JPH051840B2 - - Google Patents
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- JPH051840B2 JPH051840B2 JP61215676A JP21567686A JPH051840B2 JP H051840 B2 JPH051840 B2 JP H051840B2 JP 61215676 A JP61215676 A JP 61215676A JP 21567686 A JP21567686 A JP 21567686A JP H051840 B2 JPH051840 B2 JP H051840B2
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- cleaning
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Description
本発明は硬質表面に付着する非水溶性高分子物
質汚染等からなる難洗浄性重質汚染物質の洗浄に
有用なプリント基板洗浄用洗浄剤組成物を提供す
るものである。 金属に対して防錆または腐食性の抑制や、その
加工時に潤滑性を与えるため、多くの高分子物質
が利用されている。例えば鋼板のプレス加工性及
び素材の防錆目的に、またプリント基板エツチン
グ時に保護塗膜目的にアクリル系を主体とする高
分子物質が利用されている。 これら高分子物質は、その工程では強度の物理
的および化学的特性と、その目的効果を発揮しな
ければならず、自然、その除去には多大な温度、
時間的配慮を要した。 これら高分子汚染物質の洗浄には大別しアルカ
リ水溶液型では古くは水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、ケイ酸ナトリウム等アルカリのみで洗
浄や、それ等アルカリとキレート剤界面活性剤を
配合したアルカリ洗浄剤での対応が主であつた。 一方、溶剤型はベースとなる、例えば、メチレ
ンクロライドのような塩素溶剤にパラフイン、フ
エノール等の溶剤蒸発抑制剤、界面活性剤等で構
成し酸型は有機酸、アルカリ型はアミンを促進剤
として使用したタイプが利用されている。 しかし、アルカリ水溶液型、溶剤型、いずれも
洗浄時間を比較的長時間費やし、かつアルカリ水
溶液型においては90℃レベル以上の洗浄温度を要
し、それ等条件を満たしても充分な効果を発揮す
るに至らなかつた。 本発明者は、これらの問題点を解消すべく鋭意
研究の結果、本発明に到達したものである。即
ち、本発明は、 モノエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、シクロヘキシルアミン、および炭素数６〜
18のアルキルアミンから選らばれたアミン類の
１種以上５〜95重量部、好ましくは20〜90重量
部、 エチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテルおよ
び、ベンジルアルコールから選らばれた高沸点
溶剤類の１種以上0.2〜50重量部、好ましくは
２〜20重量部、 被洗浄液溶媒溶解界面活性剤の１種以上0.1
〜80重量部、好ましくは0.5〜10重量部 から構成されることを特徴とするプリント基板洗
浄用洗浄剤組成物を提供するものである。 なお、本願発明における被洗浄液溶媒溶解界面
活性剤とは、前記したおよびの溶媒に溶解す
る界面活性剤であり、アルカリ水溶液型で洗浄を
実施する場合は、ポリオキシエチレンドデシルフ
エニルエーテル型等の非イオン界面活性剤、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル
型等のアニオン界面活性剤、またアルキルカルボ
キシベタイン型等の両性界面活性剤が効果的であ
り、溶剤型で洗浄を実施する場合、ポリオキシエ
チレンドデシルフエニルエーテル型等の非イオン
界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルリン酸エステル型等のアニオン界面活性剤、ま
たポリオキシエチレンアルキルアミン型等のカチ
オン界面活性剤が当該溶媒溶解性からして有効で
ある。 また、アルカリ水溶液型洗浄に、さらに水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムを併用しても何等さ
しつかえない。溶剤型洗浄には、一般にトリクロ
ルエチレン、１，１，１−トリクロルエタンが代
表的である。 非水溶性高分子物質汚染等からなる難洗浄性重
質物質の洗浄において、洗浄剤ベースとなるの
は、群のアミン類で、アミン類の構成は５〜95
重量部、好ましくは20〜90重量部であり、５重量
部未満では被洗浄物質の洗浄が発揮されず、また
95重量部を越えると他成分とのバランスで効果は
低下する。 また、群の高沸点溶剤類は、0.2〜50重量部、
好ましくは２〜20重量部あり、0.2重量部未満で
は被洗浄物質の洗浄が発揮されず、50重量部を越
えると他成分とのバランスで効果は低下する。 群の界面活性剤はアルカリ水溶液型と溶剤型
で界面活性剤の使用イオン性が異なる場合がある
が、その構成は0.1〜80重量部、好ましくは0.5〜
10重量部であり、0.1重量部未満では低温洗浄性
および、洗浄時間の短縮の効果を発揮できない。
また80重量部を越えると他成分とのバランス的関
係で効果が軽減され、さらには経済的に好ましく
ない。 アミン類１種以上を５〜95重量部、好ましくは
20〜90重量部、高沸点溶剤類１種以上を0.2〜50
重量部、好ましくは２〜20重量部、界面活性剤類
の１種以上を0.1〜80重量部、好ましくは0.5〜10
重量部で構成される洗浄剤を、アルカリ水溶液型
洗浄においては、水溶媒で水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムを併用することもでき、溶剤型洗浄
においては、トリクロルエチレン、１，１，１−
トリクロルエタン等の塩素溶媒で洗浄を行なうこ
とができる。 一般に、鉱物油、動植物油汚染はもとより、非
水溶性高分子物質汚染等の難洗浄性重質汚染物質
の実用的な洗浄がなされ、洗浄時間の短縮、洗浄
温度の低下をはかることができる。 アミン類は非水溶性高分子物質汚染等の難洗浄
性重質汚染物質の洗浄剤であり、汚染物質の膨潤
変性作用を有し、汚染物質の剥離洗浄を発現す
る。一方、高沸点溶剤類は、膨潤、変性作用促進
効果を発揮し、アミン類、高沸点溶剤類の相剰効
果で、洗浄性が発揮される。 次に、界面活性剤はアミン類、高沸点溶剤類の
効果に対して洗浄時間の短縮、低温洗浄性に作用
効果を発揮する。 本発明洗浄剤は、主として非水溶性高分子物質
汚染等の難洗浄性の重質汚染物質の洗浄に効果的
であり、高い洗浄性の確保、洗浄時間の短
縮、低温洗浄性の発揮等の本願発明の特有の効
果を発揮する。 次に本願発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 第１表に示した配合組成からなる洗浄剤組成物
を下記の各試験に供し、それぞれの結果を第２〜
第５表に示した。 アルカリ水溶液型浸漬洗浄テスト （テスト結果を第２表に示した） 被洗浄板：フエニルグリシジルエーテルアクリ
レート［UVキユア型］樹脂付着鋼板 洗浄剤濃度：有効成分40％水溶液 洗浄時間：［静置浸漬］10分間 洗浄温度：75℃および90℃ アルカリ水溶液型スプレー洗浄テスト （テスト結果を第３表に示した） 被洗浄板：アクリル酸エチル、スチレン型［水
分散型］樹脂付着鋼板 洗浄剤濃度：有効成分４％水溶液 洗浄時間：［スプレー圧３Kg／cm2］３分および
６分 洗浄温度：65℃ 溶剤型［トリクロルエチレン］浸漬洗浄テス
ト （テスト結果を第４表に示した） 被洗浄板：フエニルグリシジルエーテルアクリ
レート［UVキユア型］樹脂付着鋼板 洗浄剤濃度：５％／トリクロロエチレン 洗浄時間：［静置浸漬］15分間 洗浄温度：30℃および45℃ 溶剤型［メチレンクロライド］超音波洗浄テ
スト（テスト結果を第５表に示した） 被洗浄板：アクリル酸エチル、スチレン系［水
分散型］樹脂付着ガラス板 洗浄剤濃度：３％／メチレンクロライド 洗浄時間：［超音波洗浄28KHZ］１分および５
分 洗浄時間：30℃ テストの結果から明らかな通り、本発明洗浄
剤［１］に対して比較洗浄剤［１］は群がなく
全般に洗浄レベルが低い。比較洗浄剤［２］は
群が本発明の範囲外のため特に温度の低い条件で
効果が劣つた。 テストの結果から本発明洗浄剤［２］に対し
て比較洗浄剤［３］は(a)群が本発明の範囲外のた
め特に、短時間洗浄条件で効果が劣つた。 比較洗浄剤［４］は群が無く全般に洗浄レベ
ルが低かつた。 テストの結果から本発明洗浄剤［３］に対し
て比較洗浄剤［５］は群が無く特に低温洗浄レ
ベルが低く、比較洗浄剤［６］は群が無く効果
が劣つた。 テストの結果から本発明洗浄剤［４］に対し
て比較洗浄剤［５］は群が無く特に短時間洗浄
で劣り、比較洗浄剤［７］は群が無く全般に効
果が劣つた。
質汚染等からなる難洗浄性重質汚染物質の洗浄に
有用なプリント基板洗浄用洗浄剤組成物を提供す
るものである。 金属に対して防錆または腐食性の抑制や、その
加工時に潤滑性を与えるため、多くの高分子物質
が利用されている。例えば鋼板のプレス加工性及
び素材の防錆目的に、またプリント基板エツチン
グ時に保護塗膜目的にアクリル系を主体とする高
分子物質が利用されている。 これら高分子物質は、その工程では強度の物理
的および化学的特性と、その目的効果を発揮しな
ければならず、自然、その除去には多大な温度、
時間的配慮を要した。 これら高分子汚染物質の洗浄には大別しアルカ
リ水溶液型では古くは水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、ケイ酸ナトリウム等アルカリのみで洗
浄や、それ等アルカリとキレート剤界面活性剤を
配合したアルカリ洗浄剤での対応が主であつた。 一方、溶剤型はベースとなる、例えば、メチレ
ンクロライドのような塩素溶剤にパラフイン、フ
エノール等の溶剤蒸発抑制剤、界面活性剤等で構
成し酸型は有機酸、アルカリ型はアミンを促進剤
として使用したタイプが利用されている。 しかし、アルカリ水溶液型、溶剤型、いずれも
洗浄時間を比較的長時間費やし、かつアルカリ水
溶液型においては90℃レベル以上の洗浄温度を要
し、それ等条件を満たしても充分な効果を発揮す
るに至らなかつた。 本発明者は、これらの問題点を解消すべく鋭意
研究の結果、本発明に到達したものである。即
ち、本発明は、 モノエタノールアミン、トリエタノールアミ
ン、シクロヘキシルアミン、および炭素数６〜
18のアルキルアミンから選らばれたアミン類の
１種以上５〜95重量部、好ましくは20〜90重量
部、 エチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテルおよ
び、ベンジルアルコールから選らばれた高沸点
溶剤類の１種以上0.2〜50重量部、好ましくは
２〜20重量部、 被洗浄液溶媒溶解界面活性剤の１種以上0.1
〜80重量部、好ましくは0.5〜10重量部 から構成されることを特徴とするプリント基板洗
浄用洗浄剤組成物を提供するものである。 なお、本願発明における被洗浄液溶媒溶解界面
活性剤とは、前記したおよびの溶媒に溶解す
る界面活性剤であり、アルカリ水溶液型で洗浄を
実施する場合は、ポリオキシエチレンドデシルフ
エニルエーテル型等の非イオン界面活性剤、ポリ
オキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル
型等のアニオン界面活性剤、またアルキルカルボ
キシベタイン型等の両性界面活性剤が効果的であ
り、溶剤型で洗浄を実施する場合、ポリオキシエ
チレンドデシルフエニルエーテル型等の非イオン
界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテ
ルリン酸エステル型等のアニオン界面活性剤、ま
たポリオキシエチレンアルキルアミン型等のカチ
オン界面活性剤が当該溶媒溶解性からして有効で
ある。 また、アルカリ水溶液型洗浄に、さらに水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムを併用しても何等さ
しつかえない。溶剤型洗浄には、一般にトリクロ
ルエチレン、１，１，１−トリクロルエタンが代
表的である。 非水溶性高分子物質汚染等からなる難洗浄性重
質物質の洗浄において、洗浄剤ベースとなるの
は、群のアミン類で、アミン類の構成は５〜95
重量部、好ましくは20〜90重量部であり、５重量
部未満では被洗浄物質の洗浄が発揮されず、また
95重量部を越えると他成分とのバランスで効果は
低下する。 また、群の高沸点溶剤類は、0.2〜50重量部、
好ましくは２〜20重量部あり、0.2重量部未満で
は被洗浄物質の洗浄が発揮されず、50重量部を越
えると他成分とのバランスで効果は低下する。 群の界面活性剤はアルカリ水溶液型と溶剤型
で界面活性剤の使用イオン性が異なる場合がある
が、その構成は0.1〜80重量部、好ましくは0.5〜
10重量部であり、0.1重量部未満では低温洗浄性
および、洗浄時間の短縮の効果を発揮できない。
また80重量部を越えると他成分とのバランス的関
係で効果が軽減され、さらには経済的に好ましく
ない。 アミン類１種以上を５〜95重量部、好ましくは
20〜90重量部、高沸点溶剤類１種以上を0.2〜50
重量部、好ましくは２〜20重量部、界面活性剤類
の１種以上を0.1〜80重量部、好ましくは0.5〜10
重量部で構成される洗浄剤を、アルカリ水溶液型
洗浄においては、水溶媒で水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムを併用することもでき、溶剤型洗浄
においては、トリクロルエチレン、１，１，１−
トリクロルエタン等の塩素溶媒で洗浄を行なうこ
とができる。 一般に、鉱物油、動植物油汚染はもとより、非
水溶性高分子物質汚染等の難洗浄性重質汚染物質
の実用的な洗浄がなされ、洗浄時間の短縮、洗浄
温度の低下をはかることができる。 アミン類は非水溶性高分子物質汚染等の難洗浄
性重質汚染物質の洗浄剤であり、汚染物質の膨潤
変性作用を有し、汚染物質の剥離洗浄を発現す
る。一方、高沸点溶剤類は、膨潤、変性作用促進
効果を発揮し、アミン類、高沸点溶剤類の相剰効
果で、洗浄性が発揮される。 次に、界面活性剤はアミン類、高沸点溶剤類の
効果に対して洗浄時間の短縮、低温洗浄性に作用
効果を発揮する。 本発明洗浄剤は、主として非水溶性高分子物質
汚染等の難洗浄性の重質汚染物質の洗浄に効果的
であり、高い洗浄性の確保、洗浄時間の短
縮、低温洗浄性の発揮等の本願発明の特有の効
果を発揮する。 次に本願発明を実施例により具体的に説明す
る。 実施例 第１表に示した配合組成からなる洗浄剤組成物
を下記の各試験に供し、それぞれの結果を第２〜
第５表に示した。 アルカリ水溶液型浸漬洗浄テスト （テスト結果を第２表に示した） 被洗浄板：フエニルグリシジルエーテルアクリ
レート［UVキユア型］樹脂付着鋼板 洗浄剤濃度：有効成分40％水溶液 洗浄時間：［静置浸漬］10分間 洗浄温度：75℃および90℃ アルカリ水溶液型スプレー洗浄テスト （テスト結果を第３表に示した） 被洗浄板：アクリル酸エチル、スチレン型［水
分散型］樹脂付着鋼板 洗浄剤濃度：有効成分４％水溶液 洗浄時間：［スプレー圧３Kg／cm2］３分および
６分 洗浄温度：65℃ 溶剤型［トリクロルエチレン］浸漬洗浄テス
ト （テスト結果を第４表に示した） 被洗浄板：フエニルグリシジルエーテルアクリ
レート［UVキユア型］樹脂付着鋼板 洗浄剤濃度：５％／トリクロロエチレン 洗浄時間：［静置浸漬］15分間 洗浄温度：30℃および45℃ 溶剤型［メチレンクロライド］超音波洗浄テ
スト（テスト結果を第５表に示した） 被洗浄板：アクリル酸エチル、スチレン系［水
分散型］樹脂付着ガラス板 洗浄剤濃度：３％／メチレンクロライド 洗浄時間：［超音波洗浄28KHZ］１分および５
分 洗浄時間：30℃ テストの結果から明らかな通り、本発明洗浄
剤［１］に対して比較洗浄剤［１］は群がなく
全般に洗浄レベルが低い。比較洗浄剤［２］は
群が本発明の範囲外のため特に温度の低い条件で
効果が劣つた。 テストの結果から本発明洗浄剤［２］に対し
て比較洗浄剤［３］は(a)群が本発明の範囲外のた
め特に、短時間洗浄条件で効果が劣つた。 比較洗浄剤［４］は群が無く全般に洗浄レベ
ルが低かつた。 テストの結果から本発明洗浄剤［３］に対し
て比較洗浄剤［５］は群が無く特に低温洗浄レ
ベルが低く、比較洗浄剤［６］は群が無く効果
が劣つた。 テストの結果から本発明洗浄剤［４］に対し
て比較洗浄剤［５］は群が無く特に短時間洗浄
で劣り、比較洗浄剤［７］は群が無く全般に効
果が劣つた。
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ モノエタノールアミン、トリエタノール
アミン、シクロヘキシルアミン、および炭素数
６〜18のアルキルアミンから選らばれたアミン
類の１種以上５〜95重量部、好ましくは20〜90
重量部、 エチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテルおよ
び、ベンジルアルコールから選らばれた高沸点
溶剤類の１種以上0.2〜50重量部、好ましくは
２〜20重量部、 被洗浄液溶媒溶解界面活性剤の１種以上0.1
〜80重量部、好ましくは0.5〜10重量部から構
成されることを特徴とするプリント基板洗浄用
洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61215676A JPS6369897A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | プリント基板洗浄用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61215676A JPS6369897A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | プリント基板洗浄用洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6369897A JPS6369897A (ja) | 1988-03-29 |
| JPH051840B2 true JPH051840B2 (ja) | 1993-01-11 |
Family
ID=16676315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61215676A Granted JPS6369897A (ja) | 1986-09-11 | 1986-09-11 | プリント基板洗浄用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6369897A (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02274800A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-08 | Manritsu:Kk | 床用洗浄剤 |
| JPH0768551B2 (ja) * | 1989-10-26 | 1995-07-26 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
| DE69003350T2 (de) * | 1989-11-08 | 1994-01-13 | Arakawa Chem Ind | Zusammensetzung und Verfahren zur Entfernung von Lotflussmittel auf Kolophoniumbasis. |
| JPH08917B2 (ja) * | 1990-06-27 | 1996-01-10 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
| JPH0756039B2 (ja) * | 1991-07-04 | 1995-06-14 | 第一工業製薬株式会社 | 洗浄剤組成物 |
| JP2523419B2 (ja) * | 1991-08-30 | 1996-08-07 | 花王株式会社 | ケラチン質繊維処理剤組成物 |
| US6060439A (en) * | 1997-09-29 | 2000-05-09 | Kyzen Corporation | Cleaning compositions and methods for cleaning resin and polymeric materials used in manufacture |
| CN101037646B (zh) | 2003-08-27 | 2010-12-08 | 化研科技株式会社 | 除去助焊剂用洗涤剂及助焊剂的洗涤方法 |
| DE102005041533B3 (de) * | 2005-08-31 | 2007-02-08 | Atotech Deutschland Gmbh | Lösung und Verfahren zum Entfernen von ionischen Verunreinigungen von einem Werkstück |
| JP5752220B2 (ja) * | 2013-12-16 | 2015-07-22 | 花王株式会社 | 硬質表面用殺菌洗浄剤組成物 |
| TWI768187B (zh) * | 2018-03-02 | 2022-06-21 | 日商花王股份有限公司 | 硬質表面用殺黴清潔劑組合物 |
| JP7036625B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2022-03-15 | 花王株式会社 | 硬質表面用殺黴洗浄剤組成物 |
| JP7017951B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2022-02-09 | 花王株式会社 | 硬質表面用殺黴洗浄剤組成物 |
| JP7036624B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2022-03-15 | 花王株式会社 | 硬質表面用殺黴洗浄剤組成物 |
| JP7017950B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2022-02-09 | 花王株式会社 | 硬質表面用殺黴洗浄剤組成物 |
| JP7172771B2 (ja) * | 2019-03-18 | 2022-11-16 | 荒川化学工業株式会社 | 洗浄剤組成物用原液、及び該洗浄剤組成物用原液を含む洗浄剤組成物 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS518644B2 (ja) * | 1972-07-19 | 1976-03-18 | ||
| JPS5930197B2 (ja) * | 1981-07-02 | 1984-07-25 | 花王株式会社 | ガラスクリ−ナ−組成物 |
-
1986
- 1986-09-11 JP JP61215676A patent/JPS6369897A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6369897A (ja) | 1988-03-29 |
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