JPH05120639A - 磁気抵抗効果型磁気ヘツド - Google Patents
磁気抵抗効果型磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPH05120639A JPH05120639A JP3279193A JP27919391A JPH05120639A JP H05120639 A JPH05120639 A JP H05120639A JP 3279193 A JP3279193 A JP 3279193A JP 27919391 A JP27919391 A JP 27919391A JP H05120639 A JPH05120639 A JP H05120639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magnetoresistive effect
- magnetic head
- magnetic
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 再生出力内にバルクハウゼンノイズや外部磁
場によるノイズを抑えることができるので、安定した高
出力を得ることができる磁気抵抗効果型磁気ヘッドの提
供を目的とする。 【構成】 基板１の上に絶縁層２を設け、絶縁層２の上
にアモルファス合金によって軟磁性バイアス補助膜３を
設け、その上に非磁性層４を介して磁気抵抗効果型素子
膜５を形成する。そして磁気抵抗効果型素子膜５のリー
ド６をＦｅ−Ｍｎ層７，金層８，Ｔｉ層９を順に積層し
て形成される構成とした。
場によるノイズを抑えることができるので、安定した高
出力を得ることができる磁気抵抗効果型磁気ヘッドの提
供を目的とする。 【構成】 基板１の上に絶縁層２を設け、絶縁層２の上
にアモルファス合金によって軟磁性バイアス補助膜３を
設け、その上に非磁性層４を介して磁気抵抗効果型素子
膜５を形成する。そして磁気抵抗効果型素子膜５のリー
ド６をＦｅ−Ｍｎ層７，金層８，Ｔｉ層９を順に積層し
て形成される構成とした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は高密度記憶装置であるハ
ードディスクに用いられる磁気抵抗効果型磁気ヘッドに
関するものである。
ードディスクに用いられる磁気抵抗効果型磁気ヘッドに
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュターの高性能化に伴いハ
ードディスクの小型化、高容量化が要求されており、特
に、小型化に伴い記録媒体の回転速度が低下してきてい
る。従って磁気ディスクからデータを読み出す際に記録
媒体との速度に依存しない磁気抵抗効果型磁気ヘッドの
必要性が高くなってきた。これに伴い磁気抵抗効果型磁
気ヘッドと誘導型の薄膜ヘッドを複合した複合型薄膜磁
気抵抗効果型磁気ヘッドが開発されている。今後、ハー
ドディスク用のヘッドとして複合型薄膜磁気抵抗効果型
磁気ヘッドに要求される性能としては、ヘッドとディス
クの間隔を狭くしてもヘッドがディスクを傷つけないよ
うな基板材料を使用すること、高容量化に伴い記録密度
を上げるため高Ｈｃに対応したディスクに書き込むた
め、書込専用ヘッドの上部磁性層及び下部磁性層には高
Ｂｓの材料を使用すること、磁気抵抗効果型出力の線形
性を保証し効率を上げるために有効な磁気バイアスを掛
けること、磁気抵抗効果型磁気ヘッドのノイズであるバ
ルクハウゼンノイズをコントロールしてノイズ発生を抑
えること、外部磁場の影響を抑えるために磁気抵抗効果
型素子を磁気シールドすること等が要求されている。
ードディスクの小型化、高容量化が要求されており、特
に、小型化に伴い記録媒体の回転速度が低下してきてい
る。従って磁気ディスクからデータを読み出す際に記録
媒体との速度に依存しない磁気抵抗効果型磁気ヘッドの
必要性が高くなってきた。これに伴い磁気抵抗効果型磁
気ヘッドと誘導型の薄膜ヘッドを複合した複合型薄膜磁
気抵抗効果型磁気ヘッドが開発されている。今後、ハー
ドディスク用のヘッドとして複合型薄膜磁気抵抗効果型
磁気ヘッドに要求される性能としては、ヘッドとディス
クの間隔を狭くしてもヘッドがディスクを傷つけないよ
うな基板材料を使用すること、高容量化に伴い記録密度
を上げるため高Ｈｃに対応したディスクに書き込むた
め、書込専用ヘッドの上部磁性層及び下部磁性層には高
Ｂｓの材料を使用すること、磁気抵抗効果型出力の線形
性を保証し効率を上げるために有効な磁気バイアスを掛
けること、磁気抵抗効果型磁気ヘッドのノイズであるバ
ルクハウゼンノイズをコントロールしてノイズ発生を抑
えること、外部磁場の影響を抑えるために磁気抵抗効果
型素子を磁気シールドすること等が要求されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の構成では、これらの要求を満たすものはなく、ノイズ
が大きく安定した出力を得ることができないという問題
点があった。
の構成では、これらの要求を満たすものはなく、ノイズ
が大きく安定した出力を得ることができないという問題
点があった。
【０００４】本発明は前記従来の問題点を解決するもの
でノイズの無い安定した出力を得ることが出来る磁気抵
抗効果型磁気ヘッドを提供することを目的としている。
でノイズの無い安定した出力を得ることが出来る磁気抵
抗効果型磁気ヘッドを提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、磁気抵抗効果型素子膜の一方の面に非磁性層を介し
てアモルファス合金でできた軟磁性バイアス補助層を設
けるとともに、他方の面にＦｅ−Ｍｎ層，金層，Ｔｉ層
を順に積層したリードを設けた。
に、磁気抵抗効果型素子膜の一方の面に非磁性層を介し
てアモルファス合金でできた軟磁性バイアス補助層を設
けるとともに、他方の面にＦｅ−Ｍｎ層，金層，Ｔｉ層
を順に積層したリードを設けた。
【０００６】
【作用】この構成により、バルクハウゼンノイズや外部
磁場によるノイズを抑えることができる。
磁場によるノイズを抑えることができる。
【０００７】
【実施例】図１及び図２はそれぞれ本発明の一実施例に
おける磁気抵抗効果型磁気ヘッドを複合型薄膜磁気抵抗
効果型磁気ヘッドに応用した状態を示す斜視図及び断面
図である。以下構成及び製造方法を図１及び図２を用い
て説明する。先ず基板１には鍍金メディアやスパッタメ
ディアとのＣＳＳ（Contact Start Stop）特性の良いＭ
ｎ−Ｚｎフェライトを用いる。次に基板１の表面を仕上
げ研磨した後に、その表面にＳｉＯ2等の絶縁材料によ
ってできた絶縁層２を形成する。この時絶縁層２はスパ
ッタまたは物理蒸着等の方法により、例えば１５００Å
形成する。次に絶縁層２の上にＣｏＴａＺｒＮｂ系アモ
ルファス合金でできた軟磁性バイアス補助層３を例えば
厚さ５００Åで形成する。次にその軟磁性バイアス補助
層３上にＳｉＯ2等の非磁性材料でできた非磁性層４を
例えば厚さ１００Å形成する。次に非磁性層４の上にパ
ーマロイでできた磁気抵抗効果型素子膜５をフォトレジ
ストを用いて所定の形状にリフトオフしパターニングす
る。次に磁気抵抗効果型素子膜５の上にリード６を形成
する。リード６は図３に示すように磁気抵抗効果型素子
膜５の読み取り部５ａを除いた部分上に形成されてお
り、Ｆｅ−Ｍｎ層７を約２５０Å、金層８を約１０００
Å、Ｔｉ層９を約２５０Åを順に積層して形成される。
この様に構成されたリード６はバルクハウゼンノイズを
コントロールするための交換バイアスの役割も有する。
リード６を構成する各薄膜の役割は以下のようなことで
ある。Ｆｅ−Ｍｎ層７は磁気抵抗効果型素子膜５を単磁
区化しバルクハウゼンノイズをコントロールするための
層であり金層８は電気抵抗を抑えて発熱を防止するため
の層であり、Ｔｉ層９は密着性を向上するための接着層
である。リード６は薄膜形成によって膜を積層したのち
に溶剤またはリムーバーによりＦｅ−Ｍｎ層７，金層
８，Ｔｉ層９をリフトオフすることによって形成され
る。次に、フォトレジストを全体に塗布し、引出し電極
のパターン形状をパターニングし、１２０℃のプリベー
クを行った後、イオンミリングにより軟磁性バイアス補
助層３、非磁性層４、及び磁気抵抗効果型素子膜５を除
去する。その上に絶縁層１０のＳｉＯ2等を例えば２０
００Å形成する。絶縁層１０はＴｉ層９の上に形成され
ることになるので、非常に強い密着強度を有することと
なる。次に絶縁層１０の上に金属磁性材料よりなる下部
磁性層１１を形成し、その上に磁気ギャップとなるギャ
ップ層１２をＳｉＯ2等を用いて形成する。次にコイル
層１３を層間絶縁層１４で覆うようにギャップ層１２の
上に形成する。そして層間絶縁層１４の上に上部磁性層
１５を形成する事によって、下部磁性層１１とともに磁
気回路を形成するようになる。この時上部磁性層１５及
び下部磁性層１４はそれぞれ高Ｈｃのメディアに書込を
行うため高Ｂｓの材料を使う必要があるため、Ｂｓが従
来のパーマロイの０．９Ｔより大きな１．２ＴのＣｏＴ
ａＺｒＮｂ系アモルファス合金をスパッタリングにより
形成した。
おける磁気抵抗効果型磁気ヘッドを複合型薄膜磁気抵抗
効果型磁気ヘッドに応用した状態を示す斜視図及び断面
図である。以下構成及び製造方法を図１及び図２を用い
て説明する。先ず基板１には鍍金メディアやスパッタメ
ディアとのＣＳＳ（Contact Start Stop）特性の良いＭ
ｎ−Ｚｎフェライトを用いる。次に基板１の表面を仕上
げ研磨した後に、その表面にＳｉＯ2等の絶縁材料によ
ってできた絶縁層２を形成する。この時絶縁層２はスパ
ッタまたは物理蒸着等の方法により、例えば１５００Å
形成する。次に絶縁層２の上にＣｏＴａＺｒＮｂ系アモ
ルファス合金でできた軟磁性バイアス補助層３を例えば
厚さ５００Åで形成する。次にその軟磁性バイアス補助
層３上にＳｉＯ2等の非磁性材料でできた非磁性層４を
例えば厚さ１００Å形成する。次に非磁性層４の上にパ
ーマロイでできた磁気抵抗効果型素子膜５をフォトレジ
ストを用いて所定の形状にリフトオフしパターニングす
る。次に磁気抵抗効果型素子膜５の上にリード６を形成
する。リード６は図３に示すように磁気抵抗効果型素子
膜５の読み取り部５ａを除いた部分上に形成されてお
り、Ｆｅ−Ｍｎ層７を約２５０Å、金層８を約１０００
Å、Ｔｉ層９を約２５０Åを順に積層して形成される。
この様に構成されたリード６はバルクハウゼンノイズを
コントロールするための交換バイアスの役割も有する。
リード６を構成する各薄膜の役割は以下のようなことで
ある。Ｆｅ−Ｍｎ層７は磁気抵抗効果型素子膜５を単磁
区化しバルクハウゼンノイズをコントロールするための
層であり金層８は電気抵抗を抑えて発熱を防止するため
の層であり、Ｔｉ層９は密着性を向上するための接着層
である。リード６は薄膜形成によって膜を積層したのち
に溶剤またはリムーバーによりＦｅ−Ｍｎ層７，金層
８，Ｔｉ層９をリフトオフすることによって形成され
る。次に、フォトレジストを全体に塗布し、引出し電極
のパターン形状をパターニングし、１２０℃のプリベー
クを行った後、イオンミリングにより軟磁性バイアス補
助層３、非磁性層４、及び磁気抵抗効果型素子膜５を除
去する。その上に絶縁層１０のＳｉＯ2等を例えば２０
００Å形成する。絶縁層１０はＴｉ層９の上に形成され
ることになるので、非常に強い密着強度を有することと
なる。次に絶縁層１０の上に金属磁性材料よりなる下部
磁性層１１を形成し、その上に磁気ギャップとなるギャ
ップ層１２をＳｉＯ2等を用いて形成する。次にコイル
層１３を層間絶縁層１４で覆うようにギャップ層１２の
上に形成する。そして層間絶縁層１４の上に上部磁性層
１５を形成する事によって、下部磁性層１１とともに磁
気回路を形成するようになる。この時上部磁性層１５及
び下部磁性層１４はそれぞれ高Ｈｃのメディアに書込を
行うため高Ｂｓの材料を使う必要があるため、Ｂｓが従
来のパーマロイの０．９Ｔより大きな１．２ＴのＣｏＴ
ａＺｒＮｂ系アモルファス合金をスパッタリングにより
形成した。
【０００８】このように構成された複合型薄膜磁気抵抗
効果型磁気ヘッドは再生の際にノイズが従来のものに比
べて非常に小さくなり安定した出力を得ることができ
る。
効果型磁気ヘッドは再生の際にノイズが従来のものに比
べて非常に小さくなり安定した出力を得ることができ
る。
【０００９】以上の様に本実施例では、磁気抵抗効果型
素子膜５の下にＳｉＯ2からなる非磁性層４を介して軟
磁性バイアス補助層３を設け、リード６をＦｅ−Ｍｎ層
７，金層８，Ｔｉ層９を順に積層して構成したことによ
り、ディスクとのクラッシュがなく、しかも高Ｈｃのメ
ディアに書込ができ、さらに再生信号内にバルクハウゼ
ンノイズや外部磁場によるノイズを抑えることができ、
安定した高出力を得ることができる。
素子膜５の下にＳｉＯ2からなる非磁性層４を介して軟
磁性バイアス補助層３を設け、リード６をＦｅ−Ｍｎ層
７，金層８，Ｔｉ層９を順に積層して構成したことによ
り、ディスクとのクラッシュがなく、しかも高Ｈｃのメ
ディアに書込ができ、さらに再生信号内にバルクハウゼ
ンノイズや外部磁場によるノイズを抑えることができ、
安定した高出力を得ることができる。
【００１０】
【発明の効果】本発明は、磁気抵抗効果型素子膜の一方
の面に非磁性層を介してアモルファス合金でできた軟磁
性バイアス補助層を設けるとともに、他方の面にＦｅ−
Ｍｎ層，金層，Ｔｉ層を順に積層したリードを設けたこ
とにより、バルクハウゼンノイズや外部磁場によるノイ
ズを抑えることができるので、安定した高出力を得るこ
とができる。
の面に非磁性層を介してアモルファス合金でできた軟磁
性バイアス補助層を設けるとともに、他方の面にＦｅ−
Ｍｎ層，金層，Ｔｉ層を順に積層したリードを設けたこ
とにより、バルクハウゼンノイズや外部磁場によるノイ
ズを抑えることができるので、安定した高出力を得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例における磁気抵抗効果型磁気
ヘッドを複合型薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッドに応用し
た状態を示す斜視図
ヘッドを複合型薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッドに応用し
た状態を示す斜視図
【図２】本発明の一実施例における磁気抵抗効果型磁気
ヘッドを複合型薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッドに応用し
た状態を示す断面図
ヘッドを複合型薄膜磁気抵抗効果型磁気ヘッドに応用し
た状態を示す断面図
【図３】リードの構成を示す正面図
１ 基板 ２ 絶縁層 ３ 軟磁性バイアス補助膜 ４ 非磁性層 ５ 磁気抵抗効果型素子膜 ５ａ 読み取り部 ６ リード ７ Ｆｅ−Ｍｎ層 ８ 金層 ９ Ｔｉ層 １０ 絶縁層 １１ 下部磁性層 １２ ギャップ層 １３ コイル層 １４ 層間絶縁層 １５ 上部磁性層
Claims (1)
- 【請求項１】磁気抵抗効果型素子膜上にリードを形成し
た磁気抵抗効果型磁気ヘッドであって、磁気抵抗効果型
素子膜の一方の面に非磁性層を介してアモルファス合金
でできた軟磁性バイアス補助層を設けるとともに、他方
の面にＦｅ−Ｍｎ層，金層，Ｔｉ層を順に積層したリー
ドを設けたことを特徴とする磁気抵抗効果型磁気ヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3279193A JPH05120639A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3279193A JPH05120639A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05120639A true JPH05120639A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=17607734
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3279193A Pending JPH05120639A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05120639A (ja) |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP3279193A patent/JPH05120639A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6430009B1 (en) | Magnetic head shield pole with nonmagnetic separation film between transition portion and shield portion | |
| US6262867B1 (en) | Thin film magnetic head with Ni-Fe alloy thin film | |
| JP2728487B2 (ja) | 録再分離複合型磁気ヘッド | |
| US7388732B2 (en) | Perpendicular recording magnetic head with a write shield megnetically coupled to a first pole piece | |
| US6275360B1 (en) | Read-write head | |
| JP2000311316A (ja) | 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法ならびに磁気抵抗効果装置 | |
| JPH04285713A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| JPWO2001004878A1 (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド、磁気抵抗効果型ヘッド製造方法、および情報再生装置 | |
| JP3294742B2 (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
| JP2008084430A (ja) | 磁気ヘッド及び磁気記録装置 | |
| JPH05217123A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH05120639A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド | |
| JP3639529B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JP3475868B2 (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
| JPH0313643B2 (ja) | ||
| JPH11161920A (ja) | 記録再生ヘッド及びそれを用いたヘッド・ディスク・アセンブリと磁気ディスク装置 | |
| JP3316875B2 (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法 | |
| JP3936405B2 (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド及び磁気ディスク装置 | |
| JP3367161B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPH06103536A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
| JP2948182B2 (ja) | 録再分離複合型磁気ヘッド | |
| JPS5987616A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JP3231510B2 (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH06274836A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| JP2001126216A (ja) | 磁気記録ヘッド及びその製造方法 |