JPH05186470A - ピラゾロ[1,5−b[1,2,4トリアゾール系写真用カプラーの製造方法 - Google Patents
ピラゾロ[1,5−b[1,2,4トリアゾール系写真用カプラーの製造方法Info
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- JPH05186470A JPH05186470A JP19490392A JP19490392A JPH05186470A JP H05186470 A JPH05186470 A JP H05186470A JP 19490392 A JP19490392 A JP 19490392A JP 19490392 A JP19490392 A JP 19490392A JP H05186470 A JPH05186470 A JP H05186470A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ピラゾロ [1, 5−b] [1, 2, 4] トリアゾー
ル誘導体からなる写真用カプラーを提供する。 【構成】 一般式 【化1】 (式中、R1及びR2は、水素原子又は置換もしくは非置換
の、アルキル又はアリール基を示す。)で表わされる化
合物を脱水環化縮合させ、一般式 【化2】 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味をもつ。)で表わさ
れるピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾー
ル誘導体を得、その7−位に芳香族第一級アミン現像主
薬の酸化体とのカップリング反応により離脱する基を導
入してピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾ
ール誘導体から成る写真用カプラーを製造する。
ル誘導体からなる写真用カプラーを提供する。 【構成】 一般式 【化1】 (式中、R1及びR2は、水素原子又は置換もしくは非置換
の、アルキル又はアリール基を示す。)で表わされる化
合物を脱水環化縮合させ、一般式 【化2】 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味をもつ。)で表わさ
れるピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾー
ル誘導体を得、その7−位に芳香族第一級アミン現像主
薬の酸化体とのカップリング反応により離脱する基を導
入してピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾ
ール誘導体から成る写真用カプラーを製造する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ピラゾロ[1,5−
b][1,2,4]トリアゾール誘導体から成ることを
特徴とする新規な写真用カプラーの製造方法に関する。
b][1,2,4]トリアゾール誘導体から成ることを
特徴とする新規な写真用カプラーの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】橋頭位
に窒素原子を有し、この窒素原子とさらにもう1つの窒
素原子の孤立電子対を含めて10個のπ電子の相互作用
が可能な、全体で最低2個、最高6個の窒素原子を有す
る一般式
に窒素原子を有し、この窒素原子とさらにもう1つの窒
素原子の孤立電子対を含めて10個のπ電子の相互作用
が可能な、全体で最低2個、最高6個の窒素原子を有す
る一般式
【0003】
【化4】
【0004】で表わされる5−5縮合多環系化合物は通
例「アザペンタレン」と呼ばれる。この化合物はこれま
で構造化学的な興味、生理活性物質としての興味及び写
真化学におけるマゼンタカプラーとしての興味から主に
研究がなされてきた(J. Elgureo, R. Jacquier, S. Mi
gnonac-Mondon, J. Heterocyclic. Chem., 10, 411 (19
73), H. Koga, M. Hirobe, T. Okamoto, Chem. Pharm.
Bull., 22, 482 (1974),J. Bailey, J. C. S. Perkin
I, 2047 (1977), 特公昭47− 27411号,特開昭50−1295
86号など参照)。しかしながら、従来のアザペンタレン
化合物は写真用マゼンタカプラーとして、色相及び光・
熱堅牢性などの点でまだ満足すべきものとはいえなかっ
た。
例「アザペンタレン」と呼ばれる。この化合物はこれま
で構造化学的な興味、生理活性物質としての興味及び写
真化学におけるマゼンタカプラーとしての興味から主に
研究がなされてきた(J. Elgureo, R. Jacquier, S. Mi
gnonac-Mondon, J. Heterocyclic. Chem., 10, 411 (19
73), H. Koga, M. Hirobe, T. Okamoto, Chem. Pharm.
Bull., 22, 482 (1974),J. Bailey, J. C. S. Perkin
I, 2047 (1977), 特公昭47− 27411号,特開昭50−1295
86号など参照)。しかしながら、従来のアザペンタレン
化合物は写真用マゼンタカプラーとして、色相及び光・
熱堅牢性などの点でまだ満足すべきものとはいえなかっ
た。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の従
来のアザペンタレン化合物の欠点を克服した新規な写真
用カプラー化合物を開発するため鋭意研究を重ねた結
果、ピラゾリル基を含有するアミドオキシム化合物の脱
水閉環反応により骨格の新規なアザペンタレン化合物が
合成され、該化合物から成る写真用カプラーが上記目的
を満足し得ることを見い出した。本発明はこの知見に基
づきなされるに至ったものである。すなわち本発明は、
一般式
来のアザペンタレン化合物の欠点を克服した新規な写真
用カプラー化合物を開発するため鋭意研究を重ねた結
果、ピラゾリル基を含有するアミドオキシム化合物の脱
水閉環反応により骨格の新規なアザペンタレン化合物が
合成され、該化合物から成る写真用カプラーが上記目的
を満足し得ることを見い出した。本発明はこの知見に基
づきなされるに至ったものである。すなわち本発明は、
一般式
【0006】
【化5】
【0007】(式中、R1及びR2は水素原子又は置換もし
くは非置換の、アルキル又はアリール基を示す。)で表
わされる化合物を脱水環化縮合させ、一般式
くは非置換の、アルキル又はアリール基を示す。)で表
わされる化合物を脱水環化縮合させ、一般式
【0008】
【化6】
【0009】(式中、R1及びR2は前記と同じ意味をも
つ。)で表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,
4]トリアゾール誘導体を製造し、前記化合物の7−位
に芳香族第一級アミン現像主薬の酸化体とのカップリン
グ反応により離脱する基(以下、カップリング離脱基と
略記する)を導入して合成される、一般式
つ。)で表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,
4]トリアゾール誘導体を製造し、前記化合物の7−位
に芳香族第一級アミン現像主薬の酸化体とのカップリン
グ反応により離脱する基(以下、カップリング離脱基と
略記する)を導入して合成される、一般式
【0010】
【化7】
【0011】(式中、R1及びR2は前記と同じ意味をも
ち、Xはカップリング離脱基を示す。)で表わされるピ
ラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾール誘導
体から成ることを特徴とする写真用カプラーを提供する
ものである。本発明方法において上記一般式(II)の化
合物は、好ましくは、一般式
ち、Xはカップリング離脱基を示す。)で表わされるピ
ラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾール誘導
体から成ることを特徴とする写真用カプラーを提供する
ものである。本発明方法において上記一般式(II)の化
合物は、好ましくは、一般式
【0012】
【化8】
【0013】(式中、R2は前記と同じ意味をもつ。)で
表わされるアミノピラゾールと、一般式 R1C(OR3)3 ・・・(V) (式中、R1は前記と同じ意味をもち、R3はアルキル基を
示す。) で表わされるオルトエステル、又は R1aCH=C(OR3)2 ・・・( V') (式中、R1a は、置換もしくは非置換のアルキル基であ
る前記R1と、R1=R1aCH2- なる関係を有する基であり、
R3は前記と同じ意味をもつ。)で表わされるケテンアセ
タールとを反応させて、一般式
表わされるアミノピラゾールと、一般式 R1C(OR3)3 ・・・(V) (式中、R1は前記と同じ意味をもち、R3はアルキル基を
示す。) で表わされるオルトエステル、又は R1aCH=C(OR3)2 ・・・( V') (式中、R1a は、置換もしくは非置換のアルキル基であ
る前記R1と、R1=R1aCH2- なる関係を有する基であり、
R3は前記と同じ意味をもつ。)で表わされるケテンアセ
タールとを反応させて、一般式
【0014】
【化9】
【0015】(式中、R1、R2、及びR3は前記と同じ意味
をもつ。)で表わされるピラゾールのイミドエステルを
製造し、さらに一般式(VI)で表わされる化合物とヒド
ロキシルアミンとを反応させることにより製造される。
をもつ。)で表わされるピラゾールのイミドエステルを
製造し、さらに一般式(VI)で表わされる化合物とヒド
ロキシルアミンとを反応させることにより製造される。
【0016】本発明において、前記一般式(II)、(II
I )、(IV)、(V)、( V' ) 、(VI)及び(VII )
で表わされる化合物中、R1、R2及びR3のアルキル基はメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のような低級
アルキル基から炭素原子数22までの高級アルキル基、
例えば、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、デシル基、ウンデシル基、トリデシル基、オクタ
デシル基などを意味し、直鎖でも分岐鎖でもよい。
I )、(IV)、(V)、( V' ) 、(VI)及び(VII )
で表わされる化合物中、R1、R2及びR3のアルキル基はメ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基のような低級
アルキル基から炭素原子数22までの高級アルキル基、
例えば、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチ
ル基、デシル基、ウンデシル基、トリデシル基、オクタ
デシル基などを意味し、直鎖でも分岐鎖でもよい。
【0017】またR1、R2のアリール基としてはフェニル
基、ナフチル基などがあげられ、置換アルキル基として
は、2−クロルエチル基、トリフルオロメチル基などの
ハロゲン置換アルキル基、2−エトキシトリデシル基な
どのアルコキシ置換アルキル基、2−アセトアミドエチ
ル基などアシルアミド置換アルキル基、2−メタンスル
ホンアミドエチル基などスルホンアミド置換アルキル
基、3(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル
基、3−{4−{2−[4−(4−ヒドロキシフェニル
スルホニル)フェノキシ]ドデカンアミド}フェニル}
プロピル基、ベンジル基、フェネチル基など置換もしく
は無置換のアリール基で置換されたアルキル基が、置換
アリール基としてはハロゲノフェニル基,ニトロフェニ
ル基,シアノフェニル基,アルコキシフェニル基などが
あげられる。またこれらのR1及びR2は反応に不活性な
基、例えばアルコキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子な
どを置換基として有していてもよい。
基、ナフチル基などがあげられ、置換アルキル基として
は、2−クロルエチル基、トリフルオロメチル基などの
ハロゲン置換アルキル基、2−エトキシトリデシル基な
どのアルコキシ置換アルキル基、2−アセトアミドエチ
ル基などアシルアミド置換アルキル基、2−メタンスル
ホンアミドエチル基などスルホンアミド置換アルキル
基、3(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル
基、3−{4−{2−[4−(4−ヒドロキシフェニル
スルホニル)フェノキシ]ドデカンアミド}フェニル}
プロピル基、ベンジル基、フェネチル基など置換もしく
は無置換のアリール基で置換されたアルキル基が、置換
アリール基としてはハロゲノフェニル基,ニトロフェニ
ル基,シアノフェニル基,アルコキシフェニル基などが
あげられる。またこれらのR1及びR2は反応に不活性な
基、例えばアルコキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子な
どを置換基として有していてもよい。
【0018】なお、本発明方法により得られるピラゾロ
[1,5−b][1,2,4]トリアゾール誘導体であ
って、R1又はR2が上記のようにさらに置換基を有する化
合物は、後記反応工程式に従って直接得ることができる
が、この工程式でまず基本骨格であるピラゾロ[1,5
−b][1,2,4]トリアゾール環を形成してから、
後続反応によって所望の置換基へと誘導してもよい。例
えば後の実施例4において示すように本発明の化合物2
0のアミノ基は公知の方法で酸アニリド22などに誘導
できる。本発明方法は下記の反応工程式で表わすことが
できる。反応工程式中、本発明方法は、(II)→(III
)の脱水環化縮合工程により得られる(III )の(III
)→(VII )のカップリング離脱基の導入工程であ
る。
[1,5−b][1,2,4]トリアゾール誘導体であ
って、R1又はR2が上記のようにさらに置換基を有する化
合物は、後記反応工程式に従って直接得ることができる
が、この工程式でまず基本骨格であるピラゾロ[1,5
−b][1,2,4]トリアゾール環を形成してから、
後続反応によって所望の置換基へと誘導してもよい。例
えば後の実施例4において示すように本発明の化合物2
0のアミノ基は公知の方法で酸アニリド22などに誘導
できる。本発明方法は下記の反応工程式で表わすことが
できる。反応工程式中、本発明方法は、(II)→(III
)の脱水環化縮合工程により得られる(III )の(III
)→(VII )のカップリング離脱基の導入工程であ
る。
【0019】
【化10】
【0020】上記反応工程式に従い本発明の実施態様を
説明する。アミノピラゾール(IV)とオルトエステル
(V)又はケテンアセタール( V')との反応は、好まし
くは溶媒の存在下において、40〜150℃の温度範
囲、好ましくは100〜120℃、反応時間10分〜2
0時間の範囲で行う。反応温度が上記の下限未満では、
反応が十分進行せず、長時間の反応時間が必要であり、
上限を越えると反応収率を減少させることがある。溶媒
としては、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ハロゲン化炭化水素、例えばクロロホル
ム、ジクロロエタン、トリクロロエタンなど、及びエー
テル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサンな
どがあげられる。また、ケテンアセタールとの反応の際
は必ず、オルトエステルとの反応が遅い場合は好ましく
は、酸触媒を使用する。酸触媒としてはメタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸などが
あげられる。アミノピラゾール(IV)とオルトエステル
(V)のモル比は2:1〜1:2の範囲が好ましい。
説明する。アミノピラゾール(IV)とオルトエステル
(V)又はケテンアセタール( V')との反応は、好まし
くは溶媒の存在下において、40〜150℃の温度範
囲、好ましくは100〜120℃、反応時間10分〜2
0時間の範囲で行う。反応温度が上記の下限未満では、
反応が十分進行せず、長時間の反応時間が必要であり、
上限を越えると反応収率を減少させることがある。溶媒
としては、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ン、キシレン、ハロゲン化炭化水素、例えばクロロホル
ム、ジクロロエタン、トリクロロエタンなど、及びエー
テル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサンな
どがあげられる。また、ケテンアセタールとの反応の際
は必ず、オルトエステルとの反応が遅い場合は好ましく
は、酸触媒を使用する。酸触媒としてはメタンスルホン
酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸などが
あげられる。アミノピラゾール(IV)とオルトエステル
(V)のモル比は2:1〜1:2の範囲が好ましい。
【0021】アミノピラゾール(IV)の具体例として
は、3−アミノピラゾール、5−アミノ−3−メチルピ
ラゾール、5−アミノ−3−フェニルピラゾール、5−
アミノ−3−[3'-(p−ニトロフェニル)プロピル]
ピラゾールなどがあげられる。また、オルトエステルの
具体例としては、オルトギ酸トリエチル、オルト酢酸ト
リエチル、オルトプロピオン酸トリエチル、オルト酪酸
トリエチル、オルトイソカプロン酸トリメチル、オルト
−4−(p−ニトロフェニル)酪酸トリメチル、ケテン
アセタールの具体例としては、メチルケテンジエチルア
セタール、フェニルケテンジメチルアセタール、p−ニ
トロフェニルジメチルアセタールなどがあげられる。
は、3−アミノピラゾール、5−アミノ−3−メチルピ
ラゾール、5−アミノ−3−フェニルピラゾール、5−
アミノ−3−[3'-(p−ニトロフェニル)プロピル]
ピラゾールなどがあげられる。また、オルトエステルの
具体例としては、オルトギ酸トリエチル、オルト酢酸ト
リエチル、オルトプロピオン酸トリエチル、オルト酪酸
トリエチル、オルトイソカプロン酸トリメチル、オルト
−4−(p−ニトロフェニル)酪酸トリメチル、ケテン
アセタールの具体例としては、メチルケテンジエチルア
セタール、フェニルケテンジメチルアセタール、p−ニ
トロフェニルジメチルアセタールなどがあげられる。
【0022】なおアミノピラゾール(IV)は市販のもの
を利用できるが、必要に応じて上記工程式で示すように
酸ハロゲン化物(VIII)とシアン酢酸ナトリウムのエノ
ラート(IX)との反応により得たオキソプロピオノニト
リル誘導体(X)とヒドラジンとの反応により合成する
ことができる。また、R2がメチル基の場合はアセトニト
リルとナトリウムから容易に合成できる3−アミノクロ
トノニトリルとヒドラジンとの反応により(IV)(R2=
−CH3)を合成できる(J. Heterocycl. Chem.,11巻, 423
頁, 1974年)。次に一般式(VI)のイミドエステル化
合物とヒドロキシルアミンとの反応による一般式(II)
のアミドオキシム化合物の合成は0〜80℃で反応時間
0.5〜12時間の範囲で行われる。反応温度が上記範
囲の下限未満では反応進行が不十分であり、上限を越え
るとヒドロキシルアミンの分解が起きたり、過剰のヒド
ロキシルアミンを使用する場合、副反応が起きる。反応
溶媒としては、メタノール、エタノールのようなアルコ
ール類が用いられる。この反応においてヒドロキシルア
ミンのイミドエステルに対するモル比は1〜20が好ま
しい。
を利用できるが、必要に応じて上記工程式で示すように
酸ハロゲン化物(VIII)とシアン酢酸ナトリウムのエノ
ラート(IX)との反応により得たオキソプロピオノニト
リル誘導体(X)とヒドラジンとの反応により合成する
ことができる。また、R2がメチル基の場合はアセトニト
リルとナトリウムから容易に合成できる3−アミノクロ
トノニトリルとヒドラジンとの反応により(IV)(R2=
−CH3)を合成できる(J. Heterocycl. Chem.,11巻, 423
頁, 1974年)。次に一般式(VI)のイミドエステル化
合物とヒドロキシルアミンとの反応による一般式(II)
のアミドオキシム化合物の合成は0〜80℃で反応時間
0.5〜12時間の範囲で行われる。反応温度が上記範
囲の下限未満では反応進行が不十分であり、上限を越え
るとヒドロキシルアミンの分解が起きたり、過剰のヒド
ロキシルアミンを使用する場合、副反応が起きる。反応
溶媒としては、メタノール、エタノールのようなアルコ
ール類が用いられる。この反応においてヒドロキシルア
ミンのイミドエステルに対するモル比は1〜20が好ま
しい。
【0023】この反応により得られた一般式(II)のア
ミドオキシム化合物の脱水環化縮合による一般式(III
)のピラゾロトリアゾール化合物の合成は塩基の存在
下に適当な脱水剤を用いて行われる。この反応は、好ま
しくは、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの不活性
溶媒中、反応が十分に進行するだけの量(通常一当量)
の脱水剤を用いて行うのが望ましく、また反応温度は4
0〜100℃、反応時間2〜10時間の範囲が好まし
い。脱水剤としてはp−トルエンスルホン酸クロリドの
ほか、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタン
スルホニルクロリド、オキシ塩化リン、塩化チオニルな
どを用いることができる。また塩基としては、トリエチ
ルアミンのほか、ジイソプロピルエチルアミンのような
三級アミン及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン
などが用いられる。この塩基の量は0.5〜2当量、好
ましくは1当量とする。上記反応工程で、得られる所望
化合物は何ら単離することなく引き続く反応に供しても
よいが、通常適当な単離手段により単離精製される。こ
のような手段としては例えば溶媒抽出法、再結晶法、ろ
過法、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフ
ィー等を例示できる。
ミドオキシム化合物の脱水環化縮合による一般式(III
)のピラゾロトリアゾール化合物の合成は塩基の存在
下に適当な脱水剤を用いて行われる。この反応は、好ま
しくは、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの不活性
溶媒中、反応が十分に進行するだけの量(通常一当量)
の脱水剤を用いて行うのが望ましく、また反応温度は4
0〜100℃、反応時間2〜10時間の範囲が好まし
い。脱水剤としてはp−トルエンスルホン酸クロリドの
ほか、メタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタン
スルホニルクロリド、オキシ塩化リン、塩化チオニルな
どを用いることができる。また塩基としては、トリエチ
ルアミンのほか、ジイソプロピルエチルアミンのような
三級アミン及びピリジン、4−ジメチルアミノピリジン
などが用いられる。この塩基の量は0.5〜2当量、好
ましくは1当量とする。上記反応工程で、得られる所望
化合物は何ら単離することなく引き続く反応に供しても
よいが、通常適当な単離手段により単離精製される。こ
のような手段としては例えば溶媒抽出法、再結晶法、ろ
過法、カラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフ
ィー等を例示できる。
【0024】本発明方法においては、一般式(III )で
表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリ
アゾール化合物をさらに処理して、前記化合物の7−位
に写真用カプラーとしてそれ自体周知の、芳香族第一級
アミン現像主薬の酸化体とのカップリング反応により離
脱する基(カップリング離脱基)を導入することができ
る。このようなことは、ハロゲン化銀によって酸化され
た芳香族第一級アミンの酸化生成物とのカップリング反
応速度の調整及び使用銀量の削減のため写真用カプラー
製造において適宜に行われている手法であり、それ自体
公知のことである。
表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリ
アゾール化合物をさらに処理して、前記化合物の7−位
に写真用カプラーとしてそれ自体周知の、芳香族第一級
アミン現像主薬の酸化体とのカップリング反応により離
脱する基(カップリング離脱基)を導入することができ
る。このようなことは、ハロゲン化銀によって酸化され
た芳香族第一級アミンの酸化生成物とのカップリング反
応速度の調整及び使用銀量の削減のため写真用カプラー
製造において適宜に行われている手法であり、それ自体
公知のことである。
【0025】以下にカップリング離脱基の一般的な導入
法について説明する。 (1)酸素原子を連結する方法 本発明の方法により合成した4当量母核カプラー、ピラ
ゾロ[1,5−b]トリアゾール型カプラーと、芳香族
第一級アミンの酸化生成物とを反応させて色素を形成さ
せ、それを酸触媒の存在下で加水分解してケトン体と
し、このケトン体をPd−炭素を触媒とする水素添加、
Zn−酢酸による還元又は水素化ホウ素ナトリウムによ
る還元処理して、7−ヒドロキシ−ピラゾロ[1,5−
b]トリアゾールを合成することができる。これを各種
ハライドと反応させて目的とする酸素原子を連結したカ
プラーが合成できる。(米国特許 3,926,631号、特開昭
57−70817 号参照) (2)窒素原子を連結する方法 窒素原子を連結する方法には大きく分けて3つの方法が
ある。第1の方法は、米国特許3,419,391 号に記載され
ているように適当なニトロソ化剤でカップリング活性位
をニトロソ化し、それを適当な方法で還元(例えば、P
d−炭素等を触媒とする水素添加法、塩化第一スズ等を
使用した化学還元法)し、7−アミノ−ピラゾロ[1,
5−b]トリアゾールとして各種ハライドと反応させ、
主としてアミド化合物は合成できる。
法について説明する。 (1)酸素原子を連結する方法 本発明の方法により合成した4当量母核カプラー、ピラ
ゾロ[1,5−b]トリアゾール型カプラーと、芳香族
第一級アミンの酸化生成物とを反応させて色素を形成さ
せ、それを酸触媒の存在下で加水分解してケトン体と
し、このケトン体をPd−炭素を触媒とする水素添加、
Zn−酢酸による還元又は水素化ホウ素ナトリウムによ
る還元処理して、7−ヒドロキシ−ピラゾロ[1,5−
b]トリアゾールを合成することができる。これを各種
ハライドと反応させて目的とする酸素原子を連結したカ
プラーが合成できる。(米国特許 3,926,631号、特開昭
57−70817 号参照) (2)窒素原子を連結する方法 窒素原子を連結する方法には大きく分けて3つの方法が
ある。第1の方法は、米国特許3,419,391 号に記載され
ているように適当なニトロソ化剤でカップリング活性位
をニトロソ化し、それを適当な方法で還元(例えば、P
d−炭素等を触媒とする水素添加法、塩化第一スズ等を
使用した化学還元法)し、7−アミノ−ピラゾロ[1,
5−b]トリアゾールとして各種ハライドと反応させ、
主としてアミド化合物は合成できる。
【0026】第2の方法は、米国特許 3,725,067号に記
載の方法、すなわち、適当なハロゲン化剤、例えば、塩
化スルフリル、塩素ガス、臭素、N−クロロコハク酸イ
ミド、N−ブロモコハク酸イミド等によって7−位をハ
ロゲン化し、その後、特公昭56− 45135号に記載の方法
で窒素ヘテロ環を適当な塩基触媒、トリエチルアミン、
水酸化ナトリウム、ジアザビシクロ[2,2,2]オク
タン、無水炭酸カリウム等の存在下で置換させ、7−位
に窒素原子で連結したカプラーを合成することができ
る。酸素原子で連結した化合物のうち、7−位にフェノ
キシ基を有する化合物もこの方法で合成することができ
る。第3の方法は、6πまたは10π電子系芳香族窒素
ヘテロ環を7−位に導入する場合に有効な方法で、特公
昭57− 36577号に記載されているように前記第2の方法
で合成した7−ハロゲン体に対して2倍モル以上の6π
または10π電子系芳香族窒素ヘテロ環を添加し50〜
150℃で無溶媒加熱するか、またはジメチルホルムア
ルデヒド、スルホランまたはヘキサメチルホスホトリア
ミド等非プロトン性極性溶媒中、30〜150℃で加熱
することによって7−位に窒素原子で連結した芳香族窒
素ヘテロ環基を導入することができる。
載の方法、すなわち、適当なハロゲン化剤、例えば、塩
化スルフリル、塩素ガス、臭素、N−クロロコハク酸イ
ミド、N−ブロモコハク酸イミド等によって7−位をハ
ロゲン化し、その後、特公昭56− 45135号に記載の方法
で窒素ヘテロ環を適当な塩基触媒、トリエチルアミン、
水酸化ナトリウム、ジアザビシクロ[2,2,2]オク
タン、無水炭酸カリウム等の存在下で置換させ、7−位
に窒素原子で連結したカプラーを合成することができ
る。酸素原子で連結した化合物のうち、7−位にフェノ
キシ基を有する化合物もこの方法で合成することができ
る。第3の方法は、6πまたは10π電子系芳香族窒素
ヘテロ環を7−位に導入する場合に有効な方法で、特公
昭57− 36577号に記載されているように前記第2の方法
で合成した7−ハロゲン体に対して2倍モル以上の6π
または10π電子系芳香族窒素ヘテロ環を添加し50〜
150℃で無溶媒加熱するか、またはジメチルホルムア
ルデヒド、スルホランまたはヘキサメチルホスホトリア
ミド等非プロトン性極性溶媒中、30〜150℃で加熱
することによって7−位に窒素原子で連結した芳香族窒
素ヘテロ環基を導入することができる。
【0027】(3)イオウ原子を連結する方法 芳香族メルカプト又はヘテロ環メルカプト基が7−位に
置換したカプラーは米国特許3,227,554 号に記載の方
法、すなわちアリールメルカプタン、ヘテロ環メルカプ
タン及びその対応するジスルフイドをハロゲン化炭化水
素系溶媒に溶解し、塩素又は塩化スルフリルでスルフェ
ニルクロリドとし非プロトン性溶媒中に溶解した4当量
ピラゾロ[1,5−b]トリアゾール系カプラーに添加
し合成することが出来る。アルキルメルカプト基を7−
位に導入する方法としては米国特許4,264,723 号記載の
方法、すなわちカプラーのカップリング活性位置にメル
カプト基を導入し、このメルカプト基にハライドを作用
させる方法とS−(アルキルチオ)イソチオ尿素塩酸塩
(又は臭素塩酸)によって一工程で合成する方法とが有
効である。
置換したカプラーは米国特許3,227,554 号に記載の方
法、すなわちアリールメルカプタン、ヘテロ環メルカプ
タン及びその対応するジスルフイドをハロゲン化炭化水
素系溶媒に溶解し、塩素又は塩化スルフリルでスルフェ
ニルクロリドとし非プロトン性溶媒中に溶解した4当量
ピラゾロ[1,5−b]トリアゾール系カプラーに添加
し合成することが出来る。アルキルメルカプト基を7−
位に導入する方法としては米国特許4,264,723 号記載の
方法、すなわちカプラーのカップリング活性位置にメル
カプト基を導入し、このメルカプト基にハライドを作用
させる方法とS−(アルキルチオ)イソチオ尿素塩酸塩
(又は臭素塩酸)によって一工程で合成する方法とが有
効である。
【0028】また、本発明方法においては、一般式(II
I )で表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,
4]トリアゾール化合物の2−位及び6−位の置換基R
1 及びR2 をそれ自体公知の方法、例えば上記カップリ
ング離脱基の導入方法に準じ、適宜処理して、写真化学
的に許容される所望の基に変換してもよい。こうして本
発明方法を利用して誘導されるピラゾロ[1,5−b]
[1,2,4]トリアゾール誘導体は次の一般式で表わ
すことができる。
I )で表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,
4]トリアゾール化合物の2−位及び6−位の置換基R
1 及びR2 をそれ自体公知の方法、例えば上記カップリ
ング離脱基の導入方法に準じ、適宜処理して、写真化学
的に許容される所望の基に変換してもよい。こうして本
発明方法を利用して誘導されるピラゾロ[1,5−b]
[1,2,4]トリアゾール誘導体は次の一般式で表わ
すことができる。
【0029】
【化11】
【0030】但し、式中、R4 、R5 は水素原子又は置
換基を表わし、Xはカップリング離脱基を表わす。好ま
しくは、R4 、R5 は水素原子、ハロゲン原子、脂肪族
基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アニリノ基、
ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、
スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル
基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環
オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シ
リルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イ
ミド基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル
基、アリールオキシカルボニル基、アシル基を表わし、
Xはハロゲン原子、カルボキシ基又は酸素原子、窒素原
子、炭素原子で、もしくはイオウ原子を介してカップリ
ング位の炭素と結合する基でカップリング離脱する基を
表わし、R4 、R5 又はXが2価の基となりビス体を形
成してもよい。また一般式(XI)で表わされる部分がビ
ニル単量体に含まれるときは、R4 又はR5 のいずれか
は単なる結合又は連結基をあらわし、これを介して一般
式(XI)で表わされる部分はビニル基に結合する。
換基を表わし、Xはカップリング離脱基を表わす。好ま
しくは、R4 、R5 は水素原子、ハロゲン原子、脂肪族
基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アニリノ基、
ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、
スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル
基、スルホニル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環
オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シ
リルオキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イ
ミド基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル
基、アリールオキシカルボニル基、アシル基を表わし、
Xはハロゲン原子、カルボキシ基又は酸素原子、窒素原
子、炭素原子で、もしくはイオウ原子を介してカップリ
ング位の炭素と結合する基でカップリング離脱する基を
表わし、R4 、R5 又はXが2価の基となりビス体を形
成してもよい。また一般式(XI)で表わされる部分がビ
ニル単量体に含まれるときは、R4 又はR5 のいずれか
は単なる結合又は連結基をあらわし、これを介して一般
式(XI)で表わされる部分はビニル基に結合する。
【0031】さらに詳しくは、R4 、R5 は各々水素原
子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、等)
アルキル基(炭素数1〜32の直鎖、分岐鎖アルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シク
ロアルキル基、シクロアルケニル基、で、これらは酸素
原子、窒素原子、イオウ原子、カルボニル基で連結する
置換基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキ
シ基、シアノ基、又はハロゲン原子で置換していてもよ
く、例えば、メチル基、プロピル基、t−ブチル基、ト
リデシル基、2−メタンスルホニルエチル基、3−(3
−ペンタデシルフェノキシ)プロピル基、3−{4−
{2−[4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フ
ェノキシ]ドデカンアミノ}フェニル}プロピル基、2
−エトキシトリデシル基、トリフルオロメチル基、シク
ロペンチル基、3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)プロピル基、等)、アリール基(例えば、フェニル
基、4−t−ブチルフェニル基、2,4−ジ−t−アミ
ルフェニル基、 4−テトラデカンアミドフェニル基、
等)、ヘテロ環基(例えば、2−フリル基、2−チエニ
ル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、
等)、シアノ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−ドデシルエト
キシ基、2−メタンスルホニルエトキシ基、等)、アリ
ールオキシ基(例えば、フェノキシ基、2−メチルフェ
ノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、等)、アシル
アミノ基(例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、
テトラデカンアミド基、α−(2,4−ジ−t−アミル
フェノキシ)ブチルアミド基、γ−(3−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェノキシ)ブチルアミド基、α−{4
−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ}
デカンアミド基、等)、アニリノ基(例えばフェニルア
ミノ基、2−クロロアニリノ基、2−クロロ−5−テト
ラデカンアミノアニリノ基、2−クロロ−5−ドデシル
オキシカルボニルアニリノ基、N−アセチルアニリノ
基、2−クロロ−5−{α−(3−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェノキシ)ドデカンアミド}アニリノ基、
等)、ウレイド基(例えば、フェニルウレイド基、メチ
ルウレイド基、N,N−ジブチルウレイド基、等)、ス
ルファモイルアミノ基(例えば、N,N−ジプロピルス
ルファモイルアミノ基、N−メチル−N−デシルスルフ
ァモイルアミノ基、等)、アルキルチオ基(例えば、メ
チルチオ基、オクチルチオ基、テトラデシルチオ基、2
−フェノキシエチルチオ基、3−フェノキシプロピルチ
オ基、3−(4−t−ブチルフェノキシ)プロピルチオ
基、等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、
2−ブトキシ−5−t−オクチルフェニルチオ基、3−
ペンタデシルフェニルチオ基、2−カルボキシフェニル
チオ基、4−テトラデカンアミドフェニルチオ基、
等)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキ
シカルボニルアミノ基、テトラデシルオキシカルボニル
アミノ基、等)、スルホンアミド基(例えば、メタンス
ルホンアミド基、ヘキサデカンスルホンアミド基、ベン
ゼンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド
基、オクタデカンスルホンアミド基、2−メチルオキシ
−5−t−ブチルベンゼンスルホンアミド基、等)、カ
ルバモイル基(例えば、N−エチルカルバモイル基、
N,N−ジブチルカルバモイル基、N−(2−ドデシル
オキシエチル)カルバモイル基、N−メチル−N−ドデ
シルカルバモイル基、N−{3−(2,4−ジ−t−ア
ミルフェノキシ)プロピル}カルバモイル基、等)、ス
ルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル
基、N,N−ジプロピルスルファモイル基、N−(2−
ドデシルオキシエチル)スルファモイル基、N−エチル
−N−ドデシルスルファモイル基、N,N−ジエチルス
ルファモイル基、等)、スルホニル基(例えば、メタン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ベンゼンスルホ
ニル基、トルエンスルホニル基、等)、アルコキシカル
ボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、ブチルオキ
シカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オクタ
デシルオキシカルボニル基、等)、ヘテロ環オキシ基
(例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ基、
2−テトラヒドロピラニルオキシ基、等)、アシルオキ
シ基(例えば、アセトキシ基、等)、カルバモイルオキ
シ基(例えば、N−メチルカルバモイルオキシ基、N−
フェニルカルバモイルオキシ基、等)、シリルオキシ基
(例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジブチルメチル
シリルオキシ基、等)、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基(例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、等)、
イミド基(例えば、N−スクシンイミド基、N−フタル
イミド基、3−オクタデセニルスルシンイミド基、
等)、ヘテロ環チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリル
チオ基、2,4−ジ−フェノキシ−1,3,5−トリア
ゾール−6−チオ基、2−ピリジルチオ基、等)、スル
フィニル基(例えば、ドデカンスルフィニル基、3−ペ
ンタデシルフェニルスルフィニル基、3−フェノキシプ
ロピルスルフィニル基、等)、ホスホニル基(例えば、
フェノキシホスホニル基、オクチルオキシホスホニル
基、フェニルホスホニル基、等)、アリールオキシカル
ボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基、等)、ア
シル基(例えば、アセチル基、3−フェニルプロパノイ
ル基、ベンゾイル基、4−ドデシルオキシベンゾイル
基、等)を表わす。
子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、等)
アルキル基(炭素数1〜32の直鎖、分岐鎖アルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シク
ロアルキル基、シクロアルケニル基、で、これらは酸素
原子、窒素原子、イオウ原子、カルボニル基で連結する
置換基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトロ基、カルボキ
シ基、シアノ基、又はハロゲン原子で置換していてもよ
く、例えば、メチル基、プロピル基、t−ブチル基、ト
リデシル基、2−メタンスルホニルエチル基、3−(3
−ペンタデシルフェノキシ)プロピル基、3−{4−
{2−[4−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フ
ェノキシ]ドデカンアミノ}フェニル}プロピル基、2
−エトキシトリデシル基、トリフルオロメチル基、シク
ロペンチル基、3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ)プロピル基、等)、アリール基(例えば、フェニル
基、4−t−ブチルフェニル基、2,4−ジ−t−アミ
ルフェニル基、 4−テトラデカンアミドフェニル基、
等)、ヘテロ環基(例えば、2−フリル基、2−チエニ
ル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、
等)、シアノ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エ
トキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−ドデシルエト
キシ基、2−メタンスルホニルエトキシ基、等)、アリ
ールオキシ基(例えば、フェノキシ基、2−メチルフェ
ノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、等)、アシル
アミノ基(例えば、アセトアミド基、ベンズアミド基、
テトラデカンアミド基、α−(2,4−ジ−t−アミル
フェノキシ)ブチルアミド基、γ−(3−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェノキシ)ブチルアミド基、α−{4
−(4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ}
デカンアミド基、等)、アニリノ基(例えばフェニルア
ミノ基、2−クロロアニリノ基、2−クロロ−5−テト
ラデカンアミノアニリノ基、2−クロロ−5−ドデシル
オキシカルボニルアニリノ基、N−アセチルアニリノ
基、2−クロロ−5−{α−(3−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェノキシ)ドデカンアミド}アニリノ基、
等)、ウレイド基(例えば、フェニルウレイド基、メチ
ルウレイド基、N,N−ジブチルウレイド基、等)、ス
ルファモイルアミノ基(例えば、N,N−ジプロピルス
ルファモイルアミノ基、N−メチル−N−デシルスルフ
ァモイルアミノ基、等)、アルキルチオ基(例えば、メ
チルチオ基、オクチルチオ基、テトラデシルチオ基、2
−フェノキシエチルチオ基、3−フェノキシプロピルチ
オ基、3−(4−t−ブチルフェノキシ)プロピルチオ
基、等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、
2−ブトキシ−5−t−オクチルフェニルチオ基、3−
ペンタデシルフェニルチオ基、2−カルボキシフェニル
チオ基、4−テトラデカンアミドフェニルチオ基、
等)、アルコキシカルボニルアミノ基(例えば、メトキ
シカルボニルアミノ基、テトラデシルオキシカルボニル
アミノ基、等)、スルホンアミド基(例えば、メタンス
ルホンアミド基、ヘキサデカンスルホンアミド基、ベン
ゼンスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド
基、オクタデカンスルホンアミド基、2−メチルオキシ
−5−t−ブチルベンゼンスルホンアミド基、等)、カ
ルバモイル基(例えば、N−エチルカルバモイル基、
N,N−ジブチルカルバモイル基、N−(2−ドデシル
オキシエチル)カルバモイル基、N−メチル−N−ドデ
シルカルバモイル基、N−{3−(2,4−ジ−t−ア
ミルフェノキシ)プロピル}カルバモイル基、等)、ス
ルファモイル基(例えば、N−エチルスルファモイル
基、N,N−ジプロピルスルファモイル基、N−(2−
ドデシルオキシエチル)スルファモイル基、N−エチル
−N−ドデシルスルファモイル基、N,N−ジエチルス
ルファモイル基、等)、スルホニル基(例えば、メタン
スルホニル基、オクタンスルホニル基、ベンゼンスルホ
ニル基、トルエンスルホニル基、等)、アルコキシカル
ボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、ブチルオキ
シカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、オクタ
デシルオキシカルボニル基、等)、ヘテロ環オキシ基
(例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ基、
2−テトラヒドロピラニルオキシ基、等)、アシルオキ
シ基(例えば、アセトキシ基、等)、カルバモイルオキ
シ基(例えば、N−メチルカルバモイルオキシ基、N−
フェニルカルバモイルオキシ基、等)、シリルオキシ基
(例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジブチルメチル
シリルオキシ基、等)、アリールオキシカルボニルアミ
ノ基(例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、等)、
イミド基(例えば、N−スクシンイミド基、N−フタル
イミド基、3−オクタデセニルスルシンイミド基、
等)、ヘテロ環チオ基(例えば、2−ベンゾチアゾリル
チオ基、2,4−ジ−フェノキシ−1,3,5−トリア
ゾール−6−チオ基、2−ピリジルチオ基、等)、スル
フィニル基(例えば、ドデカンスルフィニル基、3−ペ
ンタデシルフェニルスルフィニル基、3−フェノキシプ
ロピルスルフィニル基、等)、ホスホニル基(例えば、
フェノキシホスホニル基、オクチルオキシホスホニル
基、フェニルホスホニル基、等)、アリールオキシカル
ボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基、等)、ア
シル基(例えば、アセチル基、3−フェニルプロパノイ
ル基、ベンゾイル基、4−ドデシルオキシベンゾイル
基、等)を表わす。
【0032】また、さらに詳しくは、Xはハロゲン原子
(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、カル
ボキシ基、又は酸素原子で連結する基(例えば、アセト
キシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、
2,4−ジクロロベンゾイルオキシ基、エトキシオキザ
ロイルオキシ基、ピルビニルオキシ基、シンナモイルオ
キシ基、フェノキシ基、4−シアノフェノキシル基、4
−メタンスルホンアミドフェノキシ基、4−メタンスル
ホニルフェノキシ基、α−ナフトキシ基、3−ペンタデ
シルフェノキシ基、ベンジルオキシカルボニルオキシ
基、エトキシ基、2−シアノエトキシ基、ベンジルオキ
シ基、2−フェネチルオキシ基、2−フェノキシエトキ
シ基、5−フェニルテトラゾリルオキシ基、2−ベンゾ
チアゾリルオキシ基、等)、窒素原子で連結する基(例
えば、ベンゼンスルホンアミド基、N−エチルトルエン
スルホンアミド基、ヘプタフルオロブタンアミド基、
2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンズアミド基、
オクタンスルホンアミド基、p−シアノフェニルウレイ
ド基、N,N−ジエチルスルファモノイルアミノ基、 1
−ピペリジル基、5,5−ジメチル−2,4−ジオキソ
−3−オキサゾリジニル基、1−ベンジル−エトキシ−
3−ヒタントイニル基、2N−1,1−ジオキソ−3
(2H)−オキソ−1,2−ベンゾイソチアゾリル基、
2−オキソ−1,2−ジヒドロ− 1−ピリジニル基、イ
ミダゾリル基、ピラゾリル基、3,5−ジエチル−1,
2,4−トリアゾール− 1−イル、5又は6−ブロモベ
ンゾトリアゾール− 1−イル、5−メチル−1,2,
3,4−トリアゾール−1−イル基、ベンズイミダゾリ
ル基、4−メトキシフェニルアゾ基、4−ピバロイルア
ミノフェニルアゾ基、2−ヒドロキシ−4−プロパノイ
ルフェニルアゾ基、等)、イオウ原子で連結する基(例
えば、フェニルチオ基、2−カルボキシフェニルチオ
基、2−メトキシ−5−t−オクチルフェニルチオ基、
4−メタンスルホニルフェニルチオ基、4−オクタンス
ルホンアミドフェニルチオ基、ベンジルチオ基、2−シ
アノエチルチオ基、1−エトキシカルボニルトリデシル
チオ基、5−フェニル−2,3,4,5−テトラゾリル
チオ基、2−ベンゾチアゾリル基、チオシアノ基、N,
N−ジエチルチオカルボニルチオ基、ドデシルオキシチ
オカルボニルチオ基、等)、炭素原子で連結する基(例
えば、トリフェニルメチル基、ヒドロキシメチル基、N
−モルホリノメチル基、
(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等)、カル
ボキシ基、又は酸素原子で連結する基(例えば、アセト
キシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、
2,4−ジクロロベンゾイルオキシ基、エトキシオキザ
ロイルオキシ基、ピルビニルオキシ基、シンナモイルオ
キシ基、フェノキシ基、4−シアノフェノキシル基、4
−メタンスルホンアミドフェノキシ基、4−メタンスル
ホニルフェノキシ基、α−ナフトキシ基、3−ペンタデ
シルフェノキシ基、ベンジルオキシカルボニルオキシ
基、エトキシ基、2−シアノエトキシ基、ベンジルオキ
シ基、2−フェネチルオキシ基、2−フェノキシエトキ
シ基、5−フェニルテトラゾリルオキシ基、2−ベンゾ
チアゾリルオキシ基、等)、窒素原子で連結する基(例
えば、ベンゼンスルホンアミド基、N−エチルトルエン
スルホンアミド基、ヘプタフルオロブタンアミド基、
2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンズアミド基、
オクタンスルホンアミド基、p−シアノフェニルウレイ
ド基、N,N−ジエチルスルファモノイルアミノ基、 1
−ピペリジル基、5,5−ジメチル−2,4−ジオキソ
−3−オキサゾリジニル基、1−ベンジル−エトキシ−
3−ヒタントイニル基、2N−1,1−ジオキソ−3
(2H)−オキソ−1,2−ベンゾイソチアゾリル基、
2−オキソ−1,2−ジヒドロ− 1−ピリジニル基、イ
ミダゾリル基、ピラゾリル基、3,5−ジエチル−1,
2,4−トリアゾール− 1−イル、5又は6−ブロモベ
ンゾトリアゾール− 1−イル、5−メチル−1,2,
3,4−トリアゾール−1−イル基、ベンズイミダゾリ
ル基、4−メトキシフェニルアゾ基、4−ピバロイルア
ミノフェニルアゾ基、2−ヒドロキシ−4−プロパノイ
ルフェニルアゾ基、等)、イオウ原子で連結する基(例
えば、フェニルチオ基、2−カルボキシフェニルチオ
基、2−メトキシ−5−t−オクチルフェニルチオ基、
4−メタンスルホニルフェニルチオ基、4−オクタンス
ルホンアミドフェニルチオ基、ベンジルチオ基、2−シ
アノエチルチオ基、1−エトキシカルボニルトリデシル
チオ基、5−フェニル−2,3,4,5−テトラゾリル
チオ基、2−ベンゾチアゾリル基、チオシアノ基、N,
N−ジエチルチオカルボニルチオ基、ドデシルオキシチ
オカルボニルチオ基、等)、炭素原子で連結する基(例
えば、トリフェニルメチル基、ヒドロキシメチル基、N
−モルホリノメチル基、
【0033】
【化12】
【0034】(但し式中、R4 、R5 は水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ環基を表わし、R4 、R5
はすでに定義したと同じ意味を有する)、等)、を表わ
す。
キル基、アリール基、ヘテロ環基を表わし、R4 、R5
はすでに定義したと同じ意味を有する)、等)、を表わ
す。
【0035】R4 、R5 又はXが2価の基となってビス
体を形成する2価の基をさらに詳しく述べれば、R4 、
R5 は置換又は無置換のアルキレン基(例えば、メチレ
ン基、エチレン基、1,10−デシレン基、−CH2 C
H2 −O−CH2 CH2 −、等)、置換又は無置換のフ
ェニレン基(例えば、1,4−フェニレン基、1,3−
フェニレン基、
体を形成する2価の基をさらに詳しく述べれば、R4 、
R5 は置換又は無置換のアルキレン基(例えば、メチレ
ン基、エチレン基、1,10−デシレン基、−CH2 C
H2 −O−CH2 CH2 −、等)、置換又は無置換のフ
ェニレン基(例えば、1,4−フェニレン基、1,3−
フェニレン基、
【0036】
【化13】
【0037】、等)、−NHCO−R8 −CONH−基
(R8 は置換もしくは無置換のアルキレン基又はフェニ
レン基を表わし、例えば
(R8 は置換もしくは無置換のアルキレン基又はフェニ
レン基を表わし、例えば
【0038】
【化14】
【0039】を示す。)である。次に、上記一般式(X
I)で表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,
4]トリアゾール誘導体の具体例を以下に例示するが、
本発明はこれによって限定されるものでないことは勿論
である。以下の具体例中において、本発明方法により得
られる写真用カプラーは、化合物2,10,12〜1
6,21,23〜27,35,38で示されるものであ
る。
I)で表わされるピラゾロ[1,5−b][1,2,
4]トリアゾール誘導体の具体例を以下に例示するが、
本発明はこれによって限定されるものでないことは勿論
である。以下の具体例中において、本発明方法により得
られる写真用カプラーは、化合物2,10,12〜1
6,21,23〜27,35,38で示されるものであ
る。
【0040】
【化15】
【0041】
【化16】
【0042】
【化17】
【0043】
【化18】
【0044】
【化19】
【0045】
【化20】
【0046】
【化21】
【0047】
【化22】
【0048】
【化23】
【0049】上記の例示化合物の物理的データの代表と
して融点を下記の表1にまとめた。
して融点を下記の表1にまとめた。
【0050】
【表1】
【0051】
【発明の効果】本発明によれば、芳香族第一級アミンの
酸化生成物とカップリングして、極めて色相良好でかつ
従来のピラゾロン系の色素より、光、熱堅牢性が優れた
ピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾール誘
導体から成る写真用カプラーを得ることができる。この
化合物は、カラー写真のマゼンタカプラーとして、カラ
ー拡散転写法写真の色素現像薬、色素放出剤の合成中間
体として、また、写真用増感色素製造の中間体として有
用な、新規なアザペンタレン化合物である。またこの化
合物は、生理活性物質として使用できる可能性を有し、
さらに医薬品製造の中間体となりうる。
酸化生成物とカップリングして、極めて色相良好でかつ
従来のピラゾロン系の色素より、光、熱堅牢性が優れた
ピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾール誘
導体から成る写真用カプラーを得ることができる。この
化合物は、カラー写真のマゼンタカプラーとして、カラ
ー拡散転写法写真の色素現像薬、色素放出剤の合成中間
体として、また、写真用増感色素製造の中間体として有
用な、新規なアザペンタレン化合物である。またこの化
合物は、生理活性物質として使用できる可能性を有し、
さらに医薬品製造の中間体となりうる。
【0052】
【実施例】次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説
明する。 参考例1(例示化合物1の合成)
明する。 参考例1(例示化合物1の合成)
【0053】
【化24】
【0054】3−アミノクロトノニトリルとヒドラジン
水和物の反応によって得られる5−アミノ−3−メチル
ピラゾール(IV)2.4g(25mmol)とオルト酢酸ト
リエチル6.0g(37mmol)をトルエン20ml中で
約10時間加熱還流し、次いでトルエンを留去して(V
I)の粗生成物を油状物として得た。 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 1.28(3
H, t, J=7.5) 1.96(3H, s) 2.22(3H, s) 4.19(2H, q, J
=7.5) 5.50(1H, s) ヒドロキシルアミン塩酸塩2.6g(37mmol)をメタ
ノール20mlに溶かし、0℃で28%ナトリウムメト
キシドメタノール溶液7.4mlを加えた。析出した食
塩をろ過して除きながら(VI)のメタノール溶液に0℃
で加えた。加え終ったのち室温に戻し、約1時間撹拌
し、メタノールを留去し生成した結晶をクロロホルムで
洗浄して(II)を3.2g(83%)得た。融点180
〜185℃ (分解)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(p
pm) : 1.87(3H, s) 2.12(3H, s) 5.65(1H, s) (II)1.5g(9.7mmol)をテトラヒドロフラン
(THF)150mlに溶かし、トリエチルアミン1.
2gを加え、次にp−トルエンスルホン酸クロリド2.
2gを室温で少しずつ加える。そして30分撹拌後さら
に150mlのTHFを加え7時間加熱還流する。沈殿
として生ずるアミン塩をろ別し、ろ液を濃縮し、得られ
た残渣をクロマトグラフィーで精製して1,0.9g
(68%)を得た。融点274〜275℃(分解) 質量分析136(M+ ,100%) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 :ピリジン−d5 =
1:1)δ(ppm) : 2.35(3H, s) 2.43(3H, s) 5.50(1H,
s) また少量の2(融点250〜255℃(分解))が副生
成物として得られた。 参考例2(例示化合物17の合成)
水和物の反応によって得られる5−アミノ−3−メチル
ピラゾール(IV)2.4g(25mmol)とオルト酢酸ト
リエチル6.0g(37mmol)をトルエン20ml中で
約10時間加熱還流し、次いでトルエンを留去して(V
I)の粗生成物を油状物として得た。 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 1.28(3
H, t, J=7.5) 1.96(3H, s) 2.22(3H, s) 4.19(2H, q, J
=7.5) 5.50(1H, s) ヒドロキシルアミン塩酸塩2.6g(37mmol)をメタ
ノール20mlに溶かし、0℃で28%ナトリウムメト
キシドメタノール溶液7.4mlを加えた。析出した食
塩をろ過して除きながら(VI)のメタノール溶液に0℃
で加えた。加え終ったのち室温に戻し、約1時間撹拌
し、メタノールを留去し生成した結晶をクロロホルムで
洗浄して(II)を3.2g(83%)得た。融点180
〜185℃ (分解)核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(p
pm) : 1.87(3H, s) 2.12(3H, s) 5.65(1H, s) (II)1.5g(9.7mmol)をテトラヒドロフラン
(THF)150mlに溶かし、トリエチルアミン1.
2gを加え、次にp−トルエンスルホン酸クロリド2.
2gを室温で少しずつ加える。そして30分撹拌後さら
に150mlのTHFを加え7時間加熱還流する。沈殿
として生ずるアミン塩をろ別し、ろ液を濃縮し、得られ
た残渣をクロマトグラフィーで精製して1,0.9g
(68%)を得た。融点274〜275℃(分解) 質量分析136(M+ ,100%) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 :ピリジン−d5 =
1:1)δ(ppm) : 2.35(3H, s) 2.43(3H, s) 5.50(1H,
s) また少量の2(融点250〜255℃(分解))が副生
成物として得られた。 参考例2(例示化合物17の合成)
【0055】
【化25】
【0056】オルトイソカプロン酸トリメチルはイソカ
プロニトリルからイミドエステル塩酸塩を経て約50%
の収率で合成できた。沸点75〜77℃/28mmHg。
このオルトエステル19.8g(0.11mol )と(I
V)10.9g(0.11mol)をトルエン200ml中
約24時間加熱還流し、その後トルエンを減圧留去する
と(VI)の粗生成物が油状物として得られた。これにヒ
ドロキシルアミン塩酸塩11.7g(0.17mol )と
28%ナトリウムメトキシド34mlから調製したヒド
ロキシルアミンのメタノール溶液を0℃で加え室温で1
時間撹拌し、メタノールを減圧留去した。残渣にクロロ
ホルムを加え、析出した(II)の粉末結晶、12g(5
2%)をろ取し、この結晶をテトラヒドロフラン(3リ
ットル)に溶かし、6.9g(68mmol)のトリエチル
アミンと13.1g(68mmol)のp−トルエンスルホ
ン酸クロリドを加え〈実施例1〉と同様の操作を行うこ
とにより17,7.1g(65%)を得ることができ
た。融点140〜142℃ 質量分析 192(M+) 136(b.p) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 0.90(6
H, d, J=6) 1.55〜1.90(3H) 2.45(3H, s) 2.90(2H, br
t, J=7) 5.60(1H, s) 13.3(1H) 参考例3(例示化合物19の合成)
プロニトリルからイミドエステル塩酸塩を経て約50%
の収率で合成できた。沸点75〜77℃/28mmHg。
このオルトエステル19.8g(0.11mol )と(I
V)10.9g(0.11mol)をトルエン200ml中
約24時間加熱還流し、その後トルエンを減圧留去する
と(VI)の粗生成物が油状物として得られた。これにヒ
ドロキシルアミン塩酸塩11.7g(0.17mol )と
28%ナトリウムメトキシド34mlから調製したヒド
ロキシルアミンのメタノール溶液を0℃で加え室温で1
時間撹拌し、メタノールを減圧留去した。残渣にクロロ
ホルムを加え、析出した(II)の粉末結晶、12g(5
2%)をろ取し、この結晶をテトラヒドロフラン(3リ
ットル)に溶かし、6.9g(68mmol)のトリエチル
アミンと13.1g(68mmol)のp−トルエンスルホ
ン酸クロリドを加え〈実施例1〉と同様の操作を行うこ
とにより17,7.1g(65%)を得ることができ
た。融点140〜142℃ 質量分析 192(M+) 136(b.p) 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 0.90(6
H, d, J=6) 1.55〜1.90(3H) 2.45(3H, s) 2.90(2H, br
t, J=7) 5.60(1H, s) 13.3(1H) 参考例3(例示化合物19の合成)
【0057】
【化26】
【0058】オルト−4−(p−ニトロフェニル)酪酸
トリメチル〔4−(p−ニトロフェニル)酪酸からニト
リルを合成し、Pinner法により合成した〕の9.
2g(34mmol)と3−アミノ−5−メチルピラゾール
(IV)5g(51mmol)とをトルエン100ml中、2
0時間加熱還流したのち、トルエンを減圧留去し、得ら
れた粗(VI)をメタノール100mlに溶かした。その
中へ〈実施例1〉と同様にして、3.5g(50mmol)
のヒドロキシルアミン塩酸塩から調製したヒドロキシル
アミンのメタノール溶液を0℃で加え、加え終わったの
ち室温で1時間撹拌した。その溶液を撹拌しながら水1
リットル中に注ぐと沈殿が生ずるので、それを吸収ろ過
して、ジクロロメタンで良く洗浄すると(II)の粉末結
晶を得ることができた。収量6.7g(65%)融点1
65〜166℃ 2g(6.6mmol)の(II)をテトラヒドロフラン(T
HF)80mlに溶かし0.73g(7.3mmol)のト
リエチルアミンを加え撹拌した。その中へ、THF50
mlに溶かしたp−トルエンスルホン酸クロリド1.4
g(7.3mmol)をゆっくり加え、加え終わったのち、
約15分間撹拌し、沈殿して来るトリエチルアミン塩酸
塩をろ過して除き、10mlのTHFで洗った。ろ液を
窒素気流下約7時間加熱還流し、その後THFを減圧留
去し、残渣を少量のメタノールに溶かし、水100ml
に注ぎ撹拌するとうす茶色の沈殿が生成した。それを吸
引ろ過し、アセトニトリルとメタノールの混合溶媒から
再結晶すると19,1.2g(63%)を得た。融点2
03〜212℃ 質量分析 285(M+) 149(b.p) 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 2.
05(2H, m) 2.45(3H, s) 2.56〜2.86(4H, m) 5.60(1H,
s) 7.25(2H, d, J=8.0) 8.05(2H, d, J=8.0) 実施例1(例示化合物20,22,25の合成)
トリメチル〔4−(p−ニトロフェニル)酪酸からニト
リルを合成し、Pinner法により合成した〕の9.
2g(34mmol)と3−アミノ−5−メチルピラゾール
(IV)5g(51mmol)とをトルエン100ml中、2
0時間加熱還流したのち、トルエンを減圧留去し、得ら
れた粗(VI)をメタノール100mlに溶かした。その
中へ〈実施例1〉と同様にして、3.5g(50mmol)
のヒドロキシルアミン塩酸塩から調製したヒドロキシル
アミンのメタノール溶液を0℃で加え、加え終わったの
ち室温で1時間撹拌した。その溶液を撹拌しながら水1
リットル中に注ぐと沈殿が生ずるので、それを吸収ろ過
して、ジクロロメタンで良く洗浄すると(II)の粉末結
晶を得ることができた。収量6.7g(65%)融点1
65〜166℃ 2g(6.6mmol)の(II)をテトラヒドロフラン(T
HF)80mlに溶かし0.73g(7.3mmol)のト
リエチルアミンを加え撹拌した。その中へ、THF50
mlに溶かしたp−トルエンスルホン酸クロリド1.4
g(7.3mmol)をゆっくり加え、加え終わったのち、
約15分間撹拌し、沈殿して来るトリエチルアミン塩酸
塩をろ過して除き、10mlのTHFで洗った。ろ液を
窒素気流下約7時間加熱還流し、その後THFを減圧留
去し、残渣を少量のメタノールに溶かし、水100ml
に注ぎ撹拌するとうす茶色の沈殿が生成した。それを吸
引ろ過し、アセトニトリルとメタノールの混合溶媒から
再結晶すると19,1.2g(63%)を得た。融点2
03〜212℃ 質量分析 285(M+) 149(b.p) 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 2.
05(2H, m) 2.45(3H, s) 2.56〜2.86(4H, m) 5.60(1H,
s) 7.25(2H, d, J=8.0) 8.05(2H, d, J=8.0) 実施例1(例示化合物20,22,25の合成)
【0059】
【化27】
【0060】イソプロピルアルコール100mlに還元
鉄20g(0.36mol )と塩化アンモニウム1.4g
(2.8mmol)及び水10mlとを加えて激しく撹拌し
ながら還流状態になるまで加熱した。次いで濃塩酸0.
3mlを加え30分間加熱還流した。これに19 15.2
g(53.2mmol)を20分間かけて少しずつ加え、さ
らに1時間加熱還流した。セライトを通してろ過し、エ
タノールでよく洗浄した。ろ液を濃縮したのち2N H
Cl水溶液に溶解し、酢酸エチルで洗浄した。水層をア
ンモニア水で中和して析出した沈殿をろ取した。沈殿を
水で、つづいてアセトニトリルで洗浄したのち乾燥して
ほぼ純粋な20,10.9g(80%)を得た。融点
〜180℃ 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 1.
90(2H, br, quintet,J=〜7) 2.46(3H, s) 2.3〜2.8(4H)
5.60(1H, s) 6.55(2H, d, J=8.5) 6.93(2H,d, J=8.5) 3.6g(14.0mmol)の20をN,N−ジメチルア
セトアミド30mlとアセトニトリル60mlの混合溶
媒に加え、加熱還流した。これに酸クロリド[(t-C5H11)
2C6H3OCH(n-C6H13)COCl]6.1g(15.4mmol)のア
セトニトリル溶液(20ml)を20分間かけて滴下
し、さらに30分間加熱還流した。冷却後、水300m
lに注ぎ酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで分離精製し22 7.0g
(81%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 0.50〜
1.00(7H, m) 1.00〜2.15(30H, m) 2.45(3H, s) 2.46 〜
2.80(4H, m) 4.68(1H, t, J=6.5) 5.60(1H, s)6.88 〜
7.33(6H, m) 7.66(1H, d, J=9.0) 7.88(1H, br, s) 3.1g(5.00mmol)の22を25mlの酢酸に加
え、室温で撹拌した。これに亜硝酸イソアミル586m
g(5.00mmol)を滴下し、さらに1時間撹拌した。
これを水300mlにゆっくり加え、析出した沈殿をろ
取し、水洗した。減圧下に乾燥し、2.9g(91%)
の7−ニトロソ体を固体として得た。融点 約90℃ 2.9g(4.5mmol)の7−ニトロソ体をエタノール
50mlに溶かし、窒素気流下で還流状態まで加熱し
た。これに塩化第一スズ4.27g(22.5mmol)の
濃塩酸溶液(10ml)を10分間かけて滴下した。さ
らに30分間加熱還流後、冷却し、これを水150ml
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥したのち、濃縮乾固して7−アミ
ノ体とスズの錯体を得た。これは遊離のアミノ体とする
ことなく次の反応に使用した。この7−アミノ体にトル
エン100mlと2,5−ジメチル−1,3,4−オキ
サジアゾール、0.49g(5.0mmol)を加え約5時
間加熱還流した。これを水250mlに注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥したのち濃縮し、シリカゲルカラムクムマトグラ
フィーで分離精製して25,2.2g(70%)を固体
として得た。融点〜120℃ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 0.48〜
1.00(7H, m) 1.05〜2.20(30H, m) 2.43(3H, s) 2.46(6
H, s) 2.46 〜2.80(4H, m) 4.67(1H, t, J=6.5)6.60(1
H, d, J=8.5) 6.90〜7.35(6H, m) 7.85(1H, s) 参考例4(例示化合物30の合成)
鉄20g(0.36mol )と塩化アンモニウム1.4g
(2.8mmol)及び水10mlとを加えて激しく撹拌し
ながら還流状態になるまで加熱した。次いで濃塩酸0.
3mlを加え30分間加熱還流した。これに19 15.2
g(53.2mmol)を20分間かけて少しずつ加え、さ
らに1時間加熱還流した。セライトを通してろ過し、エ
タノールでよく洗浄した。ろ液を濃縮したのち2N H
Cl水溶液に溶解し、酢酸エチルで洗浄した。水層をア
ンモニア水で中和して析出した沈殿をろ取した。沈殿を
水で、つづいてアセトニトリルで洗浄したのち乾燥して
ほぼ純粋な20,10.9g(80%)を得た。融点
〜180℃ 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 1.
90(2H, br, quintet,J=〜7) 2.46(3H, s) 2.3〜2.8(4H)
5.60(1H, s) 6.55(2H, d, J=8.5) 6.93(2H,d, J=8.5) 3.6g(14.0mmol)の20をN,N−ジメチルア
セトアミド30mlとアセトニトリル60mlの混合溶
媒に加え、加熱還流した。これに酸クロリド[(t-C5H11)
2C6H3OCH(n-C6H13)COCl]6.1g(15.4mmol)のア
セトニトリル溶液(20ml)を20分間かけて滴下
し、さらに30分間加熱還流した。冷却後、水300m
lに注ぎ酢酸エチルで抽出した。飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥したのち濃縮し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで分離精製し22 7.0g
(81%)を得た。 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 0.50〜
1.00(7H, m) 1.00〜2.15(30H, m) 2.45(3H, s) 2.46 〜
2.80(4H, m) 4.68(1H, t, J=6.5) 5.60(1H, s)6.88 〜
7.33(6H, m) 7.66(1H, d, J=9.0) 7.88(1H, br, s) 3.1g(5.00mmol)の22を25mlの酢酸に加
え、室温で撹拌した。これに亜硝酸イソアミル586m
g(5.00mmol)を滴下し、さらに1時間撹拌した。
これを水300mlにゆっくり加え、析出した沈殿をろ
取し、水洗した。減圧下に乾燥し、2.9g(91%)
の7−ニトロソ体を固体として得た。融点 約90℃ 2.9g(4.5mmol)の7−ニトロソ体をエタノール
50mlに溶かし、窒素気流下で還流状態まで加熱し
た。これに塩化第一スズ4.27g(22.5mmol)の
濃塩酸溶液(10ml)を10分間かけて滴下した。さ
らに30分間加熱還流後、冷却し、これを水150ml
に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫
酸マグネシウムで乾燥したのち、濃縮乾固して7−アミ
ノ体とスズの錯体を得た。これは遊離のアミノ体とする
ことなく次の反応に使用した。この7−アミノ体にトル
エン100mlと2,5−ジメチル−1,3,4−オキ
サジアゾール、0.49g(5.0mmol)を加え約5時
間加熱還流した。これを水250mlに注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を無水硫酸マグネシウム上
で乾燥したのち濃縮し、シリカゲルカラムクムマトグラ
フィーで分離精製して25,2.2g(70%)を固体
として得た。融点〜120℃ 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3 )δ(ppm) : 0.48〜
1.00(7H, m) 1.05〜2.20(30H, m) 2.43(3H, s) 2.46(6
H, s) 2.46 〜2.80(4H, m) 4.67(1H, t, J=6.5)6.60(1
H, d, J=8.5) 6.90〜7.35(6H, m) 7.85(1H, s) 参考例4(例示化合物30の合成)
【0061】
【化28】
【0062】市販の3−アミノピラゾール8.3g
(0.1mol )とオルトギ酸トリエチル22.2g
(0.15mol )をトルエン100mlに溶かし、約1
0時間加熱還流した。トルエンを減圧留去後残渣をメタ
ノール50mlに溶かし、その中に〈実施例2〉と同様
にして10.4g(0.15mol )のヒドロキシルアミ
ン塩酸塩から調製したヒドロキシルアミンのメタノール
溶液を0℃で加え、加え終わったのち室温で1時間撹拌
した。その後メタノールをできるだけ低い温度で減圧留
去し、残渣にジクロルメタンを加えると(II)(R1 =R
2 =H)が結晶として析出した。収量8.2g(65
%) このアミドオキシム5g(40mmol)を〈実施例1〉に
示したようにTHF中p−トルエンスルホン酸クロリド
とトリエチルアミンと反応させた後、加熱還流し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより
30を2.6g(60%)得ることができた。融点20
0〜205℃ 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 5.
75(1H, d, J=2.5) 7.53(1H, d, J=2.5) 8.05(1H, s) 参考例5(例示化合物31の合成)
(0.1mol )とオルトギ酸トリエチル22.2g
(0.15mol )をトルエン100mlに溶かし、約1
0時間加熱還流した。トルエンを減圧留去後残渣をメタ
ノール50mlに溶かし、その中に〈実施例2〉と同様
にして10.4g(0.15mol )のヒドロキシルアミ
ン塩酸塩から調製したヒドロキシルアミンのメタノール
溶液を0℃で加え、加え終わったのち室温で1時間撹拌
した。その後メタノールをできるだけ低い温度で減圧留
去し、残渣にジクロルメタンを加えると(II)(R1 =R
2 =H)が結晶として析出した。収量8.2g(65
%) このアミドオキシム5g(40mmol)を〈実施例1〉に
示したようにTHF中p−トルエンスルホン酸クロリド
とトリエチルアミンと反応させた後、加熱還流し、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより
30を2.6g(60%)得ることができた。融点20
0〜205℃ 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 5.
75(1H, d, J=2.5) 7.53(1H, d, J=2.5) 8.05(1H, s) 参考例5(例示化合物31の合成)
【0063】
【化29】
【0064】3−アミノピラゾール8.3g(0.1 m
ol)とオルト−4−(p−ニトロフェニル)酪酸トリメ
チル27.1g(0.1 mol)から〈実施例3〉に示し
た方法とほとんど同様にして(II)(R2 =H,R1 =
−(CH2)3 C6 H4 NO2)を19g(69%)得る
ことができた。このアミドオキシム5g(18mmol)か
ら31は3.1g(68%)得ることができた。融点1
65〜170℃ 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 2.
04(2H, m) 2.55〜2.86(4H, m) 5.78(1H, d, J=2.5) 7.2
5(2H, d, J=8.0) 7.54(1H, d, J=2.5) 8.05(2H, d, J=
8.0) 参考例6
ol)とオルト−4−(p−ニトロフェニル)酪酸トリメ
チル27.1g(0.1 mol)から〈実施例3〉に示し
た方法とほとんど同様にして(II)(R2 =H,R1 =
−(CH2)3 C6 H4 NO2)を19g(69%)得る
ことができた。このアミドオキシム5g(18mmol)か
ら31は3.1g(68%)得ることができた。融点1
65〜170℃ 核磁気共鳴スペクトル(DMSO−d6 )δ(ppm) : 2.
04(2H, m) 2.55〜2.86(4H, m) 5.78(1H, d, J=2.5) 7.2
5(2H, d, J=8.0) 7.54(1H, d, J=2.5) 8.05(2H, d, J=
8.0) 参考例6
【0065】
【化30】
【0066】p−ニトロフェニルケテンジメチルアセタ
ールは、下記の方法により合成した。まず市販のp−ニ
トロベンジルシアニド100g(0.617mol )をメ
タノール19.8g(0.617mol )とジオキサン7
5mlの溶液中で激しく撹拌し、その中に乾燥塩化水素
ガスを約1.5時間かけて注入し、22.5g以上吸収
された所で注入をやめ、一晩冷蔵庫に放置した。沈殿物
を砕いてエーテル中に加え、ろ取し、エーテルで良く洗
浄した。減圧デシケータ中で乾燥し138g(79%)
のイミドエステル塩酸塩を得た。このイミドエステル塩
酸塩にメタノール211mlを加え、しばらく撹拌し
た。完全に溶けたらエーテル400mlを加え、約15
時間加熱還流し、室温に戻したのち、反応液中に10%
Na2 CO3 を徐々に約300ml加え、次に酢酸エチ
ル1リットルを加え抽出した。酢酸エチル層を10%N
a2 CO3 で洗浄し、無水K2 CO3 上で乾燥後ろ過し
て、溶媒を減圧留去すると結晶が析出した。この結晶を
エーテルで十分洗浄することにより、ほぼ純粋なp−ニ
トロフェニルケテンジメチルアセタールを36g(49
%)得た。アミノピラゾール(IV)12.0g(0.12
4mol )とp−ニトロフェニルケテンジメチルアセター
ル26.0g(0.124mol )のトルエン200ml
溶液にメタンスルホン酸0.04ml(0.5mol %)
を加え約4時間加熱還流した。トルエンを減圧留去後、
残渣をメタノール200mlに溶解し、氷浴で冷やしな
がら、ヒドロキシルアミン塩酸塩51.8g(0.74
4mol )と28%ナトリウムメトキシメタノール溶液1
50mlから調製したヒドロキシルアミンのメタノール
溶液を2回にわけて加え、加え終わったのち、室温に戻
し、約2時間撹拌し、一晩放置した。約1/2の体積ま
でメタノールを減圧留去(温度50℃以下)し、それを
水1リットルに注ぎ、析出した結晶をろ取し、乾燥する
ことにより22.9g(67%)の(II)を得た。32 は〈実施例3〉と同様の方法で(II)5.0gより
2.7g(58%)得た、融点 〜251℃(分解) 実施例2
ールは、下記の方法により合成した。まず市販のp−ニ
トロベンジルシアニド100g(0.617mol )をメ
タノール19.8g(0.617mol )とジオキサン7
5mlの溶液中で激しく撹拌し、その中に乾燥塩化水素
ガスを約1.5時間かけて注入し、22.5g以上吸収
された所で注入をやめ、一晩冷蔵庫に放置した。沈殿物
を砕いてエーテル中に加え、ろ取し、エーテルで良く洗
浄した。減圧デシケータ中で乾燥し138g(79%)
のイミドエステル塩酸塩を得た。このイミドエステル塩
酸塩にメタノール211mlを加え、しばらく撹拌し
た。完全に溶けたらエーテル400mlを加え、約15
時間加熱還流し、室温に戻したのち、反応液中に10%
Na2 CO3 を徐々に約300ml加え、次に酢酸エチ
ル1リットルを加え抽出した。酢酸エチル層を10%N
a2 CO3 で洗浄し、無水K2 CO3 上で乾燥後ろ過し
て、溶媒を減圧留去すると結晶が析出した。この結晶を
エーテルで十分洗浄することにより、ほぼ純粋なp−ニ
トロフェニルケテンジメチルアセタールを36g(49
%)得た。アミノピラゾール(IV)12.0g(0.12
4mol )とp−ニトロフェニルケテンジメチルアセター
ル26.0g(0.124mol )のトルエン200ml
溶液にメタンスルホン酸0.04ml(0.5mol %)
を加え約4時間加熱還流した。トルエンを減圧留去後、
残渣をメタノール200mlに溶解し、氷浴で冷やしな
がら、ヒドロキシルアミン塩酸塩51.8g(0.74
4mol )と28%ナトリウムメトキシメタノール溶液1
50mlから調製したヒドロキシルアミンのメタノール
溶液を2回にわけて加え、加え終わったのち、室温に戻
し、約2時間撹拌し、一晩放置した。約1/2の体積ま
でメタノールを減圧留去(温度50℃以下)し、それを
水1リットルに注ぎ、析出した結晶をろ取し、乾燥する
ことにより22.9g(67%)の(II)を得た。32 は〈実施例3〉と同様の方法で(II)5.0gより
2.7g(58%)得た、融点 〜251℃(分解) 実施例2
【0067】
【化31】
【0068】水20mlに還元鉄17g、塩化アンモニ
ウム1.1g及び酢酸1.2mlを加え窒素気流下約2
0分加熱還流したのち100mlイソプロピルアルコー
ルを加え、加熱還流した。その中へ32,11.0g
(42.8mmol)を15分間かけて滴下した。約30分
後、32はTLC上消失したのでDMF100mlを加
え、5分間撹拌し、反応溶液を冷やすことなくセライト
を通してろ過し、DMF50ml、エタノール200m
lで洗浄した。ろ液を減圧留去して得られた結晶をアセ
トニトリルに懸濁し、ろ過し、アセトニトリルで洗うこ
とにより、若干の鉄分を含む33を9.8g(101
%)得た。融点236℃(分解)33 ,3.5g(15.4mmol)をアセトニトリル50
mlとジメチルアセトアミド(DMAC)25mlに溶
かし加熱還流した。その中に
ウム1.1g及び酢酸1.2mlを加え窒素気流下約2
0分加熱還流したのち100mlイソプロピルアルコー
ルを加え、加熱還流した。その中へ32,11.0g
(42.8mmol)を15分間かけて滴下した。約30分
後、32はTLC上消失したのでDMF100mlを加
え、5分間撹拌し、反応溶液を冷やすことなくセライト
を通してろ過し、DMF50ml、エタノール200m
lで洗浄した。ろ液を減圧留去して得られた結晶をアセ
トニトリルに懸濁し、ろ過し、アセトニトリルで洗うこ
とにより、若干の鉄分を含む33を9.8g(101
%)得た。融点236℃(分解)33 ,3.5g(15.4mmol)をアセトニトリル50
mlとジメチルアセトアミド(DMAC)25mlに溶
かし加熱還流した。その中に
【0069】
【化32】
【0070】6.09g(15.4mmol)をアセトニト
リル10mlに溶かし、10分間かけて滴下し、1時間
加熱還流した。反応液を氷水500mlに注ぎ中和して
酢酸エチル抽出した。抽出液を硫酸マグネシウム上乾燥
し、ろ過して減圧留去し、残渣をアセトニトリルから再
結晶することにより34を5.36g(59%)得た。
融点201〜205℃34 ,5.32g(9.08mmol)をTHF50mlと
ジクロロメタン100mlに溶かし撹拌した。その中に
N−クロロコハク酸イミド1.15g(8.63mmol)
を加え15分間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、
水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過
後、減圧濃縮すると結晶が析出する。これをエタノール
に溶かし活性炭処理し、さらにアセトニトリル−酢酸エ
チル(4:1)混合溶媒より再結することにより2.9
9g(53%)の35を得た。融点206〜209℃33 ,2.50g(11.0mmol)をアセトニトリル4
0mlとDMAC20mlに溶かし、加熱還流し、その
中に
リル10mlに溶かし、10分間かけて滴下し、1時間
加熱還流した。反応液を氷水500mlに注ぎ中和して
酢酸エチル抽出した。抽出液を硫酸マグネシウム上乾燥
し、ろ過して減圧留去し、残渣をアセトニトリルから再
結晶することにより34を5.36g(59%)得た。
融点201〜205℃34 ,5.32g(9.08mmol)をTHF50mlと
ジクロロメタン100mlに溶かし撹拌した。その中に
N−クロロコハク酸イミド1.15g(8.63mmol)
を加え15分間撹拌した。反応液を分液ロートに移し、
水で洗浄し、有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ過
後、減圧濃縮すると結晶が析出する。これをエタノール
に溶かし活性炭処理し、さらにアセトニトリル−酢酸エ
チル(4:1)混合溶媒より再結することにより2.9
9g(53%)の35を得た。融点206〜209℃33 ,2.50g(11.0mmol)をアセトニトリル4
0mlとDMAC20mlに溶かし、加熱還流し、その
中に
【0071】
【化33】
【0072】6.74g(12.1mmol)をアセトニト
リル25mlに溶かした溶液を30分かけて加える。加
え終わったのち1時間加熱還流し、反応液を水500m
lに注ぎ、酢酸エチルにより抽出、乾燥後、減圧濃縮し
てアセトニトリルを加えると36が結晶化する。5.5
8g(68%)。融点204〜214℃36 ,5.25g(7.02mmol)を70mlのTHF
に溶かし、10%Pd/C 0.5gを加え、オートク
レーブ中、50気圧の水素雰囲気下70℃で15時間撹
拌した。冷却後触媒をろ過して除き、THFを減圧留去
後、酢酸エチル−ヘキサン(4:1)の混合触媒100
mlより再結して37を3.86g(84%)得た。融
点182〜188℃37 ,3.65g(5.55mmol)をN−クロロコハク
酸イミド726mg(5.44mmol)で35合成の場合と
同じ方法でクロル化することにより38を2.44g
(64%、酢酸エチル−n−ヘキサンより再結)得た。
融点175〜180℃
リル25mlに溶かした溶液を30分かけて加える。加
え終わったのち1時間加熱還流し、反応液を水500m
lに注ぎ、酢酸エチルにより抽出、乾燥後、減圧濃縮し
てアセトニトリルを加えると36が結晶化する。5.5
8g(68%)。融点204〜214℃36 ,5.25g(7.02mmol)を70mlのTHF
に溶かし、10%Pd/C 0.5gを加え、オートク
レーブ中、50気圧の水素雰囲気下70℃で15時間撹
拌した。冷却後触媒をろ過して除き、THFを減圧留去
後、酢酸エチル−ヘキサン(4:1)の混合触媒100
mlより再結して37を3.86g(84%)得た。融
点182〜188℃37 ,3.65g(5.55mmol)をN−クロロコハク
酸イミド726mg(5.44mmol)で35合成の場合と
同じ方法でクロル化することにより38を2.44g
(64%、酢酸エチル−n−ヘキサンより再結)得た。
融点175〜180℃
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式 【化1】 (式中、R1及びR2は、水素原子又は置換もしくは非置換
の、アルキル又はアリール基を示す。)で表わされる化
合物を脱水環化縮合させ、一般式 【化2】 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味をもつ。)で表わさ
れるピラゾロ[1,5−b][1,2,4]トリアゾー
ル誘導体を製造し、前記誘導体の7−位に芳香族第一級
アミン現像主薬の酸化体とのカップリング反応により離
脱する基(以下、カップリング離脱基と略記する。)を
導入して合成される、一般式 【化3】 (式中、Xはカップリング離脱基を示し、R1及びR2は前
記と同じ意味をもつ。)で表わされるピラゾロ[1,5
−b][1,2,4]トリアゾール誘導体から成ること
を特徴とする写真用カプラーの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19490392A JPH0714941B2 (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | ピラゾロ[1,5−b[1,2,4トリアゾール系写真用カプラーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19490392A JPH0714941B2 (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | ピラゾロ[1,5−b[1,2,4トリアゾール系写真用カプラーの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59053443A Division JPS60197688A (ja) | 1984-03-22 | 1984-03-22 | ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05186470A true JPH05186470A (ja) | 1993-07-27 |
| JPH0714941B2 JPH0714941B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=16332256
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19490392A Expired - Fee Related JPH0714941B2 (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | ピラゾロ[1,5−b[1,2,4トリアゾール系写真用カプラーの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0714941B2 (ja) |
-
1992
- 1992-06-29 JP JP19490392A patent/JPH0714941B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0714941B2 (ja) | 1995-02-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |