JPH05170751A - チアゾリン誘導体 - Google Patents
チアゾリン誘導体Info
- Publication number
- JPH05170751A JPH05170751A JP33874491A JP33874491A JPH05170751A JP H05170751 A JPH05170751 A JP H05170751A JP 33874491 A JP33874491 A JP 33874491A JP 33874491 A JP33874491 A JP 33874491A JP H05170751 A JPH05170751 A JP H05170751A
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- JP
- Japan
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- group
- thiazolin
- carbon atoms
- preparation
- kbr
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 アルドース還元酵素阻害剤としてのチアゾリ
ン誘導体を提供する。 【構成】 下記式（Ｉ） 〔式中、Ｒ１は炭素数１から７のアルキル基、置換され
ていないか少なくとも一個の炭素数１から４のアルキル
基で置換されている炭素数４から７のシクロアルキルも
しくはシクロアルケニル基、非置換または特定の基で置
換されているフェニル、ナフチル、アントリル、さらに
少なくとも一種の窒素、酸素、硫黄原子１個を含む単環
状又は二環状の複素環の各基、またはＰｈ−ＣＨ＝ＣＲ
３−基（基中、Ｒ３は水素原子、あるいは炭素数１から
４のアルキル基を表わす）を表わし、Ｒ２は水素原子、
あるいは、炭素数１から７のアルキル基またはベンジル
基を表わし、そして、ｎは０から４の整数を表わす〕で
示されるチアゾリン化合物。
ン誘導体を提供する。 【構成】 下記式（Ｉ） 〔式中、Ｒ１は炭素数１から７のアルキル基、置換され
ていないか少なくとも一個の炭素数１から４のアルキル
基で置換されている炭素数４から７のシクロアルキルも
しくはシクロアルケニル基、非置換または特定の基で置
換されているフェニル、ナフチル、アントリル、さらに
少なくとも一種の窒素、酸素、硫黄原子１個を含む単環
状又は二環状の複素環の各基、またはＰｈ−ＣＨ＝ＣＲ
３−基（基中、Ｒ３は水素原子、あるいは炭素数１から
４のアルキル基を表わす）を表わし、Ｒ２は水素原子、
あるいは、炭素数１から７のアルキル基またはベンジル
基を表わし、そして、ｎは０から４の整数を表わす〕で
示されるチアゾリン化合物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なチアゾリン誘導
体、その製造方法、及びこのチアゾリン誘導体を有効成
分とするアルドース還元酵素阻害剤に関する。
体、その製造方法、及びこのチアゾリン誘導体を有効成
分とするアルドース還元酵素阻害剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より糖尿病治療薬としては、インシ
ュリンや血糖降下剤が広く用いられているが、糖尿病
は、単なる糖代謝異常のみならず種々の合併症を随伴す
る。糖尿病合併症の一因としてポリオール代謝経路のア
ルドース還元酵素が最近注目されている。アルドース還
元酵素はグルコース、ガラクトースなどを対応するポリ
オールであるソルビトール、ガラクチトースに還元する
酵素であり、これらのポリオールが水晶体、末梢神経、
腎臓等の細胞に蓄積され、合併症が起こることが知られ
ている。そこでアルドース還元酵素を阻害することによ
り糖尿病の合併症を治療あるいは予防する試みが行われ
ている。例えば、特開昭５７−４０４７８号、同６０−
１５６３７８号、同６１−５６１７５号、同６４−７１
８７３、特開平２−１２４８７８、同２−２８１６８等
のローダニンを基本骨格としたアルドース還元酸素阻害
剤が知られている。
ュリンや血糖降下剤が広く用いられているが、糖尿病
は、単なる糖代謝異常のみならず種々の合併症を随伴す
る。糖尿病合併症の一因としてポリオール代謝経路のア
ルドース還元酵素が最近注目されている。アルドース還
元酵素はグルコース、ガラクトースなどを対応するポリ
オールであるソルビトール、ガラクチトースに還元する
酵素であり、これらのポリオールが水晶体、末梢神経、
腎臓等の細胞に蓄積され、合併症が起こることが知られ
ている。そこでアルドース還元酵素を阻害することによ
り糖尿病の合併症を治療あるいは予防する試みが行われ
ている。例えば、特開昭５７−４０４７８号、同６０−
１５６３７８号、同６１−５６１７５号、同６４−７１
８７３、特開平２−１２４８７８、同２−２８１６８等
のローダニンを基本骨格としたアルドース還元酸素阻害
剤が知られている。
【０００３】
【発明において解決された問題点】本発明者らは、優れ
たアルドース還元酵素阻害剤を提供すべく研究を重ねた
結果、カルボキシアルキルチオ基を有する新規なチアゾ
リン誘導体が強力なアルドース還元酵素阻害作用を示す
ことを見いだし、本発明を完成した。
たアルドース還元酵素阻害剤を提供すべく研究を重ねた
結果、カルボキシアルキルチオ基を有する新規なチアゾ
リン誘導体が強力なアルドース還元酵素阻害作用を示す
ことを見いだし、本発明を完成した。
【０００４】
【発明の構成】本発明は、一般式（Ｉ）
【化６】 式中、Ｒ1 は炭素数１から７のアルキル基、置換されて
いないか少なくとも一個の炭素数１から４のアルキル基
で置換されている炭素数４から７のシクロアルキルもし
くはシクロアルケニル基、置換されていないか少なくも
と１個の（ａ）ハロゲン原子、（ｂ）トリフルオロメチ
ル基、（ｃ）水酸基、（ｄ）ニトロ基、（ｅ）カルボキ
シル基、（ｆ）炭素数１〜４のアルキル基で置換されて
もよいアミノ基、（ｇ）炭素数１から４のアルキル基、
アルコキシ基もしくはアルキルチオ基、（ｈ）フェニル
基、（ｉ）メチレンジオキシ基、（ｊ）シアノ基、で置
換されているフェニル、ナフチル、アントリル、さらに
少なくとも一種の窒素、酸素、硫黄原子１個を含む単環
状又は二環状の複素環の各基、又はＰｈ−ＣＨ＝ＣＲ3
−基（基中、Ｒ3 は水素原子、又は炭素数１から４のア
ルキル基を表わす）を表わし、Ｒ2 は水素原子、又は、
炭素数１から７のアルキル基あるいはベンジル基を表わ
し、そして、ｎは０から４の整数を表わす、で示される
チアゾリン誘導体、及びＲ2 が水素原子を表すときに
は、その酸の無毒性塩に関する。
いないか少なくとも一個の炭素数１から４のアルキル基
で置換されている炭素数４から７のシクロアルキルもし
くはシクロアルケニル基、置換されていないか少なくも
と１個の（ａ）ハロゲン原子、（ｂ）トリフルオロメチ
ル基、（ｃ）水酸基、（ｄ）ニトロ基、（ｅ）カルボキ
シル基、（ｆ）炭素数１〜４のアルキル基で置換されて
もよいアミノ基、（ｇ）炭素数１から４のアルキル基、
アルコキシ基もしくはアルキルチオ基、（ｈ）フェニル
基、（ｉ）メチレンジオキシ基、（ｊ）シアノ基、で置
換されているフェニル、ナフチル、アントリル、さらに
少なくとも一種の窒素、酸素、硫黄原子１個を含む単環
状又は二環状の複素環の各基、又はＰｈ−ＣＨ＝ＣＲ3
−基（基中、Ｒ3 は水素原子、又は炭素数１から４のア
ルキル基を表わす）を表わし、Ｒ2 は水素原子、又は、
炭素数１から７のアルキル基あるいはベンジル基を表わ
し、そして、ｎは０から４の整数を表わす、で示される
チアゾリン誘導体、及びＲ2 が水素原子を表すときに
は、その酸の無毒性塩に関する。
【０００５】特許請求の範囲を含む本明細書中の「アル
キル基」の用語は、直鎖又は分枝鎖アルキル基を意味す
る。例えば、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチ
ルなどである。
キル基」の用語は、直鎖又は分枝鎖アルキル基を意味す
る。例えば、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチ
ルなどである。
【０００６】Ｒ1 が表わす置換されていないか、または
少なくとも１個の炭素数１から４のアルキル基で置換さ
れた炭素数４から７のシクロアルキル及びシクロアルケ
ニル基としては、シクロブチル、１−プロピルシクロブ
チル、１−ブチルシクロブチル、２−メチルシクロブチ
ル、２−プロピルシクロブチル、３−エチルシクロブチ
ル、３−プロピルシクロブチル、２，３，４−トリチエ
ルシクロブチル、シクロペンチル、３−エチルシクロペ
ンチル、３−プロピルシクロペンチル、３−ブチルシク
ロペンチル、３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンチル、
２，２−ジメチルシクロペンチル、（１−メチル−３−
プロピル）シクロペンチル、（２−メチル−３−プロピ
ル）シクロペンチル、（２−メチル−４−プロピル）シ
クロペンチル、シクロヘキシル、３−エチルシクロヘキ
シル、３−イソプロピルシクロヘキシル、４−メチルシ
クロヘキシル、４−エチルシクロヘキシル、４−プロピ
ルシクロヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシ
ル、２，２−ジメチルシクロヘキシル、２，６−ジメチ
ルシクロヘキシル、（２，６−ジメチル−４−プロピ
ル）シクロヘキシル、シクロヘプチル、２−シクロヘキ
シニル、３−シクロヘキシニル、２−シクロペンテニル
基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル、シク
ロヘキシルなどが挙げられる。
少なくとも１個の炭素数１から４のアルキル基で置換さ
れた炭素数４から７のシクロアルキル及びシクロアルケ
ニル基としては、シクロブチル、１−プロピルシクロブ
チル、１−ブチルシクロブチル、２−メチルシクロブチ
ル、２−プロピルシクロブチル、３−エチルシクロブチ
ル、３−プロピルシクロブチル、２，３，４−トリチエ
ルシクロブチル、シクロペンチル、３−エチルシクロペ
ンチル、３−プロピルシクロペンチル、３−ブチルシク
ロペンチル、３−ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンチル、
２，２−ジメチルシクロペンチル、（１−メチル−３−
プロピル）シクロペンチル、（２−メチル−３−プロピ
ル）シクロペンチル、（２−メチル−４−プロピル）シ
クロペンチル、シクロヘキシル、３−エチルシクロヘキ
シル、３−イソプロピルシクロヘキシル、４−メチルシ
クロヘキシル、４−エチルシクロヘキシル、４−プロピ
ルシクロヘキシル、４−ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキシ
ル、２，２−ジメチルシクロヘキシル、２，６−ジメチ
ルシクロヘキシル、（２，６−ジメチル−４−プロピ
ル）シクロヘキシル、シクロヘプチル、２−シクロヘキ
シニル、３−シクロヘキシニル、２−シクロペンテニル
基等が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル、シク
ロヘキシルなどが挙げられる。
【０００７】Ｒ1 が表わす置換されていないか少なくと
も１個の（ａ）から（ｊ）の置換基で置換されているフ
ェニル基としては、フェニル、２−、３−又は４−ブロ
モフェニル、２−、３−又は４−ヨードフェニル、２
−、３−又は４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフ
ェニル、２，４，６−トククロロフェニル、２，３，
４，５，６−ペンタフルオロフェニル、４−トリフルオ
ロメチルフェニル、２−、３−又は４−ヒドロキシフェ
ニル、２−ヒドロキシ−５−クロロフェニル、２−、３
−又は４−ニトロフェニル、２−、３−又は４−カルボ
キシフェニル、２−、３−又は４−アミノフェニル、４
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル、４−（Ｎ，Ｎ
−ジエチルアミノ）フェニル、２−、３−又は４−トリ
ル、２−、３−又は４−エチルフェニル、２−、３−又
は４−イソプロピルフェニル、２−、３−又は４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル、４−ｓｅｃ−ブチルフェニル、
２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニ
ル、２，６−ジメチルフェニル、（２−イソプロピル−
５−メチル）フェニル、２，６−ジイソプロピルフェニ
ル、（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル）フェニル、
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、（２
−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチル）フェニル、
２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２−、
３−又は４−メトキシフェニル、２−、３−又は４−エ
トキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、（３，
４−メチレンジオキシ）フェニル、２−、３−又は４−
メチルチオフェニル、２−、３−又は４−エチルチオフ
ェニル、４−ビフェニルが挙げられる。
も１個の（ａ）から（ｊ）の置換基で置換されているフ
ェニル基としては、フェニル、２−、３−又は４−ブロ
モフェニル、２−、３−又は４−ヨードフェニル、２
−、３−又は４−クロロフェニル、２，４−ジクロロフ
ェニル、２，４，６−トククロロフェニル、２，３，
４，５，６−ペンタフルオロフェニル、４−トリフルオ
ロメチルフェニル、２−、３−又は４−ヒドロキシフェ
ニル、２−ヒドロキシ−５−クロロフェニル、２−、３
−又は４−ニトロフェニル、２−、３−又は４−カルボ
キシフェニル、２−、３−又は４−アミノフェニル、４
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル、４−（Ｎ，Ｎ
−ジエチルアミノ）フェニル、２−、３−又は４−トリ
ル、２−、３−又は４−エチルフェニル、２−、３−又
は４−イソプロピルフェニル、２−、３−又は４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル、４−ｓｅｃ−ブチルフェニル、
２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニ
ル、２，６−ジメチルフェニル、（２−イソプロピル−
５−メチル）フェニル、２，６−ジイソプロピルフェニ
ル、（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチル）フェニル、
２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２，６−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル、２，４，６−トリメチルフェニル、（２
−ｔｅｒｔ−ブチル−４，６−ジメチル）フェニル、
２，４，６−トリ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２−、
３−又は４−メトキシフェニル、２−、３−又は４−エ
トキシフェニル、３，４−ジメトキシフェニル、（３，
４−メチレンジオキシ）フェニル、２−、３−又は４−
メチルチオフェニル、２−、３−又は４−エチルチオフ
ェニル、４−ビフェニルが挙げられる。
【０００８】Ｒ1 が表わす置換されていないか少なくと
も１個の（ａ）から（ｊ）の置換基で置換されているナ
フチル基としては、１−ナフチル、２−ナフチル、２−
メトキシ−１−ナフチル、４−メトキシ−１−ナフチ
ル、３−又は４−メトキシ−２−ナフチル、７−クロロ
−２−ナフチル、７−ブロモ−２−ナフチル、７−フル
オロ−２−ナフチル等が挙げられる。１種の窒素、酸
素、硫黄を含む複素環基としては、キノリン、インドー
ル、ピリジン、ピロール、フラン、チオフェンが挙げら
れる。Ｒ1 ，Ｒ2 が表わす炭素数１−７のアルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、へプチル基、及びそれらの異性体が挙げ
られる。Ｒ1 が表わす好ましい複素環基は、一種の窒
素、酸素、又は硫黄原子を一個以上含む単環状もしくは
二環状の複素環基、より好ましくは芳香族性の複素環基
であり、それらは無置換でも前述の置換基で適当に置換
されていてもよい。
も１個の（ａ）から（ｊ）の置換基で置換されているナ
フチル基としては、１−ナフチル、２−ナフチル、２−
メトキシ−１−ナフチル、４−メトキシ−１−ナフチ
ル、３−又は４−メトキシ−２−ナフチル、７−クロロ
−２−ナフチル、７−ブロモ−２−ナフチル、７−フル
オロ−２−ナフチル等が挙げられる。１種の窒素、酸
素、硫黄を含む複素環基としては、キノリン、インドー
ル、ピリジン、ピロール、フラン、チオフェンが挙げら
れる。Ｒ1 ，Ｒ2 が表わす炭素数１−７のアルキル基と
しては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、へプチル基、及びそれらの異性体が挙げ
られる。Ｒ1 が表わす好ましい複素環基は、一種の窒
素、酸素、又は硫黄原子を一個以上含む単環状もしくは
二環状の複素環基、より好ましくは芳香族性の複素環基
であり、それらは無置換でも前述の置換基で適当に置換
されていてもよい。
【０００９】好ましいＲ1 は、イソプロピル、ブチル、
シクロヘキシル、３−シクロヘキセニル、９−アントリ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル、７−フルオロ−２−
ナフチル、２−メトキシ、４−メトキシ−１−ナフチ
ル、フェニル、４−クロロフェニル、３−クロロフェニ
ル、２−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、
４−ブロモフェニル、３−ブロモフェニル、２−ブロモ
フェニル、２−ヨードフェニル、３−ヨードフェニル、
４−ヨードフェニル、４−フルオロフェニル、３−フル
オロフェニル、２−フルオロフェニル、４−ヒドロキシ
フェニル、２−ヒドロキシ−５−クロロフェニル、２−
ニトロフェニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェ
ニル、２−カルボキシフェニル、４−カルボキシフェニ
ル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル、４−ト
リル、４−メトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェ
ニル、（３，４−メチレンジオキシ）フェニル、４−ビ
フェニル、４−（３−ピリジルメチル）フェニル、４−
（α−ヒドロキシベンジル）フェニル、３−ピリジル、
４−ピリジル、２−チエニル、２−フリル、５−ニトロ
−２−フェニル、５−ヒドロキシメチル−２−フリル、
２−ピロリル、３−インドリル、５−インドリル、５−
ブロモ−３−インドリル、５−クロロ−３−インドリ
ル、５−メトキシ−３−インドリル、５−メトキシ−２
−イソプロピル−３−インドリル、５−ニトロ−３−イ
ンドリル、５−カルボキシ−３−インドリル、１−メチ
ル−３−インドリル、２−メチル−３−インドリル、２
−イソプロピル−３−インドリル、２−フェニル−３−
インドリル、３−キノリル、４−キノリル、３−ベンゾ
［ｂ］フリル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−オキソ
−２−クロマニル、５−（３−ピリジルメチル）−２−
チエニル、スチリル、α−メチル−スチリル、２−フェ
ニルエチル基である。
シクロヘキシル、３−シクロヘキセニル、９−アントリ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル、７−フルオロ−２−
ナフチル、２−メトキシ、４−メトキシ−１−ナフチ
ル、フェニル、４−クロロフェニル、３−クロロフェニ
ル、２−クロロフェニル、２，４−ジクロロフェニル、
４−ブロモフェニル、３−ブロモフェニル、２−ブロモ
フェニル、２−ヨードフェニル、３−ヨードフェニル、
４−ヨードフェニル、４−フルオロフェニル、３−フル
オロフェニル、２−フルオロフェニル、４−ヒドロキシ
フェニル、２−ヒドロキシ−５−クロロフェニル、２−
ニトロフェニル、３−ニトロフェニル、４−ニトロフェ
ニル、２−カルボキシフェニル、４−カルボキシフェニ
ル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）フェニル、４−ト
リル、４−メトキシフェニル、３，４−ジメトキシフェ
ニル、（３，４−メチレンジオキシ）フェニル、４−ビ
フェニル、４−（３−ピリジルメチル）フェニル、４−
（α−ヒドロキシベンジル）フェニル、３−ピリジル、
４−ピリジル、２−チエニル、２−フリル、５−ニトロ
−２−フェニル、５−ヒドロキシメチル−２−フリル、
２−ピロリル、３−インドリル、５−インドリル、５−
ブロモ−３−インドリル、５−クロロ−３−インドリ
ル、５−メトキシ−３−インドリル、５−メトキシ−２
−イソプロピル−３−インドリル、５−ニトロ−３−イ
ンドリル、５−カルボキシ−３−インドリル、１−メチ
ル−３−インドリル、２−メチル−３−インドリル、２
−イソプロピル−３−インドリル、２−フェニル−３−
インドリル、３−キノリル、４−キノリル、３−ベンゾ
［ｂ］フリル、３−ベンゾ［ｂ］チエニル、４−オキソ
−２−クロマニル、５−（３−ピリジルメチル）−２−
チエニル、スチリル、α−メチル−スチリル、２−フェ
ニルエチル基である。
【００１０】好ましいＲ2 は、水素原子、又は炭素数１
から７のアルキル基またはベンジル基であり、より好ま
しくは水素原子、又は炭素数１から４のアルキル基、も
っとも好ましくは水素原子である。
から７のアルキル基またはベンジル基であり、より好ま
しくは水素原子、又は炭素数１から４のアルキル基、も
っとも好ましくは水素原子である。
【００１１】本発明に従い、一般式（Ｉ）で示されるチ
アゾリン誘導体は、一般式（II）で示される化合物と一
般式（III ）（式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を表す）で
示される化合物とを反応させて得られる一般式（IV）で
示される化合物を一般式（Ｖ）で示される化合物と反応
させことにより得られる。
アゾリン誘導体は、一般式（II）で示される化合物と一
般式（III ）（式中、Ｒ1 は前記と同じ意味を表す）で
示される化合物とを反応させて得られる一般式（IV）で
示される化合物を一般式（Ｖ）で示される化合物と反応
させことにより得られる。
【００１２】化合物（II）と化合物（III ）との縮合に
使用される触媒としては、水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、酢酸ナトリウム等のアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の水酸化物、炭酸塩、アルコキサイド、およ
び有機酸塩、メチルアミン、エチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、アニリン、ニコチン、ピリジ
ン、ピペリジン、アンモニア等のアミン類及び無水酢
酸、無水ピロピオン酸等の無水有機酸が用いられる。化
合物（II）と化合物（III ) との使用割合は適宜選択で
きるが、一般には化合物（II）に対して化合物（III )
を１．０から１．２倍モル程度使用するのが好ましい。
反応は、通常室温で行われ、必要ならば加温下で行い、
一般には溶媒の還流温度において有利に進行する。反応
時間は０．５〜２４時間である。
使用される触媒としては、水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、酢酸ナトリウム等のアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属の水酸化物、炭酸塩、アルコキサイド、およ
び有機酸塩、メチルアミン、エチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、アニリン、ニコチン、ピリジ
ン、ピペリジン、アンモニア等のアミン類及び無水酢
酸、無水ピロピオン酸等の無水有機酸が用いられる。化
合物（II）と化合物（III ) との使用割合は適宜選択で
きるが、一般には化合物（II）に対して化合物（III )
を１．０から１．２倍モル程度使用するのが好ましい。
反応は、通常室温で行われ、必要ならば加温下で行い、
一般には溶媒の還流温度において有利に進行する。反応
時間は０．５〜２４時間である。
【００１３】溶媒には、メタノール、エタノール等のア
ルコール類、ジオキサン等のエーテル類及び酢酸等が用
いられる。反応生成物（IV) は、通常の精製手段、例え
ば溶媒間転溶、再結晶法、シリカゲルなどの薄層クロマ
トグラフィー、カラムクロマトグラフィー、高速液体ク
ロマトグラフィー等の手段により精製される。化合物
（IV) と化合物（Ｖ）との反応は、テトラヒドロフラン
中でトリエチルアミンなどの塩基の存在の下に、室温に
て行われる。また必要ならば加温してもよい。反応時間
は０．５〜２４時間である。反応生成物（VI）の精製
は、通常の精製手段、例えば溶媒間転溶、再結晶法、シ
リカゲルの薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグ
ラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の手段により
精製される。化合物（Ｉ）は必要であれば、アルカリ、
酸加水分解、還元等の公知の方法により脱保護を行い、
所望の化合物（Ｒ2 ＝Ｈ）を得ることができる。反応生
成物の精製は再結晶法により行われるが、必要に応じ
て、クロマトブラフィーが利用される。一般式（II）、
（III ) 、又は（Ｖ）で示される化合物は、それ自身公
知であるか、又は公知の方法により製造できる。
ルコール類、ジオキサン等のエーテル類及び酢酸等が用
いられる。反応生成物（IV) は、通常の精製手段、例え
ば溶媒間転溶、再結晶法、シリカゲルなどの薄層クロマ
トグラフィー、カラムクロマトグラフィー、高速液体ク
ロマトグラフィー等の手段により精製される。化合物
（IV) と化合物（Ｖ）との反応は、テトラヒドロフラン
中でトリエチルアミンなどの塩基の存在の下に、室温に
て行われる。また必要ならば加温してもよい。反応時間
は０．５〜２４時間である。反応生成物（VI）の精製
は、通常の精製手段、例えば溶媒間転溶、再結晶法、シ
リカゲルの薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグ
ラフィー、高速液体クロマトグラフィー等の手段により
精製される。化合物（Ｉ）は必要であれば、アルカリ、
酸加水分解、還元等の公知の方法により脱保護を行い、
所望の化合物（Ｒ2 ＝Ｈ）を得ることができる。反応生
成物の精製は再結晶法により行われるが、必要に応じ
て、クロマトブラフィーが利用される。一般式（II）、
（III ) 、又は（Ｖ）で示される化合物は、それ自身公
知であるか、又は公知の方法により製造できる。
【００１４】本発明の化合物（Ｉ）において、Ｒ1 とチ
アゾリン環の間には二重結合が１個存在するが、それに
基づくいずれの立体異性体も本発明に含まれる。
アゾリン環の間には二重結合が１個存在するが、それに
基づくいずれの立体異性体も本発明に含まれる。
【００１５】Ｒ2 が水素原子を表わす一般式（Ｉ）で示
される化合物は、公知の方法例えば、中和、イオン交換
樹脂法などで塩に変換される。塩は無毒性の塩であるこ
とが好ましい。本発明書において、「無毒性塩」という
用語は、動物の組織に対して比較的無毒で、治療に必要
な量を用いたとき一般式（Ｉ）で示される化合物の有効
な薬理的性質がそのカチオンにより生じた副作用によっ
て損なわれないようなカチオンの塩を意味する。塩は水
溶性であることが好ましい。適当な塩にはナトリウム、
カリウムのごときアルカリ金属の塩、カルシウム、マグ
ネシウムのごときアルカリ土類金属の塩、アンモニウム
塩、及び薬学的に許容される（即ち無毒性塩の）アミン
類が含まれる。カルボン酸とそのような塩を形成する適
当なアミン類はよく知られており、例えば理論上、アン
モニアの１個又はそれ以上の水素原子の他の基に置き換
えて得られるアミンが含まれる。１個以上の水素原子が
置換されている場合には、この他の基は、同じでも異な
ってもよいが、例えば炭素数１〜６のアルキル基、炭素
数１又は２のヒドロキシアルキル基から選ばれる。好適
な無毒性のアミン塩としては、テトラアンモニウム塩の
ごときテトラアルキルアンモニウム塩、及びメチルアミ
ン塩、エチルアミン塩、イソプロピルアミン塩、ｔｅｒ
ｔ−ブチルアミン塩、ジメチルアミン塩、シクロペンチ
ルアミン塩、ベンジルアミン塩、フェネチルアミン塩、
ピペリジン塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノール
アミン塩、リジン塩、アルギニン塩のごとき有機アミン
塩が挙げられる。
される化合物は、公知の方法例えば、中和、イオン交換
樹脂法などで塩に変換される。塩は無毒性の塩であるこ
とが好ましい。本発明書において、「無毒性塩」という
用語は、動物の組織に対して比較的無毒で、治療に必要
な量を用いたとき一般式（Ｉ）で示される化合物の有効
な薬理的性質がそのカチオンにより生じた副作用によっ
て損なわれないようなカチオンの塩を意味する。塩は水
溶性であることが好ましい。適当な塩にはナトリウム、
カリウムのごときアルカリ金属の塩、カルシウム、マグ
ネシウムのごときアルカリ土類金属の塩、アンモニウム
塩、及び薬学的に許容される（即ち無毒性塩の）アミン
類が含まれる。カルボン酸とそのような塩を形成する適
当なアミン類はよく知られており、例えば理論上、アン
モニアの１個又はそれ以上の水素原子の他の基に置き換
えて得られるアミンが含まれる。１個以上の水素原子が
置換されている場合には、この他の基は、同じでも異な
ってもよいが、例えば炭素数１〜６のアルキル基、炭素
数１又は２のヒドロキシアルキル基から選ばれる。好適
な無毒性のアミン塩としては、テトラアンモニウム塩の
ごときテトラアルキルアンモニウム塩、及びメチルアミ
ン塩、エチルアミン塩、イソプロピルアミン塩、ｔｅｒ
ｔ−ブチルアミン塩、ジメチルアミン塩、シクロペンチ
ルアミン塩、ベンジルアミン塩、フェネチルアミン塩、
ピペリジン塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノール
アミン塩、リジン塩、アルギニン塩のごとき有機アミン
塩が挙げられる。
【００１６】塩は、Ｒ2 が水素原子を表す一般式（Ｉ）
で示される酸を公知の方法、例えば適当な溶媒中で一般
式（Ｉ）で示される酸と適当な塩基、例えばアルカリ金
属、アルカリ土類金属の水酸化物あるいは炭酸塩、水酸
化アンモニウム、アンモニア又は有機アミンを理論量ず
つ反応させて得られる。塩は溶媒を凍結乾燥するかある
いは、反応溶媒に充分不溶であるならば濾過するか、あ
るいは必要ならば溶液を一部留去したのちに濾過する事
により単離される。
で示される酸を公知の方法、例えば適当な溶媒中で一般
式（Ｉ）で示される酸と適当な塩基、例えばアルカリ金
属、アルカリ土類金属の水酸化物あるいは炭酸塩、水酸
化アンモニウム、アンモニア又は有機アミンを理論量ず
つ反応させて得られる。塩は溶媒を凍結乾燥するかある
いは、反応溶媒に充分不溶であるならば濾過するか、あ
るいは必要ならば溶液を一部留去したのちに濾過する事
により単離される。
【００１７】本発明の一般式（Ｉ）で示されるチアゾリ
ン誘導体は、アルドースを対応するポリオールに還元す
るアルドース還元酵素を阻害するのでアルドース還元酵
素阻害剤として有用である。このことは慢性糖尿病の合
併症、例えば循環器障害、腎障害、網膜症、糖尿病白内
障、神経症害、感染症等でアルドース還元酵素が関係す
る合併症として知られている神経痛のごとき神経障害、
網膜症、糖尿病性白内障、尿細管性腎臓病のごとき腎障
害の予防や治療に有用であることを意味する。
ン誘導体は、アルドースを対応するポリオールに還元す
るアルドース還元酵素を阻害するのでアルドース還元酵
素阻害剤として有用である。このことは慢性糖尿病の合
併症、例えば循環器障害、腎障害、網膜症、糖尿病白内
障、神経症害、感染症等でアルドース還元酵素が関係す
る合併症として知られている神経痛のごとき神経障害、
網膜症、糖尿病性白内障、尿細管性腎臓病のごとき腎障
害の予防や治療に有用であることを意味する。
【００１８】本発明に含まれる新規なチアゾリン誘導体
としては２−カルボキシメチルチオ−４−ベンジリデン
−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチ
オ−４−（４−ニトロベンジリデン）−２−チアゾリン
−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ク
ロロベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−
カルボキシメチルチオ−４−（４−ブロモベンジリデ
ン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチ
ルチオ−４−（３−ブロモベンジリデン）−２−チアゾ
リン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−（２
−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、
２−カルボキシメチルチオ−４−（４−フルオロベンジ
リデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシ
メチルチオ−４−（４−シアノベンジリデン）−２−チ
アゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−
（４−メチルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ン、２−カルボキシメチルチオ−４−（４−トリフルオ
ロメチルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、
２−カルボキシメチルチオ−４−（４−カルボキシベン
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキ
シメチル−４−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベン
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキ
シメチルチオ−４−（３，４−（メチレンジオキシ）ベ
ンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボ
キシメチルチオ−４−（１−ナフチルメチレン）−２−
チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４
−（２−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ン、２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メトキシ−
１−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、
２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−
カルボキシメチルチオ−４−（７−フルオロ−２−ナフ
チルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カル
ボキシメチルチオ−４−（９−アントリルメチレン）−
２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ
−４−（２−フルフリルメチレン）−２−チアゾリン−
５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−（２−チエ
ニルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カル
ボキシメチルチオ−４−（５−ニトロ−２−フルフリル
メチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキ
シメチルチオ−４−（３−ピリジニルメチレン）−２−
チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４
−（３−キノリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ン、２−カルボキシメチルチオ−４−（４−キノリルメ
チレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシ
メチルチオ−４−（３−インドリルメチレン）−２−チ
アゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−
（５−メトキシ−３−インドリルメチレン）−２−チア
ゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−ス
チリルメチレン−２−チアゾリン−５−オン、２−カル
ボキシメチルチオ−４−（α−メチルスチリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチ
ルチオ−４−シクロヘキシルメチレン−２−チアゾリン
−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−ブチリデ
ン−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチル
チオ−４−（２−メチル−エチリデン）−２−チアゾリ
ン−５−オン、２−カルボキシエチルチオ−４−（２−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−
カルボキシプロピルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシブチ
ルチオ−４−（２−ナフチルメチレン）−２−チアゾリ
ン−５−オン、及びそれらのエステル及び無毒性塩が挙
げられる。
としては２−カルボキシメチルチオ−４−ベンジリデン
−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチ
オ−４−（４−ニトロベンジリデン）−２−チアゾリン
−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ク
ロロベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−
カルボキシメチルチオ−４−（４−ブロモベンジリデ
ン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチ
ルチオ−４−（３−ブロモベンジリデン）−２−チアゾ
リン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−（２
−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、
２−カルボキシメチルチオ−４−（４−フルオロベンジ
リデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシ
メチルチオ−４−（４−シアノベンジリデン）−２−チ
アゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−
（４−メチルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ン、２−カルボキシメチルチオ−４−（４−トリフルオ
ロメチルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、
２−カルボキシメチルチオ−４−（４−カルボキシベン
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキ
シメチル−４−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベン
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキ
シメチルチオ−４−（３，４−（メチレンジオキシ）ベ
ンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボ
キシメチルチオ−４−（１−ナフチルメチレン）−２−
チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４
−（２−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ン、２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メトキシ−
１−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、
２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−
カルボキシメチルチオ−４−（７−フルオロ−２−ナフ
チルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カル
ボキシメチルチオ−４−（９−アントリルメチレン）−
２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ
−４−（２−フルフリルメチレン）−２−チアゾリン−
５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−（２−チエ
ニルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カル
ボキシメチルチオ−４−（５−ニトロ−２−フルフリル
メチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキ
シメチルチオ−４−（３−ピリジニルメチレン）−２−
チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４
−（３−キノリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ン、２−カルボキシメチルチオ−４−（４−キノリルメ
チレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシ
メチルチオ−４−（３−インドリルメチレン）−２−チ
アゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−
（５−メトキシ−３−インドリルメチレン）−２−チア
ゾリン−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−ス
チリルメチレン−２−チアゾリン−５−オン、２−カル
ボキシメチルチオ−４−（α−メチルスチリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチ
ルチオ−４−シクロヘキシルメチレン−２−チアゾリン
−５−オン、２−カルボキシメチルチオ−４−ブチリデ
ン−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシメチル
チオ−４−（２−メチル−エチリデン）−２−チアゾリ
ン−５−オン、２−カルボキシエチルチオ−４−（２−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン、２−
カルボキシプロピルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オン、２−カルボキシブチ
ルチオ−４−（２−ナフチルメチレン）−２−チアゾリ
ン−５−オン、及びそれらのエステル及び無毒性塩が挙
げられる。
【００１９】急性毒性実験方法 １群３匹のＷｉｓｔａｒ−Ｉｍａｍｉｃｈｉ ｒａｔ
雄（６週齢）に、ＣＭＣに混合した供試化合物（０．１
ｇ、０．３ｇ、１．０ｇ／kg体重）を経口投与し、２４
時間にわたり死亡例を観察した。本発明の化合物の全て
に関して、ラットを用いる経口投与による急性毒性試験
を行った。投与量１ｇ／kg体重においても死亡例は認め
られず、ＬＤ50値（経口）は１ｇ／kg体重以上であり、
本発明のチアゾリン誘導体は極めて毒性の低い薬物であ
ることが証明された。
雄（６週齢）に、ＣＭＣに混合した供試化合物（０．１
ｇ、０．３ｇ、１．０ｇ／kg体重）を経口投与し、２４
時間にわたり死亡例を観察した。本発明の化合物の全て
に関して、ラットを用いる経口投与による急性毒性試験
を行った。投与量１ｇ／kg体重においても死亡例は認め
られず、ＬＤ50値（経口）は１ｇ／kg体重以上であり、
本発明のチアゾリン誘導体は極めて毒性の低い薬物であ
ることが証明された。
【００２０】ｉｎ ｖｉｔｒｏ阻害活性実験方法 ラットの水晶体から得たアルドース還元酵素を用いて、
Ｊ．Ｐｈａｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．２２９：２
２６−２３０（１９８４）記載の方法に従って実験した
ところ、一般式（Ｉ）で示されるチアゾリン誘導体は１
０-6〜１０-8のモル濃度でアルードス還元酵素を５０％
阻害した。
Ｊ．Ｐｈａｍａｃｏｌ．Ｅｘｐ．Ｔｈｅｒ．２２９：２
２６−２３０（１９８４）記載の方法に従って実験した
ところ、一般式（Ｉ）で示されるチアゾリン誘導体は１
０-6〜１０-8のモル濃度でアルードス還元酵素を５０％
阻害した。
【００２１】以下に、上記の実験で得られたデータを示
す。
す。
【表１】表１
【表２】
【００２２】
【実施例】以下の例は、本発明の一部を示すものであ
る。なお、例中の「ＩＲ」、「ＮＭＲ」、「ＭＳ」は、
各々「赤外線吸収スペクトル」、「核磁気共鳴スペクト
ル」及び「質量分析」を表わす。ＮＭＲは別段の記載が
ない場合には、ジメチルスルホキシド−ｄ６溶液で測定
している。
る。なお、例中の「ＩＲ」、「ＮＭＲ」、「ＭＳ」は、
各々「赤外線吸収スペクトル」、「核磁気共鳴スペクト
ル」及び「質量分析」を表わす。ＮＭＲは別段の記載が
ない場合には、ジメチルスルホキシド−ｄ６溶液で測定
している。
【００２３】例１ ２−カルボキシメチルチオ−４−ベンジリデン−２−チ
アゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−ベンジリデン−２−チオキソ−５−チアゾリジノン
の製造 ２−チオキソ−５−チアゾリジノン３．０ｇ、酢酸ナト
リウム１．８５ｇ、酢酸３０mlおよびベンズアルデヒド
２．３mlの混合物を室温にて、２４時間攪拌する。反応
溶液に水を適当量加えたのち、析出する結晶を濾取す
る。得られた結晶を、エタノールから再結晶すると、標
題の化合物４．３０ｇが得られた。 IR(KBr,cm-1):3200,1677,1600,1582,1452,1280,1170,10
41,1038 MS:m/z=221(M+)
アゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−ベンジリデン−２−チオキソ−５−チアゾリジノン
の製造 ２−チオキソ−５−チアゾリジノン３．０ｇ、酢酸ナト
リウム１．８５ｇ、酢酸３０mlおよびベンズアルデヒド
２．３mlの混合物を室温にて、２４時間攪拌する。反応
溶液に水を適当量加えたのち、析出する結晶を濾取す
る。得られた結晶を、エタノールから再結晶すると、標
題の化合物４．３０ｇが得られた。 IR(KBr,cm-1):3200,1677,1600,1582,1452,1280,1170,10
41,1038 MS:m/z=221(M+)
【００２４】工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボキシメチルチオ−４−ベ
ンジリデン−２−チアゾリン−５−オンの製造 ４−ベンジリデン−２−チオキソ−５−チアゾリジノン
５００mg、ブロモ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル０．３
６５ml、トリエチルアミン０．３１５mlおよびＴＨＦ８
mlの混合物を室温で２４時間攪拌した。析出する塩を除
去したのち、溶媒を減圧留去すると、結晶が得られる。
この結晶を再結晶（酢酸エチル−ヘキサン）すると、標
題の化合物５２３mgが得られた。 IR(KBr,cm-1):1725,1703,1585,1480,1361,1299,1142,11
21,1011 MS:m/z=336(M+1)+
ンジリデン−２−チアゾリン−５−オンの製造 ４−ベンジリデン−２−チオキソ−５−チアゾリジノン
５００mg、ブロモ酢酸ｔｅｒｔ−ブチルエステル０．３
６５ml、トリエチルアミン０．３１５mlおよびＴＨＦ８
mlの混合物を室温で２４時間攪拌した。析出する塩を除
去したのち、溶媒を減圧留去すると、結晶が得られる。
この結晶を再結晶（酢酸エチル−ヘキサン）すると、標
題の化合物５２３mgが得られた。 IR(KBr,cm-1):1725,1703,1585,1480,1361,1299,1142,11
21,1011 MS:m/z=336(M+1)+
【００２５】工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−ベンジリデン−２−チ
アゾリン−５−オンの製造 ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボメチルチオ−４−ベンジ
リデン−２−チアゾリン−５−オン２００mgおよび蟻酸
３mlの混合物を６０℃にて、２．５時間攪拌した。反応
溶液を減圧蒸留し、析出する結晶を再結晶（酢酸エチル
−ヘキサン）すると、標題の化合物１２２mgが得られ
た。 融点：188-189 ℃ NMR:δ=13.11,(1H,brs),8.68-7.89(2H,m),7.83-7.23(3
H,m),7.08(1H,s),4.24(2H,s) IR(KBr,cm-1):2990,2920,1720,1707,1675,1603,1590,14
75,1013 MS:279(M+)
アゾリン−５−オンの製造 ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボメチルチオ−４−ベンジ
リデン−２−チアゾリン−５−オン２００mgおよび蟻酸
３mlの混合物を６０℃にて、２．５時間攪拌した。反応
溶液を減圧蒸留し、析出する結晶を再結晶（酢酸エチル
−ヘキサン）すると、標題の化合物１２２mgが得られ
た。 融点：188-189 ℃ NMR:δ=13.11,(1H,brs),8.68-7.89(2H,m),7.83-7.23(3
H,m),7.08(1H,s),4.24(2H,s) IR(KBr,cm-1):2990,2920,1720,1707,1675,1603,1590,14
75,1013 MS:279(M+)
【００２６】例２ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ニトロベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−ニトロベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−ニトロベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５３％ IR(KBr,cm-1):3205,1689,1615,1510,1485,1451,1440,13
42,1332 MS:m/z=267(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−ニトロベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６８％ IR(KBr,cm-1):1712,1692,1507,1462,1339,1307,1302,11
39,1130 MS:m/z=381(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ニトロベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７９％ 融点：202-205 ℃ NMR:δ=13.27(1H,brs),8.44(2H,d),8.23(2H,d),7.19(1
H,s),4.28(2H,s) IR(KBr,cm-1):1738,1720,1695,1652,1607,1593,1519,14
78,1343,1060 MS:m/z=325(M+1)+
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−ニトロベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−ニトロベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５３％ IR(KBr,cm-1):3205,1689,1615,1510,1485,1451,1440,13
42,1332 MS:m/z=267(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−ニトロベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６８％ IR(KBr,cm-1):1712,1692,1507,1462,1339,1307,1302,11
39,1130 MS:m/z=381(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ニトロベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７９％ 融点：202-205 ℃ NMR:δ=13.27(1H,brs),8.44(2H,d),8.23(2H,d),7.19(1
H,s),4.28(2H,s) IR(KBr,cm-1):1738,1720,1695,1652,1607,1593,1519,14
78,1343,1060 MS:m/z=325(M+1)+
【００２７】例３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−クロロベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−クロロベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−クロロベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８６％ IR(KBr,cm-1):3245,1692,1616,1588,1497,1456,1192,10
94,1052 MS:m/z=255(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−クロロベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ IR(KBr,cm-1):1730,1711,1690,1605,1579,1470,1389,13
68,1303,1141,1010 MS:m/z=358(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−クロロベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８１％ 融点：194-196 ℃ NMR:δ=8.21(2H,d),7.46(2H,d),7.07(1H,s),4.20(2H,s) IR(KBr,cm-1):1721,1702,1690,1610,1582,1478,1410,13
10,1239,1100,1009 MS:m/z=313(M+),269,216,194,159,135,107,59
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−クロロベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−クロロベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８６％ IR(KBr,cm-1):3245,1692,1616,1588,1497,1456,1192,10
94,1052 MS:m/z=255(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−クロロベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ IR(KBr,cm-1):1730,1711,1690,1605,1579,1470,1389,13
68,1303,1141,1010 MS:m/z=358(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−クロロベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８１％ 融点：194-196 ℃ NMR:δ=8.21(2H,d),7.46(2H,d),7.07(1H,s),4.20(2H,s) IR(KBr,cm-1):1721,1702,1690,1610,1582,1478,1410,13
10,1239,1100,1009 MS:m/z=313(M+),269,216,194,159,135,107,59
【００２８】例４ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−ブロモベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−ブロモベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８８％ IR(KBr,cm-1):3230,1687,1612,1455,1276,1051 MS:m/z=301(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ IR(KBr, cm-1):1741,1718,1699,1610,1582,1470,1389,1
369,1305,1143,1130,1010 MS:m/z=412(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５４％ 融点：203-205 ℃ NMR:δ=8.10(2H,d),7.57(2H,d),6.97(1H,s),4.19(2H,s) IR(KBr,cm-1):1720,1701,1682,1602,1577,1480,1402,13
10,1138,1020,1012 MS:m/z=359(M+1)+,313,240,196,159,135,107,59
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−ブロモベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−ブロモベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８８％ IR(KBr,cm-1):3230,1687,1612,1455,1276,1051 MS:m/z=301(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ IR(KBr, cm-1):1741,1718,1699,1610,1582,1470,1389,1
369,1305,1143,1130,1010 MS:m/z=412(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５４％ 融点：203-205 ℃ NMR:δ=8.10(2H,d),7.57(2H,d),6.97(1H,s),4.19(2H,s) IR(KBr,cm-1):1720,1701,1682,1602,1577,1480,1402,13
10,1138,1020,1012 MS:m/z=359(M+1)+,313,240,196,159,135,107,59
【００２９】例５ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−ブロモベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ３−ブロモベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６２％ IR(KBr,cm-1):3180,1684,1613,1485,1453,1299 1178 10
47 MS:m/z=301(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７９％ IR(KBr,cm-1):1734,1695,1605,1555,1479,1370,1302,11
70,1015 MS:m/z=402(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ 融点：176-177.5 ℃ NMR:δ=8.50-8.06(2H,m),7.70-7.12(2H,m),6.96(1H,s),
4.15(2H,s) IR(KBr,cm-1):1720,1695,1608,1486,1238,1135,1020 MS:m/z=359(M+1)+,313,278,240,196,135,107,59
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−ブロモベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ３−ブロモベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６２％ IR(KBr,cm-1):3180,1684,1613,1485,1453,1299 1178 10
47 MS:m/z=301(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７９％ IR(KBr,cm-1):1734,1695,1605,1555,1479,1370,1302,11
70,1015 MS:m/z=402(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ 融点：176-177.5 ℃ NMR:δ=8.50-8.06(2H,m),7.70-7.12(2H,m),6.96(1H,s),
4.15(2H,s) IR(KBr,cm-1):1720,1695,1608,1486,1238,1135,1020 MS:m/z=359(M+1)+,313,278,240,196,135,107,59
【００３０】例６ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ブロモベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ２−ブロモベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：７４％ IR(KBr,cm-1):3280,1717,1690,1608,1473,1430,1280,12
77,1175,1058 MS:m/z=301(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９０％ IR(KBr,cm-1):1718,1691,1600,1571,1473,1372,1272,12
53,1150,1015 MS:m/z=402(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８８％ 融点：175-177 ℃ NMR:δ=8.83-8.60(1H,m),7.90-7.25(3H,m),7.25(1H,s),
4.12(2H,s) IR(KBr,cm-1):1712,1699,1601,1477,1423,1271,1251,11
81,1139,1110,1011 MS:m/z=359(M+1)+,278,234,196,159,135,107,59
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ブロモベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ２−ブロモベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：７４％ IR(KBr,cm-1):3280,1717,1690,1608,1473,1430,1280,12
77,1175,1058 MS:m/z=301(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９０％ IR(KBr,cm-1):1718,1691,1600,1571,1473,1372,1272,12
53,1150,1015 MS:m/z=402(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−ブロモベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８８％ 融点：175-177 ℃ NMR:δ=8.83-8.60(1H,m),7.90-7.25(3H,m),7.25(1H,s),
4.12(2H,s) IR(KBr,cm-1):1712,1699,1601,1477,1423,1271,1251,11
81,1139,1110,1011 MS:m/z=359(M+1)+,278,234,196,159,135,107,59
【００３１】例７ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−フルオロベンジ
リデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−フルオロベンジリデン）−２−チオキソ−５
−チアゾリジノンの製造２−フルオロベンズアルデヒド
を用いて、例１の工程１と同様の方法により、標題の化
合物が得られた。 収率：８１％ IR(KBr,cm-1):3220,1714,1694,1618,1510,1451,1286,12
35,1161,1050 MS:m/z=239(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７３％ IR(KBr,cm-1):1745,1705,1595,1505,1482,1371,1165,11
50,1135,1015 MS:m/z=351(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−フルオロベンジ
リデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ 融点：161-164 ℃ NMR:8.25(2H,d.d),7.20(2H,t),7.03(1H,s),4.19(2H,s) IR(KBr,cm-1):1710,1620,1597,1580,1505,1480,1185,11
35,1020 MS:m/z=297(M+),253,178,135,107,59
リデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−フルオロベンジリデン）−２−チオキソ−５
−チアゾリジノンの製造２−フルオロベンズアルデヒド
を用いて、例１の工程１と同様の方法により、標題の化
合物が得られた。 収率：８１％ IR(KBr,cm-1):3220,1714,1694,1618,1510,1451,1286,12
35,1161,1050 MS:m/z=239(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−ブロモベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７３％ IR(KBr,cm-1):1745,1705,1595,1505,1482,1371,1165,11
50,1135,1015 MS:m/z=351(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−フルオロベンジ
リデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ 融点：161-164 ℃ NMR:8.25(2H,d.d),7.20(2H,t),7.03(1H,s),4.19(2H,s) IR(KBr,cm-1):1710,1620,1597,1580,1505,1480,1185,11
35,1020 MS:m/z=297(M+),253,178,135,107,59
【００３２】例８ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−シアノベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−シアノベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−シアノベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：７５％ IR(KBr,cm-1):3080,2235,1719,1706,1625,1574,1275 MS:m/z=246(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−シアノベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ IR(KBr,cm-1):2235,1721,1709,1605,1471,1312,1145,10
10 MS:m/z=358(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−シアノベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８５％ 融点：195-196 ℃ NMR:δ=8.30(2H,d),7.83(2H,d),7.08(1H,s),4.23(2H,s) IR(KBr,cm-1):2041,1710,1610,1471,1242,1140 MS:m/z=304(M+),260,185,159,135,107,59
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−シアノベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−シアノベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：７５％ IR(KBr,cm-1):3080,2235,1719,1706,1625,1574,1275 MS:m/z=246(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−シアノベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ IR(KBr,cm-1):2235,1721,1709,1605,1471,1312,1145,10
10 MS:m/z=358(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−シアノベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８５％ 融点：195-196 ℃ NMR:δ=8.30(2H,d),7.83(2H,d),7.08(1H,s),4.23(2H,s) IR(KBr,cm-1):2041,1710,1610,1471,1242,1140 MS:m/z=304(M+),260,185,159,135,107,59
【００３３】例９ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メチルベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−メチルベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−メチルベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８９％ IR(KBr,cm-1):3230,1693,1613,1600,1453,1283,1180,10
47 MS:m/z=236(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−メチルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 IR(KBr,cm-1):1730,1702,1595,1485,1388,1365,1302,11
45,1135,1005 MS:m/z=347(M+) 収率：８６％ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メチルベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５８％ 融点：187-188 ℃ NMR:δ=8.11(2H,d),7.27(2H,d),7.03(1H,s),4.17(2H,
s),2.34(3H,s) IR(KBr,cm-1):1719,1705,1590,1482,1245,1139,1015 MS:m/z=293(M+),249,195,174,131,107,59
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−メチルベンジリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ４−メチルベンズアルデヒドを用いて、例１の工程１と
同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８９％ IR(KBr,cm-1):3230,1693,1613,1600,1453,1283,1180,10
47 MS:m/z=236(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−メチルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 IR(KBr,cm-1):1730,1702,1595,1485,1388,1365,1302,11
45,1135,1005 MS:m/z=347(M+) 収率：８６％ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メチルベンジリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５８％ 融点：187-188 ℃ NMR:δ=8.11(2H,d),7.27(2H,d),7.03(1H,s),4.17(2H,
s),2.34(3H,s) IR(KBr,cm-1):1719,1705,1590,1482,1245,1139,1015 MS:m/z=293(M+),249,195,174,131,107,59
【００３４】例１０ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−トリフルオロメ
チルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−トリフルオロメチルベンジリデン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ４−トリフルオロメチルベンズアルデヒドを用いて、例
１の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：８９％ IR(KBr,cm-1):3250,1683,1505,1460,1327,1166,1129,10
69 MS:m/z=290(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−トリフルオロメチルベンジリデン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８６％ IR(KBr,cm-1):1728,1702,1690,1480,1320,1140 MS:m/z=401(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−トリフルオロメ
チルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５８％ 融点：160-164 ℃ NMR:δ=8.34(2H,d),7.68(2H,d),7.04(1H,s),4.23(2H,s) IR(KBr,cm-1):1708,1688,1610,1471,1270,1177,1132,11
19,1067,1022 MS:m/z=347(M+),288,228,184,159,135,107,86,59
チルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−トリフルオロメチルベンジリデン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ４−トリフルオロメチルベンズアルデヒドを用いて、例
１の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：８９％ IR(KBr,cm-1):3250,1683,1505,1460,1327,1166,1129,10
69 MS:m/z=290(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−トリフルオロメチルベンジリデン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８６％ IR(KBr,cm-1):1728,1702,1690,1480,1320,1140 MS:m/z=401(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−トリフルオロメ
チルベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５８％ 融点：160-164 ℃ NMR:δ=8.34(2H,d),7.68(2H,d),7.04(1H,s),4.23(2H,s) IR(KBr,cm-1):1708,1688,1610,1471,1270,1177,1132,11
19,1067,1022 MS:m/z=347(M+),288,228,184,159,135,107,86,59
【００３５】例１１ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−カルボキシベン
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−カルボキシベンジリデン）−２−チオキソ−
５−チアゾリジノンの製造 ４−カルボキシベンズアルデヒドを用いて、例１の工程
１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６８％ IR(KBr,cm-1):3252,1685,1620,1602,1458,1300,1256 MS:m/z=265(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−カルボキシベンジリデン）−２−チアゾリン−５
−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ IR(KBr,cm-1):1740,1711,1689,1612,1482,1298,1140 MS:m/z=380(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−カルボキシベン
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ 融点：234-240 ℃ NMR:δ=9.28(2H,d),8.98(2H,d),7.10(1H,s),4.23(2H,d) IR(KBr, cm-1):1709,1680,1608,1481,1424,1320,1286,1
241,1131,1019 MS:m/z=323(M+),264,204,161,135,107,59
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−カルボキシベンジリデン）−２−チオキソ−
５−チアゾリジノンの製造 ４−カルボキシベンズアルデヒドを用いて、例１の工程
１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６８％ IR(KBr,cm-1):3252,1685,1620,1602,1458,1300,1256 MS:m/z=265(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−カルボキシベンジリデン）−２−チアゾリン−５
−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ IR(KBr,cm-1):1740,1711,1689,1612,1482,1298,1140 MS:m/z=380(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−カルボキシベン
ジリデン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ 融点：234-240 ℃ NMR:δ=9.28(2H,d),8.98(2H,d),7.10(1H,s),4.23(2H,d) IR(KBr, cm-1):1709,1680,1608,1481,1424,1320,1286,1
241,1131,1019 MS:m/z=323(M+),264,204,161,135,107,59
【００３６】例１２ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１ ４−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジリデン）
−２−チオキソ−５−チアゾリジノンの製造 ４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンズアルデヒドを用
いて、例１の工程１と同様の方法により、標題の化合物
が得られた。 収率：５８％ IR(KBr, cm-1):3210,1672,1560,1520,1421,1361,1279,1
180,1160,1039 MS:m/z=264(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジリデン）−２
−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ IR(KBr, cm-1):1715,1665,1604,1549,1510,1360,1370,1
290,1179,1130,1105,1002 MS:m/z=378(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ NMR:δ=8.05(2H,d),6.95(1H,d),6.89(2H,d),4.16(2H,
d),3.05(6H,s) IR(KBr,cm-1):1711,1668,1611,1560,1522,1371,1189,11
20,1019 MS:m/z=322(M+),158,100,58
チルアミノ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１ ４−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジリデン）
−２−チオキソ−５−チアゾリジノンの製造 ４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンズアルデヒドを用
いて、例１の工程１と同様の方法により、標題の化合物
が得られた。 収率：５８％ IR(KBr, cm-1):3210,1672,1560,1520,1421,1361,1279,1
180,1160,1039 MS:m/z=264(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ベンジリデン）−２
−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ IR(KBr, cm-1):1715,1665,1604,1549,1510,1360,1370,1
290,1179,1130,1105,1002 MS:m/z=378(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ NMR:δ=8.05(2H,d),6.95(1H,d),6.89(2H,d),4.16(2H,
d),3.05(6H,s) IR(KBr,cm-1):1711,1668,1611,1560,1522,1371,1189,11
20,1019 MS:m/z=322(M+),158,100,58
【００３７】例１３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３，４−（メチレン
ジオキシ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１ ４−（３，４−（メチレンジオキシ）ベンジリデン）−
２−チオキソ−５−チアゾリジノンの製造 ３，４−メチレンジオキシベンズアルデヒドを用いて、
例１の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得ら
れた。 収率：５９％ IR(KBr,cm-1):3197,1682,1620,1579,1488,1450,1343,12
53,1170,1040,1030 MS:m/z=265(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（（３，４−メチレンジオキシ）ベンジリデン）−２−
チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５２％ IR(KBr,cm-1):1721,1692,1580,1478,1441,1260,1145,11
30,1032 MS:m/z=379(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（（３，４−メチレン
ジオキシ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７１％ 融点：179-180 ℃ NMR:δ=7.96(1H,d),7.71(1H,d.d),7.06(1H,d),6.95(1H,
s),6.17(2H,s)4.25(2H,s) IR(KBr,cm-1):3415,1698,1678,1665,1579,1498,1485,14
42,1258,1132,1037 MS:m/z=323(M+ ),203,159,106,58
ジオキシ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１ ４−（３，４−（メチレンジオキシ）ベンジリデン）−
２−チオキソ−５−チアゾリジノンの製造 ３，４−メチレンジオキシベンズアルデヒドを用いて、
例１の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得ら
れた。 収率：５９％ IR(KBr,cm-1):3197,1682,1620,1579,1488,1450,1343,12
53,1170,1040,1030 MS:m/z=265(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（（３，４−メチレンジオキシ）ベンジリデン）−２−
チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５２％ IR(KBr,cm-1):1721,1692,1580,1478,1441,1260,1145,11
30,1032 MS:m/z=379(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（（３，４−メチレン
ジオキシ）ベンジリデン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７１％ 融点：179-180 ℃ NMR:δ=7.96(1H,d),7.71(1H,d.d),7.06(1H,d),6.95(1H,
s),6.17(2H,s)4.25(2H,s) IR(KBr,cm-1):3415,1698,1678,1665,1579,1498,1485,14
42,1258,1132,1037 MS:m/z=323(M+ ),203,159,106,58
【００３８】例１４ ２−カルボキシメチルチオ−４−（１−ナフチルメチレ
ン）−２チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（１−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 １−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ IR(KBr,cm-1):3205,1680,1595,1460,1442,1288,1182,10
42 MS:m/z=271(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（１−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ IR(KBr, cm-1):1705,1683,1588,1555,1469,1360 1330,1
280,1240,1140,1130,1005 MS:m/z=385(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（１−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９７％ 融点：203-205 ℃ NMR:δ=9.02-7.40(8H,m),4.25(2H,s) IR(KBr,cm-1):1710,1690,1680,1590,1555,1472,1235,11
29,1050 MS:m/z=329(M+ ),270,238,193,167,134,106,58
ン）−２チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（１−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 １−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ IR(KBr,cm-1):3205,1680,1595,1460,1442,1288,1182,10
42 MS:m/z=271(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（１−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ IR(KBr, cm-1):1705,1683,1588,1555,1469,1360 1330,1
280,1240,1140,1130,1005 MS:m/z=385(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（１−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９７％ 融点：203-205 ℃ NMR:δ=9.02-7.40(8H,m),4.25(2H,s) IR(KBr,cm-1):1710,1690,1680,1590,1555,1472,1235,11
29,1050 MS:m/z=329(M+ ),270,238,193,167,134,106,58
【００３９】例１５ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８６％ IR(KBr,cm-1):3219,1690,1588,1470,1450,1425,1282,11
88,1041 MS:m/z=272(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ IR(KBr,cm-1):1725,1700,1592,1581,1480,1361,1299,11
40,1120,1000 MS:m/z=386(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９７％ 融点：178-180 ℃ NMR:δ=8.40-7.70(4H,m),7.70-7.30(3H,m),7.13(1H,s),
4.25(2H,s) IR(KBr,cm-1):1715,1685,1610,1600,1590,1480,1136,10
21 MS:m/z=329(M+ ),285,210,167,135,107
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８６％ IR(KBr,cm-1):3219,1690,1588,1470,1450,1425,1282,11
88,1041 MS:m/z=272(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７７％ IR(KBr,cm-1):1725,1700,1592,1581,1480,1361,1299,11
40,1120,1000 MS:m/z=386(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９７％ 融点：178-180 ℃ NMR:δ=8.40-7.70(4H,m),7.70-7.30(3H,m),7.13(1H,s),
4.25(2H,s) IR(KBr,cm-1):1715,1685,1610,1600,1590,1480,1136,10
21 MS:m/z=329(M+ ),285,210,167,135,107
【００４０】例１６ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ４−メトキシ−１−ナフチルアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：８８％ IR(KBr, cm-1):3245,1670,1600,1590,1560,1510,1475,1
302,1275,1257,1190,1055 MS:m/z=302(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８１％ IR(KBr, cm-1):1731,1575,1560,1333,1145,1005 MS:m/z=415(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ 融点：193-195 ℃ NMR:δ=9.01(1H,d),8.43-8.06(2H,m),7.83-7.45(3H,m),
7.09(1H,d),4.20(2H,s)4.05(3H,s) IR(KBr, cm-1):1718,1681,1619,1581,1560,1470,1463,1
332,1281,1270,1230,1140,1100,1019 MS:m/z=360(M+1)+,236,196,153,127,107,59
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ４−メトキシ−１−ナフチルアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：８８％ IR(KBr, cm-1):3245,1670,1600,1590,1560,1510,1475,1
302,1275,1257,1190,1055 MS:m/z=302(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８１％ IR(KBr, cm-1):1731,1575,1560,1333,1145,1005 MS:m/z=415(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８７％ 融点：193-195 ℃ NMR:δ=9.01(1H,d),8.43-8.06(2H,m),7.83-7.45(3H,m),
7.09(1H,d),4.20(2H,s)4.05(3H,s) IR(KBr, cm-1):1718,1681,1619,1581,1560,1470,1463,1
332,1281,1270,1230,1140,1100,1019 MS:m/z=360(M+1)+,236,196,153,127,107,59
【００４１】例１７ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ２−メトキシ−１−ナフチルアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：５２％ IR(KBr, cm-1):3200,1685,1612,1578,1518,1479,1466,1
238,1095,1055 MS:m/z=302(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７３％ IR(KBr, cm-1):1730,1715,1600,1590,1515,1493,1311,1
256,1195 MS:m/z=415(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６５％ 融点：176-177 ℃ NMR:δ=8.27-7.30(7H,m),3.93(3H,s),3.85(2H,s) IR(KBr, cm-1):1720,1698,1600,1589,1512,1490,1260,1
199,1149,1091,1011 MS:m/z=360(M+),328,253,226,196,166,139,107,86,59
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ２−メトキシ−１−ナフチルアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：５２％ IR(KBr, cm-1):3200,1685,1612,1578,1518,1479,1466,1
238,1095,1055 MS:m/z=302(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−メトキシ−１−ナフチルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７３％ IR(KBr, cm-1):1730,1715,1600,1590,1515,1493,1311,1
256,1195 MS:m/z=415(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メトキシ−１−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６５％ 融点：176-177 ℃ NMR:δ=8.27-7.30(7H,m),3.93(3H,s),3.85(2H,s) IR(KBr, cm-1):1720,1698,1600,1589,1512,1490,1260,1
199,1149,1091,1011 MS:m/z=360(M+),328,253,226,196,166,139,107,86,59
【００４２】例１８ ２−カルボキシメチルチオ−４−（７−フルオロ−２−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（７−フルオロ−２−ナフチルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ７−フルオロ−２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：６４％ IR(KBr, cm-1):3250,1685,1630,159,1470,1460,1419,13
40,1185,1060 MS:m/z=289(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（７−フルオロ−２−ナフチルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６４％ IR(KBr, cm-1):1730,1710,1610,1512,1485,1370,1337,1
200,1129 MS:m/z=403(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（７−フルオロ−２−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８５％ 融点：224-228 ℃ NMR:δ=8.90-8.70(1H,m),8.37-7.20(5H,m),7.15(1H,s),
4.28(2H,s) IR(KBr, cm-1):1719,1705,1631,1591,1511,1482,1319,1
210,1180,1142,1131,1019 MS:m/z=347(M+),286,258,228,185,157,135,107,59
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（７−フルオロ−２−ナフチルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ７−フルオロ−２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：６４％ IR(KBr, cm-1):3250,1685,1630,159,1470,1460,1419,13
40,1185,1060 MS:m/z=289(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（７−フルオロ−２−ナフチルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６４％ IR(KBr, cm-1):1730,1710,1610,1512,1485,1370,1337,1
200,1129 MS:m/z=403(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（７−フルオロ−２−
ナフチルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８５％ 融点：224-228 ℃ NMR:δ=8.90-8.70(1H,m),8.37-7.20(5H,m),7.15(1H,s),
4.28(2H,s) IR(KBr, cm-1):1719,1705,1631,1591,1511,1482,1319,1
210,1180,1142,1131,1019 MS:m/z=347(M+),286,258,228,185,157,135,107,59
【００４３】例１９ ２−カルボキシメチルチオ−４−（９−アントリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（９−アントリルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ９−アントラアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：４９％ IR(KBr, cm-1):3185,1675,1598,1450,1280,1182,1050 MS:m/z=321(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（９−アントリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７１％ IR(KBr, cm-1):1719,1710,1590,1487,1275,1142,1123,1
002 MS:m/z=435(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（９−アントリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ 融点：212-213 ℃ NMR:δ=8.57(1H,brs),8.17-7.30(9H,m),3.83(2H,s) IR(KBr, cm-1):3430,1723,1718,1585,1482,1198,1003 MS:m/z=379(M+),246,216,189,101,59
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（９−アントリルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ９−アントラアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：４９％ IR(KBr, cm-1):3185,1675,1598,1450,1280,1182,1050 MS:m/z=321(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（９−アントリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７１％ IR(KBr, cm-1):1719,1710,1590,1487,1275,1142,1123,1
002 MS:m/z=435(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（９−アントリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ 融点：212-213 ℃ NMR:δ=8.57(1H,brs),8.17-7.30(9H,m),3.83(2H,s) IR(KBr, cm-1):3430,1723,1718,1585,1482,1198,1003 MS:m/z=379(M+),246,216,189,101,59
【００４４】例２０ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−フルフリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−フルフリルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ２−フルフラールを用いて、例１の工程１と同様の方法
により、標題の化合物が得られた。 収率：６０％ IR(KBr, cm-1):3290,1692,1605,1477,1420,1382,1277,1
160,1045,1025 MS:m/z=212(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−フルフリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９０％ IR(KBr, cm-1):1745,1738,1695,1608,1470,1365,1302,1
212,1152,1110,1012 MS:m/z=326(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−フルフリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８２％ 融点：155-158 ℃ NMR:δ=8.02-7.91(1H,m),7.62-7.44(1H,m),6.88(1H,s),
6.82-6.67(1H,m)4.17(2H,s) IR(KBr, cm-1):3430,3000,2863,1710,1697,1685,1670,1
597,1480,1459,1018 MS:m/z=269(M+)
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−フルフリルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ２−フルフラールを用いて、例１の工程１と同様の方法
により、標題の化合物が得られた。 収率：６０％ IR(KBr, cm-1):3290,1692,1605,1477,1420,1382,1277,1
160,1045,1025 MS:m/z=212(M+1)+ 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−フルフリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９０％ IR(KBr, cm-1):1745,1738,1695,1608,1470,1365,1302,1
212,1152,1110,1012 MS:m/z=326(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−フルフリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８２％ 融点：155-158 ℃ NMR:δ=8.02-7.91(1H,m),7.62-7.44(1H,m),6.88(1H,s),
6.82-6.67(1H,m)4.17(2H,s) IR(KBr, cm-1):3430,3000,2863,1710,1697,1685,1670,1
597,1480,1459,1018 MS:m/z=269(M+)
【００４５】例２１ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−チエニルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−チエニルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−チオフェンカルボキシアルデヒドを用いて、例１の
工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６７％ IR(KBr, cm-1):3252,1690,1600,1460,1281,1052,1049 MS:m/z=227(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−チエニルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：２０％ IR(KBr, cm-1):1731,1701,1590,1481,1311,1152 MS:m/z=341(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−チエニルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ 融点：170-172 ℃ NMR:δ=8.03-7.67(2H,m),7.38(1H,s),7.27-7.03(1H,m),
4.23(2H,s) IR(KBr, cm-1):3095,2955,2655,1700,1680,1630,1590,1
483,1410,1271,1259,1129,1018 MS:m/z=285(M+),241,166,122,95,58
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−チエニルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−チオフェンカルボキシアルデヒドを用いて、例１の
工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６７％ IR(KBr, cm-1):3252,1690,1600,1460,1281,1052,1049 MS:m/z=227(M+) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−チエニルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：２０％ IR(KBr, cm-1):1731,1701,1590,1481,1311,1152 MS:m/z=341(M+) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−チエニルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ 融点：170-172 ℃ NMR:δ=8.03-7.67(2H,m),7.38(1H,s),7.27-7.03(1H,m),
4.23(2H,s) IR(KBr, cm-1):3095,2955,2655,1700,1680,1630,1590,1
483,1410,1271,1259,1129,1018 MS:m/z=285(M+),241,166,122,95,58
【００４６】例２２ ２−カルボキシメチルチオ−４−（５−ニトロ−２−フ
ルフリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（５−ニトロ−２−フルフリルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ５−ニトロ−２−フルフラールを用いて、例１の工程１
と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５９％ IR(KBr, cm-1):3375,1701,1610,1520,1509,1419,1379,1
338,1250,1230 MS:m/z=256(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（５−ニトロ−２−フルフリルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ IR(KBr, cm-1):1734,1710,1609,1525,1471,1411,1350,1
339,1325,1299,11521120,1015 MS:m/z=371(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（５−ニトロ−２−フ
ルフリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８２％ 融点：170-173 ℃ NMR:δ=7.70(2H,s),6.88(1H,s),4.22(2H,s) IR(KBr, cm-1):1722,1702,1609,1524,1479,1460,1351,1
340,1257,1120,1023 MS:m/z=314(M+),268,196,170,135,107,79,59,28
ルフリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（５−ニトロ−２−フルフリルメチレン）−２−チ
オキソ−５−チアゾリジノンの製造 ５−ニトロ−２−フルフラールを用いて、例１の工程１
と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５９％ IR(KBr, cm-1):3375,1701,1610,1520,1509,1419,1379,1
338,1250,1230 MS:m/z=256(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（５−ニトロ−２−フルフリルメチレン）−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８０％ IR(KBr, cm-1):1734,1710,1609,1525,1471,1411,1350,1
339,1325,1299,11521120,1015 MS:m/z=371(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（５−ニトロ−２−フ
ルフリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８２％ 融点：170-173 ℃ NMR:δ=7.70(2H,s),6.88(1H,s),4.22(2H,s) IR(KBr, cm-1):1722,1702,1609,1524,1479,1460,1351,1
340,1257,1120,1023 MS:m/z=314(M+),268,196,170,135,107,79,59,28
【００４７】例２３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−ピリジニルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−ピリジニルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ５−ニトロ−２−フルフラールを用いて、例１の工程１
と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６２％ IR(KBr, cm-1):3255,1690,1615,1590,1447,1275,1060 MS:m/z=222(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−ピリジニルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ IR(KBr, cm-1):1725,1719,1470,1371,1310,1150,1138,1
015 MS:m/z=337(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−ピリジニルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：定量的 融点：201-202 ℃ NMR:δ=9.32-7.23(4H,m),7.13(1H,s),4.23(2H,s) IR(KBr, cm-1):1713,1699,1591,1482,1382,1334,1268,1
218,1191,1128,10511017 MS:m/z=280(M+),236,208,161,118,107,76,47
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−ピリジニルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 ５−ニトロ−２−フルフラールを用いて、例１の工程１
と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：６２％ IR(KBr, cm-1):3255,1690,1615,1590,1447,1275,1060 MS:m/z=222(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−ピリジニルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８４％ IR(KBr, cm-1):1725,1719,1470,1371,1310,1150,1138,1
015 MS:m/z=337(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−ピリジニルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：定量的 融点：201-202 ℃ NMR:δ=9.32-7.23(4H,m),7.13(1H,s),4.23(2H,s) IR(KBr, cm-1):1713,1699,1591,1482,1382,1334,1268,1
218,1191,1128,10511017 MS:m/z=280(M+),236,208,161,118,107,76,47
【００４８】例２４ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−キノリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−キノリルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ３−キノリンカルボキシアルデヒドを用いて、例１の工
程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８３％ IR(KBr, cm-1):3250,1690,1620,1605,1481,1438,1263,1
180,1060 MS:m/z=272(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−キノリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８２％ IR(KBr, cm-1):1739,1710,1603,1485,1149,1117 MS:m/z=387(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−キノリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９４％ 融点：235-240 ℃ NMR:δ=9.47-9.22(2H,m),8.30-7.40(4H,m),7.27(1H,s),
4.33(2H,s) IR(KBr, cm-1):1710,1604,1591,1478,1369,1268,1169,1
151,1131,1020 MS:m/z=330(M+),286,256,211,168,140,107,59
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−キノリルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ３−キノリンカルボキシアルデヒドを用いて、例１の工
程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：８３％ IR(KBr, cm-1):3250,1690,1620,1605,1481,1438,1263,1
180,1060 MS:m/z=272(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−キノリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８２％ IR(KBr, cm-1):1739,1710,1603,1485,1149,1117 MS:m/z=387(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−キノリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９４％ 融点：235-240 ℃ NMR:δ=9.47-9.22(2H,m),8.30-7.40(4H,m),7.27(1H,s),
4.33(2H,s) IR(KBr, cm-1):1710,1604,1591,1478,1369,1268,1169,1
151,1131,1020 MS:m/z=330(M+),286,256,211,168,140,107,59
【００４９】例２５ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−キノリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−キノリルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ４−キノリンカルボキシアルデヒドを用いて、例１の工
程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：７８％ IR(KBr, cm-1):1690,1571,1360,1345,1295,1150,1015 MS:m/z=272(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−キノリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７４％ IR(KBr, cm-1):1749,1719,1708,1475,1370,1310,1139,1
020 MS:m/z=387(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−キノリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９２％ 融点：193-195 ℃ NMR:δ=9.05-7.63(7H,m),4.25(2H,s) IR(KBr, cm-1):3400,1709,1699,1601,1474,1352,1253,1
190,1141,1019 MS:m/z=330(M+),272,240,199,168,143,115,92,45
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（４−キノリルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ４−キノリンカルボキシアルデヒドを用いて、例１の工
程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：７８％ IR(KBr, cm-1):1690,1571,1360,1345,1295,1150,1015 MS:m/z=272(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（４−キノリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オン
の製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７４％ IR(KBr, cm-1):1749,1719,1708,1475,1370,1310,1139,1
020 MS:m/z=387(M+1)+ 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（４−キノリルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９２％ 融点：193-195 ℃ NMR:δ=9.05-7.63(7H,m),4.25(2H,s) IR(KBr, cm-1):3400,1709,1699,1601,1474,1352,1253,1
190,1141,1019 MS:m/z=330(M+),272,240,199,168,143,115,92,45
【００５０】例２６ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−インドリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−インドリルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 インドール−３−カルボキシアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：３９％ IR(KBr, cm-1):3390,3195,1687,1595,1528,1472,1235,1
047 MS:m/z=260(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−インドリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７４％ IR(KBr, cm-1):3232,1712,1692,1582,1562,1498,1490,1
430,1362,1300,12301140,1123,1002 MS:m/z=375(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−インドリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４２％ 融点：213-215 ℃ NMR:δ=8.55(1H,brs),8.25-6.93(7H,m),4.18(2H,s) IR(KBr, cm-1):3370,1725,1642,1585,1555,1490,1220,1
147,1120,1097,1010 MS:m/z=318(M+),274,167,140,75,28
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（３−インドリルメチレン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 インドール−３−カルボキシアルデヒドを用いて、例１
の工程１と同様の方法により、標題の化合物が得られ
た。 収率：３９％ IR(KBr, cm-1):3390,3195,1687,1595,1528,1472,1235,1
047 MS:m/z=260(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（３−インドリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７４％ IR(KBr, cm-1):3232,1712,1692,1582,1562,1498,1490,1
430,1362,1300,12301140,1123,1002 MS:m/z=375(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（３−インドリルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４２％ 融点：213-215 ℃ NMR:δ=8.55(1H,brs),8.25-6.93(7H,m),4.18(2H,s) IR(KBr, cm-1):3370,1725,1642,1585,1555,1490,1220,1
147,1120,1097,1010 MS:m/z=318(M+),274,167,140,75,28
【００５１】例２７ ２−カルボキシメチルチオ−４−（５−メトキシ−３−
インドリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製
造 工程１ ４−（５−メトキシ−３−インドリルメチレン）−２−
チオキソ−５−チアゾリジノンの製造 ５−メトキシインドール−３−カルボキシアルデヒドを
用いて、例１の工程１と同様の方法により、標題の化合
物が得られた。 収率：４３％ IR(KBr, cm-1):3300,1677,1651,1649,1635,1582,1525,1
490,1471,1439,1380,1292,1240,11140,1048 MS:m/z=290(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（５−メトキシ−３−インドリルメチレン）−２−チア
ゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４５％ IR(KBr, cm-1):3240,1712,1675,1572,1502,1483,1479,1
440,1318,1240,1218,1141,1112 MS:m/z=404(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（５−メトキシ−３−
インドリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製
造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９０％ 融点：194-195 ℃ NMR:δ=8.58(1H,brs),7.63-7.23(3H,m),7.02-6.72(1H,
m),4.20(3H,s),3.84(2H,s) IR(KBr, cm-1):3560,3360,1720,1681,1644,1575,1500,1
480,1470,1292,1239,1205,1135,1115,1019 MS:m/z=348(M+),304,290,230,185,160,133,104,76
インドリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製
造 工程１ ４−（５−メトキシ−３−インドリルメチレン）−２−
チオキソ−５−チアゾリジノンの製造 ５−メトキシインドール−３−カルボキシアルデヒドを
用いて、例１の工程１と同様の方法により、標題の化合
物が得られた。 収率：４３％ IR(KBr, cm-1):3300,1677,1651,1649,1635,1582,1525,1
490,1471,1439,1380,1292,1240,11140,1048 MS:m/z=290(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（５−メトキシ−３−インドリルメチレン）−２−チア
ゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４５％ IR(KBr, cm-1):3240,1712,1675,1572,1502,1483,1479,1
440,1318,1240,1218,1141,1112 MS:m/z=404(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（５−メトキシ−３−
インドリルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製
造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９０％ 融点：194-195 ℃ NMR:δ=8.58(1H,brs),7.63-7.23(3H,m),7.02-6.72(1H,
m),4.20(3H,s),3.84(2H,s) IR(KBr, cm-1):3560,3360,1720,1681,1644,1575,1500,1
480,1470,1292,1239,1205,1135,1115,1019 MS:m/z=348(M+),304,290,230,185,160,133,104,76
【００５２】例２８ ２−カルボキシメチルチオ−４−スチリル−２−チアゾ
リン−５−オンの製造工程１ ４−スチリン−２−チオキソ−５−チアゾリジノンの製
造 シンナムアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様の方
法により、標題の化合物が得られた。 収率：４３％ IR(KBr, cm-1):3195,1670,1598,1575,1475,1450,1295,1
180,1055 MS:m/z=247(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−ス
チリル−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６８％ IR(KBr, cm-1):1726,1707,1688,1601,1580,1493,1281,1
150,1010 MS:m/z=362(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−スチリル−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４２％ 融点：165-167 ℃ NMR:δ=7.87-6.83(8H,m),4.20(2H,s) IR(KBr, cm-1):1720,1699,1678,1601,1498,1307,1200,1
126,1020,1007 MS:m/z=305(M+),246,196,170,142,115,86,43
リン−５−オンの製造工程１ ４−スチリン−２−チオキソ−５−チアゾリジノンの製
造 シンナムアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様の方
法により、標題の化合物が得られた。 収率：４３％ IR(KBr, cm-1):3195,1670,1598,1575,1475,1450,1295,1
180,1055 MS:m/z=247(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−ス
チリル−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：６８％ IR(KBr, cm-1):1726,1707,1688,1601,1580,1493,1281,1
150,1010 MS:m/z=362(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−スチリル−２−チアゾ
リン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４２％ 融点：165-167 ℃ NMR:δ=7.87-6.83(8H,m),4.20(2H,s) IR(KBr, cm-1):1720,1699,1678,1601,1498,1307,1200,1
126,1020,1007 MS:m/z=305(M+),246,196,170,142,115,86,43
【００５３】例２９ ２−カルボキシメチルチオ−４−（α−メチルスチリル
メチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（α−メチルスチリルメチレン）−２−チオキソ−
５−チアゾリジノンの製造 α−メチルシンナムアルデヒドを用いて、例１の工程１
と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５０％ IR(KBr, cm-1):3237,1685,1640,1566,1552,1449,1430,1
280,1179,1041 MS:m/z=262(M+1) + 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（α−メチルスチリルメチレン）−２−チアゾリン−５
−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９１％ IR(KBr, cm-1):1742,1720,1700,1580,1485,1369,1303,1
150,1140,1005 MS:m/z=377(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（α−メチルスチリル
メチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７３％ 融点：132-134.5 ℃ NMR:δ=7.51-7.12(7H,m),6.77(1H,s),4.10(2H,s),2.40
(3H,s) IR(KBr, cm-1):1715,1682,1575,1483,1120,1096,760 MS:m/z=320(M+),261,228,184,156,128
メチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（α−メチルスチリルメチレン）−２−チオキソ−
５−チアゾリジノンの製造 α−メチルシンナムアルデヒドを用いて、例１の工程１
と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５０％ IR(KBr, cm-1):3237,1685,1640,1566,1552,1449,1430,1
280,1179,1041 MS:m/z=262(M+1) + 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（α−メチルスチリルメチレン）−２−チアゾリン−５
−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：９１％ IR(KBr, cm-1):1742,1720,1700,1580,1485,1369,1303,1
150,1140,1005 MS:m/z=377(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（α−メチルスチリル
メチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７３％ 融点：132-134.5 ℃ NMR:δ=7.51-7.12(7H,m),6.77(1H,s),4.10(2H,s),2.40
(3H,s) IR(KBr, cm-1):1715,1682,1575,1483,1120,1096,760 MS:m/z=320(M+),261,228,184,156,128
【００５４】例３０ ２−カルボキシメチルチオ−４−シクロヘキシル−２−
チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−シクロヘキシルメチレン−２−チオキソ−５−チア
ゾリジノンの製造 シクロヘキシカルボキシアルデヒドを用いて、例１の工
程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５８％ IR(KBr, cm-1):3190,1690,1622,1480,1470,1455,1442,1
301,1050 MS:m/z=227(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−シ
クロヘキシルメチレン−２−チアゾリン−５−オンの製
造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：３７％ IR(KBr, cm-1):1730,1698,1623,1487,1140,1100,1002 MS:m/z=342(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−シクロヘキシルメチレ
ン−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７８％ 融点：111-113.5 ℃ NMR:δ=6.28(1H,d),4.12(2H,s),2.10-1.00(11H,m) IR(KBr, cm-1):3000,2930,2851,1720,1698,1622,1499,1
442,1210,1183,1110,1050 MS:m/z=285(M+),226,204,150,122,95,67
チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−シクロヘキシルメチレン−２−チオキソ−５−チア
ゾリジノンの製造 シクロヘキシカルボキシアルデヒドを用いて、例１の工
程１と同様の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５８％ IR(KBr, cm-1):3190,1690,1622,1480,1470,1455,1442,1
301,1050 MS:m/z=227(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−シ
クロヘキシルメチレン−２−チアゾリン−５−オンの製
造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：３７％ IR(KBr, cm-1):1730,1698,1623,1487,1140,1100,1002 MS:m/z=342(M+1) + 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−シクロヘキシルメチレ
ン−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：７８％ 融点：111-113.5 ℃ NMR:δ=6.28(1H,d),4.12(2H,s),2.10-1.00(11H,m) IR(KBr, cm-1):3000,2930,2851,1720,1698,1622,1499,1
442,1210,1183,1110,1050 MS:m/z=285(M+),226,204,150,122,95,67
【００５５】例３１ ２−カルボキシメチルチオ−４−ブチリデン−２−チア
ゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−ブチリデン−２−チオキソ−５−チアゾリジノンの
製造 バレルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様の方法
により、標題の化合物が得られた。 収率：７８％ IR(KBr, cm-1):3190,1678,1617,1468,1450,1295,1042 MS:m/z=201(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−ブ
チリデン−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４４％ IR(KBr, cm-1):1725,1702,1625,1500,1366,1301,1161,1
127,1012 MS:m/z=315(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−ブチリデン−２−チア
ゾリン−５−オンの製造工程２で得られた化合物を用い
て、例１の工程３と同様の方法で、標題の化合物が得ら
れた。 収率：７１％ 融点：72-74 ℃ NMR:δ=6.43(1H,d),4.10(2H,s),3.33-2.96(2H,m),1.87-
0.55(7H,m) IR(KBr, cm-1):1719,1702,1686,1626,1506,1213,1010 MS:m/z=259(M+),217,191,159,135,96,76,47
ゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−ブチリデン−２−チオキソ−５−チアゾリジノンの
製造 バレルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様の方法
により、標題の化合物が得られた。 収率：７８％ IR(KBr, cm-1):3190,1678,1617,1468,1450,1295,1042 MS:m/z=201(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−ブ
チリデン−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４４％ IR(KBr, cm-1):1725,1702,1625,1500,1366,1301,1161,1
127,1012 MS:m/z=315(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−ブチリデン−２−チア
ゾリン−５−オンの製造工程２で得られた化合物を用い
て、例１の工程３と同様の方法で、標題の化合物が得ら
れた。 収率：７１％ 融点：72-74 ℃ NMR:δ=6.43(1H,d),4.10(2H,s),3.33-2.96(2H,m),1.87-
0.55(7H,m) IR(KBr, cm-1):1719,1702,1686,1626,1506,1213,1010 MS:m/z=259(M+),217,191,159,135,96,76,47
【００５６】例３２ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メチル−エチリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−メチル−エチリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 イソプロピルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５５％ IR(KBr, cm-1):3192,1687,1625,1479,1465,1452,1300,1
045 MS:m/z=187(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−メチル−エチリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４４％ IR(KBr,cm -1):1735,1703,1622,1508,1367,1302,1146,1
101,1010 MS:m/z=301(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メチル−エチリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４３％ 融点：105-108 ℃ NMR:δ=6.24(1H,d),4.10(2H,s),3.50-2.83(2H,m),1.12
(6H,d) IR(KBr, cm-1):1720,1700,1627,1500,1311,1205,1080,1
020 MS:m/z=245(M+),186,135,107,82,59,28
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−メチル−エチリデン）−２−チオキソ−５−
チアゾリジノンの製造 イソプロピルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 収率：５５％ IR(KBr, cm-1):3192,1687,1625,1479,1465,1452,1300,1
045 MS:m/z=187(M+ ) 工程２ ２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチルチオ−４−
（２−メチル−エチリデン）−２−チアゾリン−５−オ
ンの製造 工程１で得られた化合物を用いて、例１の工程２と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４４％ IR(KBr,cm -1):1735,1703,1622,1508,1367,1302,1146,1
101,1010 MS:m/z=301(M+ ) 工程３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−メチル−エチリ
デン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例１の工程３と同様
の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：４３％ 融点：105-108 ℃ NMR:δ=6.24(1H,d),4.10(2H,s),3.50-2.83(2H,m),1.12
(6H,d) IR(KBr, cm-1):1720,1700,1627,1500,1311,1205,1080,1
020 MS:m/z=245(M+),186,135,107,82,59,28
【００５７】例３３ ２−カルボキシメチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 工程２ ２−メトキシカルボニルメチルチオ−４−（２−ナフチ
ルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物とブロモプロピオン酸メチルエ
ステルを用いて、例１の工程と同様の方法で、標題の化
合物が得られた。 収率：８３％ IR(KBr, cm-1):1723,1690,1598,1585,1470,1255,1007 MS:m/z=357(M+ ) 工程３ ２−カルボキシエチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物 342mg、濃塩酸１mlおよび酢酸
10mlの混合物を90℃で、３時間攪拌した。反応溶液を減
圧蒸留し、得られた結晶を再結晶（酢酸エチル−ヘキサ
ン）すると、標題の化合物164 mgが得られた。 収率：５２％ 融点：168-170 ℃ NMR:δ=8.80-7.50(7H,s),7.22(1H,s),3.69(2H,t),2.95
(2H,t) IR(KBr, cm-1):1702,1690,1688,1591,1578,1477,1192,1
000 MS:m/z=343(M+),271,167,139,115,73,27
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 工程２ ２−メトキシカルボニルメチルチオ−４−（２−ナフチ
ルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物とブロモプロピオン酸メチルエ
ステルを用いて、例１の工程と同様の方法で、標題の化
合物が得られた。 収率：８３％ IR(KBr, cm-1):1723,1690,1598,1585,1470,1255,1007 MS:m/z=357(M+ ) 工程３ ２−カルボキシエチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物 342mg、濃塩酸１mlおよび酢酸
10mlの混合物を90℃で、３時間攪拌した。反応溶液を減
圧蒸留し、得られた結晶を再結晶（酢酸エチル−ヘキサ
ン）すると、標題の化合物164 mgが得られた。 収率：５２％ 融点：168-170 ℃ NMR:δ=8.80-7.50(7H,s),7.22(1H,s),3.69(2H,t),2.95
(2H,t) IR(KBr, cm-1):1702,1690,1688,1591,1578,1477,1192,1
000 MS:m/z=343(M+),271,167,139,115,73,27
【００５８】例３４ ２−カルボキシプロピルチオ−４−（２−ナフチルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 工程２ ２−エトキシカルボニルプロピルチオ−４−（２−ナフ
チルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物とブロモ酪酸エチルエステルと
を用いて、例１の工程２と同様の方法で、標題の化合物
が得られた。 収率：８３％ IR(KBr, cm-1):1725,1699,1598,1583,1480,1239,1182,1
125,1000 MS:m/z=385(M+ ) 工程３ ２−カルボキシプロピルチオ−４−（２−ナフチルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例３３の工程３と同
様の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５０％
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 工程２ ２−エトキシカルボニルプロピルチオ−４−（２−ナフ
チルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物とブロモ酪酸エチルエステルと
を用いて、例１の工程２と同様の方法で、標題の化合物
が得られた。 収率：８３％ IR(KBr, cm-1):1725,1699,1598,1583,1480,1239,1182,1
125,1000 MS:m/z=385(M+ ) 工程３ ２−カルボキシプロピルチオ−４−（２−ナフチルメチ
レン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例３３の工程３と同
様の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：５０％
【００５９】例３５ ２−カルボキシブチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 工程２ ２−メトキシカルボニルブチルチオ−４−（２−ナフチ
ルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物とブロモ吉草酸メチルエステル
とを用いて、例１の工程と同様の方法で、標題の化合物
が得られた。 収率：６８％ IR(KBr, cm-1):1723,1689,1595,1585,1478,1132,1121 MS:m/z=385(M+ ) 工程３ ２−カルボキシブチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例３３の工程３と同
様の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８３％ 融点：135-138 ℃ NMR:δ=12.00(1H,brs),8.70-7.27(7H,m),7.10(1H,s),3.
70-3.13(2H,m),2.40-1.40(6H,m) IR(KBr, cm-1):1682,1598,1582,1495,998 MS:m/z=371(M+),271,211,167,139,101,55,28
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１ ４−（２−ナフチルメチレン）−２−チオキソ−５−チ
アゾリジノンの製造 ２−ナフチルアルデヒドを用いて、例１の工程１と同様
の方法により、標題の化合物が得られた。 工程２ ２−メトキシカルボニルブチルチオ−４−（２−ナフチ
ルメチレン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程１で得られた化合物とブロモ吉草酸メチルエステル
とを用いて、例１の工程と同様の方法で、標題の化合物
が得られた。 収率：６８％ IR(KBr, cm-1):1723,1689,1595,1585,1478,1132,1121 MS:m/z=385(M+ ) 工程３ ２−カルボキシブチルチオ−４−（２−ナフチルメチレ
ン）−２−チアゾリン−５−オンの製造 工程２で得られた化合物を用いて、例３３の工程３と同
様の方法で、標題の化合物が得られた。 収率：８３％ 融点：135-138 ℃ NMR:δ=12.00(1H,brs),8.70-7.27(7H,m),7.10(1H,s),3.
70-3.13(2H,m),2.40-1.40(6H,m) IR(KBr, cm-1):1682,1598,1582,1495,998 MS:m/z=371(M+),271,211,167,139,101,55,28
フロントページの続き (72)発明者 中村 和則 千葉県市川市南八幡３−14−３ 鳥居薬品 株式会社研究所内 (72)発明者 塩野 珠代 千葉県市川市南八幡３−14−３ 鳥居薬品 株式会社研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 式中、Ｒ1 は炭素数１から７のアルキル基、置換されて
いないか少なくとも一個の炭素数１から４のアルキル基
で置換されている炭素数４から７のシクロアルキルもし
くはシクロアルケニル基、置換されていないか少なくと
も１個の（ａ）ハロゲン原子、（ｂ）トリフルオロメチ
ル基、（ｃ）水酸基、（ｄ）ニトロ基、（ｅ）カルボキ
シル基、（ｆ）炭素数１〜４のアルキル基で置換されて
もよいアミノ基、（ｇ）炭素数１から４のアルキル基、
アルコキシ基もしくはアルキルチオ基、（ｈ）フェニル
基、（ｉ）メチレンジオキシ基、（ｊ）シアノ基、で置
換されているフェニル、ナフチル、アントリル、さらに
少なくとも一種の窒素、酸素、硫黄原子１個を含む単環
状又は二環状の複素環の各基、またはＰｈ−ＣＨ＝ＣＲ
3 −基（基中、Ｒ3 は水素原子、あるいは炭素数１から
４のアルキル基を表わす）を表わし、Ｒ2 は水素原子、
あるいは、炭素数１から７のアルキル基またはベンジル
基を表わし、そして、ｎは０から４の整数を表わす、で
示されるチアゾリン誘導体またはその塩。 - 【請求項２】 一般式 【化２】 で示される化合物と一般式（III) Ｒ1 −ＣＨＯ 式中Ｒ1 は請求項１と同じ意味を表わす、で示される化
合物とを反応させ、一般式（IV) 【化３】 式中Ｒ1 は請求項１と同じ意味を表わす、で示される化
合物を得、次にこの一般式（IV）で示される化合物を一
般式（Ｖ） Ｘ（ＣＨ2 ）ｎＣＯＯＲ2 （Ｖ） 式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ2 （水素を除く）およびｎ
は請求項１と同じ意味を表わす、で示される化合物と反
応させ、所望により、加水分解などによりエステル基を
除去し、化合物Ｉ（Ｒ2 ：水素原子）を得、さらに必要
に応じて、その無毒性塩に変換することを特徴とする一
般式（Ｉ） 【化４】 式中Ｒ1 、Ｒ2 、およびｎは請求項１と同じ意味を表わ
す、で示されるチアゾリン誘導体、又はＲ2 が水素原子
を表わすときは、その酸の無毒性塩の製造方法。 - 【請求項３】 一般式（Ｉ） 【化５】 式中、Ｒ1 は炭素数１から７のアルキル基、置換されて
いないか少なくとも一個の炭素数１から４のアルキル基
で置換されている炭素数４から７のシクロアルキルもし
くはシクロアルケニル基、置換されていないか少なくも
と１個の（ａ）ハロゲン原子、（ｂ）トリフルオロメチ
ル基、（ｃ）水酸基、（ｄ）ニトロ基、（ｅ）カルボキ
シル基、（ｆ）炭素数１〜４のアルキル基で置換されて
もよいアミノ基、（ｇ）炭素数１から４のアルキル基、
アルコキシ基もしくはアルキルチオ基、（ｈ）フェニル
基、（ｉ）メチレンジオキシ基、（ｊ）シアノ基、で置
換されているフェニル、ナフチル、アントリル、さらに
少なくとも一種の窒素、酸素、硫黄原子１個を含む単環
状又は二環状の複素環の各基、またはＰｈ−ＣＨ＝ＣＲ
3 −基（基中、Ｒ3 は水素原子、又は炭素数１から４の
アルキル基を表わす）を表わし、Ｒ2 は水素原子、又
は、炭素数１から７のアルキル基あるいはベンジル基を
表わし、そしてｎは０から４の整数を表す、で示される
チアゾリン誘導体、またはＲ2 が水素原子を表すときに
は、その酸の無毒性塩の有効成分として含有するアルド
ース還元酵素阻害剤。
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|---|---|---|---|
| JP03338744A JP3086519B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | チアゾリン誘導体 |
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|---|---|---|---|
| JP03338744A JP3086519B2 (ja) | 1991-12-20 | 1991-12-20 | チアゾリン誘導体 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05170751A true JPH05170751A (ja) | 1993-07-09 |
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| JP (1) | JP3086519B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116589432A (zh) * | 2023-05-16 | 2023-08-15 | 河南农业大学 | 一种依帕司他的制备方法 |
-
1991
- 1991-12-20 JP JP03338744A patent/JP3086519B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| CN116589432A (zh) * | 2023-05-16 | 2023-08-15 | 河南农业大学 | 一种依帕司他的制备方法 |
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