JPS60215687A - ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾ−ル誘導体の製造方法 - Google Patents
ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾ−ル誘導体の製造方法Info
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Landscapes
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(発明の分野)
本発明は、新規なピラゾロ[1,5−bl[1,2,4
])リアゾール誘導体の製造方法に関する。
])リアゾール誘導体の製造方法に関する。
(発明の背景)
橋頭位に窒素原子を有し、この窒素原子とさらにもう1
つの窒素原子の孤立電子対を含めて10個のπ電子の相
互作用が可能な、全体で最低2個、最高6個の窒素原子
を有する一般式・・・;移りうる3つの二重結合を示す
。
つの窒素原子の孤立電子対を含めて10個のπ電子の相
互作用が可能な、全体で最低2個、最高6個の窒素原子
を有する一般式・・・;移りうる3つの二重結合を示す
。
・;窒素又は炭素原子を示す。
で表わされる5−5縮合多環系化合物は通例「アザペン
タレン」と呼ばれる。この化合物はこれまで構造化学的
な興味、生理活性物質としての興味及び写真化学におけ
るマゼンタカプラーとしての興味から主に研究がなされ
てきた(J、 Elgureo。
タレン」と呼ばれる。この化合物はこれまで構造化学的
な興味、生理活性物質としての興味及び写真化学におけ
るマゼンタカプラーとしての興味から主に研究がなされ
てきた(J、 Elgureo。
R,Jacquier、 S、 Migr+onac−
Mondon、 J、 Hetero−cyclic、
Chem、 、10 、 411 (1973)、
H,Koga。
Mondon、 J、 Hetero−cyclic、
Chem、 、10 、 411 (1973)、
H,Koga。
に、旧robe、 T、 Okamata、 Cher
t、 Pharm、 Bull−。
t、 Pharm、 Bull−。
22、482 (1974)、 J、 Ba1ley、
J、 C,S、 Perkin 12047(837
?) 、特公昭47−27411号、特開昭50−12
11586号など参照)。
J、 C,S、 Perkin 12047(837
?) 、特公昭47−27411号、特開昭50−12
11586号など参照)。
しかしながら、従来の7ザペンタレン化合物は、写真用
マゼンタカプラーとして、色相及び光・熱堅牢性などの
点でまだ満足すべきものとはいえなかった。
マゼンタカプラーとして、色相及び光・熱堅牢性などの
点でまだ満足すべきものとはいえなかった。
本発明者らは、上記の従来のアザペンタレン化合物の欠
点を克服した新規なカプラー化合物を開発するため鋭意
研究を重ねた結果、ピラゾールの示す)を導入すると、
該基がピラゾール環との間で酸化閉環反応を起し、新規
なアザペンタレン化合物であるピラゾロ[1,5−bl
[1,2゜4] トリアゾール化合物が調製され、該
化合物が写真用マゼンタカプラーとして極めて優れた特
性を示すことを見い出した。本発明はこの知見に基づき
なされたものである。
点を克服した新規なカプラー化合物を開発するため鋭意
研究を重ねた結果、ピラゾールの示す)を導入すると、
該基がピラゾール環との間で酸化閉環反応を起し、新規
なアザペンタレン化合物であるピラゾロ[1,5−bl
[1,2゜4] トリアゾール化合物が調製され、該
化合物が写真用マゼンタカプラーとして極めて優れた特
性を示すことを見い出した。本発明はこの知見に基づき
なされたものである。
(発明の構成)
すなわち本発明は、一般式
(式中、R1及びR2は水素原子又は置換もしくは非置
換の、アルキル又はアリール基を示す。) で表わされる化合物を酸化縮合反応させ、一般式 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味をもつ。) で表わされる化合物を得ることを特徴とするピラゾロ[
1,5−bl [1,2,4] トリアゾール誘導体の
製造方法を提供するものである。
換の、アルキル又はアリール基を示す。) で表わされる化合物を酸化縮合反応させ、一般式 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味をもつ。) で表わされる化合物を得ることを特徴とするピラゾロ[
1,5−bl [1,2,4] トリアゾール誘導体の
製造方法を提供するものである。
この方法において上記一般式(II )で表わされる化
合物は、好ましくは一般式 (式中、R2は前記と同じ意味をもつ。)で表わされる
アミノピラゾールと、一般式(式中、R1は前記と同じ
意味をもち、R3はアルキル基を示す。) で表わされ4イミドエステルと、を反応させて調製され
る。なおこの反応において副反応により一般式 (式中、R、R及びR3は前記と同じ意味を2 もつ6) で表わされる化合物が生成するが、該化合物に塩化アン
モニウムを反応させることにより、前記一般式(II
)で表わされる化合物に転換することができる。
合物は、好ましくは一般式 (式中、R2は前記と同じ意味をもつ。)で表わされる
アミノピラゾールと、一般式(式中、R1は前記と同じ
意味をもち、R3はアルキル基を示す。) で表わされ4イミドエステルと、を反応させて調製され
る。なおこの反応において副反応により一般式 (式中、R、R及びR3は前記と同じ意味を2 もつ6) で表わされる化合物が生成するが、該化合物に塩化アン
モニウムを反応させることにより、前記一般式(II
)で表わされる化合物に転換することができる。
また、上記方法によって得られる一般式(m)で表わさ
れる化合物にカップリング離脱基を導入すれば、一般式 (式中、R及びR2は前記と同じ意味をもち、Xはカッ
プリング離脱基を示す。) で表わされる化合物が得られる。
れる化合物にカップリング離脱基を導入すれば、一般式 (式中、R及びR2は前記と同じ意味をもち、Xはカッ
プリング離脱基を示す。) で表わされる化合物が得られる。
本発明において、前記一般式(II )、(m)、(I
V)、(V)、(Vl)及び(■)で表わされる化合物
中、R、R及びR3のアルキル基は、2 メチル、エチル、プロピル、ブチル基のような低級アル
キル基から炭素原子数22までの高級アルキル基、例え
ば、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、デシル基、ウンデシル基、トリデシル基、オクタデシ
ル基などを意味し、直鎖でも分岐鎖でもよい。
V)、(V)、(Vl)及び(■)で表わされる化合物
中、R、R及びR3のアルキル基は、2 メチル、エチル、プロピル、ブチル基のような低級アル
キル基から炭素原子数22までの高級アルキル基、例え
ば、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基
、デシル基、ウンデシル基、トリデシル基、オクタデシ
ル基などを意味し、直鎖でも分岐鎖でもよい。
またR1、R2のアリール基としてはフェニル基、ナフ
チル基などがあげられ、置換アルキル基としては、2−
クロルエチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン
置換アルキル基、2−エトキシトリデシル基などのアル
コキシ置換アルキル基、2−アセトアミドエチル基など
アシルアミド置換アルキル基、2−メタンスルホンアミ
ドエチル基などスルホンアミド置換アルキル基、3−(
2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル基、3−
(4−(2−[4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ] ドデカンアミド)フェニル)プロ
ピル基、ベンジル基、フェネチル基など置換もしくは無
置換のアリール基で置換されたアルキル基が、置換アリ
ール基としてはハロゲノフェニル基、ニトロフェニル基
、シアノフェニル基、アルコキシフェニル基などがあげ
られる。またこれらのR及びR2は反応に不活性な基、
例えばアルコキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子などを
置換基として有していてもよい。
チル基などがあげられ、置換アルキル基としては、2−
クロルエチル基、トリフルオロメチル基などのハロゲン
置換アルキル基、2−エトキシトリデシル基などのアル
コキシ置換アルキル基、2−アセトアミドエチル基など
アシルアミド置換アルキル基、2−メタンスルホンアミ
ドエチル基などスルホンアミド置換アルキル基、3−(
2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル基、3−
(4−(2−[4−(4−ヒドロキシフェニルスルホ
ニル)フェノキシ] ドデカンアミド)フェニル)プロ
ピル基、ベンジル基、フェネチル基など置換もしくは無
置換のアリール基で置換されたアルキル基が、置換アリ
ール基としてはハロゲノフェニル基、ニトロフェニル基
、シアノフェニル基、アルコキシフェニル基などがあげ
られる。またこれらのR及びR2は反応に不活性な基、
例えばアルコキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子などを
置換基として有していてもよい。
なお、本発明方法により得られるピラゾロ[1,5−b
] [1,2,4] トリアゾール誘導体であって、R
1又はR2が上記のようにさら番と置換基を有する化合
物は、後記反応行程式に従って直接得ることができるが
、あるいはこの行程式でまず基本骨格であるピラゾロ[
1,5−b][1,2,4])リアゾール環を形成して
から、後続反応によって所望の置換基へと誘導してもよ
い。
] [1,2,4] トリアゾール誘導体であって、R
1又はR2が上記のようにさら番と置換基を有する化合
物は、後記反応行程式に従って直接得ることができるが
、あるいはこの行程式でまず基本骨格であるピラゾロ[
1,5−b][1,2,4])リアゾール環を形成して
から、後続反応によって所望の置換基へと誘導してもよ
い。
本発明方法は下記の反応行程式で表わすことができる。
なお、この反応行程式は前記一般式(V)で表わされる
イミドエステルを塩酸塩とし0 (■) @ (II (至) 上記反応行程式に従い本発明の実施態様を説明する。な
お、中間体(II )には下記の互変異性があると考え
られるが、 (II) ωハ (IIA)よりも(II )の構造が主であると考えら
れるので、以下、(II )と(IIA)の混合体を単
に(II )の構造で表わすことにする。
イミドエステルを塩酸塩とし0 (■) @ (II (至) 上記反応行程式に従い本発明の実施態様を説明する。な
お、中間体(II )には下記の互変異性があると考え
られるが、 (II) ωハ (IIA)よりも(II )の構造が主であると考えら
れるので、以下、(II )と(IIA)の混合体を単
に(II )の構造で表わすことにする。
また、イミドエステルは遊離状態で使用するよりも、少
なくとも部分的に造塩したイミドエステルのプロトン酸
塩を使用することが好ましい。造塩に使うプロトン酸と
しては、鉱酸および有機の酸を広く使用することができ
る。鉱酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リ
ン酸などが使用でき、有機酸としてはP−)ルエンスル
ホン酸、2.”4,6−)リメチルフェニルスルホン酸
、酢酸、モノクロル酢酸などを挙げることができる。こ
のうち好ましくはイミドエステルの塩酸塩を使用するこ
とができ、以下の説明では塩酸塩を代表例として使用す
るが、これに限定されるものではない。造塩比率は数%
の触媒量でもよいが、反応収率やイミドエステルの取扱
い易さの点から等モルあるいは化学量論量であることが
好ましい。
なくとも部分的に造塩したイミドエステルのプロトン酸
塩を使用することが好ましい。造塩に使うプロトン酸と
しては、鉱酸および有機の酸を広く使用することができ
る。鉱酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リ
ン酸などが使用でき、有機酸としてはP−)ルエンスル
ホン酸、2.”4,6−)リメチルフェニルスルホン酸
、酢酸、モノクロル酢酸などを挙げることができる。こ
のうち好ましくはイミドエステルの塩酸塩を使用するこ
とができ、以下の説明では塩酸塩を代表例として使用す
るが、これに限定されるものではない。造塩比率は数%
の触媒量でもよいが、反応収率やイミドエステルの取扱
い易さの点から等モルあるいは化学量論量であることが
好ましい。
アミノピラゾール(IV)とイミドエステル(V)の塩
酸塩との反応は好ましくは溶媒の使用下に、0〜100
℃の温度、好ましくは20〜80°Cで、反応時間1〜
10時間の範囲で行なう。
酸塩との反応は好ましくは溶媒の使用下に、0〜100
℃の温度、好ましくは20〜80°Cで、反応時間1〜
10時間の範囲で行なう。
反応温度がO′C未満では反応が遅い。lOO′Cを越
えても大きな問題はないが収率が低下することがある。
えても大きな問題はないが収率が低下することがある。
反応溶媒としては、イミドエステル塩酸塩か1溶な溶媒
、メタノール、エタノール、イソプロパツールなどのア
ルコール系溶媒が好ましい。
、メタノール、エタノール、イソプロパツールなどのア
ルコール系溶媒が好ましい。
アミノピラゾール(IV)とイミドエステル(V)との
モル比はl:l〜1:2の範囲が好、ましい。
モル比はl:l〜1:2の範囲が好、ましい。
アミノピラゾール(IV)の具体例としてt±、3−ア
ミノピラゾール、5−アミ7−3−メチルピランール、
5−アミノ−3−フェニルビラソ゛−ル、5−アミノ−
3−[3’−(p−ニトロフェニル)プロピル]ピラゾ
ールなどがあげられる。
ミノピラゾール、5−アミ7−3−メチルピランール、
5−アミノ−3−フェニルビラソ゛−ル、5−アミノ−
3−[3’−(p−ニトロフェニル)プロピル]ピラゾ
ールなどがあげられる。
なおアミノピラゾール(IV)は市販のものを利用でき
るが、必要に応じて酸/\ロゲン化物とシアン酢酸ナト
リウムのエノラートとの反応により得たオキソプロピオ
ノニトリル誘導体とヒドラジンとの反応により合成する
ことができる。また、R2かメチル基の場合はアセトこ
トリルとナトリウムから容易に合成できる3−アミノク
ロトノニトリルとヒドラジンとの反応により(IV)(
R=−CH3)を合成できる(J、 Heterocy
cl。
るが、必要に応じて酸/\ロゲン化物とシアン酢酸ナト
リウムのエノラートとの反応により得たオキソプロピオ
ノニトリル誘導体とヒドラジンとの反応により合成する
ことができる。また、R2かメチル基の場合はアセトこ
トリルとナトリウムから容易に合成できる3−アミノク
ロトノニトリルとヒドラジンとの反応により(IV)(
R=−CH3)を合成できる(J、 Heterocy
cl。
0hem、 、11巻、423頁、 1!374年)。
なおアミノピラシール(IV)とイミドエステル(V)
の塩酸塩との反応において、低温で反応させた場合一般
式(VDのイミドエステル化合物の比率が多くなり、高
温で長時間反応させた場合(II )の比率が多くなる
。なお副生じた一般式(VI)のイミドエステル化合物
は、過剰量の塩化アンモニウムを加えて加熱還流するこ
とにより容易に、目的の、一般式(II )で表わされ
る化合物とすることができる。
の塩酸塩との反応において、低温で反応させた場合一般
式(VDのイミドエステル化合物の比率が多くなり、高
温で長時間反応させた場合(II )の比率が多くなる
。なお副生じた一般式(VI)のイミドエステル化合物
は、過剰量の塩化アンモニウムを加えて加熱還流するこ
とにより容易に、目的の、一般式(II )で表わされ
る化合物とすることができる。
次に、一般式(rx )の化合物の酸化縮合による一般
式(III)のピラゾロ[1,5−b] [1゜2.4
] トリアゾール化合物の合成は、反応温度60〜15
0℃で、反応時間0.1〜5時間の範囲で行なわれる。
式(III)のピラゾロ[1,5−b] [1゜2.4
] トリアゾール化合物の合成は、反応温度60〜15
0℃で、反応時間0.1〜5時間の範囲で行なわれる。
反応温度が上記範囲の下限未満では、例えば酸化剤の四
酢酸鉛との錯体を生成するのみで、環化生成物を与えず
、上限を越えると、生成物の分解などが起こり収率を下
げる場合がある。
酢酸鉛との錯体を生成するのみで、環化生成物を与えず
、上限を越えると、生成物の分解などが起こり収率を下
げる場合がある。
酸化剤としては、四酢酸鉛、N−ハロゲノコハク酸イミ
ド、臭素などを1〜4当量の範囲の量を用いるが好まし
くは四酢酸鉛1当量を使用する。
ド、臭素などを1〜4当量の範囲の量を用いるが好まし
くは四酢酸鉛1当量を使用する。
反応溶媒としては、酢酸、クロロホルム、トリクミロエ
タン、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが用いられ
る。
タン、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが用いられ
る。
上記反応行程で、得られる所望化合物は何ら単離するこ
となく引き続く反応に供してもよいが、通常適当な単離
手段により単離精製される。このような手段としては例
えば溶媒抽出法、再結晶法、ろ適法、力?ムクロマトグ
ラフィー、薄層クロマトグラフィー等を例示できる。
となく引き続く反応に供してもよいが、通常適当な単離
手段により単離精製される。このような手段としては例
えば溶媒抽出法、再結晶法、ろ適法、力?ムクロマトグ
ラフィー、薄層クロマトグラフィー等を例示できる。
本発明方法において、一般式(m)で表ゎ、されるピラ
ゾロ[1,5−bl [1,2,4] )リアゾール化
合物をさらに処理して7−位に写真用カプラーとして周
知のカップリング離脱基を導入してもよい。このような
ことは、ハロゲン化銀によって酸化された芳香族−級ア
ミンの酸化生成物とのカップリング反応速度の調整及び
使用銀量の削減のため写真用カプラー製造において適宜
に行われている手法であり、それ自体公知のことである
。
ゾロ[1,5−bl [1,2,4] )リアゾール化
合物をさらに処理して7−位に写真用カプラーとして周
知のカップリング離脱基を導入してもよい。このような
ことは、ハロゲン化銀によって酸化された芳香族−級ア
ミンの酸化生成物とのカップリング反応速度の調整及び
使用銀量の削減のため写真用カプラー製造において適宜
に行われている手法であり、それ自体公知のことである
。
以下にカップリング離脱基の一般的な導入法について説
明する。
明する。
(1)酸素原子を連結する方法
本発明の方法により合成した4当量母核カプラー、ピラ
ゾロ[1,5−bl)リアゾール型カプラーと、芳香族
−級アミンの酸化生成物とを反応させて色素を形成させ
、それを酸触媒の存在下で加水分解してケトン体とし、
このケトン体をPd−炭素を触媒とする水素添加、Zn
−酢酸による還元又は水素化ホウ素ナトリウムによる還
元処理して、7−ヒトロキシーピラゾロ[1,5−bl
トリアゾールを合成することができる。これを各種ハ
ライドと反応させて目的とする酸素原子を連結したカプ
ラーが合成できる。(米国特許3.928,831号、
特開昭57−70817号参照)(2)窒素原子を連結
する方法 窒素原子を連結する方法には大きく分けて3つの方法が
ある。第1の方法は、米国特許3.41J3!Il1号
に記載されているように適当なニトロソ化剤でカップリ
ング活性位をニトロン化し、それを適当な方法で還元(
例えば、Pd−炭素等を触媒とする水素添加法、塩化第
一スズ等を使用した化学還元法)し、7−アミノ−ピラ
ゾロ[1,5−bl トリアゾールとして各種ハライ、
ドと反応させ、主としてアミド化合物は合成できる。
ゾロ[1,5−bl)リアゾール型カプラーと、芳香族
−級アミンの酸化生成物とを反応させて色素を形成させ
、それを酸触媒の存在下で加水分解してケトン体とし、
このケトン体をPd−炭素を触媒とする水素添加、Zn
−酢酸による還元又は水素化ホウ素ナトリウムによる還
元処理して、7−ヒトロキシーピラゾロ[1,5−bl
トリアゾールを合成することができる。これを各種ハ
ライドと反応させて目的とする酸素原子を連結したカプ
ラーが合成できる。(米国特許3.928,831号、
特開昭57−70817号参照)(2)窒素原子を連結
する方法 窒素原子を連結する方法には大きく分けて3つの方法が
ある。第1の方法は、米国特許3.41J3!Il1号
に記載されているように適当なニトロソ化剤でカップリ
ング活性位をニトロン化し、それを適当な方法で還元(
例えば、Pd−炭素等を触媒とする水素添加法、塩化第
一スズ等を使用した化学還元法)し、7−アミノ−ピラ
ゾロ[1,5−bl トリアゾールとして各種ハライ、
ドと反応させ、主としてアミド化合物は合成できる。
第2の方法は、米薗特許3,725,087号に記載の
方法、すなわち、適当なハロゲン化剤、例えば、fn化
スルフリル、塩素ガス、臭素、N−クロロコハク酸イミ
ド、N−ブロモコハク酸イミド等によって7−位をハロ
ゲン化し、その後、特公昭5B−45135号に記載の
方法で窒素へテロ環を適当な塩基触媒、トリエチルアミ
ン、水酸化ナトリウム、ザアザビシクロ[2、2、2]
オクタン、無水炭酸カリウム等の存在下で置換させ、7
−位に窒素原子で連結したカプラーを合成することがで
きる。酸素原子で連結した化合物のうち、7−位にフェ
ノキシ基を有する化合物もこの方法で合成することがで
きる。
方法、すなわち、適当なハロゲン化剤、例えば、fn化
スルフリル、塩素ガス、臭素、N−クロロコハク酸イミ
ド、N−ブロモコハク酸イミド等によって7−位をハロ
ゲン化し、その後、特公昭5B−45135号に記載の
方法で窒素へテロ環を適当な塩基触媒、トリエチルアミ
ン、水酸化ナトリウム、ザアザビシクロ[2、2、2]
オクタン、無水炭酸カリウム等の存在下で置換させ、7
−位に窒素原子で連結したカプラーを合成することがで
きる。酸素原子で連結した化合物のうち、7−位にフェ
ノキシ基を有する化合物もこの方法で合成することがで
きる。
第3の方法は、6πまたはlOπ電子系芳香族窒素へテ
ロ環を7−位に導入する場合に有効な方法で、特公昭5
7−38577号に記載されているように前記第2の方
法で合成した7−ハロゲン体に対して2倍モル以上の6
πまたはlOπ電子系芳香族窒素へテロ環を添加し50
〜150℃で無溶媒加熱するか、またはジメチルホルム
アルデヒド、スルホランまたはへキサメチルホスホトリ
アミド等非プロトン性極性溶媒中、30〜150℃で加
熱することによって7−位に窒素原子で連結した芳香族
窒素へテロ環基を導入することができる。
ロ環を7−位に導入する場合に有効な方法で、特公昭5
7−38577号に記載されているように前記第2の方
法で合成した7−ハロゲン体に対して2倍モル以上の6
πまたはlOπ電子系芳香族窒素へテロ環を添加し50
〜150℃で無溶媒加熱するか、またはジメチルホルム
アルデヒド、スルホランまたはへキサメチルホスホトリ
アミド等非プロトン性極性溶媒中、30〜150℃で加
熱することによって7−位に窒素原子で連結した芳香族
窒素へテロ環基を導入することができる。
(3)イオウ原子を連結する方法
芳香族メルカプト又はヘテロ環メルカプト基が7−位に
置換したカプラーは米国特許3.227.554号に記
載の方法、すなわちアリールメルカプタン、ヘテロ環メ
ルカプタン及びその対応するジスルフィドをハロゲン化
炭化水素系溶媒に溶解し、塩素又は塩化スルフリルでス
ルフェニルクロリドとし非プロトン性溶媒中に溶解した
4当量ピラゾc+[l、5−bl)リアゾール系カプラ
ーに添加し合成することが出来、ゐ。アルキルメルカプ
ト基を7−位に導入する方法としては米国特許4.28
4,723号記載の方法、すなわちカプラーのカップリ
ング活性位置にメルカプト基を導入し;このメルカプト
基にハライドを作用させる方法とS−(アルキルチオ)
イソチオ尿素塩酸塩(又は臭素塩酸)によって一工程で
合成する方法とが有効である。
置換したカプラーは米国特許3.227.554号に記
載の方法、すなわちアリールメルカプタン、ヘテロ環メ
ルカプタン及びその対応するジスルフィドをハロゲン化
炭化水素系溶媒に溶解し、塩素又は塩化スルフリルでス
ルフェニルクロリドとし非プロトン性溶媒中に溶解した
4当量ピラゾc+[l、5−bl)リアゾール系カプラ
ーに添加し合成することが出来、ゐ。アルキルメルカプ
ト基を7−位に導入する方法としては米国特許4.28
4,723号記載の方法、すなわちカプラーのカップリ
ング活性位置にメルカプト基を導入し;このメルカプト
基にハライドを作用させる方法とS−(アルキルチオ)
イソチオ尿素塩酸塩(又は臭素塩酸)によって一工程で
合成する方法とが有効である。
また、本発明方法においては、一般式(m)で表わされ
るピラゾロ[1,5−b] [1,2゜4] トリアゾ
ール化合物の2−位及び6−位の置換基R及びR2をそ
れ自体公知の方法、例えば上記カップリング離脱基の導
入方法に準じ、適宜処理して、写真化学的に許容される
所望の基に変換してもよい。
るピラゾロ[1,5−b] [1,2゜4] トリアゾ
ール化合物の2−位及び6−位の置換基R及びR2をそ
れ自体公知の方法、例えば上記カップリング離脱基の導
入方法に準じ、適宜処理して、写真化学的に許容される
所望の基に変換してもよい。
こうして本発明方法を利用して誘導されるピラゾロ;[
1,5−b] [1,2,4] )リアゾール誘導体は
次の一般式で表わすことができる。
1,5−b] [1,2,4] )リアゾール誘導体は
次の一般式で表わすことができる。
へ
但し、式中、R4,R5は水素原子又は置換基を表わし
、Xは水素原子又はカップリング離脱基を表わす。好ま
しくは、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、脂肪族
基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アニリノ基−、
ウレイド基、スルフ7モイルアミノ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、ス
ルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、
スルホニル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキ
シ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリル
オキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド
基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基を表わし、Yは
水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基又は酸素原子、
窒素原子、炭素原子で、もしくはイオウ原子を介してカ
ップリング位の炭素と結合する基でカップリング離脱す
る基を表わし、R4、R5又はYが2価の基となりビス
体を形成してもよく、 また一般式(Vj[)で表わされる部分がビニル単量体
に含まれるときは、R又はR5のいずれかは単なる結合
又は連結基をあられし、これを介して一般式(Vl)で
表わされる部分はビニル基に結合する。
、Xは水素原子又はカップリング離脱基を表わす。好ま
しくは、R4,R5は水素原子、ハロゲン原子、脂肪族
基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基
、アリールオキシ基、アシルアミノ基、アニリノ基−、
ウレイド基、スルフ7モイルアミノ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、ス
ルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、
スルホニル基、アルコキシカルボニル基、ヘテロ環オキ
シ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シリル
オキシ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、イミド
基、ヘテロ環チオ基、スルフィニル基、ホスホニル基、
アリールオキシカルボニル基、アシル基を表わし、Yは
水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基又は酸素原子、
窒素原子、炭素原子で、もしくはイオウ原子を介してカ
ップリング位の炭素と結合する基でカップリング離脱す
る基を表わし、R4、R5又はYが2価の基となりビス
体を形成してもよく、 また一般式(Vj[)で表わされる部分がビニル単量体
に含まれるときは、R又はR5のいずれかは単なる結合
又は連結基をあられし、これを介して一般式(Vl)で
表わされる部分はビニル基に結合する。
さらに詳しくは、R4,R5は各々水素原子、ハロゲン
原子(例えば、塩素原子、臭素原子、等)アルキル基(
炭素数1〜32の直鎖、分岐鎖アルキル基、アラルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、
シクロアルケニル基、で、これらは酸素原子、窒素原子
、イオウ原子、カルボニル基で連結する置換基、ヒドロ
キシ基、アミン基、ニトロ基、カルボキシ基、シアノ基
、又はハロゲン原子で置換していてもよく、例えば、メ
チル基、プロピル基、t−ブチル基、トリデシル基、2
−メタンスルホニルエチル基、3−(3−ペンタデシル
フェノキシ)プロピル基、3− (4−(2−[4−(
4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ] ド
デカンアミノ)フェニル)プロピル基、2−エトキシト
リデシル基、トリフルオロメチル基、シクロペンチル基
、3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル
基、等)アリール基(例えば、フェニル基、4−t−ブ
チルフェニル基、2,4−ジーを一アミルフェニル基、
4−テトラデカンアミドフェニル基、等)、ヘテロ環
基(例えば、2−フリル基、?−チェニル基、2−ピリ
ミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、等)、シアン基
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、2−
メトキシエトキシ基、2−ドデシルエトキシ基、2−メ
タンスルホニルエトキシ基、等)、アリールオキシ基(
例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−
t−ブチルフェノキシ基、等)、アシルアミノ基(例え
ば、アセトアミド基、ベンズアミド基、テトラデカンア
ミド基、α−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブ
チルアミド基、γ−(3−t、−ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)ブチルアミド基、α−(4−(4−ヒド
ロキシフェニルスルホニル)フェノキシ・)デカンアミ
ド基、等)、アこリノ基(例えばフェニルアミノ基、2
−クロロアニリノ基、?−クロロー5−テトラデカンア
ミノアニリノ基、2−クロロ−5−ドデシルオキシカル
ボニルアニリノ&、N−アセチルアニリノ基、2−クロ
ロ−5−(α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ノキシ)ドデカンアミド)アニリノ基、等)、ウレイド
基(例えば、フェニルウレイド基、メチルウレイド基、
N、N−ジブチルウレイド基、等)、スルファモイルア
ミ7基(例えば、N、N−ジプロピルスルファモイルア
ミノ基、N−メチル−N−デシルスルファモイルアミノ
基、等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、オ
クチルチオ基、テトラデシルチオ基、2−フェノキシエ
チルチオ基、3−フェノキシプロピルチオ基、3−(4
−t−ブチルフェノキシ)プロピルチオ基、等)、アリ
ールチオ基(例えば、フェニルチオ基、2−ブトキシ−
5−t−才クチルフェニルチオ基、3−ペンタデシルフ
ェニルチオ基、2−カルボキシフェニルチオ基、4−テ
トラデカンアミドフェニルチオ基、等)、アルコキシカ
ルボニルアミン基(例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、テトラデシルオキシカルボニルアミノ基、等)、ス
ルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ヘ
キサデカンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド
基、P−)ルエンスルホンアミド基、オクタデカンスル
ホンアミド基、2−メチルオキシ−5−t−ブチルベン
ゼンスルホンアミド基、等)、カルバモイル基(例えば
、N−エチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカルバ
モイル基、N−(2−ドデシルオキシエチル)カルバモ
イル基、N−メチル−N−ドデシルカルバモイル基、N
−(3−(2,4−ジーt−7ミルフエノキシ)プロヒ
ル)カルバモイル基、等)、スルファモイル基(例えば
、N−エチルスルファモイル、1.N、N〜ジプロピル
スルファモイル基、N−(2−ドデシルオキシエチル)
スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシルスルファ
モイル基、N、N−ジエチルスルファモイル基、等)、
スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、オクタン
スルホニル基、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホ
ニル基、等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メト
キシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル
基、等)、ペテロ環オキシ基(例えば、l−フェニルテ
トラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニル
オキシ基、等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ
基、等)、カルバモイルオキシ基(例えば、N−メチル
カルバモイルオキシ基、N−フェニルカルバモイルオキ
シ基、等)、シリルオキシ基(例えば、トリメチルシリ
ルオキシ基、ジブチルメチルシリルオキシ基、等)、ア
リールオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシ
カルボニルアミノ基、等)、イミド基(例えば、N−ス
クシンイミド基、N−フタルイミFM、3−オクタデセ
ニルスルシンイミド基、等)、ヘテロ環チオ基(例えば
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2,4−ジ−フェノキ
シ−1゜3.5−トリアゾール−6−チオ基、2−ピリ
ジルチオ基、等)、スルフィニル基(例えば、ドデカン
スルフィニル基、3−ペンタデシルフェニルスルフィニ
ル基、3−フェノキシプロピルスルフィニル基、等)、
ホスホニル基(例えば、フェノキシホスホニル基、オク
チルオキシホスホニル基、フェニルホスホニル基、等)
、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカ
ルボニル基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、3
−フェニルプロパノイル基、ベンゾイル基、4−ドデシ
ルオキシベンゾイル基、等)を表わし、Xは水素原子、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子等)、カルボキシ基、又は酸素原子で連結する基(例
えば、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイ
ルオキシ基、?、4−ジクロロベンゾイルオキシ基、エ
トキシオキザロイルオキシ基、ピルビニルオキシ基、シ
ンナモイルオキシ基、フェノキシ基、4−シアノフェノ
キジル基、4−メタンスルホンアミドフェノキシ基、4
−ンタンスルホニルフェノキシ基、α−ナフトキシ基、
3−ペンタデシルフ゛エノキシ基、ベンジルオキシカル
ボニルオキシ基、エトキシ基、2−シアノエトキシ基、
ベンジルオキシ基、2−フェネチルオキシ基、2−フェ
ノキシエトキシ基、5−フェニルテトラゾリルオキシ基
、2−ベンゾチアゾリルオキシ基、等)、窒素原子で連
結する基(例えば、ベンゼンスルホンアミド基、N−エ
チルトルエンスルホンアミド基、ヘプタフルオロブタン
アミド基、2,3,4゜5.6−ベンタフルオロベンズ
アミド基、オクタンスルホンアミド基、p−シアノフェ
ニルウレイド基、N、N−ジエチルスルファモノイルア
ミ7基、 l−ピペリジル基、5.5−ジメチル−2,
4−ジオキソ−3−オキサゾリジニル基、l−ベンジル
−エトキシ−3−ヒタントイニル基、2N−1,1−ジ
オキソ−3(2)1)−オキソ−1,2−ベンゾインチ
アゾリル基、2−オキソ−1,2−ジヒドロ−1−ピリ
ジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、3.5−ジ
エチル−1゜2.4−トリアゾール−1−イル、5又は
6−プロモベンゾトリアゾールー1−イル、5−メチル
−1,2,3,4−)リアゾール−1−イル基、ベンズ
イミダゾリル基、4−メトキシフェニルアゾ基、4−ピ
バロイルアミノフェニルアゾ基。2−ヒドロキシ−4−
プロパノイルフェニルアゾ基、等)、イオウ原子で連結
する基(例えば、フェニルチオ基、2−カルボキシフェ
ニルチオ基、2−メトキシ−5−を−オクチルフェニル
チオ基、4−メタンスルホニルフェニルチオ基、4−オ
クタンスルホンアミドフェニルチオ基、ベンジルチオ基
、2−シアノエチルチオ基、l−エトキシカルボニルト
リデシルチオ基、5−フェニル−2,3,4,5−テト
ラゾリルチオ基、2−ベンゾチアゾリル基、チオシアノ
基、N、N−ジエチルチオカルボニルチオ基、ドデシル
オキシチオカルボニルチオ基、等)、炭素原子で連結す
る基(例えば、トリフェニルメチル基、ヒドロキシメチ
ル基、N−モルホリノメチル基、 八 但しR,、R5は水素原子、アルキル基、アリール基、
ヘテロ環基を表わし、R4,R5はすでに定義したと同
じ意味を有する、等)、を表わす。
原子(例えば、塩素原子、臭素原子、等)アルキル基(
炭素数1〜32の直鎖、分岐鎖アルキル基、アラルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、
シクロアルケニル基、で、これらは酸素原子、窒素原子
、イオウ原子、カルボニル基で連結する置換基、ヒドロ
キシ基、アミン基、ニトロ基、カルボキシ基、シアノ基
、又はハロゲン原子で置換していてもよく、例えば、メ
チル基、プロピル基、t−ブチル基、トリデシル基、2
−メタンスルホニルエチル基、3−(3−ペンタデシル
フェノキシ)プロピル基、3− (4−(2−[4−(
4−ヒドロキシフェニルスルホニル)フェノキシ] ド
デカンアミノ)フェニル)プロピル基、2−エトキシト
リデシル基、トリフルオロメチル基、シクロペンチル基
、3−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)プロピル
基、等)アリール基(例えば、フェニル基、4−t−ブ
チルフェニル基、2,4−ジーを一アミルフェニル基、
4−テトラデカンアミドフェニル基、等)、ヘテロ環
基(例えば、2−フリル基、?−チェニル基、2−ピリ
ミジニル基、2−ベンゾチアゾリル基、等)、シアン基
、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、2−
メトキシエトキシ基、2−ドデシルエトキシ基、2−メ
タンスルホニルエトキシ基、等)、アリールオキシ基(
例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−
t−ブチルフェノキシ基、等)、アシルアミノ基(例え
ば、アセトアミド基、ベンズアミド基、テトラデカンア
ミド基、α−(2,4−ジ−t−アミルフェノキシ)ブ
チルアミド基、γ−(3−t、−ブチル−4−ヒドロキ
シフェノキシ)ブチルアミド基、α−(4−(4−ヒド
ロキシフェニルスルホニル)フェノキシ・)デカンアミ
ド基、等)、アこリノ基(例えばフェニルアミノ基、2
−クロロアニリノ基、?−クロロー5−テトラデカンア
ミノアニリノ基、2−クロロ−5−ドデシルオキシカル
ボニルアニリノ&、N−アセチルアニリノ基、2−クロ
ロ−5−(α−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ノキシ)ドデカンアミド)アニリノ基、等)、ウレイド
基(例えば、フェニルウレイド基、メチルウレイド基、
N、N−ジブチルウレイド基、等)、スルファモイルア
ミ7基(例えば、N、N−ジプロピルスルファモイルア
ミノ基、N−メチル−N−デシルスルファモイルアミノ
基、等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、オ
クチルチオ基、テトラデシルチオ基、2−フェノキシエ
チルチオ基、3−フェノキシプロピルチオ基、3−(4
−t−ブチルフェノキシ)プロピルチオ基、等)、アリ
ールチオ基(例えば、フェニルチオ基、2−ブトキシ−
5−t−才クチルフェニルチオ基、3−ペンタデシルフ
ェニルチオ基、2−カルボキシフェニルチオ基、4−テ
トラデカンアミドフェニルチオ基、等)、アルコキシカ
ルボニルアミン基(例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、テトラデシルオキシカルボニルアミノ基、等)、ス
ルホンアミド基(例えば、メタンスルホンアミド基、ヘ
キサデカンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド
基、P−)ルエンスルホンアミド基、オクタデカンスル
ホンアミド基、2−メチルオキシ−5−t−ブチルベン
ゼンスルホンアミド基、等)、カルバモイル基(例えば
、N−エチルカルバモイル基、N、N−ジブチルカルバ
モイル基、N−(2−ドデシルオキシエチル)カルバモ
イル基、N−メチル−N−ドデシルカルバモイル基、N
−(3−(2,4−ジーt−7ミルフエノキシ)プロヒ
ル)カルバモイル基、等)、スルファモイル基(例えば
、N−エチルスルファモイル、1.N、N〜ジプロピル
スルファモイル基、N−(2−ドデシルオキシエチル)
スルファモイル基、N−エチル−N−ドデシルスルファ
モイル基、N、N−ジエチルスルファモイル基、等)、
スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、オクタン
スルホニル基、ベンゼンスルホニル基、トルエンスルホ
ニル基、等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メト
キシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、ドデシ
ルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル
基、等)、ペテロ環オキシ基(例えば、l−フェニルテ
トラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニル
オキシ基、等)、アシルオキシ基(例えば、アセトキシ
基、等)、カルバモイルオキシ基(例えば、N−メチル
カルバモイルオキシ基、N−フェニルカルバモイルオキ
シ基、等)、シリルオキシ基(例えば、トリメチルシリ
ルオキシ基、ジブチルメチルシリルオキシ基、等)、ア
リールオキシカルボニルアミノ基(例えば、フェノキシ
カルボニルアミノ基、等)、イミド基(例えば、N−ス
クシンイミド基、N−フタルイミFM、3−オクタデセ
ニルスルシンイミド基、等)、ヘテロ環チオ基(例えば
、2−ベンゾチアゾリルチオ基、2,4−ジ−フェノキ
シ−1゜3.5−トリアゾール−6−チオ基、2−ピリ
ジルチオ基、等)、スルフィニル基(例えば、ドデカン
スルフィニル基、3−ペンタデシルフェニルスルフィニ
ル基、3−フェノキシプロピルスルフィニル基、等)、
ホスホニル基(例えば、フェノキシホスホニル基、オク
チルオキシホスホニル基、フェニルホスホニル基、等)
、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカ
ルボニル基、等)、アシル基(例えば、アセチル基、3
−フェニルプロパノイル基、ベンゾイル基、4−ドデシ
ルオキシベンゾイル基、等)を表わし、Xは水素原子、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子等)、カルボキシ基、又は酸素原子で連結する基(例
えば、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ベンゾイ
ルオキシ基、?、4−ジクロロベンゾイルオキシ基、エ
トキシオキザロイルオキシ基、ピルビニルオキシ基、シ
ンナモイルオキシ基、フェノキシ基、4−シアノフェノ
キジル基、4−メタンスルホンアミドフェノキシ基、4
−ンタンスルホニルフェノキシ基、α−ナフトキシ基、
3−ペンタデシルフ゛エノキシ基、ベンジルオキシカル
ボニルオキシ基、エトキシ基、2−シアノエトキシ基、
ベンジルオキシ基、2−フェネチルオキシ基、2−フェ
ノキシエトキシ基、5−フェニルテトラゾリルオキシ基
、2−ベンゾチアゾリルオキシ基、等)、窒素原子で連
結する基(例えば、ベンゼンスルホンアミド基、N−エ
チルトルエンスルホンアミド基、ヘプタフルオロブタン
アミド基、2,3,4゜5.6−ベンタフルオロベンズ
アミド基、オクタンスルホンアミド基、p−シアノフェ
ニルウレイド基、N、N−ジエチルスルファモノイルア
ミ7基、 l−ピペリジル基、5.5−ジメチル−2,
4−ジオキソ−3−オキサゾリジニル基、l−ベンジル
−エトキシ−3−ヒタントイニル基、2N−1,1−ジ
オキソ−3(2)1)−オキソ−1,2−ベンゾインチ
アゾリル基、2−オキソ−1,2−ジヒドロ−1−ピリ
ジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、3.5−ジ
エチル−1゜2.4−トリアゾール−1−イル、5又は
6−プロモベンゾトリアゾールー1−イル、5−メチル
−1,2,3,4−)リアゾール−1−イル基、ベンズ
イミダゾリル基、4−メトキシフェニルアゾ基、4−ピ
バロイルアミノフェニルアゾ基。2−ヒドロキシ−4−
プロパノイルフェニルアゾ基、等)、イオウ原子で連結
する基(例えば、フェニルチオ基、2−カルボキシフェ
ニルチオ基、2−メトキシ−5−を−オクチルフェニル
チオ基、4−メタンスルホニルフェニルチオ基、4−オ
クタンスルホンアミドフェニルチオ基、ベンジルチオ基
、2−シアノエチルチオ基、l−エトキシカルボニルト
リデシルチオ基、5−フェニル−2,3,4,5−テト
ラゾリルチオ基、2−ベンゾチアゾリル基、チオシアノ
基、N、N−ジエチルチオカルボニルチオ基、ドデシル
オキシチオカルボニルチオ基、等)、炭素原子で連結す
る基(例えば、トリフェニルメチル基、ヒドロキシメチ
ル基、N−モルホリノメチル基、 八 但しR,、R5は水素原子、アルキル基、アリール基、
ヘテロ環基を表わし、R4,R5はすでに定義したと同
じ意味を有する、等)、を表わす。
R,、R5又はXが2価の基となってビス体を形成する
2価の基をさらに詳しく述べれば、R4,R5は置換又
は無置換のアルキレン基、例えば、メチレン基、エチレ
ン基、1.10−デシレン基、−CH2CH2−O−C
H2CH2−1等)、置換又は無置換のフェニレン基(
例えば、1.4−フェニレン基、l、3−フェニレン基
、 −NHCO−R8−CONH−基(R8は置換もしくは
無置換のフルキレン基又はフェニレン基を−NHCOC
H2CH2CONH−1 H3 を示す、)である。
2価の基をさらに詳しく述べれば、R4,R5は置換又
は無置換のアルキレン基、例えば、メチレン基、エチレ
ン基、1.10−デシレン基、−CH2CH2−O−C
H2CH2−1等)、置換又は無置換のフェニレン基(
例えば、1.4−フェニレン基、l、3−フェニレン基
、 −NHCO−R8−CONH−基(R8は置換もしくは
無置換のフルキレン基又はフェニレン基を−NHCOC
H2CH2CONH−1 H3 を示す、)である。
次に、上記一般式(9N)で表わされるピラゾロ[1,
5−b] [1,2,41トリアゾール誘導体の具体例
を以下に例示するが、本発明はこれによって限定される
ものでないことは勿論である。
5−b] [1,2,41トリアゾール誘導体の具体例
を以下に例示するが、本発明はこれによって限定される
ものでないことは勿論である。
特開昭GO−215687(11)
瓢
C轡
(flS
n −C1−嘔
上記の例示化合物の物理的データの代表として融点を次
表にまとめた。
表にまとめた。
)
)
ノ/
(発明の効果)
本発明によれば、カラー写真のマゼンタカプラーとして
、カラー拡散転写法写真の色素現像薬、色素放出剤合成
中曲体としてまた、写真用増感色素製造の中間体として
有用な、新規なアザペンタレン化合物であるピラゾロ[
1,5−b][1,2,41トリアゾール誘導体を製造
することができる。また本発明の化合物は、生理活性物
質として使用できる可能性を有し、さらに医薬品製造の
中間体となりうる。
、カラー拡散転写法写真の色素現像薬、色素放出剤合成
中曲体としてまた、写真用増感色素製造の中間体として
有用な、新規なアザペンタレン化合物であるピラゾロ[
1,5−b][1,2,41トリアゾール誘導体を製造
することができる。また本発明の化合物は、生理活性物
質として使用できる可能性を有し、さらに医薬品製造の
中間体となりうる。
この化合物は、芳香族−級アミンの酸化生成物とカップ
リングして、極めて色相良好でかつ従来のピラゾロン系
の色素より、光、熱堅牢性が優れたマゼンタ色素を生成
する。
リングして、極めて色相良好でかつ従来のピラゾロン系
の色素より、光、熱堅牢性が優れたマゼンタ色素を生成
する。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明〈実施例
1〉 (転) (■)1 3−アミノクロトノニトリルとヒドラジン水和物の反応
によって得られたーアミノー3−メチルピラゾール(I
V) 10g (0,103mol )と7セトイミド
酸エチル塩酸塩12.7g(0,103mol)をエタ
ノール200mMに溶かし、室温で約30分間攪拌後約
3時間加熱還流した。(この場合1)の副生はほとんど
なかった。)溶液を2N水酸化ナトリウム水溶液で中和
後、藷を減圧留去し、残渣にエタノールとクロロホルム
の1=1混合溶媒を加え、不溶物の塩をろ過により除去
した。ろ液を濃縮し、油状物(部分的に結晶化)として
得られた(II)を酢酸50mJLに溶かし、室温で四
酢酸鉛49.8g(0,103mol)を少しづつ、窒
素気流下加えた。加え終わったのち2時間加熱還流した
。
1〉 (転) (■)1 3−アミノクロトノニトリルとヒドラジン水和物の反応
によって得られたーアミノー3−メチルピラゾール(I
V) 10g (0,103mol )と7セトイミド
酸エチル塩酸塩12.7g(0,103mol)をエタ
ノール200mMに溶かし、室温で約30分間攪拌後約
3時間加熱還流した。(この場合1)の副生はほとんど
なかった。)溶液を2N水酸化ナトリウム水溶液で中和
後、藷を減圧留去し、残渣にエタノールとクロロホルム
の1=1混合溶媒を加え、不溶物の塩をろ過により除去
した。ろ液を濃縮し、油状物(部分的に結晶化)として
得られた(II)を酢酸50mJLに溶かし、室温で四
酢酸鉛49.8g(0,103mol)を少しづつ、窒
素気流下加えた。加え終わったのち2時間加熱還流した
。
酢酸を減圧留去し、クロロホルムとメタノールの5:l
混合溶媒を加え、不溶物を除き、その後シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製することより、1を1.4
g得た。
混合溶媒を加え、不溶物を除き、その後シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製することより、1を1.4
g得た。
融点274〜275℃(分解)
質量分析 136(M”、100%)
元素分析値 C(%) H(%) N(%)理論値 5
2.93 5.112 41.15測定値 52.88
B、03 41.0?核磁気共鳴スペクトル (CDC見 :ビリジンーd5=1:1)δ(p p
m) : 2.35(3H,s) 2.42(3)1.
s)5.50(IH,s) 〈実施例2〉 (IQ 1フ ィソカプ−ロイミド酸メチル塩酸塩は市販のイソカブミ
ニトリルから通常の方法により定量的に合成することが
できた。
2.93 5.112 41.15測定値 52.88
B、03 41.0?核磁気共鳴スペクトル (CDC見 :ビリジンーd5=1:1)δ(p p
m) : 2.35(3H,s) 2.42(3)1.
s)5.50(IH,s) 〈実施例2〉 (IQ 1フ ィソカプ−ロイミド酸メチル塩酸塩は市販のイソカブミ
ニトリルから通常の方法により定量的に合成することが
できた。
5−アミノ−3−メチルピラゾール20g(0、206
+*ol )とインカプロイミド酸メチル塩酸塩51g
(0,309園o1 )をメタノール200mJLに溶
かし、室温で約1時間攪拌すると主生成物(II )と
副生成物(Vl)のスポットがシリカゲルTLC(クロ
ロホルム:メタノール=6=1)で観測された。この溶
液中に塩化アンモニウム5gを加え、約2時間加熱還流
すると(Vl)は消失し、はとんど(II )となった
。ろ通抜メタノールを減圧留去し、残渣にクロロホルム
とメタノールの5=1混合溶媒を加え、不溶物をろ過し
て除いた。こうして得られた粗生成物を〈実施例1)と
示した方法により酸化して、3.2gの17を得ること
ができた。
+*ol )とインカプロイミド酸メチル塩酸塩51g
(0,309園o1 )をメタノール200mJLに溶
かし、室温で約1時間攪拌すると主生成物(II )と
副生成物(Vl)のスポットがシリカゲルTLC(クロ
ロホルム:メタノール=6=1)で観測された。この溶
液中に塩化アンモニウム5gを加え、約2時間加熱還流
すると(Vl)は消失し、はとんど(II )となった
。ろ通抜メタノールを減圧留去し、残渣にクロロホルム
とメタノールの5=1混合溶媒を加え、不溶物をろ過し
て除いた。こうして得られた粗生成物を〈実施例1)と
示した方法により酸化して、3.2gの17を得ること
ができた。
融点140〜142℃
質量分析 192 (M”)136 (b、p)核磁気
共鳴スペクトル(CDC見。) δ (p p m) : Q、90(OH,d、J=7
)1.55〜1.110(3N) 2.45(3H,s
) 2.90(2H,brt。
共鳴スペクトル(CDC見。) δ (p p m) : Q、90(OH,d、J=7
)1.55〜1.110(3N) 2.45(3H,s
) 2.90(2H,brt。
J=7) 5.80(IH,s) 13.3(IH)(
実施例3) 8 2−エチルへ午すン酸クロリドから2−エチルヘキサン
ニトリルはOrg、 Syn、 Ca11. Vol、
3巻490頁(1955年)に記載の方法によって合成
し、それをメタノール1当量に溶かし、その溶液に0℃
で、乾燥塩化水素ガスを1当量吸収させた。そして冷蔵
庫中(〜5℃)で約20日間放置するとメチルイミドエ
ステル塩酸塩の結晶が析出するのでエーテルを加えろ別
した。収率48%このイミドエステル塩酸塩Log(5
1,6m+wol)と(IV)(R2=−CH3)5
g (51、5m+5ol)とをメタノール150mJ
L中40℃で攪拌した。約7時間後T L C(S I
O2、クロロホルム:エタノール=4:l)をみると
2つのスポットが観測された。極性の低いスボ−/ )
は(Vl)の構造をもつ。この溶液に過剰量の塩化アン
モニウムを加え、約2時間加熱還流すると(Vl)は消
失しく II )のみとなる。メタノールを減圧留去し
、残渣にクロロ永ルム50 m lとメタノール10m
Mを加え不溶物をろ過して除いた。ろ液を濃縮後、少量
のシリカゲルカラムにより精製すると(II )が油状
物として8g(70%)得られた。
実施例3) 8 2−エチルへ午すン酸クロリドから2−エチルヘキサン
ニトリルはOrg、 Syn、 Ca11. Vol、
3巻490頁(1955年)に記載の方法によって合成
し、それをメタノール1当量に溶かし、その溶液に0℃
で、乾燥塩化水素ガスを1当量吸収させた。そして冷蔵
庫中(〜5℃)で約20日間放置するとメチルイミドエ
ステル塩酸塩の結晶が析出するのでエーテルを加えろ別
した。収率48%このイミドエステル塩酸塩Log(5
1,6m+wol)と(IV)(R2=−CH3)5
g (51、5m+5ol)とをメタノール150mJ
L中40℃で攪拌した。約7時間後T L C(S I
O2、クロロホルム:エタノール=4:l)をみると
2つのスポットが観測された。極性の低いスボ−/ )
は(Vl)の構造をもつ。この溶液に過剰量の塩化アン
モニウムを加え、約2時間加熱還流すると(Vl)は消
失しく II )のみとなる。メタノールを減圧留去し
、残渣にクロロ永ルム50 m lとメタノール10m
Mを加え不溶物をろ過して除いた。ろ液を濃縮後、少量
のシリカゲルカラムにより精製すると(II )が油状
物として8g(70%)得られた。
核磁気共鳴スペクトル
(CI)C1:CD30D=3:2)
δ (P P m) : 0.7〜1.2(8H) 1
.2〜L、5(4H)1.8 〜2.1(4H) 2.
32(3)1.s) 2.80(18,quintet
。
.2〜L、5(4H)1.8 〜2.1(4H) 2.
32(3)1.s) 2.80(18,quintet
。
J=7) 5.70(38,broad) 8.20(
IH,5)(II) 2 、6 g (12mmol)
を50m見の酢酸に溶かし、室温で四酢酸鉛5.8g
(12mmol)を少しずつ、窒素気流下加えた。加え
終わったのち、3時間加熱還流した。酢酸を減圧留去し
、クロロホルムとエタノールの30=1混合溶媒で3回
抽出し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液と食塩水で洗浄後
硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過、そして濃縮後シリ
カゲルクロマトグラフィーで精製することにより18を
0.15g(5,7%)得た。融点llO〜115℃ 質量分析 220 (M”)、15’5,130核磁気
共鳴スペクトル(CDCl2) δ(p p m) : 0.7〜1.2(OH) 1.
2〜1.55(4H)1.55〜2.20(4H) 2
.45(3H,s) 2.95(IH,qujntet
。
IH,5)(II) 2 、6 g (12mmol)
を50m見の酢酸に溶かし、室温で四酢酸鉛5.8g
(12mmol)を少しずつ、窒素気流下加えた。加え
終わったのち、3時間加熱還流した。酢酸を減圧留去し
、クロロホルムとエタノールの30=1混合溶媒で3回
抽出し、飽和重炭酸ナトリウム水溶液と食塩水で洗浄後
硫酸マグネシウムで乾燥した。ろ過、そして濃縮後シリ
カゲルクロマトグラフィーで精製することにより18を
0.15g(5,7%)得た。融点llO〜115℃ 質量分析 220 (M”)、15’5,130核磁気
共鳴スペクトル(CDCl2) δ(p p m) : 0.7〜1.2(OH) 1.
2〜1.55(4H)1.55〜2.20(4H) 2
.45(3H,s) 2.95(IH,qujntet
。
J−7) 5.62(1)1. s) 12.8(IH
)〈実施例4〉 4−(p−ニトロフェニル)ブチロイミド酸メチル塩酸
塩はまず4−(p−ニトロフェニル)醋酸からニトリル
を合成し、それをメタノール(1当量)中、乾燥塩化水
素ガス、1当量以上で処理して97%の収率で合成した
。
)〈実施例4〉 4−(p−ニトロフェニル)ブチロイミド酸メチル塩酸
塩はまず4−(p−ニトロフェニル)醋酸からニトリル
を合成し、それをメタノール(1当量)中、乾燥塩化水
素ガス、1当量以上で処理して97%の収率で合成した
。
5−アミノ−3−メチルピラゾールlog(0,103
mo1)と26.6g(0,103mol)(7)4
(P−ニトロフェニル)ブチロイミド酸メチル塩酸塩か
ら、〈実施例1> <実施例2)とほぼ同様の操作で1
9を3.5g得ることができた。融点203〜212℃ 質量分析 285(M”″)149 (b、p)核磁気
共鳴スペクトル(DMSO−’d8)δ (p p m
) : 2.05(2H,m) 2.45(3H,s)
2.58〜2.88(4H,m) 5.80(IH,s
) 7.25(2H,d。
mo1)と26.6g(0,103mol)(7)4
(P−ニトロフェニル)ブチロイミド酸メチル塩酸塩か
ら、〈実施例1> <実施例2)とほぼ同様の操作で1
9を3.5g得ることができた。融点203〜212℃ 質量分析 285(M”″)149 (b、p)核磁気
共鳴スペクトル(DMSO−’d8)δ (p p m
) : 2.05(2H,m) 2.45(3H,s)
2.58〜2.88(4H,m) 5.80(IH,s
) 7.25(2H,d。
J=8.0) 8.05(2)1. d、J=8.0)
(実施例5〉 (II) 醤 p−ニトロフェニルアセトニトリルはメタノールにあま
り溶けないが、1当量のメタノールに懸濁した状態で1
当量以上の塩化水素ガスを吸収させ、−晩、冷蔵庫に放
置することにより定量的に、イミド酸メチル塩酸塩を合
成できた。
(実施例5〉 (II) 醤 p−ニトロフェニルアセトニトリルはメタノールにあま
り溶けないが、1当量のメタノールに懸濁した状態で1
当量以上の塩化水素ガスを吸収させ、−晩、冷蔵庫に放
置することにより定量的に、イミド酸メチル塩酸塩を合
成できた。
このイミド酸メチル塩酸塩23g(0,1■ol)と5
−アミノ−3−メチルピラゾール9.7g(0、1mo
l )とから(実施例1> (実施例2〉とほぼ同様の
操作で32を2.8g得ることがで核磁気共鳴スペクト
ル(DMSO−d6)δ(P P m) 、: 2.0
5(2H,i) 2.45(3)1. s)2.56〜
2.88(4)1. 履) 5.60(IH,s) 7
.25(2H,d。
−アミノ−3−メチルピラゾール9.7g(0、1mo
l )とから(実施例1> (実施例2〉とほぼ同様の
操作で32を2.8g得ることがで核磁気共鳴スペクト
ル(DMSO−d6)δ(P P m) 、: 2.0
5(2H,i) 2.45(3)1. s)2.56〜
2.88(4)1. 履) 5.60(IH,s) 7
.25(2H,d。
J=8.0) 8.05(2H,d、yJ=8.0)〈
実施例5〉 (追 32 p−ニトロフェニルアセトニトリルはメタノールにあま
り溶けないが、1当量のメタノールに懸濁した状態で1
当量以上の塩化水素ガスを吸収させ、−晩、冷蔵庫に放
置することにより定量的に、イミド酸メチル塩酸塩を合
成できた。
実施例5〉 (追 32 p−ニトロフェニルアセトニトリルはメタノールにあま
り溶けないが、1当量のメタノールに懸濁した状態で1
当量以上の塩化水素ガスを吸収させ、−晩、冷蔵庫に放
置することにより定量的に、イミド酸メチル塩酸塩を合
成できた。
このイミド酸メチル塩酸塩23g(0,1■ol)と5
−アミノ−3−メチルピラゾール9.7g(0,1■o
l)とから〈実施例1〉 〈実施例2〉とほぼ同様の操
作で32を2.8g得ることができた。融点〜251”
0(分解)
−アミノ−3−メチルピラゾール9.7g(0,1■o
l)とから〈実施例1〉 〈実施例2〉とほぼ同様の操
作で32を2.8g得ることができた。融点〜251”
0(分解)
Claims (4)
- (1)一般式 (式中、R及びR2は水素原子又は置換もし〈は非置換
の、アルキル又はアリール基を示す。) で表わされる化合物を酸化縮合反応させ、一般式 (式中、R及びR2は前記と同じ意味をもつ。) で表6される化合物を得ることを特徴とするピラゾロ[
工、5−b]、[t、2.4] トリアゾール誘導体の
製造方法。 - (2)一般式 (式中、R1及びR2は水素原子又は置換もしくは非置
換の、アルキル又はアリール基を示す。) で表わされる化合物が、一般式 (式中、R2は前記と同じ意味をもつ。)で表わされる
アミノピラゾールと、一般式(式中、Rは前記と同じ意
味をもち、R3はアルキル基を辰す。) で表わされるイミドエステルとを反応させてイ1#られ
る特許請求の範囲第1項記載のピラゾロ[1,5−bコ
[1,2,4])リアゾール誘導体の製造方法。 - (3)一般式 (式中、R及びR2は水素原子又は置換もし〈は非置換
の、アルキル又はアリール基を示す。) で表わされる化合物が、一般式 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味をもち、R3は
アルキル基である。) で表わされる化合物を塩化アンモニウムと反応させるこ
とにより得られる特許請求の範囲第1項記載のピラゾロ
[1,5,−bl [1,2,4]トリアゾ一ル誘導体
の製造方法。 - (4)一般式 (式中、R及びR2は水素原子又は置換もしくは非置換
の、アルキル又はアリール基を示す。) で表わされる化合物にカップリング離脱基を導入して、
一般式 (式中、Xはカップリング離脱基を示し、R1及びR2
は前記と同じ意味をもつ。) で表わされる化合物を得る特許請求の範囲第1項記載の
ピラゾロ[1,5−bl [1,2,4]トリアゾ一ル
誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7014684A JPS60215687A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7014684A JPS60215687A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60215687A true JPS60215687A (ja) | 1985-10-29 |
| JPH0479351B2 JPH0479351B2 (ja) | 1992-12-15 |
Family
ID=13423140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7014684A Granted JPS60215687A (ja) | 1984-04-10 | 1984-04-10 | ピラゾロ〔1,5−b〕〔1,2,4〕トリアゾ−ル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60215687A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6210069A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-19 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 5―アミノ―1h―ピラゾール系化合物を用いる写真用マゼンタカプラーの合成方法 |
| US5262542A (en) * | 1992-02-26 | 1993-11-16 | Eastman Kodak Company | Process for preparation of 1H-pyrazolo [1,5-b][1,2,4]triazole compounds by cyclization of N-(4-substituted-pyrazolyl)amidoxime |
| US5510492A (en) * | 1992-02-26 | 1996-04-23 | Eastman Kodak Company | Process of preparing pyrazolo 1,5-b! 1,2,4! triazoles |
| EP0711804A2 (de) | 1994-11-14 | 1996-05-15 | Ciba-Geigy Ag | Kryptolichtschutzmittel |
-
1984
- 1984-04-10 JP JP7014684A patent/JPS60215687A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6210069A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-19 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 5―アミノ―1h―ピラゾール系化合物を用いる写真用マゼンタカプラーの合成方法 |
| US5262542A (en) * | 1992-02-26 | 1993-11-16 | Eastman Kodak Company | Process for preparation of 1H-pyrazolo [1,5-b][1,2,4]triazole compounds by cyclization of N-(4-substituted-pyrazolyl)amidoxime |
| US5510492A (en) * | 1992-02-26 | 1996-04-23 | Eastman Kodak Company | Process of preparing pyrazolo 1,5-b! 1,2,4! triazoles |
| EP0711804A2 (de) | 1994-11-14 | 1996-05-15 | Ciba-Geigy Ag | Kryptolichtschutzmittel |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0479351B2 (ja) | 1992-12-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |