JPH05185443A - 溶液製膜方法 - Google Patents
溶液製膜方法Info
- Publication number
- JPH05185443A JPH05185443A JP4019390A JP1939092A JPH05185443A JP H05185443 A JPH05185443 A JP H05185443A JP 4019390 A JP4019390 A JP 4019390A JP 1939092 A JP1939092 A JP 1939092A JP H05185443 A JPH05185443 A JP H05185443A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- support
- cellulose triacetate
- solution
- roller
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 搬送ローラ上に異物が成長するのを押さえ、
しかもローラ洗浄作業の回数を著しく減じることの出来
るセルローストリアセテートセフィルムの溶液製膜方法
を提供する。 【構成】 剥離された該フイルム中の平均残留溶剤比率
が４０〜５０重量％の条件では、フィルムは昇温しても
フイルムの中央領域の部分は粘着化しにくく、付着汚れ
を発生させないのであるが、実験の結果、フィルム中の
平均残留溶剤が４０重量％以上の場合、フィルムの両端
部の溶剤重量％はそれ以上であり、しかも乾燥風からの
伝熱で昇温する為、両端部において付着汚れが発生する
ことがあることが判明した。本発明において、搬送ロー
ラの前記フィルム端部より少くとも内側３０ｍｍまでの
領域の表面温度を２０℃以下に冷却する。
しかもローラ洗浄作業の回数を著しく減じることの出来
るセルローストリアセテートセフィルムの溶液製膜方法
を提供する。 【構成】 剥離された該フイルム中の平均残留溶剤比率
が４０〜５０重量％の条件では、フィルムは昇温しても
フイルムの中央領域の部分は粘着化しにくく、付着汚れ
を発生させないのであるが、実験の結果、フィルム中の
平均残留溶剤が４０重量％以上の場合、フィルムの両端
部の溶剤重量％はそれ以上であり、しかも乾燥風からの
伝熱で昇温する為、両端部において付着汚れが発生する
ことがあることが判明した。本発明において、搬送ロー
ラの前記フィルム端部より少くとも内側３０ｍｍまでの
領域の表面温度を２０℃以下に冷却する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】写真感光材料の支持体等に使用さ
れるセルローストリアセテートフィルムの溶液製膜方法
に関する。更に詳しくは、セルローストリアセテートの
溶液（以後ドープと呼ぶ）を表面温度２０℃以下に冷却
したエンドレスバンド又はドラム（以後支持体と呼ぶ）
に流延し、該支持体上で乾燥と冷却を行う事によって凝
固したフィルムを支持体より剥離し、搬送ロールで乾燥
しながら搬送するセルローストリアセテートフイルムの
溶液製膜方法に関するものである。
れるセルローストリアセテートフィルムの溶液製膜方法
に関する。更に詳しくは、セルローストリアセテートの
溶液（以後ドープと呼ぶ）を表面温度２０℃以下に冷却
したエンドレスバンド又はドラム（以後支持体と呼ぶ）
に流延し、該支持体上で乾燥と冷却を行う事によって凝
固したフィルムを支持体より剥離し、搬送ロールで乾燥
しながら搬送するセルローストリアセテートフイルムの
溶液製膜方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】セルローストリアセテートフイルムの溶
液製膜方法としては、ドラム流延としては図４（ａ）に
示すように流延ダイ１より回転するドラム５上に流延さ
れたセルローストリアセテートフィルム３はドラム５上
で或程度乾燥され、ドラムよりフィルム４として剥ぎ取
られ、搬送ローラ７1 ，７2 ，７3 ・・・によって搬送
され両面より乾燥される。又、バンド流延としては図４
（ｂ）に示すように流延ダイ１より回転する２つのドラ
ム上にかけられたバンド６上に流延されたセルロースト
リアセテートフィルム３はバンド６上である程度乾燥さ
れ、バンドよりフィルム４として剥ぎ取られ、搬送ロー
ル７1 ，７2 ，７3 ，７4 ・・・によって搬送され、両
面より乾燥される。このような工程で生産速度をあげて
行くためには、セルローストリアセテートフィルム３中
の残留溶媒比率を出来るだけ高い状態に於いてドラム５
又はバンド６等の支持体より剥離してフィルム４とする
技術が必要であり、これらについての技術が多数開示さ
れている。例えば、米国特許２、２２１、０１９号、同
２、６０７、７０４号、同２、７３９、０６９号各明細
書、特公昭４５−９０７４号、特公昭５４−４８８６２
号、特開昭６２−１１５０３５号各公報等である。セル
ローストリアセテートフィルム３を支持体５又は６より
剥離してフィルム４にするためには、支持体５又は、６
上での乾燥による溶媒蒸発と、支持体の表面温度を剥離
点でのフィルムの残留溶媒量に応じた凝固点以下に冷却
することによって達成される。
液製膜方法としては、ドラム流延としては図４（ａ）に
示すように流延ダイ１より回転するドラム５上に流延さ
れたセルローストリアセテートフィルム３はドラム５上
で或程度乾燥され、ドラムよりフィルム４として剥ぎ取
られ、搬送ローラ７1 ，７2 ，７3 ・・・によって搬送
され両面より乾燥される。又、バンド流延としては図４
（ｂ）に示すように流延ダイ１より回転する２つのドラ
ム上にかけられたバンド６上に流延されたセルロースト
リアセテートフィルム３はバンド６上である程度乾燥さ
れ、バンドよりフィルム４として剥ぎ取られ、搬送ロー
ル７1 ，７2 ，７3 ，７4 ・・・によって搬送され、両
面より乾燥される。このような工程で生産速度をあげて
行くためには、セルローストリアセテートフィルム３中
の残留溶媒比率を出来るだけ高い状態に於いてドラム５
又はバンド６等の支持体より剥離してフィルム４とする
技術が必要であり、これらについての技術が多数開示さ
れている。例えば、米国特許２、２２１、０１９号、同
２、６０７、７０４号、同２、７３９、０６９号各明細
書、特公昭４５−９０７４号、特公昭５４−４８８６２
号、特開昭６２−１１５０３５号各公報等である。セル
ローストリアセテートフィルム３を支持体５又は６より
剥離してフィルム４にするためには、支持体５又は、６
上での乾燥による溶媒蒸発と、支持体の表面温度を剥離
点でのフィルムの残留溶媒量に応じた凝固点以下に冷却
することによって達成される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、セルロ
ーストリアセテート溶液を流延ダイ１より支持体５又は
６上にフィルム３状に流延する際、図３（ａ）に示すよ
うにセルローストリアセテートの溶液は流延部２におい
ていわゆるネックイン現象をおこし、図３（ｂ）の部分
拡大平面図に示すように２の耳部分はフィルム３の端部
に集まるために耳部の厚みが厚くなり、次ぎに図２に示
すように支持体より剥離されたフィルム４は、搬送ロー
ラ７に接するＢの部分、フィルム端部より約３０ｍｍの
間は膜厚の厚い部分が出来る。フィルム４は支持体５又
は６より剥離後両面よりの乾燥によって急激に乾燥を進
める事になるが、フィルム中の残留揮発比率が高いロー
ル搬送の初期においては、搬送ロールからの伝熱でフィ
ルム４の端部は昇温され再度粘着化（ドープ化）し搬送
ロールに付着し、汚れを発生させる。この付着汚れは搬
送ロールの表面温度が高くなる図２の領域Ｂの部分に発
生しやすい。汚れが発生すると経時でこの汚れが成長
し、やがてこの汚れは搬送ローラから剥離して更に他の
搬送ローラに異物となって付着する。この異物がフィル
ム上に押し傷等の外観故障をつくる原因になる。したが
って、これを防ぐために製造中作業者が定期的に搬送ロ
ーラを洗浄する事によって対策が取られてきた。その方
法は、メチレンクロライドなどの溶剤をしめした布を用
いて手作業で搬送ローラ上の汚れを除去してゆく方法で
あるが、この作業はメチレンクロライド、メタノール、
ブタノール等の有機溶剤のガス雰囲気下で行われる為に
作業者はガス中毒の危険にさらされる事になる。また、
洗浄作業中に搬送されるフィルムは製品にする事ができ
ず、洗浄作業の頻度が多いと生産効率を著しく低下させ
る原因となる。
ーストリアセテート溶液を流延ダイ１より支持体５又は
６上にフィルム３状に流延する際、図３（ａ）に示すよ
うにセルローストリアセテートの溶液は流延部２におい
ていわゆるネックイン現象をおこし、図３（ｂ）の部分
拡大平面図に示すように２の耳部分はフィルム３の端部
に集まるために耳部の厚みが厚くなり、次ぎに図２に示
すように支持体より剥離されたフィルム４は、搬送ロー
ラ７に接するＢの部分、フィルム端部より約３０ｍｍの
間は膜厚の厚い部分が出来る。フィルム４は支持体５又
は６より剥離後両面よりの乾燥によって急激に乾燥を進
める事になるが、フィルム中の残留揮発比率が高いロー
ル搬送の初期においては、搬送ロールからの伝熱でフィ
ルム４の端部は昇温され再度粘着化（ドープ化）し搬送
ロールに付着し、汚れを発生させる。この付着汚れは搬
送ロールの表面温度が高くなる図２の領域Ｂの部分に発
生しやすい。汚れが発生すると経時でこの汚れが成長
し、やがてこの汚れは搬送ローラから剥離して更に他の
搬送ローラに異物となって付着する。この異物がフィル
ム上に押し傷等の外観故障をつくる原因になる。したが
って、これを防ぐために製造中作業者が定期的に搬送ロ
ーラを洗浄する事によって対策が取られてきた。その方
法は、メチレンクロライドなどの溶剤をしめした布を用
いて手作業で搬送ローラ上の汚れを除去してゆく方法で
あるが、この作業はメチレンクロライド、メタノール、
ブタノール等の有機溶剤のガス雰囲気下で行われる為に
作業者はガス中毒の危険にさらされる事になる。また、
洗浄作業中に搬送されるフィルムは製品にする事ができ
ず、洗浄作業の頻度が多いと生産効率を著しく低下させ
る原因となる。
【０００４】本発明の目的は、上記従来の問題点に対処
し、搬送ローラ上に異物が成長するのを押さえ、しかも
洗浄作業の回数を著しく減じることの出来るセルロース
トリアセテートフィルムの溶液製膜方法を提供すること
にある。
し、搬送ローラ上に異物が成長するのを押さえ、しかも
洗浄作業の回数を著しく減じることの出来るセルロース
トリアセテートフィルムの溶液製膜方法を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明の上記目
的は、セルローストリアセテートの溶液を表面温度２０
℃以下に冷却した支持体上に流延し、該支持体上でセル
ローストリアセテートフィルムを乾燥と冷却によって凝
固せしめ、該凝固したフィルムを支持体より剥離し、搬
送ローラで搬送しながら乾燥するセルローストリアセテ
ートフィルムの溶液製膜方法に於いて、該支持体から剥
離された該フィルム中の溶剤の重量比率が４０重量％以
上の場合、前記搬送ローラの前記フィルム端部より少く
とも３０ｍｍまでの領域の表面温度を２０℃以下に冷却
する事を特徴とするセルローストリアセテートフィルム
の溶液製膜方法によって達成される。
的は、セルローストリアセテートの溶液を表面温度２０
℃以下に冷却した支持体上に流延し、該支持体上でセル
ローストリアセテートフィルムを乾燥と冷却によって凝
固せしめ、該凝固したフィルムを支持体より剥離し、搬
送ローラで搬送しながら乾燥するセルローストリアセテ
ートフィルムの溶液製膜方法に於いて、該支持体から剥
離された該フィルム中の溶剤の重量比率が４０重量％以
上の場合、前記搬送ローラの前記フィルム端部より少く
とも３０ｍｍまでの領域の表面温度を２０℃以下に冷却
する事を特徴とするセルローストリアセテートフィルム
の溶液製膜方法によって達成される。
【０００６】本発明の流延するセルローストリアセテー
トの溶液としては、セルローストリアセテート及びその
他乾燥後固体となる成分の和の濃度が１８〜３５重量％
であるドープの場合をいう。また生産の能率上昇の為、
前記支持体上のセルローストリアセテートフィルムを早
く（残留溶剤比率がより高い状態で）剥離する為に、前
記支持体の表面温度を２０℃以下に冷却する。本発明に
おいて、剥離された該フィルム中の溶剤の重量比率が４
０重量％以上の場合とは、平均残留溶剤比率が４０〜５
０重量％の条件では、フィルムは昇温してもＣ領域の部
分は粘着化しにくく付着汚れを発生させないのである
が、実験の結果、フィルム中の平均残留溶剤が４０重量
％以上の場合、搬送ローラのＢ領域のフィルムの溶剤重
量％はそれ以上であり、しかも乾燥風からの伝熱で昇温
する為、Ｂ領域において付着汚れが発生することがある
ことが判明した。本発明において、搬送ローラの前記フ
ィルム端部より少くとも内側３０ｍｍまでの領域の表面
温度を２０℃以下に冷却するということは、図２のＢ領
域に相当するローラ表面温度を２０℃より低い温度にす
ることであり、望ましくは１０℃以下、更に望ましくは
５℃以下にすることである。また、搬送ローラのＣ領域
はこの低い温度条件にする必要は必ずしもなく、ローラ
によっては付着汚れが発生しやすいＢ領域のみにおこな
ってもよい。また、すべての搬送ローラをこの温度条件
にする必要はなく、特に汚れが発生しやすいローラ例え
ば、残留溶剤比率が高い初期の搬送ローラのみに行って
も良い。ローラ表面温度の冷却する具体的手段として
は、ローラ内部に冷水を通水するジャケットを備えたロ
ーラを用いても良いし、図１に示すようにローラの外部
（ａ図）或いは内部（ｂ図）より冷風を当てて冷却して
も良い。その他の冷却手段としてヒートパイプ等を用い
てもよい。
トの溶液としては、セルローストリアセテート及びその
他乾燥後固体となる成分の和の濃度が１８〜３５重量％
であるドープの場合をいう。また生産の能率上昇の為、
前記支持体上のセルローストリアセテートフィルムを早
く（残留溶剤比率がより高い状態で）剥離する為に、前
記支持体の表面温度を２０℃以下に冷却する。本発明に
おいて、剥離された該フィルム中の溶剤の重量比率が４
０重量％以上の場合とは、平均残留溶剤比率が４０〜５
０重量％の条件では、フィルムは昇温してもＣ領域の部
分は粘着化しにくく付着汚れを発生させないのである
が、実験の結果、フィルム中の平均残留溶剤が４０重量
％以上の場合、搬送ローラのＢ領域のフィルムの溶剤重
量％はそれ以上であり、しかも乾燥風からの伝熱で昇温
する為、Ｂ領域において付着汚れが発生することがある
ことが判明した。本発明において、搬送ローラの前記フ
ィルム端部より少くとも内側３０ｍｍまでの領域の表面
温度を２０℃以下に冷却するということは、図２のＢ領
域に相当するローラ表面温度を２０℃より低い温度にす
ることであり、望ましくは１０℃以下、更に望ましくは
５℃以下にすることである。また、搬送ローラのＣ領域
はこの低い温度条件にする必要は必ずしもなく、ローラ
によっては付着汚れが発生しやすいＢ領域のみにおこな
ってもよい。また、すべての搬送ローラをこの温度条件
にする必要はなく、特に汚れが発生しやすいローラ例え
ば、残留溶剤比率が高い初期の搬送ローラのみに行って
も良い。ローラ表面温度の冷却する具体的手段として
は、ローラ内部に冷水を通水するジャケットを備えたロ
ーラを用いても良いし、図１に示すようにローラの外部
（ａ図）或いは内部（ｂ図）より冷風を当てて冷却して
も良い。その他の冷却手段としてヒートパイプ等を用い
てもよい。
【０００７】
【実施例】図４（ａ）に示す製造工程で共通の条件とし
て以下の条件を用い、ローラの表面温度を変えて比較を
行った。 使用ドープ： 溶質 セルローストリアセテート＋微量の可塑剤 溶媒 メチレンクロライド、メタノール及びブタノール
の混合液 （重量比 メチレンクロライド：メタノール：ブタノー
ル＝８０：１５：５） 濃度 ２１．５重量％ フィルムの膜厚： １３５μｍ（乾燥後） 支持体（ドラム）の表面温度： １４．５℃ 剥離点４でのフィルム中の平均残留溶剤比率 ６０重
量％ ローラ搬送工程での乾燥風温度 ６０℃
て以下の条件を用い、ローラの表面温度を変えて比較を
行った。 使用ドープ： 溶質 セルローストリアセテート＋微量の可塑剤 溶媒 メチレンクロライド、メタノール及びブタノール
の混合液 （重量比 メチレンクロライド：メタノール：ブタノー
ル＝８０：１５：５） 濃度 ２１．５重量％ フィルムの膜厚： １３５μｍ（乾燥後） 支持体（ドラム）の表面温度： １４．５℃ 剥離点４でのフィルム中の平均残留溶剤比率 ６０重
量％ ローラ搬送工程での乾燥風温度 ６０℃
【０００８】（比較例−１） 搬送ローラの表面材質；ステンレス 製造時のローラ７1〜７3 の表面温度の測定結果を以下
に示す。図２に於いて、 領域Ａ；３５℃以上 領域Ｂ；２５〜２８℃ 領域Ｃ；１０℃以下 製造開始直後から搬送ロール７1 、７2 、７3 の各ロー
ルに付着汚れが発生した。付着汚れは経時で成長し２日
経過後、ロール７から汚れの一部が剥離し、７以後の他
のロール表面に付着した為フィルムに押し傷が発生し
た。その為、製造を一時中断し、ロール洗浄を行わなけ
ればならなかった。
に示す。図２に於いて、 領域Ａ；３５℃以上 領域Ｂ；２５〜２８℃ 領域Ｃ；１０℃以下 製造開始直後から搬送ロール７1 、７2 、７3 の各ロー
ルに付着汚れが発生した。付着汚れは経時で成長し２日
経過後、ロール７から汚れの一部が剥離し、７以後の他
のロール表面に付着した為フィルムに押し傷が発生し
た。その為、製造を一時中断し、ロール洗浄を行わなけ
ればならなかった。
【０００９】（実施例−１） 搬送ロールの表面材質；ステンレス 搬送ロール７1 ，７2 ，７3 の領域Ｂに図１（ａ）に示
すように冷風を吹き付け、領域Ｂの表面温度を２０℃以
下になるようにした。製造直後から付着汚れは発生した
が、発生程度は比較例−１に較べて軽度であった。付着
汚れは経時で成長し、１６日経過後ロール７1 から汚れ
の一部が剥離し、他のロール表面に付着した為、フィル
ムに押し傷が発生した。その為、１６日毎にロールの洗
浄を行ったが、この頻度は生産効率上許容できる頻度で
あった。
すように冷風を吹き付け、領域Ｂの表面温度を２０℃以
下になるようにした。製造直後から付着汚れは発生した
が、発生程度は比較例−１に較べて軽度であった。付着
汚れは経時で成長し、１６日経過後ロール７1 から汚れ
の一部が剥離し、他のロール表面に付着した為、フィル
ムに押し傷が発生した。その為、１６日毎にロールの洗
浄を行ったが、この頻度は生産効率上許容できる頻度で
あった。
【００１０】（実施例−２） 搬送ロール表面材質；ステンレス 搬送ロール７1 、７2 、７3 の領域Ｂに図１（ｂ）に示
すように実施例−１より更に低温の冷却風を吹き付け領
域Ｂの表面温度を１０℃以下になるようにした。２週間
経過後僅かな付着汚れが発生したが、殆ど成長せず６か
月経過後も安定な製造が達成された。
すように実施例−１より更に低温の冷却風を吹き付け領
域Ｂの表面温度を１０℃以下になるようにした。２週間
経過後僅かな付着汚れが発生したが、殆ど成長せず６か
月経過後も安定な製造が達成された。
【００１１】（実施例−３） 搬送ロール材質；ステンレス 搬送ロール７1 、７2 、７3 を内部に冷水ジャケットを
備えたロールとし、冷却水にてロール表面温度を５℃以
下に制御した。製造開始から６か月経過後も付着汚れは
発生せず、安定な製造が達成された。
備えたロールとし、冷却水にてロール表面温度を５℃以
下に制御した。製造開始から６か月経過後も付着汚れは
発生せず、安定な製造が達成された。
【００１２】図４（ｂ）に示す製造工程での用いて実施
例を説明する。 使用ドープ： 溶質 セルローストリアセテート＋微量の可塑剤 溶媒 メチレンクロライドとメタノールの混合液 （重量比 メチレンクロライド：メタノール＝９２：
８） 濃度 ２０重量％ フィルムの膜厚 １２２μｍ（乾燥後） 支持体（バンド）の表面温度 ２０℃ 剥離点（４）でのフィルム中の平均残留溶剤比率 ４
２．５重量％ ローラ搬送工程での乾燥風温度 ６０℃ （実施例−４） 搬送ローラの条件 ロール７1 、７2 、７3 は表面材質がセラミックの中空
ロールとし、図１（ｂ）に示すようにロール内部より冷
却風にて領域Ｂを１０℃以下に冷却した。ロール７4 、
７5 、７6 はステンレスロールとし外部より冷却風にて
領域Ｂを２０℃以下に冷却した。その結果、ロール
７1 、７2 、７3 、７6 に付着汚れは発生しなかった。
但し、ロール７4 、７5 のＢ領域に極僅かな汚れが発生
したが、６か月経過後もさしたる問題は無く安定な製造
が達成された。
例を説明する。 使用ドープ： 溶質 セルローストリアセテート＋微量の可塑剤 溶媒 メチレンクロライドとメタノールの混合液 （重量比 メチレンクロライド：メタノール＝９２：
８） 濃度 ２０重量％ フィルムの膜厚 １２２μｍ（乾燥後） 支持体（バンド）の表面温度 ２０℃ 剥離点（４）でのフィルム中の平均残留溶剤比率 ４
２．５重量％ ローラ搬送工程での乾燥風温度 ６０℃ （実施例−４） 搬送ローラの条件 ロール７1 、７2 、７3 は表面材質がセラミックの中空
ロールとし、図１（ｂ）に示すようにロール内部より冷
却風にて領域Ｂを１０℃以下に冷却した。ロール７4 、
７5 、７6 はステンレスロールとし外部より冷却風にて
領域Ｂを２０℃以下に冷却した。その結果、ロール
７1 、７2 、７3 、７6 に付着汚れは発生しなかった。
但し、ロール７4 、７5 のＢ領域に極僅かな汚れが発生
したが、６か月経過後もさしたる問題は無く安定な製造
が達成された。
【００１３】
【発明の効果】本発明の搬送ローラの表面温度をフィル
ム端部より少くとも３０ｍｍまでの領域を２０℃以下に
する溶液製膜方法によって、従来のような支持体から剥
離後の搬送ローラ上で、支持体上で一度凝固したフィル
ムが搬送ローラの表面温度によって昇温され粘着化し、
付着汚れとなって成長し、フィルムに付着する事が防止
され、洗浄作業の回数も著しく軽減され、製膜のスピー
ドアップ及び生産能率の向上に大きく寄与した。
ム端部より少くとも３０ｍｍまでの領域を２０℃以下に
する溶液製膜方法によって、従来のような支持体から剥
離後の搬送ローラ上で、支持体上で一度凝固したフィル
ムが搬送ローラの表面温度によって昇温され粘着化し、
付着汚れとなって成長し、フィルムに付着する事が防止
され、洗浄作業の回数も著しく軽減され、製膜のスピー
ドアップ及び生産能率の向上に大きく寄与した。
【図１】本発明の溶液製膜方法の一実施例として、搬送
ローラの冷却方法の１例で、ローラの外部より冷却風を
吹き付ける装備の正面図（ａ）、及びローラを中空構造
とし内部より冷却風を吹き付ける装備の正面図（ｂ）
ローラの冷却方法の１例で、ローラの外部より冷却風を
吹き付ける装備の正面図（ａ）、及びローラを中空構造
とし内部より冷却風を吹き付ける装備の正面図（ｂ）
【図２】本発明の対象となる付着の発生しやすいローラ
及び、フィルムの部分平面図（ａ）、及びその正面図
（ｂ）
及び、フィルムの部分平面図（ａ）、及びその正面図
（ｂ）
【図３】流延部に於けるネックインを説明する為の側面
図（ａ）と平面図（ｂ）
図（ａ）と平面図（ｂ）
【図４】本発明に関係する流延工程の側面図でドラム流
延工程（ａ）、バンド流延工程（ｂ）である。
延工程（ａ）、バンド流延工程（ｂ）である。
１ 流延ダイ ２ 流延部 ３ 流延されたフィルム ４ 支持体から剥離後のフィルム ５ 支持体（ドラム） ６ 支持体（バンド） ７1 ，７2 ，７3 ，・・・ 搬送ローラ ８ 冷却風吹き出しノズル ９ 中空構造の搬送ローラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 1:00
Claims (1)
- 【請求項１】 セルローストリアセテートの溶液を表面
温度２０℃以下に冷却した支持体上に流延し、該支持体
上でセルローストリアセテートフィルムを乾燥と冷却に
よって凝固せしめ、該凝固したフィルムを支持体より剥
離し、搬送ローラで搬送しながら乾燥するセルロースト
リアセテートフィルムの溶液製膜方法に於いて、該支持
体から剥離された該フィルム中の溶剤の重量比率が４０
重量％以上の場合、前記搬送ローラの前記フィルム端部
より少くとも内側３０ｍｍまでの領域の表面温度を２０
℃以下に冷却する事を特徴とするセルローストリアセテ
ートフイルムの溶液製膜方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4019390A JPH05185443A (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 溶液製膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4019390A JPH05185443A (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 溶液製膜方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05185443A true JPH05185443A (ja) | 1993-07-27 |
Family
ID=11997960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4019390A Pending JPH05185443A (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 溶液製膜方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05185443A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH106351A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Konica Corp | セルローストリアセテートフィルムの製造方法及び液晶表示用部材の製造方法 |
| JP2002103357A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-04-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 溶液製膜方法及び偏光板等 |
-
1992
- 1992-01-09 JP JP4019390A patent/JPH05185443A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH106351A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Konica Corp | セルローストリアセテートフィルムの製造方法及び液晶表示用部材の製造方法 |
| JP2002103357A (ja) * | 2000-07-24 | 2002-04-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 溶液製膜方法及び偏光板等 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HU208295B (en) | Device for coating glass objects | |
| JP2520774B2 (ja) | セルロ―ストリアセテ―トフィルムの製造方法 | |
| JPH05185445A (ja) | 溶液製膜方法 | |
| JP2554553B2 (ja) | 写真感光材料用支持体の製造方法 | |
| JP3526692B2 (ja) | 基板の液切り装置 | |
| JPH09255478A (ja) | ルツボの洗浄方法 | |
| US2295280A (en) | Coating hopper | |
| JP3436785B2 (ja) | 基板の洗浄装置 | |
| JPS58215651A (ja) | 感光材料乾燥方法 | |
| JPH02123064A (ja) | プラスチックフィルムの搬送方法 | |
| JPH08236498A (ja) | エアナイフ乾燥方法 | |
| JPS61121337A (ja) | ウエハの処理方法 | |
| JPH0844075A (ja) | 現像方法 | |
| JP2579250B2 (ja) | セルローストリアセテートフイルムの製造方法 | |
| EP0836370A1 (en) | Method and system for etching substrates for printed circuit boards | |
| JP3460313B2 (ja) | フィルム搬送ローラ及びフィルム製膜装置 | |
| JPH0329919A (ja) | 液晶表示素子のガラス基板洗浄方法 | |
| JP2001071370A (ja) | 押出成形用ダイ及びそれを用いた熱可塑性樹脂フィルムの製造方法 | |
| JP3978533B2 (ja) | フィルム製造方法 | |
| US6183741B1 (en) | Method for reducing insolubles in a gelatin solution | |
| JP3142338B2 (ja) | 常圧ｃｖｄ方法およびその装置 | |
| JP4017139B2 (ja) | 溶液製膜方法 | |
| JPS61100421A (ja) | セルロ−ストリアセテ−トフイルムの製造方法 | |
| US5414483A (en) | Liquid wiper for photographic material | |
| JP3735735B2 (ja) | ウエブ又はシートの乾燥装置 |