JPH0515453A - 給湯装置 - Google Patents
給湯装置Info
- Publication number
- JPH0515453A JPH0515453A JP3168175A JP16817591A JPH0515453A JP H0515453 A JPH0515453 A JP H0515453A JP 3168175 A JP3168175 A JP 3168175A JP 16817591 A JP16817591 A JP 16817591A JP H0515453 A JPH0515453 A JP H0515453A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hot water
- container
- water
- activated carbon
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】沸騰を持続することなく短時間のうちにカルキ
臭のもととされている遊離塩素を除去し、カルキ臭のし
ない湯を供給する給湯装置を提供することを目的として
いる。 【構成】容器２と、この容器２内の水を加熱するヒータ
ー１４と、前記容器２内の水を揚水するポンプ７と、こ
の揚水経路に連結した注入口１２への経路と容器２への
循環経路とを切り替える切り替え弁１１とを設け、前記
循環経路を解放し、この解放部から流れる水がふれる位
置に活性炭２２を設けることにより、活性炭２２の作用
により湯中の遊離塩素を除去し、さらにたとえ活性炭が
目詰まりしてもポンプ等に余分な負荷をかけない故障の
少ない給湯装置とするものである。
臭のもととされている遊離塩素を除去し、カルキ臭のし
ない湯を供給する給湯装置を提供することを目的として
いる。 【構成】容器２と、この容器２内の水を加熱するヒータ
ー１４と、前記容器２内の水を揚水するポンプ７と、こ
の揚水経路に連結した注入口１２への経路と容器２への
循環経路とを切り替える切り替え弁１１とを設け、前記
循環経路を解放し、この解放部から流れる水がふれる位
置に活性炭２２を設けることにより、活性炭２２の作用
により湯中の遊離塩素を除去し、さらにたとえ活性炭が
目詰まりしてもポンプ等に余分な負荷をかけない故障の
少ない給湯装置とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、家庭や事務所などで飲
料用の湯を供給する給湯装置に関するものである。
料用の湯を供給する給湯装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年の水道水は塩素消毒がされているた
め、多くの遊離塩素が含まれており、カルキ臭（塩素
臭）の多いものとなっている。そこで従来の給湯装置で
は、沸騰を数分間持続することにより、水中の遊離塩素
を大気中に放出し水道水中のカルキ臭を除去していた。
め、多くの遊離塩素が含まれており、カルキ臭（塩素
臭）の多いものとなっている。そこで従来の給湯装置で
は、沸騰を数分間持続することにより、水中の遊離塩素
を大気中に放出し水道水中のカルキ臭を除去していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記方法による
遊離塩素の除去には限界があり、十分にしかも短時間に
遊離塩素を除去することはできなかった。また、長時間
沸騰させると給湯装置より発生する蒸気によって、室内
の空気が湿ったり周辺部に置かれている器具類が変色す
るというような問題もあった。本発明はこのような従来
の構成が有していた課題を解決しようとするものであ
り、短時間のうちにカルキ臭のもととされている遊離塩
素を除去し、カルキ臭のしない湯を供給することがで
き、しかもたとえ活性炭フィルターが目詰まりしてもポ
ンプに余分な負荷がかからず故障が少ない給湯装置を提
供することを目的としている。
遊離塩素の除去には限界があり、十分にしかも短時間に
遊離塩素を除去することはできなかった。また、長時間
沸騰させると給湯装置より発生する蒸気によって、室内
の空気が湿ったり周辺部に置かれている器具類が変色す
るというような問題もあった。本発明はこのような従来
の構成が有していた課題を解決しようとするものであ
り、短時間のうちにカルキ臭のもととされている遊離塩
素を除去し、カルキ臭のしない湯を供給することがで
き、しかもたとえ活性炭フィルターが目詰まりしてもポ
ンプに余分な負荷がかからず故障が少ない給湯装置を提
供することを目的としている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明は、容器と、この容器内の水を加熱するヒータ
ーと、前記容器内の水を揚水するポンプと、この揚水経
路に連結した注入口への経路と貯湯用容器への循環経路
とを切り替える切り替え弁とを設け、前記循環経路を解
放し、この解放部から流れる水がふれる位置に活性炭を
設けた給湯装置とするものである。
に本発明は、容器と、この容器内の水を加熱するヒータ
ーと、前記容器内の水を揚水するポンプと、この揚水経
路に連結した注入口への経路と貯湯用容器への循環経路
とを切り替える切り替え弁とを設け、前記循環経路を解
放し、この解放部から流れる水がふれる位置に活性炭を
設けた給湯装置とするものである。
【０００５】
【作用】上記したように本発明は、湯を給湯装置内で循
環させ、循環経路中の活性炭と湯を接触させることによ
り、活性炭の作用で湯中の遊離塩素が（化１）または
（化２）の様に反応し除去されるので、カルキ臭の少な
いおいしい湯を供給することが可能となるものである。
環させ、循環経路中の活性炭と湯を接触させることによ
り、活性炭の作用で湯中の遊離塩素が（化１）または
（化２）の様に反応し除去されるので、カルキ臭の少な
いおいしい湯を供給することが可能となるものである。
【０００６】
【化１】
【０００７】
【化２】
【０００８】またこれらの反応は高温ほど迅速に行われ
るため、水温が高いときに循環させるほど有利である。
また処理水量が少ないほど循環時間は短くなり、処理水
濃度が低いと循環時間は短くなる。
るため、水温が高いときに循環させるほど有利である。
また処理水量が少ないほど循環時間は短くなり、処理水
濃度が低いと循環時間は短くなる。
【０００９】さらに循環経路を解放し、この解放部から
流れる水がふれる位置に活性炭を設けることにより、た
とえ活性炭が目詰まりを起こしたとしてもポンプ等に余
分な負荷をかけることがなく、故障の少ない貯湯装置を
実現できるものである。
流れる水がふれる位置に活性炭を設けることにより、た
とえ活性炭が目詰まりを起こしたとしてもポンプ等に余
分な負荷をかけることがなく、故障の少ない貯湯装置を
実現できるものである。
【００１０】
【実施例】以下本発明の一実施例について図面を参照し
ながら説明する。図１において１は給湯装置の本体（以
下単に本体１と称する）で、内部に湯を貯湯する内径１
５０mm、深さ２５０mmの容器２を有している。３は容器
２の口部を封じるように装着した中栓である。また４
は、本体１の上部を開閉可能に覆った上蓋である。５は
逆止弁であり、中栓３を貫通して容器２内と連通してお
り、また大気とも連通している。６は本体１と容器２と
の間の底部に設けたモータ、７はモータ６により駆動さ
れるポンプで、その吸い込み口８は容器２の底部と連通
している。９はポンプ７の吐出口で、揚水径路を構成す
る吐出パイプ１０に連通している。１１は前記吐出パイ
プ１０による湯の揚水径路の途中に設けた切換弁であ
り、湯は切換弁１１を通って注入口１２からコップ等へ
注がれるか、あるいは容器２内に循環する循環経路を構
成する循環口１３を通って再び容器２内に循環されるよ
うになっている。循環口１３の付近には活性炭２２が取
り付けてあり、循環口１３を通った湯は活性炭２２にふ
れるようになっている。１４はヒータであり、貯湯用容
器２の下部側面に装着されている。１５はモータ６を駆
動する起動スイッチと可変抵抗体であり、押しボタン１
６の押し動作によりロッド１７を介して動作する。１８
は圧縮形のスプリングで、このスプリング１８は、常時
ロッド１７を上方に押し上げるように付勢している。１
９は切換弁１１を動作させるスイッチであり、このスイ
ッチ１９の操作により切換弁１１が注水口１２側経路
か、あるいは循環経路にある活性炭２２側かに切り換わ
る。
ながら説明する。図１において１は給湯装置の本体（以
下単に本体１と称する）で、内部に湯を貯湯する内径１
５０mm、深さ２５０mmの容器２を有している。３は容器
２の口部を封じるように装着した中栓である。また４
は、本体１の上部を開閉可能に覆った上蓋である。５は
逆止弁であり、中栓３を貫通して容器２内と連通してお
り、また大気とも連通している。６は本体１と容器２と
の間の底部に設けたモータ、７はモータ６により駆動さ
れるポンプで、その吸い込み口８は容器２の底部と連通
している。９はポンプ７の吐出口で、揚水径路を構成す
る吐出パイプ１０に連通している。１１は前記吐出パイ
プ１０による湯の揚水径路の途中に設けた切換弁であ
り、湯は切換弁１１を通って注入口１２からコップ等へ
注がれるか、あるいは容器２内に循環する循環経路を構
成する循環口１３を通って再び容器２内に循環されるよ
うになっている。循環口１３の付近には活性炭２２が取
り付けてあり、循環口１３を通った湯は活性炭２２にふ
れるようになっている。１４はヒータであり、貯湯用容
器２の下部側面に装着されている。１５はモータ６を駆
動する起動スイッチと可変抵抗体であり、押しボタン１
６の押し動作によりロッド１７を介して動作する。１８
は圧縮形のスプリングで、このスプリング１８は、常時
ロッド１７を上方に押し上げるように付勢している。１
９は切換弁１１を動作させるスイッチであり、このスイ
ッチ１９の操作により切換弁１１が注水口１２側経路
か、あるいは循環経路にある活性炭２２側かに切り換わ
る。
【００１１】以下本実施例の動作を説明する。容器２内
に貯湯された湯を給湯する場合は、押しボタン１６を押
し下げる。即ち、押しボタン１６を押し下げる操作によ
って起動スイッチ１５がＯＮされ、更に押し下げること
により抵抗が可変されて供給電圧が変化し、モータ６に
通電される。モータ６が通電されることによってポンプ
７が動作し、ポンプ７の吸い込み口８より容器２内に貯
湯されている湯を吸い込み、吐出口９より吐出パイプ１
０へ吐出する。この時スイッチ１９を操作して切換弁１
１を注入口１２側経路に開いておけば、湯は注入口１２
から外部に給湯される。またこの時循環経路側に弁を開
いておれば、湯は循環口１３を通って活性炭２２に注が
れる。注がれた湯の大部分は活性炭２２を通り、通過中
に浄化され容器２内へ循環する。また、活性炭２２に注
がれた湯の一部は活性炭層２２の中を通らず、表面を伝
って再び貯湯用容器２内へ循環する。このように循環水
の一部が活性炭２２の表面を伝うようにしているため、
たとえ活性炭２２が水垢等で目詰まりしたとしてもポン
プ７等に余分な負荷がかからず、故障の少ない構造とな
っている。
に貯湯された湯を給湯する場合は、押しボタン１６を押
し下げる。即ち、押しボタン１６を押し下げる操作によ
って起動スイッチ１５がＯＮされ、更に押し下げること
により抵抗が可変されて供給電圧が変化し、モータ６に
通電される。モータ６が通電されることによってポンプ
７が動作し、ポンプ７の吸い込み口８より容器２内に貯
湯されている湯を吸い込み、吐出口９より吐出パイプ１
０へ吐出する。この時スイッチ１９を操作して切換弁１
１を注入口１２側経路に開いておけば、湯は注入口１２
から外部に給湯される。またこの時循環経路側に弁を開
いておれば、湯は循環口１３を通って活性炭２２に注が
れる。注がれた湯の大部分は活性炭２２を通り、通過中
に浄化され容器２内へ循環する。また、活性炭２２に注
がれた湯の一部は活性炭層２２の中を通らず、表面を伝
って再び貯湯用容器２内へ循環する。このように循環水
の一部が活性炭２２の表面を伝うようにしているため、
たとえ活性炭２２が水垢等で目詰まりしたとしてもポン
プ７等に余分な負荷がかからず、故障の少ない構造とな
っている。
【００１２】「昭和６２年度大阪市水道局水質試験所調
査研究ならびに試験成績」によると、市内３３カ所の採
水場所の年平均遊離塩素濃度の平均（ｘ）は０．６３ｐ
ｐｍ、偏差（σ）は０．１２である。ｘ＋３σ＝０．９
９であるので１．０ｐｐｍの遊離塩素は充分に高い濃度
と言える。
査研究ならびに試験成績」によると、市内３３カ所の採
水場所の年平均遊離塩素濃度の平均（ｘ）は０．６３ｐ
ｐｍ、偏差（σ）は０．１２である。ｘ＋３σ＝０．９
９であるので１．０ｐｐｍの遊離塩素は充分に高い濃度
と言える。
【００１３】また遊離塩素のいき値について、厚生省の
おいしい水研究会は０．４ｐｐｍ以下の残留塩素濃度で
は通常の人は気にならないとしている。そこで無臭水に
次亜塩素酸を添加し０．１、０．２、０．３、０．４ｐ
ｐｍの溶液をつくり、５人の人に官能試験を行った。そ
の結果カルキ臭を０．２ｐｐｍ以上で感じた人は２人い
たが０．１ｐｐｍで感じた人はいなかった。
おいしい水研究会は０．４ｐｐｍ以下の残留塩素濃度で
は通常の人は気にならないとしている。そこで無臭水に
次亜塩素酸を添加し０．１、０．２、０．３、０．４ｐ
ｐｍの溶液をつくり、５人の人に官能試験を行った。そ
の結果カルキ臭を０．２ｐｐｍ以上で感じた人は２人い
たが０．１ｐｐｍで感じた人はいなかった。
【００１４】これらの結果より１．０ｐｐｍの遊離塩素
を含む水を０．１ｐｐｍ以下の濃度まで下げることがで
きると、大部分の人はカルキ臭を感じなくなるといえる
とした。今、水道水３０００ml中に、初期遊離塩素濃度
が1.0ppmとなるように次亜塩素酸ナトリウムの溶液を加
えて、容器２内に貯湯する。本体１に通電し、押しボタ
ン１６を押し下げ、ポンプ７を作動させて湯を循環口１
３を通して流量１２００ml/minで循環させるとする。こ
の時の湯中の遊離塩素濃度は、図２に示すように変化し
た。この実験で、遊離塩素濃度は上水試験方法の残留塩
素項目、ＤＰＤ法に従い定量を行った。縦軸は遊離塩素
濃度であり、横軸は加熱時間である。図２のａは通常の
加熱だけによる遊離塩素の濃度変化を、ｂは湯温が６
３．５℃から９５℃までの約８分間、ｃは湯温が７３．
５℃から９５℃までの約５．５分間、ｄは８３．５℃か
ら９５℃までの約３．５分間循環させたときの遊離塩素
の濃度変化を示したものである。図２より明らかなよう
に、高温からの循環ほど傾きが大きく、遊離塩素の除去
性能が高い。換言すれば、高温で循環するほど短時間で
遊離塩素が除去できる。そして約８分の循環で、遊離塩
素濃度１．０ｐｐｍの水を０．１ｐｐｍ以下にできた。
を含む水を０．１ｐｐｍ以下の濃度まで下げることがで
きると、大部分の人はカルキ臭を感じなくなるといえる
とした。今、水道水３０００ml中に、初期遊離塩素濃度
が1.0ppmとなるように次亜塩素酸ナトリウムの溶液を加
えて、容器２内に貯湯する。本体１に通電し、押しボタ
ン１６を押し下げ、ポンプ７を作動させて湯を循環口１
３を通して流量１２００ml/minで循環させるとする。こ
の時の湯中の遊離塩素濃度は、図２に示すように変化し
た。この実験で、遊離塩素濃度は上水試験方法の残留塩
素項目、ＤＰＤ法に従い定量を行った。縦軸は遊離塩素
濃度であり、横軸は加熱時間である。図２のａは通常の
加熱だけによる遊離塩素の濃度変化を、ｂは湯温が６
３．５℃から９５℃までの約８分間、ｃは湯温が７３．
５℃から９５℃までの約５．５分間、ｄは８３．５℃か
ら９５℃までの約３．５分間循環させたときの遊離塩素
の濃度変化を示したものである。図２より明らかなよう
に、高温からの循環ほど傾きが大きく、遊離塩素の除去
性能が高い。換言すれば、高温で循環するほど短時間で
遊離塩素が除去できる。そして約８分の循環で、遊離塩
素濃度１．０ｐｐｍの水を０．１ｐｐｍ以下にできた。
【００１５】
【発明の効果】以上の実施例から明らかなように、容器
と、この容器内の水を加熱するヒーターと、前記容器内
の水を揚水するポンプと、この揚水経路に連結した注入
口への経路と貯湯用容器への循環経路とを切り替える切
り替え弁とを設け、前記循環経路を解放し、この解放部
から流れる水がふれる位置に活性炭を設けた給湯装置と
することによって、たとえ活性炭が目詰まりを起こした
としてもポンプ等に余分な負荷をかけることなく従って
故障が少ない装置で、抽出時に塩素成分の少ないおいし
い湯を供給することができる貯湯装置を実現できるもの
である。
と、この容器内の水を加熱するヒーターと、前記容器内
の水を揚水するポンプと、この揚水経路に連結した注入
口への経路と貯湯用容器への循環経路とを切り替える切
り替え弁とを設け、前記循環経路を解放し、この解放部
から流れる水がふれる位置に活性炭を設けた給湯装置と
することによって、たとえ活性炭が目詰まりを起こした
としてもポンプ等に余分な負荷をかけることなく従って
故障が少ない装置で、抽出時に塩素成分の少ないおいし
い湯を供給することができる貯湯装置を実現できるもの
である。
【図１】本発明の実施例における給湯装置の縦断面図
【図２】同給湯装置内の水中の遊離塩素濃度の推移を示
す特性図
す特性図
２ 容器 ７ ポンプ １１ 切り替え弁 １２ 注入口 １３ 循環口 １４ ヒーター ２２ 活性炭
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 容器と、この容器内の水を加熱するヒー
ターと、前記容器内の水を揚水するポンプと、この揚水
経路に連結した注入口への経路と貯湯用容器への循環経
路とを切り替える切り替え弁とを設け、前記循環経路を
解放し、この解放部から流れる水がふれる位置に活性炭
を設けた給湯装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3168175A JPH0515453A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 給湯装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3168175A JPH0515453A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 給湯装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0515453A true JPH0515453A (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=15863188
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3168175A Pending JPH0515453A (ja) | 1991-07-09 | 1991-07-09 | 給湯装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0515453A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7427773B2 (en) | 2000-10-19 | 2008-09-23 | International Business Machines Corporation | Layer transfer of low defect SiGe using an etch-back process |
-
1991
- 1991-07-09 JP JP3168175A patent/JPH0515453A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7427773B2 (en) | 2000-10-19 | 2008-09-23 | International Business Machines Corporation | Layer transfer of low defect SiGe using an etch-back process |
| US7786468B2 (en) | 2000-10-19 | 2010-08-31 | International Business Machines Corporation | Layer transfer of low defect SiGe using an etch-back process |
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