JPH051233A - インドール系化合物 - Google Patents

インドール系化合物

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Publication number
JPH051233A
JPH051233A JP3153152A JP15315291A JPH051233A JP H051233 A JPH051233 A JP H051233A JP 3153152 A JP3153152 A JP 3153152A JP 15315291 A JP15315291 A JP 15315291A JP H051233 A JPH051233 A JP H051233A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
indole compound
compound
isomer
specified
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3153152A
Other languages
English (en)
Inventor
Hidehiko Komatsu
英彦 小松
Makoto Taniguchi
谷口  誠
Kazuhiko Kitamura
和彦 北村
Masamitsu Uehara
正光 上原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Publication of JPH051233A publication Critical patent/JPH051233A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 新規なインドール系化合物を生成しその光異
性化反応を利用する。 【構成】 化学式1で表される物質であり、R1〜R12
が、同一である。また、置換基が−CH3あるいは、−
Brであり、R5、R6、R7およびR8が、ともに−CH
3、−H、アシル基あるいは−Xである。 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なインドール系化
合物に関する。詳細には、光照射に伴い可逆的にな構造
的変化が生じる、いわゆる、フォトクロミック特性を持
つインドール化合物、および、それを利用したメモリ材
料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のメモリ媒体としては、磁気メモ
リ、光磁気メモリが存在するが、それらと比べた場合、
フォトクロミック材料は、メモリ密度で、磁気メモリの
数十倍、光磁気メモリの数倍、データー転送速度は、そ
れぞれの、10〜30倍と30〜50倍程度のメモリ材
料となり得る。しかし、従来、研究されてきたフォトク
ロミック材料は、その異性体のいずれかは熱的に不安定
であり、安定な異性体へと変換しやすく、メモリ材料と
しての使用を考えた場合、長期間における保存性および
再生時の安定性(読み出し光に対する安定性)について
信頼性が乏しかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はフォト
クロミック特性を持ち、しかもいずれの異性体において
も安定な、新規なインドール化合物を提供することであ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明のインドール化合
物は化学式1
【0005】
【化2】
【0006】(式中、置換基R1、R2、R3、R4
5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、およびR
12は、同一または異なっていてもよく、少なくとも一つ
は炭素を含む基、−H、または−Xを表す(X=F、C
l、Br、I))で表される物質であり、望ましくは、
1〜R12が、同一であることを特徴とする。また、更
に望ましい本発明のインドール化合物は置換基が−CH
3あるいは−Brであることを特徴とし、好適にはR5
6、R7およびR8がともに−CH3、−H、アシル基あ
るいは−Xであることを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明の構成によれば、化学式2で示すように
化合物Aに、特定波長(λ1)の光を照射することによ
り、構造の変化をおこし化合物Bが生じる。また化合物
Bに別の特定波長(λ2)を当てると、元の化合物Aの
物質にもどる。この間この両物質間には、分子量変化は
ないが、構造変化が生じ吸収波長が変化する。
【0008】
【化3】
【0009】(化学式2のいずれの異性体およびそれら
の混合物も本発明に包含される。) これらの化合物はそれぞれの状態で構造的に安定であり
熱的にも安定である。
【0010】
【実施例】本発明による化学式1で表される化合物は、
複素環をニトロ化した後、それを還元することで製造す
ることができる。化学式1の化合物の一つである3,3
´−アゾビス(1,2−ジメチルインドール)、は化学
式3で示すようにして得ることができる。以下にその製
造法を示す。
【0011】
【化4】
【0012】[製造例] 3,3´−アゾビス(1,2−ジメチルインドール)の
製造法 (反応1)1,2−ジメチル−3−ニトロインドールの
生成 無水酢酸(12ml)を氷浴中で冷却し、90%の硝酸
(1.4ml)をゆっくりと加え、さらに硫酸(一滴)
を加えた。その溶液をよくかき混ぜながら、1,2−
ジメチルインドール(1.5g)のDMSO溶液を少量
ずつ滴下した。この間反応温度は0〜5℃に保ち、続い
て、反応混合物を0〜5℃で30分間かき混ぜ、水酸化
ナトリウム(10g)を水100mlに溶かした溶液を
0℃に冷却して中和した。その後、ベンゼンで抽出、乾
燥後、溶媒を留去し、1,2−ジメチル−3−ニトロイ
ンドールを0.40g得た(収率21%)。
【0013】元素分析結果(C H N として) C101022(190.2) (反応2)3,3´−アゾビス(1,2−ジメチルイン
ドール)の生成 エタノール(40ml)、12M水酸化ナトリウム溶液
(6.5ml)に、1,2−ジメチル−3−ニトロイン
ドール(3.8g)を入れ、加熱還流しながら、亜鉛末
(10.1g)をゆっくり少量ずつ加えていった。加え
終わったらそのまま30分間還流を続けた。次に反応混
合物を濾別、精製し、標題化合物を0.15g得た(収
率4.8%)。
【0014】元素分析結果(C H N として) C20204(316.4) 次に、標題化合物の光異性化反応式を化学式4に示し、
図1にその各構造における吸収スペクトルを示す。
【0015】
【化5】
【0016】さらに、標題化合物の構造Dにおける熱安
定性の測定結果を、図2に示す。
【0017】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によるフォト
クロミック特性を持つインドール化合物は、熱的に安定
であり、メモリ材料として有効であるという効果を有す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の異性化反応式4の構造C、D
における吸収スペクトル図である。
【図2】本発明の実施例の異性化反応式4の構造Dにつ
いて横軸に時間、縦軸に吸収波長の極大部の比をとった
図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上原 正光 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 化学式1で表されることを特徴とするイ
    ンドール系化合物。 【化1】 (式中、置換基R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7
    8、R9、R10、R11、およびR12は、同一または異な
    っていてもよく、少なくとも一つは炭素を含む基、−
    H、または−Xを表す(X=F、Cl、Br、I))
  2. 【請求項2】 前記置換基が、アルキル基、またはアシ
    ル基である、請求項1記載のインドール系化合物。
  3. 【請求項3】 前記置換基が、同一である、請求項1記
    載のインドール系化合物。
  4. 【請求項4】 置換基が−CH3である請求項3記載の
    インドール系化合物。
  5. 【請求項5】 置換基が−Brである請求項3記載のイ
    ンドール系化合物。
  6. 【請求項6】 R5、R6、R7およびR8が、ともに−C
    3、−H、アシル基あるいは−Xである、請求項1記
    載のインドール系化合物。
JP3153152A 1991-06-25 1991-06-25 インドール系化合物 Pending JPH051233A (ja)

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JP3153152A JPH051233A (ja) 1991-06-25 1991-06-25 インドール系化合物

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JP3153152A JPH051233A (ja) 1991-06-25 1991-06-25 インドール系化合物

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JP (1) JPH051233A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016147988A (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 積水化学工業株式会社 接着材料及び切断物の製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2016147988A (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 積水化学工業株式会社 接着材料及び切断物の製造方法

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