JPH05109824A - 電子部品のフリツプチツプ実装方法 - Google Patents
電子部品のフリツプチツプ実装方法Info
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- JPH05109824A JPH05109824A JP3296321A JP29632191A JPH05109824A JP H05109824 A JPH05109824 A JP H05109824A JP 3296321 A JP3296321 A JP 3296321A JP 29632191 A JP29632191 A JP 29632191A JP H05109824 A JPH05109824 A JP H05109824A
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- Japan
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- bump
- chip
- laser light
- bumps
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/071—Connecting or disconnecting
- H10W72/0711—Apparatus therefor
- H10W72/07141—Means for applying energy, e.g. ovens or lasers
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W90/00—Package configurations
- H10W90/701—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
- H10W90/721—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
- H10W90/724—Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors between a chip and a stacked insulating package substrate, interposer or RDL
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高融点金属バンプを有するチップ型電子部品
の基板へのフリップチップ実装を可能にする。 【構成】 ICチップ1をフェースダウンとし、各バン
プ2を透明基板3の表面に形成された配線パターンのラ
ンド部4の上に載置する。ついで、レンズ6で集束され
たレーザ光5を透明基板3を透過させてランド部4及び
バンプ2に向けて照射する。これによってランド部4及
びバンプ2がレーザ光5によってレーザ加熱されて熱を
発生し、バンプ2及びランド部4の一部が溶融して接合
する。
の基板へのフリップチップ実装を可能にする。 【構成】 ICチップ1をフェースダウンとし、各バン
プ2を透明基板3の表面に形成された配線パターンのラ
ンド部4の上に載置する。ついで、レンズ6で集束され
たレーザ光5を透明基板3を透過させてランド部4及び
バンプ2に向けて照射する。これによってランド部4及
びバンプ2がレーザ光5によってレーザ加熱されて熱を
発生し、バンプ2及びランド部4の一部が溶融して接合
する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子部品のフリップチッ
プ実装方法に関する。具体的にいうと、金属製のバンプ
を有するチップ型電子部品をバンプを基板側に向けて
(すなわち、フェースダウンで)載置し、電子部品のバ
ンプを基板の電極に金属−金属接合(熱圧着、溶接、ろ
う接等)させるフリップチップ実装方法に関する。
プ実装方法に関する。具体的にいうと、金属製のバンプ
を有するチップ型電子部品をバンプを基板側に向けて
(すなわち、フェースダウンで)載置し、電子部品のバ
ンプを基板の電極に金属−金属接合(熱圧着、溶接、ろ
う接等)させるフリップチップ実装方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図7(a)(b)に従来のフリップチッ
プ実装方法を示す。従来にあっては、まず、図7(a)
に示すように、半田バンプ等のバンプ22を設けられた
IC(集積回路)チップ21をバンプ22を下にして
(不透明)基板23の上に載置してフラックス等によっ
てICチップ21を仮止めする。ついで、このチップ搭
載基板をリフロー炉内に入れて加熱することによってバ
ンプ22を溶融させ、図7(b)に示すように溶融後固
化したバンプ22を基板23の配線パターンのランド部
24に接合させ、ICチップ21を基板23にフリップ
チップ実装している。
プ実装方法を示す。従来にあっては、まず、図7(a)
に示すように、半田バンプ等のバンプ22を設けられた
IC(集積回路)チップ21をバンプ22を下にして
(不透明)基板23の上に載置してフラックス等によっ
てICチップ21を仮止めする。ついで、このチップ搭
載基板をリフロー炉内に入れて加熱することによってバ
ンプ22を溶融させ、図7(b)に示すように溶融後固
化したバンプ22を基板23の配線パターンのランド部
24に接合させ、ICチップ21を基板23にフリップ
チップ実装している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな実装方法によれば、バンプのみでなく、ICチップ
もリフロー炉内で加熱されるので、高温で加熱するとI
Cチップの配線が断線する恐れがあり、ICチップに用
いられている配線材料の融点温度によって加熱温度の上
限が定まる。ICチップの配線材料としては、通常、あ
まり融点温度の高くないAl系の配線材料が用いられて
いるため、バンプとして使用可能な金属材料としては融
点の比較的低い金属に限定されてしまうという問題があ
った。
うな実装方法によれば、バンプのみでなく、ICチップ
もリフロー炉内で加熱されるので、高温で加熱するとI
Cチップの配線が断線する恐れがあり、ICチップに用
いられている配線材料の融点温度によって加熱温度の上
限が定まる。ICチップの配線材料としては、通常、あ
まり融点温度の高くないAl系の配線材料が用いられて
いるため、バンプとして使用可能な金属材料としては融
点の比較的低い金属に限定されてしまうという問題があ
った。
【0004】一方、高耐環境性を必要とされる用途で
は、高融点金属のバンプを用いてICチップを基板に実
装することが望まれていた。
は、高融点金属のバンプを用いてICチップを基板に実
装することが望まれていた。
【0005】本発明は叙上の従来例の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、高融点金属
バンプを有するチップ型電子部品の基板へのフリップチ
ップ実装を可能にすることにある。
れたものであり、その目的とするところは、高融点金属
バンプを有するチップ型電子部品の基板へのフリップチ
ップ実装を可能にすることにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による電子部品の
フリップチップ実装方法は、透明な基板の電極の上にチ
ップ型電子部品のバンプを載置し、この透明基板を透過
させて前記電極もしくはバンプにレーザ光を照射させる
ことにより、電子部品のバンプを透明基板の電極に接合
させることを特徴としている。
フリップチップ実装方法は、透明な基板の電極の上にチ
ップ型電子部品のバンプを載置し、この透明基板を透過
させて前記電極もしくはバンプにレーザ光を照射させる
ことにより、電子部品のバンプを透明基板の電極に接合
させることを特徴としている。
【0007】
【作用】本発明にあっては、透明な基板を用いて基板の
裏面側からバンプ及び電極をレーザ加熱するようにした
ので、電子部品をフェースダウンで実装するフリップチ
ップ実装法においてもバンプ及び電極をレーザ光で加熱
して接合させることができる。しかも、熱容量の小さな
バンプ又は基板の電極をレーザ光によって局所的ないし
集中的に加熱することができるので、加熱効率が極めて
高く、接合部周辺や電子部品に熱的ダメージを与えるこ
とがない。
裏面側からバンプ及び電極をレーザ加熱するようにした
ので、電子部品をフェースダウンで実装するフリップチ
ップ実装法においてもバンプ及び電極をレーザ光で加熱
して接合させることができる。しかも、熱容量の小さな
バンプ又は基板の電極をレーザ光によって局所的ないし
集中的に加熱することができるので、加熱効率が極めて
高く、接合部周辺や電子部品に熱的ダメージを与えるこ
とがない。
【0008】このため、接合部周辺や電子部品に影響を
与えることなく、バンプ材料として高融点金属を用いる
ことができ、熱的に高い安定性を有するフリップチップ
実装が可能になる。
与えることなく、バンプ材料として高融点金属を用いる
ことができ、熱的に高い安定性を有するフリップチップ
実装が可能になる。
【0009】
【実施例】図1(a)(b)は本発明の一実施例による
フリップチップ実装方法を示す断面図、図2は図1
(a)の部分拡大図である。この実施例にあっては、ガ
ラス板や透明フィルム等の透明基板3の表面に不透明な
配線パターンが形成されている。一方、内部に集積回路
のベアチップを封止されたICチップ1の上面には金属
バンプ2が設けられている。このバンプ2の材質として
は高融点金属材料を用いることもできる。また、バンプ
2の形状はどのような形状をしていても差し支えない。
フリップチップ実装方法を示す断面図、図2は図1
(a)の部分拡大図である。この実施例にあっては、ガ
ラス板や透明フィルム等の透明基板3の表面に不透明な
配線パターンが形成されている。一方、内部に集積回路
のベアチップを封止されたICチップ1の上面には金属
バンプ2が設けられている。このバンプ2の材質として
は高融点金属材料を用いることもできる。また、バンプ
2の形状はどのような形状をしていても差し支えない。
【0010】しかして、バンプ2を下にしてICチップ
1を図1(a)に示すようにフェースダウンにし、各バ
ンプ2を透明基板3の表面に形成された配線パターンの
ランド部4の上に載置する。ついで、図1(a)及び図
2に示すように、レーザ源(図示せず)から出射された
レーザ光5をレンズ6によって集束させ、集束されたレ
ーザ光5を透明基板3を透過させて透明基板3の裏面側
からランド部4及びバンプ2に向けて照射する。これに
よってランド部4及びバンプ2がレーザ光5によってレ
ーザ加熱されて熱を発生し、バンプ2及びランド部4の
一部が溶融して互いに金属−金属接合し、図1(b)に
示すようにICチップ1が透明基板3にフリップチップ
実装される。
1を図1(a)に示すようにフェースダウンにし、各バ
ンプ2を透明基板3の表面に形成された配線パターンの
ランド部4の上に載置する。ついで、図1(a)及び図
2に示すように、レーザ源(図示せず)から出射された
レーザ光5をレンズ6によって集束させ、集束されたレ
ーザ光5を透明基板3を透過させて透明基板3の裏面側
からランド部4及びバンプ2に向けて照射する。これに
よってランド部4及びバンプ2がレーザ光5によってレ
ーザ加熱されて熱を発生し、バンプ2及びランド部4の
一部が溶融して互いに金属−金属接合し、図1(b)に
示すようにICチップ1が透明基板3にフリップチップ
実装される。
【0011】上記のような実装方法によれば、レーザ光
5を絞ることによってバンプ2及びランド部4を局所的
に加熱することができ、しかも、熱はICチップ1と反
対側のランド部4側からバンプ2に伝わるので、ICチ
ップ1が加熱されにくく、接合時の熱によってICチッ
プ1を損う恐れが極めて小さい。従って、バンプ材料と
して高融点金属を用いていても、ICチップ1等に影響
を与えることなくバンプ2をランド部4に接合させるこ
とができる。
5を絞ることによってバンプ2及びランド部4を局所的
に加熱することができ、しかも、熱はICチップ1と反
対側のランド部4側からバンプ2に伝わるので、ICチ
ップ1が加熱されにくく、接合時の熱によってICチッ
プ1を損う恐れが極めて小さい。従って、バンプ材料と
して高融点金属を用いていても、ICチップ1等に影響
を与えることなくバンプ2をランド部4に接合させるこ
とができる。
【0012】図3は本発明の別な実施例によるフリップ
チップ実装方法を示す断面図である。この実施例にあっ
ては、透明基板3の表面に設けられているランド部4の
中央にレーザ光透過用の穴7を開口してある。このた
め、透明基板3の裏面側からバンプ2に向けてレーザ光
5を照射すると、透明基板3を透過したレーザ光5はラ
ンド部4の穴7を通って直接バンプ2に当たり、バンプ
2を溶かしてランド部4に接合させる。
チップ実装方法を示す断面図である。この実施例にあっ
ては、透明基板3の表面に設けられているランド部4の
中央にレーザ光透過用の穴7を開口してある。このた
め、透明基板3の裏面側からバンプ2に向けてレーザ光
5を照射すると、透明基板3を透過したレーザ光5はラ
ンド部4の穴7を通って直接バンプ2に当たり、バンプ
2を溶かしてランド部4に接合させる。
【0013】したがって、この実施例によれば、ランド
部4にレーザ光5が当たらないので、ランド部4ないし
配線パターンのレーザ光5による損傷を防止することが
できる。
部4にレーザ光5が当たらないので、ランド部4ないし
配線パターンのレーザ光5による損傷を防止することが
できる。
【0014】図4は本発明のさらに別な実施例によるフ
リップチップ実装方法を示す断面図である。この実施例
においては、透明基板3のランド部4の上にICチップ
1をフェースダウンで載置した後、上方からICチップ
1の背面に力Fを加えて押圧し、ICチップ1のバンプ
2とランド部4とを加圧により確実に密着させておき、
この状態で透明基板3を透過させてランド部4及びバン
プ2にレーザ光5を照射し、バンプ2とランド部4とを
接合させるようにしている。
リップチップ実装方法を示す断面図である。この実施例
においては、透明基板3のランド部4の上にICチップ
1をフェースダウンで載置した後、上方からICチップ
1の背面に力Fを加えて押圧し、ICチップ1のバンプ
2とランド部4とを加圧により確実に密着させておき、
この状態で透明基板3を透過させてランド部4及びバン
プ2にレーザ光5を照射し、バンプ2とランド部4とを
接合させるようにしている。
【0015】このようにICチップ1を押圧してバンプ
2をランド部4に強制的に密着させた状態でレーザ加熱
するようにすれば、ランド部4やバンプ2の高さ精度が
多少悪くてもバンプ2とランド部4とを確実に接合させ
ることができる。
2をランド部4に強制的に密着させた状態でレーザ加熱
するようにすれば、ランド部4やバンプ2の高さ精度が
多少悪くてもバンプ2とランド部4とを確実に接合させ
ることができる。
【0016】図5は本発明のさらに別な実施例を示す断
面図である。この実施例にあっては、透明な導電性材料
(例えば、ITO)を用いて透明基板3の表面に透明な
ランド部8を形成してある。従って、このランド部8の
上にICチップ1のバンプ2を載置し、透明基板3の裏
面側からレーザ光5を照射すると、レーザ光5は透明基
板3及び透明なランド部8を透過してバンプ2に照射さ
れる。従って、レーザ光5を直接バンプ2に照射するこ
とができ、融点の高いバンプ2であっても効率的にバン
プ2を溶融させ、バンプ2をランド部8に接合させるこ
とができる。
面図である。この実施例にあっては、透明な導電性材料
(例えば、ITO)を用いて透明基板3の表面に透明な
ランド部8を形成してある。従って、このランド部8の
上にICチップ1のバンプ2を載置し、透明基板3の裏
面側からレーザ光5を照射すると、レーザ光5は透明基
板3及び透明なランド部8を透過してバンプ2に照射さ
れる。従って、レーザ光5を直接バンプ2に照射するこ
とができ、融点の高いバンプ2であっても効率的にバン
プ2を溶融させ、バンプ2をランド部8に接合させるこ
とができる。
【0017】図6は本発明のさらに別な実施例を示す断
面図である。この実施例にあっては、透明基板3の表面
に熱放射率の高いレーザ光吸収体層9を形成し、このレ
ーザ光吸収体層9の上に金属製のランド部4を積層して
いる。ここで、レーザ光吸収体層9としては、例えばA
l2O3、SnO2等の金属酸化物やアンバー合金等を用
いることができる。しかして、この2層構造のランド部
4の上にバンプ2を載置し、透明基板3の裏面側からレ
ーザ光5を照射し、透明基板3を透過したレーザ光5を
レーザ光吸収体層9に当てる。透明基板3とランド部4
との間にはレーザ光吸収体層9が挿入されているので、
レーザ光5のエネルギーはレーザ光吸収体層9に効率よ
く吸収される。そして、レーザ光吸収体層9は、光→熱
の変換効率の良好な変換器として作用し、レーザ光吸収
体層9で変換された熱によって効率良くバンプ2をラン
ド部4に接合させることができる。
面図である。この実施例にあっては、透明基板3の表面
に熱放射率の高いレーザ光吸収体層9を形成し、このレ
ーザ光吸収体層9の上に金属製のランド部4を積層して
いる。ここで、レーザ光吸収体層9としては、例えばA
l2O3、SnO2等の金属酸化物やアンバー合金等を用
いることができる。しかして、この2層構造のランド部
4の上にバンプ2を載置し、透明基板3の裏面側からレ
ーザ光5を照射し、透明基板3を透過したレーザ光5を
レーザ光吸収体層9に当てる。透明基板3とランド部4
との間にはレーザ光吸収体層9が挿入されているので、
レーザ光5のエネルギーはレーザ光吸収体層9に効率よ
く吸収される。そして、レーザ光吸収体層9は、光→熱
の変換効率の良好な変換器として作用し、レーザ光吸収
体層9で変換された熱によって効率良くバンプ2をラン
ド部4に接合させることができる。
【0018】この実施例では、レーザ光吸収体層9によ
ってレーザ光5を効率良く熱に変換できるので、レーザ
照射エネルギーを低減でき、接合部の周囲に熱的なダメ
ージを与えることがない。
ってレーザ光5を効率良く熱に変換できるので、レーザ
照射エネルギーを低減でき、接合部の周囲に熱的なダメ
ージを与えることがない。
【0019】
【発明の効果】本発明によれば、電子部品をフェースダ
ウンで実装するフリップチップ実装法において、バンプ
及び電極をレーザ光で局所的ないし集中的に加熱するこ
とができるので、加熱効率が極めて高く、接合部周辺や
電子部品に熱的ダメージを与えることがない。このた
め、信頼性の高いフリップチップ実装が可能になる。
ウンで実装するフリップチップ実装法において、バンプ
及び電極をレーザ光で局所的ないし集中的に加熱するこ
とができるので、加熱効率が極めて高く、接合部周辺や
電子部品に熱的ダメージを与えることがない。このた
め、信頼性の高いフリップチップ実装が可能になる。
【0020】また、接合部周辺や電子部品に影響を与え
ることがないので、バンプ材料として高融点金属を用い
ることができ、熱的に高い安定性を有するフリップチッ
プ実装が可能になり、高耐環境性を要求される用途にも
対応可能になる。
ることがないので、バンプ材料として高融点金属を用い
ることができ、熱的に高い安定性を有するフリップチッ
プ実装が可能になり、高耐環境性を要求される用途にも
対応可能になる。
【図1】(a)(b)は本発明の一実施例によるフリッ
プチップ実装方法を示す断面図である。
プチップ実装方法を示す断面図である。
【図2】同上の部分拡大断面図である。
【図3】本発明の別な実施例によるフリップチップ実装
方法を示す断面図である。
方法を示す断面図である。
【図4】本発明のさらに別な実施例によるフリップチッ
プ実装方法を示す断面図である。
プ実装方法を示す断面図である。
【図5】本発明のさらに別な実施例によるフリップチッ
プ実装方法を示す断面図である。
プ実装方法を示す断面図である。
【図6】本発明のさらに別な実施例によるフリップチッ
プ実装方法を示す断面図である。
プ実装方法を示す断面図である。
【図7】(a)(b)は従来例によるフリップチップ実
装方法を示す断面図である。
装方法を示す断面図である。
1 ICチップ 2 バンプ 3 透明基板 4 ランド部 5 レーザ光
Claims (1)
- 【請求項1】 透明な基板の電極の上にチップ型電子部
品のバンプを載置し、この透明基板を透過させて前記電
極もしくはバンプにレーザ光を照射させることにより、
電子部品のバンプを透明基板の電極に接合させることを
特徴とする電子部品のフリップチップ実装方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3296321A JPH05109824A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 電子部品のフリツプチツプ実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3296321A JPH05109824A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 電子部品のフリツプチツプ実装方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109824A true JPH05109824A (ja) | 1993-04-30 |
Family
ID=17832033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3296321A Pending JPH05109824A (ja) | 1991-10-15 | 1991-10-15 | 電子部品のフリツプチツプ実装方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05109824A (ja) |
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| WO2008120453A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Fujifilm Corporation | 有機elパネルおよびその製造方法 |
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-
1991
- 1991-10-15 JP JP3296321A patent/JPH05109824A/ja active Pending
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