリーン1をレーザ発振器の走行
方向と直交する方向に移動させて副走査を行うという方
法が考えられる。しかしながら、フラットスクリーンは
、スクリーン紗やニッケルシートなどの基材シートを捺
染枠に貼った後で模様を形成する必要があり、模様を形
成する部分の面積に比べて捺染枠がかなり大きいので、
第7図のような走査方法を採用すると、装置が大型とな
り模様の形成に時間がかかるという問題が生じる。そし
てフラットスクリーンでは、捺染模様のずれを防止する
ために、基材シートを枠に貼ってから模様を形成するこ
とは不可避である。
この発明は以上の問題に鑑み、レーザビームを用いてフ
ラットスクリーンに捺染模様を形成するためのより合理
的でかつ装置を小型にできる方法を得ることを課題とし
ている。
(課題を解決するための手段) 上記課題を解決するためのこの発明の方法は、スクリー
ンlを貼付した捺染枠2をスクリーン1に垂直な中心軸
Pまわりに回転させ、レーザ発振器3を中心軸Pの法線
方向に移動させながら、模様データによって変調された
レーザビーム4を発振し、該レーザビームをスクリーン
1上に螺旋状ないし同心円状に走査して平面模様を形成
するというものである。
(作用) この発明の方法によれば、平板上のスクリーン1上に、
極座標によって定義された模様が形成されることとなり
、レーザビーム4をフラントスクリーン1の回転角θと
レーザ発振器3の移動距離rに関連づけて変調すること
により、スクリーン1上に平面模様を形成できる。そし
てこの発明の方法によれば、フラットスクリーン1は等
速ないし等加減速で回転させてやれば良く、レーザ発振
器3の移動速度も低速ですむので、スクリーンの回転や
レーザ発振器の走行ムこ要する駆動力が小さくてよく、
往復運動のような加減速の繰り返しもないので、装置を
小型かつコンパクトにできるし、走査速度を上げること
ができるために、短時間で捺染模様を形成できる。
(実施例) 第1図はこの発明の方法を模式的に示した図で、1はス
クリーン、2は捺染枠、3はレーザ発振器である。捺染
枠2は、図示しない回転テーブルに固定されてスクリー
ン1に垂直な中心軸Pまわりに回転させる。レーザ発振
器3は、図示しない駆動装置により、中心軸Pの位置か
ら外側へと法線方向に移動させる。スクリーン1の回転
とレーザ発振器3の移動により、レーザ発振器3からス
クリーン1に照射されるレーザビーム4の軌跡は、第2
図に示すように螺旋状となり、レーザビーム4の変調に
より、この螺旋軌跡で走査されたスクリーン1上に捺染
模様が形成される。
レーザビーム4の変調は、″スクリーン1に形成しよう
とする模様のデータに基いて行われる。第3図ないし第
5図は、このときのレーザビームの変調をどのようにし
て行うかを例示したものである。第3図に示した方法は
、模様原稿11をスクリーン1と同期回転するテーブル
12に載せ、レーザ発振器3と同期して移動する読取ヘ
ッド13で模様原稿11を読み取り、読取ヘッド13の
信号ニヨってレーザビームを変調するようにしたもので
ある。
第4図に示す方法は、スキャナ14によってラスクスキ
ャン方式により、原稿11を読み取り、読み取ったデー
タをベクトルデータに変換し、そのベクトルデータを更
に極座標に変換し、スクリーンの回転角θとレーザ発振
器の移動量rとを変数として極座標に変換されたベクト
ルデータを参照してレーザビーム4を変調させるもので
ある。
第5図に示す方法は、スキャナ14によりラスクスキャ
ン方弐で原稿11を読み取り、それをビットマツプとし
て記憶しておき、捺染枠の回転角θとレーザ発振器の移
動1rとがらビ・ノドマツプ上のxy座標を算出し、こ
のxy値に最も近いビット列およびピント行のデータを
参照してレーザビーム4を変調させる方法である。
(発明の効果) 以上説明したこの発明の方法によれば、捺染枠に貼った
後のフラットスクリーン上へのレーザビームの走査によ
る捺染模様の形成をコンパクトな装置で能率良く行うこ
とができ、往復走査の加減速による機械的なストレスが
装置に作用することもないという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の方法を模式的に示した斜視図、第2
図はフラットスクリーン上のレーザビームの走査軌跡を
示す図、第3図ないし第5図はレーザビームの変調手段
を例示した説明図である。 第6図はロークリスクリーンにレーザビームで模様を形
成する従来方法を模式的に示す斜視図、第7図は第6図
の方法をフラットスクリーンに適用した場合の方法を模
式的に示した図である。 図中、 1ニスクリーン    2:捺染枠 3:レーザ発振器   4:レーザビーム二回転中心軸

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. フラットスクリーン(1)を貼付した捺染枠(2)をこ
    のスクリーン(1)に垂直な中心軸(P)まわりに回転
    させ、レーザ発振器(3)をこの中心軸(P)の法線方
    向に移動させながら、模様データによって変調されたレ
    ーザビーム(4)をスクリーン(1)上に螺旋状ないし
    同心円状に走査して捺染模様を形成することを特徴とす
    る、捺染スクリーンの製造方法。
JP21747590A 1990-08-17 1990-08-17 捺染スクリーンの製造方法 Pending JPH0499626A (ja)

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JP21747590A JPH0499626A (ja) 1990-08-17 1990-08-17 捺染スクリーンの製造方法

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JPH0499626A true JPH0499626A (ja) 1992-03-31

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0653178A (ja) * 1992-06-16 1994-02-25 Hughes Aircraft Co 1以上の対象物の2次元表面を最適に走査する装置および方法
EP1621342A1 (de) * 2004-07-28 2006-02-01 LPKF Laser & Electronics Aktiengesellschaft Verfahren zum Einbringen von Durchbrechungen in ein Substrat

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0653178A (ja) * 1992-06-16 1994-02-25 Hughes Aircraft Co 1以上の対象物の2次元表面を最適に走査する装置および方法
EP1621342A1 (de) * 2004-07-28 2006-02-01 LPKF Laser & Electronics Aktiengesellschaft Verfahren zum Einbringen von Durchbrechungen in ein Substrat
US7415927B2 (en) 2004-07-28 2008-08-26 Lpkf Laser & Electronics Ag Procedure for positioning a through-hole in a substrate

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