JPH0313643B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0313643B2 JPH0313643B2 JP21053081A JP21053081A JPH0313643B2 JP H0313643 B2 JPH0313643 B2 JP H0313643B2 JP 21053081 A JP21053081 A JP 21053081A JP 21053081 A JP21053081 A JP 21053081A JP H0313643 B2 JPH0313643 B2 JP H0313643B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic
- magnetic pole
- recording
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
(1) 発明の技術分野
本発明は読出しに磁気抵抗効果素子を用いた垂
直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツドに関する。
直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツドに関する。
(2) 技術の背景
垂直磁気記録用磁気ヘツドとして各種磁気ヘツ
ドが用いられるに至つている。そのうちのヘツド
には磁性薄膜だけを用いた構成のものもあるが、
その膜厚に再生出力が強く依存する特性があるた
め、高い記録密度で信号を記録しうるようにする
と、そのような記録密度で記録された信号は効率
よく、高分解能で読取り得ないと云われており、
そのような不具合の解決が望まれている。
ドが用いられるに至つている。そのうちのヘツド
には磁性薄膜だけを用いた構成のものもあるが、
その膜厚に再生出力が強く依存する特性があるた
め、高い記録密度で信号を記録しうるようにする
と、そのような記録密度で記録された信号は効率
よく、高分解能で読取り得ないと云われており、
そのような不具合の解決が望まれている。
(3) 従来技術と問題点
垂直磁気記録再生用磁気ヘツドとして、第１図
に示すような補助磁極励磁方式のものがあるが、
このヘツドはインダクタンスが大きくなり高速の
記録、再生に適さないばかりでなく、励磁を磁気
記録媒体の裏側から行うため基板の厚いデイスク
には適用し得ないという欠点を有する。第１図に
おいて１は主磁極、２は補助磁極、３は書込み／
読み出し用コイル、４は記録磁性層である。
に示すような補助磁極励磁方式のものがあるが、
このヘツドはインダクタンスが大きくなり高速の
記録、再生に適さないばかりでなく、励磁を磁気
記録媒体の裏側から行うため基板の厚いデイスク
には適用し得ないという欠点を有する。第１図に
おいて１は主磁極、２は補助磁極、３は書込み／
読み出し用コイル、４は記録磁性層である。
上述のような不具合を回避すべく、第２図に示
すように主磁極５をセラミツク製基板６に設けら
れた磁性薄膜とし、この薄膜にコイル７を巻付け
て構成される磁極により記録磁性層８を直接励磁
して記録する主磁極励磁方式の磁気ヘツドが開発
されている。
すように主磁極５をセラミツク製基板６に設けら
れた磁性薄膜とし、この薄膜にコイル７を巻付け
て構成される磁極により記録磁性層８を直接励磁
して記録する主磁極励磁方式の磁気ヘツドが開発
されている。
しかし、これらの方式のいづれの再生出力対記
録密度特性も第３図に示す如く、主磁極の膜厚Ｐ
に強く依存する特性を有している。即ち、記録磁
性層８の磁化反転間隔をλとすると、おおよそ Ｐ≒2nλ（ｎ＝1.2.…） ……(1) を満す記録密度において再生出力が得られないと
いう特性（第３図参照）を有している。
録密度特性も第３図に示す如く、主磁極の膜厚Ｐ
に強く依存する特性を有している。即ち、記録磁
性層８の磁化反転間隔をλとすると、おおよそ Ｐ≒2nλ（ｎ＝1.2.…） ……(1) を満す記録密度において再生出力が得られないと
いう特性（第３図参照）を有している。
従つて、記録密度特性を向上させんとして主磁
極膜厚Ｐを薄くすると、記録再生効率が著しく低
下しその分解能も低下するという好ましからざる
点が上述形式の磁気ヘツドに解決されないまゝ残
つている。
極膜厚Ｐを薄くすると、記録再生効率が著しく低
下しその分解能も低下するという好ましからざる
点が上述形式の磁気ヘツドに解決されないまゝ残
つている。
(4) 発明の目的
本発明の目的は製造プロセスが簡単で、記録再
生効率が高く、しかも高再生分解能を有する垂直
磁気記録用薄膜磁気ヘツドを提供することにあ
る。
生効率が高く、しかも高再生分解能を有する垂直
磁気記録用薄膜磁気ヘツドを提供することにあ
る。
(5) 発明の構成
この目的は、主薄膜磁極を設けた非磁性支持体
上に書込み用多巻薄膜コイルを設けた垂直磁気記
録再生用薄膜磁気ヘツドにおいて、上記書込み用
多巻薄膜コイルの中心部に設けた磁気的結合用埋
め込み磁極を介して書込み用多巻薄膜コイル上に
補助薄膜磁極を設け、その補助薄膜磁極と磁気的
に相互作用のある位置で、かつ磁気記録媒体の媒
体面と対向する位置に読み出し用薄膜磁気抵抗素
子を設けることによつて達成される。
上に書込み用多巻薄膜コイルを設けた垂直磁気記
録再生用薄膜磁気ヘツドにおいて、上記書込み用
多巻薄膜コイルの中心部に設けた磁気的結合用埋
め込み磁極を介して書込み用多巻薄膜コイル上に
補助薄膜磁極を設け、その補助薄膜磁極と磁気的
に相互作用のある位置で、かつ磁気記録媒体の媒
体面と対向する位置に読み出し用薄膜磁気抵抗素
子を設けることによつて達成される。
(6) 発明の実施例
以下添付図面を参照しながら本発明の一実施例
を説明する。
を説明する。
第４図は本発明の実施例を示す図である。１０
は非磁性支持体（以下基板と称す）であり、１１
は基板１０の上で、且つ変換面１９を基板１０下
端面と同一平面とするように形成された主薄膜磁
極である。１２は同心環状の書込み用多巻薄膜コ
イルで、このコイルは主薄膜磁極１１の下部領域
と主薄膜磁極１１より上方の基板１０上部との間
に樹脂等の絶縁物１３の膜の中に埋め込まれるよ
うに主薄膜磁極１１及び基板１０にモールド成形
方式で添書されている。そして、このコイル１２
の環状中心部１４に上記主薄膜磁極に接合された
磁気的結合用埋め込み磁極１５が設けられてい
る。磁極１５の突出平面１６を含んで平面１７を
形成するように絶縁保護膜１８が設けられ、この
保護膜（絶縁膜）１８の下部面に主薄膜磁極１０
の変換面１９（第５図参照）と同一平面内に変換
面２０があるようにして薄膜磁気抵抗効果素子２
１が添設されている（第５図参照）。また、絶縁
膜１８及び素子２１との間に絶縁膜２２（第５図
参照）を挾んで補助薄膜磁極２３が形成され、そ
の上に絶縁保護膜（絶縁膜）２４が被着されて成
る積層構造に本発明ヘツドは構成されている。素
子２１自体の層構成、バイアス方式は任意でよ
い。また２５，２６は書込みコイル用埋込み端子
であり、２７は磁気抵抗効果素子用端子である。
は非磁性支持体（以下基板と称す）であり、１１
は基板１０の上で、且つ変換面１９を基板１０下
端面と同一平面とするように形成された主薄膜磁
極である。１２は同心環状の書込み用多巻薄膜コ
イルで、このコイルは主薄膜磁極１１の下部領域
と主薄膜磁極１１より上方の基板１０上部との間
に樹脂等の絶縁物１３の膜の中に埋め込まれるよ
うに主薄膜磁極１１及び基板１０にモールド成形
方式で添書されている。そして、このコイル１２
の環状中心部１４に上記主薄膜磁極に接合された
磁気的結合用埋め込み磁極１５が設けられてい
る。磁極１５の突出平面１６を含んで平面１７を
形成するように絶縁保護膜１８が設けられ、この
保護膜（絶縁膜）１８の下部面に主薄膜磁極１０
の変換面１９（第５図参照）と同一平面内に変換
面２０があるようにして薄膜磁気抵抗効果素子２
１が添設されている（第５図参照）。また、絶縁
膜１８及び素子２１との間に絶縁膜２２（第５図
参照）を挾んで補助薄膜磁極２３が形成され、そ
の上に絶縁保護膜（絶縁膜）２４が被着されて成
る積層構造に本発明ヘツドは構成されている。素
子２１自体の層構成、バイアス方式は任意でよ
い。また２５，２６は書込みコイル用埋込み端子
であり、２７は磁気抵抗効果素子用端子である。
この構造によれば、情報の垂直記録は主薄膜磁
極１１の後端縁で生ぜしめられ、またその読出し
は磁気抵抗効果素子２１で行われるから、記録密
度とは全く独立に主薄膜磁極の膜厚を厚くするこ
とが出来、これにより記録効率を向上させること
が出来る。また、磁気抵抗効果素子２１の再生出
力が大きく、その再生効率も向上する。この素子
は元来、500Å〜1000Åという非常に薄い膜厚を
有し、上記式１から判るように500000BPI（Bit
Per Inch）以上まで再生出来る分解能を有する。
従つて垂直記録媒体の高密度記録特性を活かせ
る。
極１１の後端縁で生ぜしめられ、またその読出し
は磁気抵抗効果素子２１で行われるから、記録密
度とは全く独立に主薄膜磁極の膜厚を厚くするこ
とが出来、これにより記録効率を向上させること
が出来る。また、磁気抵抗効果素子２１の再生出
力が大きく、その再生効率も向上する。この素子
は元来、500Å〜1000Åという非常に薄い膜厚を
有し、上記式１から判るように500000BPI（Bit
Per Inch）以上まで再生出来る分解能を有する。
従つて垂直記録媒体の高密度記録特性を活かせ
る。
上述した構造の本発明ヘツドの製造を第５図参
照の下に説明する。
照の下に説明する。
先ず、セラミツク、ガラス等のスライダ材とし
て適する非磁性基板１０上にスパツタ、蒸着、メ
ツキ等により主薄膜磁極１１となる磁性薄膜パタ
ーンを形成する。
て適する非磁性基板１０上にスパツタ、蒸着、メ
ツキ等により主薄膜磁極１１となる磁性薄膜パタ
ーンを形成する。
次いで、そのパターンを含む基板１０上に絶縁
された書込み用多巻薄膜コイル１２パターンを形
成する。このコイル１２の各巻線間に感光性兼絶
縁性樹脂１３を施与し、コイル部以外の不要部分
を除去した後、これを熱処理により焼き硬める。
された書込み用多巻薄膜コイル１２パターンを形
成する。このコイル１２の各巻線間に感光性兼絶
縁性樹脂１３を施与し、コイル部以外の不要部分
を除去した後、これを熱処理により焼き硬める。
然る後に、メツキ等により、コイル中心部１４
及び書込み用多巻薄膜コイル１２の端子部２５，
２６にパーマロイ等の導電性磁性薄膜を20〜30μ
ｍの厚さに盛り上げる。
及び書込み用多巻薄膜コイル１２の端子部２５，
２６にパーマロイ等の導電性磁性薄膜を20〜30μ
ｍの厚さに盛り上げる。
これらの工程で形成された各部上にSiO2、
Al2O3等の絶縁保護膜１８をスパツタリング、イ
オンプレーテイング等により20〜30μｍの厚さだ
け被着する。その基板表面部を平坦に研摩し、コ
イル中心部１４の磁気的結合用埋込み磁極１５及
び各端子部２５，２６を露呈させる。
Al2O3等の絶縁保護膜１８をスパツタリング、イ
オンプレーテイング等により20〜30μｍの厚さだ
け被着する。その基板表面部を平坦に研摩し、コ
イル中心部１４の磁気的結合用埋込み磁極１５及
び各端子部２５，２６を露呈させる。
このようにして平坦化された基板表面に薄膜磁
気抵抗効果素子２１パターン並びに書込み用端子
パターン（図示せず）及び再生用端子２７パター
ン（第５図参照）を形成し、その上にSiO2、
Al2O3等の絶縁保護膜２４を成膜する。
気抵抗効果素子２１パターン並びに書込み用端子
パターン（図示せず）及び再生用端子２７パター
ン（第５図参照）を形成し、その上にSiO2、
Al2O3等の絶縁保護膜２４を成膜する。
そして、基板表面の研摩により端子パターンを
露出させてウエハプロセスを完了させる。
露出させてウエハプロセスを完了させる。
これに加えて、その基板を切断、ラツプ仕上げ
等によりこれをスライダ形状に加工すると共に、
そのスロートハイトを所要高に仕上げる。
等によりこれをスライダ形状に加工すると共に、
そのスロートハイトを所要高に仕上げる。
(7) 発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明によれ
ば、主薄膜磁極の膜厚を記録密度に関係なく厚く
し記録効率を向上させ、その記録を膜厚の薄い薄
膜磁気抵抗効果素子にて読取るから、再生効率が
向上するばかりでなく再生分解能も向上してい
る。従つて、従来のように記録密度を向上させん
として主薄膜磁極の膜厚を薄くした場合に生じて
しまう不具合は可及的に除去し得ることになつ
た。
ば、主薄膜磁極の膜厚を記録密度に関係なく厚く
し記録効率を向上させ、その記録を膜厚の薄い薄
膜磁気抵抗効果素子にて読取るから、再生効率が
向上するばかりでなく再生分解能も向上してい
る。従つて、従来のように記録密度を向上させん
として主薄膜磁極の膜厚を薄くした場合に生じて
しまう不具合は可及的に除去し得ることになつ
た。
第１図及び第２図は従来の垂直磁気記録再生用
磁気ヘツドの構成を示す図、第３図は第１図及び
第２図ヘツドの再生出力−記録密度特性曲線図、
第４図及び第５図はそれぞれ本発明ヘツドの一部
切欠斜視図及び縦断面図である。 図中、１０は非磁性支持体、１１は主薄膜磁
極、１２は書込み用多巻薄膜コイル、２１は薄膜
磁気抵抗効果素子、２３は補助薄膜磁極、１８，
２２，２４は絶縁膜である。
磁気ヘツドの構成を示す図、第３図は第１図及び
第２図ヘツドの再生出力−記録密度特性曲線図、
第４図及び第５図はそれぞれ本発明ヘツドの一部
切欠斜視図及び縦断面図である。 図中、１０は非磁性支持体、１１は主薄膜磁
極、１２は書込み用多巻薄膜コイル、２１は薄膜
磁気抵抗効果素子、２３は補助薄膜磁極、１８，
２２，２４は絶縁膜である。
Claims (1)
- １ 主薄膜磁極を設けた非磁性支持体上に書込み
用多巻薄膜コイルを設けた垂直磁気記録再生用薄
膜磁気ヘツドにおいて、上記書込み用多巻薄膜コ
イルの中心部に設けた磁気的結合用埋め込み磁極
を介して書込み用多巻薄膜コイル上に補助薄膜磁
極を設け、その補助薄膜磁極と磁気的に相互作用
のある位置で、かつ磁気記録媒体の媒体面と対向
する位置に読み出し用薄膜磁気抵抗素子を設けた
ことを特徴とする垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘ
ツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21053081A JPS58114321A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21053081A JPS58114321A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58114321A JPS58114321A (ja) | 1983-07-07 |
| JPH0313643B2 true JPH0313643B2 (ja) | 1991-02-25 |
Family
ID=16590882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21053081A Granted JPS58114321A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 垂直磁気記録再生用薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58114321A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6083213A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-11 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS60177420A (ja) * | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Nec Corp | 複合型薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
| JPS61145718A (ja) * | 1984-12-19 | 1986-07-03 | Nec Corp | 複合薄膜磁気ヘツド |
| JP2780916B2 (ja) * | 1993-12-08 | 1998-07-30 | 富士通株式会社 | 垂直磁気記録用磁気ヘッド |
| US6407891B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-06-18 | International Business Machines Corporation | Magnetic read/write head having electromagnetic field cancellation element |
-
1981
- 1981-12-26 JP JP21053081A patent/JPS58114321A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58114321A (ja) | 1983-07-07 |
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