JPH05188535A - 減力液及び銀画像の減力処理法 - Google Patents

減力液及び銀画像の減力処理法

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JPH05188535A
JPH05188535A JP4005404A JP540492A JPH05188535A JP H05188535 A JPH05188535 A JP H05188535A JP 4005404 A JP4005404 A JP 4005404A JP 540492 A JP540492 A JP 540492A JP H05188535 A JPH05188535 A JP H05188535A
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久 岡田
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 本発明は、特定のアミノ化合物の第二鉄キレ
ート化合物を含むことを特徴とし、更に特定の減力促進
剤および／または錯形成剤及び染料を含有するの減力液
であり、また、ハロゲン化銀感光材料を露光、現像処理
して形成された銀画像を、上記減力液の存在下で減力処
理することを特徴とする銀画像の減力処理法に関する。 【構成】 本発明の減力液は、減力速度、減力適性、減
力作業性に優れており、かつ経時後の液において沈澱物
の析出が見られず、安定な液であり、硬調感光材料への
使用に適するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀感光材料、
特に製版感光材料を露光後現像処理して得られる網点ま
たは／および線画からなる銀画像を修正する減力処理法
に関するものである。更に詳しくは、減力適性が良く、
保存安定性が優れ、かつ被処理後感光材料の黄色汚染が
ない減力液に関する。
【０００２】
【従来の技術】銀画像、とりわけ製版用感光材料に形成
された網点状または線状銀画像の減力に関しては、多く
の文献や特許があり、従来から種々の減力液が使用され
ている。古くは赤血塩を主成分とするファーマー氏の減
力液が一般的であったが、公害上の問題等から、最近で
は、硫酸セリウム塩減力液やエチレンジアミン四酢酸第
二鉄キレート減力液が使用されるようになってきた。
【０００３】製版用感光材料としては、いわゆるリスフ
ィルムが主に用いられてきたが、最近ではヒドラジン化
合物やテトラゾリム化合物を含有する新しい硬調感光材
料が用いられるようになり、要求される減力液の特性も
変化してきた。
【０００４】ファーマー氏減力液は中性で減力特性が良
いが、公害問題や液保存性が劣る欠点がある。また、硫
酸セリウム塩減力液は液保存性が良く減力適性も比較的
良いが強酸性で取り扱い性が悪く、又非画像部に黄色汚
染が残り易い欠点がある。更に、エチレンジアミン四酢
酸第二鉄キレート減力液は中性でコストが安いが、減力
性が劣る。沃化銀含有量が多い新しい硬調感光材料では
銀画像の周辺部に黄褐色の残差が生じ有効減力幅が減少
する。また、減力後の画像部が黄色汚染となり残る等の
欠点がある。
【０００５】減力適性が良いとは、銀画像の濃度の低下
に対する、銀画像の面積の減少が大きいこと、すなわち
減力幅が大きいことをいう。
【０００６】上記の問題点を解決するものとして、特開
平１−２８２５５１号公報には、１，３−ジアミノプロ
パン四酢酸第二鉄キレートを含有する減力液が記載され
ているが、この減力液では経時後沈澱物が析出し、また
減力適性が低下するという欠点を有することがわかっ
た。
【０００７】また、一般に、従来のアミノポリカルボン
酸第二鉄キレートは酸化力が弱いため、硫酸セリウム
塩、赤血塩などと比較すると減力（酸化）速度が遅く、
実用性ある減力液とするには困難であり、又それらの化
合物て長時間減力しても、特に前記の新しい硬調感光材
料と組み合わせ使用した場合には網点濃度の低下が大き
く、減力後の画像部が黄色汚染となり、かつ網点の周辺
部に黄褐色の残渣が残り易い問題があった。
【０００８】更に、特開昭５２−６８４１９号には、減
力液にヘテロ環メルカプト化合物の使用、特にエチレン
ジアミン四酢酸第二鉄キレートとの組み合わせ使用が記
載されているが、この組み合わせも上記の問題点を解決
出来るものではなかった。
【０００９】一方、製版材料の仕上がりは顧客の注文に
よりしばしば修正が必要になり、局部的な部分の修正の
場合には、減力液により行うのが一般的である。減力作
業は、普通水の流れているライトテーブル（水洗ライト
テーブル）上で行うが、減力液が薄黄色のための所定部
分以外に流出しても気付かず必要な場所を消失してしま
うトラブルがしばしばあった。
【００１０】また、減力された部分は、銀が酸化される
ため画像濃度が低く成るため、刷版に焼き付ける場合に
注意が必要である。特に減力工程と刷版工程が同じでな
く別々の場所の場合にしばしばこれが原因でトラブルが
発生する。
【００１１】しかしながら、従来のアミノポリカルボン
酸第二鉄キレートを酸化剤とする減力液では網点の周辺
部に黄褐色の残渣が残り、顕微鏡で観察すると減力部分
がわかるが、目視では判別できないという問題もあっ
た。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は第１
に、これらの欠点のない減力液を提供することである。
【００１３】第２に、特に前記の新しい硬調感光材料に
適性の有る減力液及び減力方法を提供することである。
【００１４】第３に、特に減力液の流出や減力部分が分
かる作業性の良い減力液を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】我々は、数多くの酸化剤
を検討した結果、上記第１及び第２の目的は、下記一般
式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（７）、
（８）及び（９）から選ばれた少なくとも１種のアミノ
化合物の第二鉄キレート化合物を含む減力液により達成
できることを見出した。
【００１６】
【化５７】
【００１７】式中、Ｘは−Ｃ（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−
Ｒｂ、−Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝Ｘ12）−Ｒｄ、−ＳＯ2 Ｎ
Ｒｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ、または−ＳＲ
ｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素原子、ヒドロキシ基、脂
肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。Ｒｂ、Ｒ
ｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族基、芳香族基、ヘテロ
環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（ＲｊおよびＲｋはＲｂと同
義である。）または−ＯＲｍ（Ｒｍは脂肪族基、芳香族
基またはヘテロ環基を表す。）を表す。
【００１８】Ｌ1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基お
よび／またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価
の連結基を表す。
【００１９】Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪
族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。
【００２０】
【化５８】
【００２１】式中、Ｒ21およびＲ22は一般式（１）のＲ
11と同義である。Ｚはヘテロ環基を表す。Ｌ2 は二価の
連結基を表す。ｍは０または１を表す。
【００２２】
【化５９】
【００２３】式中、Ｌ3 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ
環基および／またはそれらの組み合わせから成る基を含
む二価の連結基を表す。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ
基、スルホ基またはヒドロキシ基を表す。Ｒ31、Ｒ32、
Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、水素原子、脂肪
族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。Ｒ38およびＲ
39は、水素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、スルホニル基、スルフィ
ニル基を表す。また、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成し
てもよい。ｐおよびｑは０または１を表す。
【００２４】
【化６０】
【００２５】式中、Ａ41、Ａ42およびＡ43は、一般式
（３）におけるＡ31と同義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ
43は一般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ｙは酸素
原子または硫黄原子を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれ
ぞれ０をまたは１を表わす。Ｒ41は置換基を表す。ａは
０、１、２、３または４を表す。
【００２６】
【化６１】
【００２７】式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54は、水
素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ51−Ａ
51（Ｌ51は一般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ａ
51はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ
基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホンアミ
ド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキ
シ基またはアルキルチオ基を表す。）または下記一般式
（６）で示される基を表す。Ｗ51はアルキレン基および
／またはアリーレン基を含む二価の連結基を表わす。但
し、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54の少なくとも一つは下
記一般式（６）で示される基を表わす。
【００２８】
【化６２】
【００２９】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を
形成するのに必要な原子群を表す。Ａ52は水素原子、カ
ルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カ
ルボンアミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、
スルファモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、
アルキルチオ基またはアミノ基を表す。
【００３０】
【化６３】
【００３１】式中、Ｗ61はチオエーテル基とアルキレン
基および／またはアリーレン基を含有した二価の連結基
を表す。Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はアルキレン基を
表す。Ａ61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれカルボキ
シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
す。
【００３２】
【化６４】
【００３３】式中、Ｗ71は総炭素数４以上のアルキレン
基を表す。Ｌ71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74はアルキレン基
を表す。Ａ71、Ａ72、Ａ73、Ａ74およびＡ74はそれぞれ
カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ
基を表す。
【００３４】
【化６５】
【００３５】式中、Ｊは水素原子またはヒドロキシ基を
表す。Ｍ8 は水素原子またはカチオンを表す。Ｇ81およ
びＧ82はヒドロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、ス
ルホ基、アミノ基、またはエーテル基を置換基として有
する脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。ｘは
０または１を表す。
【００３６】また、本発明の銀画像の減力処理法は、ハ
ロゲン化銀感光材料を露光、現像処理して形成された銀
画像を、上記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）、（７）、（８）及び（９）から選ばれた少なく
とも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物の存在
下で減力処理することを特徴とする。
【００３７】更に、本発明の第１及び第２の目的は、上
記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、
（７）、（８）及び（９）から選ばれた少なくとも１種
のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物と減力促進剤で
ある下記一般式（１０）で表される化合物を含む減力液
によっても達成されることを見出した。
【００３８】
【化６６】
【００３９】また、本発明の銀画像の減力処理法は、ハ
ロゲン化銀感光材料を露光、現像処理して形成された銀
画像を、上記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）、（７）、（８）及び（９）から選ばれた少なく
とも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物と減力
促進剤である上記一般式（１０）で表される化合物を含
む減力液で減力処理することを特徴とする。
【００４０】更に、本発明の第３の目的は上記一般式
（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（７）、
（８）及び（９）から選ばれた少なくとも１種のアミノ
化合物の第二鉄キレート化合物と錯形成剤ならび染料を
含む減力液により達成されることを見出した。
【００４１】また、本発明の銀画像の減力処理法は、ハ
ロゲン化銀感光材料を露光、現像処理して形成された銀
画像を、上記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）、（７）、（８）及び（９）から選ばれた少なく
とも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物と錯形
成剤ならび染料を含む減力液で減力処理することを特徴
とする。
【００４２】一般式（１）で表される化合物について、
以下に詳細に説明する。一般式（１）においてＸは−Ｃ
（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−Ｒｂ、−Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝
Ｘ12）−Ｒｄ、−ＳＯ2 ＮＲｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）
ＳＯ2 Ｒｈまたは−ＳＲｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子
または硫黄原子を表す。Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素
原子、ヒドロキシ基、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ
環基を表す。Ｒｂ、Ｒｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、
芳香族基またはヘテロ環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族
基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（Ｒｊ
およびＲｋはＲｂと同義である。）または−ＯＲｍ（Ｒ
ｍは脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。）を
表す。Ｌ1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
基を表す。Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪族
基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。
【００４３】Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒ
ｇ、Ｒｈ、Ｒｉ、Ｒｊ、ＲｋおよびＲｍで表される脂肪
族基は直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル
基またはアルキニル基であり、炭素数１ないし４のアル
キル基が好ましい。
【００４４】Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒ
ｇ、Ｒｈ、Ｒｉ、Ｒｊ、ＲｋおよびＲｍで表される芳香
族基は、単環または二環のアリール基であり、例えばフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられ、フェニル基がより好
ましい。
【００４５】Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒ
ｇ、Ｒｈ、Ｒｉ、Ｒｊ、ＲｋおよびＲｍで表されるヘテ
ロ環基はＮ、ＯまたはＳ原子のうち少なくとも一つを含
む３ないし１０員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環であ
り、これらは単環であってもよいし、更に他の芳香環も
しくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。
【００４６】ヘテロ環として好ましくは５ないし６員の
芳香族ヘテロ環基であり、例えば、チオフェン、フラ
ン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、
ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアゾール、ト
リアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアジ
アゾール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、
ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリ
ン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェ
ナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾールなど
が挙げられる。芳香族ヘテロ環基としてより好ましく
は、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、
ピラジン、ピリミジン、トリアゾール、チアジアゾー
ル、オキサジアゾール、キノキサリン、テトラゾール、
チアゾール、オキサゾールであり、特にピロール、イミ
ダゾール、ピリジン、トリアゾール、チアジアゾール、
オキサジアゾール、キノキサリン、タトラゾール、チア
ゾール、オキサゾールである。
【００４７】Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆ、Ｒ
ｇ、Ｒｈ、Ｒｉ、Ｒｊ、ＲｋおよびＲｍは置換基を有し
ていてもよく、置換基としては例えばアルキル基（例え
ばメチル基、エチル基）、アラルキル基（例えばフェニ
ルメチル基）、アルケニル基（例えばアリル基）、アル
キニル基、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ
基）、アリール基（例えばフェニル基、ｐ−メチルフェ
ニル基）、アミノ基（例えばジメチルアミノ基）、アシ
ルアミノ基（例えばアセチルアミノ基）、スルホニルア
ミノ基（メタンスルホニルアミノ基）、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基（例えばフェニルオキシ
基）、スルファモイル基（例えばメチルスルファモイル
基）、カルバモイル基（例えばカルバモイル基、メチル
カルバモイル基）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ
基）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基）、スル
ホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子（例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子）、シアノ
基、スルホ基、カルボキシ基、ホスホノ基、アリールオ
キシカルボニル基（例えばフェニルオキシカルボニル
基）、アシル基（例えばアセチル基、ベンゾイル基）、
アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基）、アシルオキシ基（例えばアセトキシ基）、カルボ
ンアミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、ヒドロキサ
ム酸基、ヘテロ環基などが挙げられる。上記置換基で炭
素原子を有する場合、好ましくは炭素数１〜１０のもの
であり、より好ましくは１〜４のものである。
【００４８】また、ＲａとＲｂ、ＲｃとＲｄ、ＲｅとＲ
ｆ、ＲｇとＲｈ、ＲｊとＲｋはそれぞれ連結して環を形
成してもよい。連結して形成される環としては、例えば
モルホリン環、ピペリジン環、ピロリジン環、ピラジン
環などが挙げられる。
【００４９】Ｌ1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基お
よび／またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価
の連結基を表す。二価の連結基としては炭素数１ないし
１０のアルキレン基、炭素数６ないし１０のアリーレン
基、炭素数７ないし１０のアラルキレン基または−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ0 −（Ｒ0 は水素原子、
脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基またはヒドロキシ
基）、−ＳＯ2 −とアルキレン基またはアリーレン基の
組み合わせから成る基が好ましい。更に可能な場合には
これらの組み合わせでもよい。また、これらの二価の連
結基は置換基を有してもよく置換基として例えば、Ｒａ
の置換基として挙げたものが適用できる。Ｌ1 の好まし
い具体例として以下のものが挙げられ、特にメチレン
基、エチレン基が好ましい。
【００５０】
【化６７】
【００５１】Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪
族基、芳香族基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ11および
Ｒ12で表される脂肪族基は直鎖、分岐または環状のアル
キル基、アルケニル基またはアルキニル基であり、炭素
数１ないし１０のものが好ましい。脂肪族基としてより
好ましくはアルキル基であり、特に炭素数１ないし４の
アルキル基が好ましい。Ｒ11およびＲ12で表される芳香
族基は、単環または二環のアリール基であり、例えばフ
ェニル基、ナフチル基が挙げられ、フェニル基がより好
ましい。Ｒ11およびＲ12で表されるヘテロ環基は一般式
（１）のＲａで表されるヘテロ環基と同義である。ま
た、Ｒ11およびＲ12は置換は一般式（１）のＲａで表さ
れるヘテロ環基と同義である。また、Ｒ11およびＲ12は
置換基を有していてもよく、置換基としては例えばＲａ
の置換基として挙げたものが適用できる。さらに、Ｒ11
およびＲ12のうち少なくとも一つは−ＯＨ、−ＣＯＯＭ
1 、−ＰＯ3 Ｍ2 Ｍ3 または−ＳＯ3 Ｍ4 （ここで
Ｍ1 、Ｍ2 、Ｍ3 、Ｍ4 は同一でも異なってもよく、そ
れぞれ水素原子またはカチオンを表す。カチオンとして
はアルカリ金属（リチウム、ナトリウム、カリウム、な
ど）、アンモニウム、ピリジニウムなどが挙げられ
る。）を置換基として有するアルキル基、アリール基ま
たはヘテロ環基であることが好ましく、−ＣＯＯＭ1 を
置換基として有するアルキル基、アリール基またはヘテ
ロ環基であることがより好ましい。
【００５２】更に、Ｒ11、Ｒ12、Ｘ、Ｌ1 は可能な場合
には連結して環を形成しても良い。
【００５３】一般式（１）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（１１）、（１２）または（１３）
で表される化合物である。
【００５４】
【化６８】
【００５５】式中、Ｒ11、Ｒｂ、Ｌ1 は一般式（１）の
それぞれと同義である。Ｌ91、Ｌ101 、Ｌ111 は一般式
（１）におけるＬ1 と同義である。Ｒ101 は一般式
（Ｉ）におけるＲｂと同義である。Ｍ91、Ｍ101 、Ｍ
111 は水素原子またはカチオン（アルカリ金属、アンモ
ニウム、ピリジニウムなど）を表す。Ｘ111 は−ＳＯ2
ＮＲｅ（Ｒｆ）または−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ（Ｒｅ、
Ｒｆ、Ｒｇ、Ｒｈは一般式（１）のそれぞれと同義であ
る。）を表す。
【００５６】一般式（１１）で表される化合物のうち、
より好ましくは下記一般式（１４）または（１５）で表
される化合物である。
【００５７】
【化６９】
【００５８】式中、Ｒｂ、Ｌ1 は一般式（１）のそれぞ
れと同義である。Ｌ121 、Ｌ122 、Ｌ131 、Ｌ132 、Ｌ
133 、Ｌ134 は一般式（１）におけるＬ1 と同義であ
る。Ｒ131 、Ｒ132 は一般式（１）におけるＲｂと同義
である。Ｍ121 、Ｍ122 、Ｍ131 、Ｍ132 は水素原子ま
たはカチオン（アルカリ金属、アンモニウム、ピリジニ
ウムなど）を表す。Ｗ131 はアルキレン基および／また
はアリーレン基を含む二価の連結基を表す。二価の連結
基としては、好ましくは炭素数２ないし８のアルキレン
基、炭素数６ないし１０のアリーレン基、炭素７ないし
１０のアラルキレン基、炭素数５〜１０のシクロアルカ
ン基、ヘテロ環基、−（Ｗ1 −Ｏ−）ａ1 −Ｗ2 −、−
（Ｗ1 −Ｓ−）ａ1 −Ｗ2 −（Ｗ1 、Ｗ2 はアルキレン
基、アリーレン基、アラルキレン基またはヘテロ環基を
表す。ａ1 は１、２または３を表す。）、−Ｗ1 −Ｎ
（Ｄ）−Ｗ2 −（Ｄは水素、炭化水素、−Ｌａ−ＣＯＯ
Ｍa1、−Ｌａ−ＰＯ3 Ｍa2Ｍa3、−Ｌａ−ＯＨ、−Ｌａ
−ＳＯ3 Ｍa4（Ｌａは炭素数１ないし８のアルキレン
基、炭素数６ないし１０のアリーレン基、炭素数７ない
し１０のアラルキレン基またはヘテロ環基を表す。
Ｍa1、Ｍa2、Ｍa3、Ｍa4は水素原子またはカチオン（ア
ルカリ金属、アンモニウム、ピリジニウムなど）を表
す。）が挙げられ、更にこれらの組み合わせでもよい。
これらの二価の連結基は置換基を有していてもよく、置
換基としては例えば一般式（１）におけるＲａの置換基
として挙げたものが適用できる。Ｗ131 の具体例として
例えば以下のものが挙げられる。
【００５９】
【化７０】
【００６０】一般式（１２）で表される化合物のうちよ
り好ましくは下記一般式（１６）または（１７）で表さ
れる化合物である。
【００６１】
【化７１】
【００６２】式中、Ｒｂ、Ｌ1 は一般式（１）のそれぞ
れと同義である。Ｌ141 、Ｌ142 、Ｌ151 、Ｌ152 、Ｌ
153 、Ｌ154 は一般式（１）におけるＬ1 と同義であ
る。Ｒ141 、Ｒ151 、Ｒ152 、Ｒ153 、Ｒ154 は一般式
（１）におけるＲｂと同義である。Ｍ141 、Ｍ142 、Ｍ
151 、Ｍ152 は水素原子またはカチオン（アルカリ金
属、アンモニウム、ピリジニウムなど）を表す。Ｗ151
は一般式（１５）におけるＷ131 と同義である。
【００６３】一般式（１３）で表される化合物のうち、
より好ましくは下記一般式（１８）または（１９）で表
される化合物である。
【００６４】
【化７２】
【００６５】式中、Ｌ1 は一般式（１）のそれと同義で
ある。Ｌ161 、Ｌ162 、Ｌ171 、Ｌ172 、Ｌ173 、Ｌ
174 は一般式（１）におけるＬ1 と同義である。
Ｍ161 、Ｍ162 、Ｍ171 、Ｍ172 は水素原子またはカチ
オン（アルカリ金属、アンモニウム、ピリジニウムな
ど）を表す。Ｗ171 は一般式（１５）におけるＷ131 と
同義である。Ｘ161 、Ｘ171 、Ｘ172 は一般式（１３）
におけるＸ111 と同義である。
【００６６】次に、一般式（２）で表される化合物につ
いて以下に詳細に説明する。一般式（２）において、Ｒ
21およびＲ22は一般式（１）のＲ11と同義である。Ｚは
ヘテロ環基を表し、一般式（１）におけるＲａで表され
るヘテロ環基と同義である。ｍは０または１を表す。
【００６７】Ｌ2 は二価の連結基を表す。二価の連結基
としては直鎖、分岐または環状のアルキレン基アルケニ
レン基またはアルキニレン基（好ましくは炭素数１ない
し１０であり、より好ましくはアルキレン基であり、特
に１ないし４のアルキレン基が好ましい。）、アリーレ
ン基（好ましくは炭素数６ないし１０であり、例えばフ
ェニレン基、ナフタレン基が挙げられ、フェニレン基が
より好ましい。）アラルキレン基（好ましくは炭素数７
ないし１０）、−ＣＯ−、−ＳＯ2 −または−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ2a）−（Ｒ2aは水素原子、脂
肪族基、芳香族基、ヘテロ環基またはヒドロキシ基）、
−ＳＯ2 −とアルキレン基、アリーレン基またはヘテロ
環基の組み合わせから成る基が好ましい。更に可能な場
合には、これらの基の組み合わせでもよい。またこれら
二価の連結基は置換基を有していてもよく、置換基とし
ては例えばＲａの置換基として挙げたものが適用でき
る。Ｌ2 の好ましい具体例として以下のものが挙げられ
る。
【００６８】
【化７３】
【００６９】更に、Ｒ21、Ｒ22、Ｚ、Ｌ2 は可能な場合
には連結して環を形成してもよい。
【００７０】一般式（２）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（２０）または（２１）で表される
化合物である。
【００７１】
【化７４】
【００７２】式中、Ｚ、Ｌ2 は一般式（２）のそれぞれ
と同義である。Ｗ191 は一般式（１５）におけるＷ131
と同義である。Ｒ181 およびＲ182 は一般式（１）のＲ
11と同義であり、Ｒ181 、Ｒ182 およびＺ−Ｌ2 は同一
または互いに異なっていてもよい。Ｒ181 、Ｒ182 とし
て好ましくは−Ｌｂ−ＯＨ、−Ｌｂ−ＣＯＯＭb1、−Ｌ
ｂ−ＰＯ3 Ｍb2Ｍb3、−Ｌｂ−ＳＯ3 Ｍb4（Ｍb1、
Ｍb2、Ｍb3、Ｍb4はそれぞれ水素原子またはカチオンを
表す。カチオンとしてはアルカリ金属（リチウム、ナト
リウム、カリウム、など）、アンモニウム、ピリジニウ
ムなどが挙げられる。Ｌｂは一般式（１）におけるＬ1
と同義である。）または−Ｌｂ’−Ｚa （Ｌｂ’は一般
式（２）におけるＬ2 と同義であり、Ｚa は一般式
（２）におけるＺと同義である。）であり、より好まし
くは−Ｌｂ’−ＣＯＯＭb1または−Ｌｂ’−Ｚa であ
る。Ｒ191 、Ｒ192 、Ｒ193 およびＺ−Ｌ2 は同一また
は互いに異なっていてもよく、Ｒ191 、Ｒ192 、Ｒ193
のうち少なくとも一つがＺｂ−Ｌｃ（Ｌｃは一般式
（２）におけるＬ2 と同義であり、Ｚｂ一般式（２）に
おけるＺと同義である。）であることが好ましい。
【００７３】一般式（２０）で表される化合物のうち、
より好ましくは下記一般式（２２）で表される化合物で
ある。
【００７４】
【化７５】
【００７５】式中、Ｚ、Ｌ2 は一般式（２）のそれぞれ
と同義である。Ｌ201 、Ｌ202 は一般式（１）のＬ1 と
同義であり、Ａ201 、Ａ202 は一般式（３）におけるＡ
31と同義である。
【００７６】一般式（２１）で表される化合物のうち、
より好ましくは下記一般式（２３）で表される化合物で
ある。
【００７７】
【化７６】
【００７８】式中、Ｚ、Ｌ2 は一般式（２）のそれぞれ
と同義である。Ｗ191 は一般式（１５）におけるＷ131
と同義である。Ｌ211 は一般式（２）のＬ2 と同義であ
り、Ｚ211 は一般式（２）のＺと同義である。Ｅおよび
Ｅ’は水素原子、−Ｌ212 −Ａ212 （Ｌ212 は一般式
（２）のＬ2 同義であり、Ａ212 は一般式（３）におけ
るＡ31と同義である。）を表す。
【００７９】次に、一般式（３）で表される化合物につ
いて以下に詳細に説明する。
【００８０】Ｌ3 は一般式（１）におけるＬ1 と同義で
ある。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基また
はヒドロキシ基を表し、好ましくはカルボキシ基、ヒド
ロキシ基であり、より好ましくはカルボキシ基である。
Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、Ｒ38およ
びＲ39で表される脂肪族基、芳香族基およびヘテロ環基
は、一般式（１）におけるＲ11で表されるそれらの基と
同義である。
【００８１】Ｒ38およびＲ39で表されるアシル基、スル
ファモイル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、スルホニル基および
スルフィニル基は炭素数１０以下のものが好ましい。
【００８２】Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34としては水素原子
が好ましい。また、Ｒ38、Ｒ39はシス位にあることが好
ましい。さらに、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成しても
よい。
【００８３】ｐおよびｑは０または１を表し、好ましく
はｐおよびｑのうち少なくとも一方が１であり、より好
ましくはｐ、ｑとも１である。
【００８４】一般式（３）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（２４）で表される化合物である。
【００８５】
【化７７】
【００８６】（式中、Ａ31、Ｌ3 、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、
Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36、Ｒ37、ｐおよびｑは一般式（３）の
それぞれと同義である。
【００８７】一般式（２４）においてＱは５員または６
員を形成する非金属原子群を表す。Ｑで形成される５員
または６員環としては芳香族基（例えばベンゼン、ナフ
タレン、フェナントレン、アントラセン）、ヘテロ環
（例えばピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、チオフェン、フラン、ピラン、ピロール、イミダゾ
ール、ピラゾ−ル、イソチアゾール、イソオキサゾー
ル、チアントレン、イソベンゾフラン、クロメン、キサ
ンテン、フェノキサチン、インドリジン、イソインドー
ル、インドール、インタゾール、キノリジン、イソキノ
リン、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサ
リン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、カルバゾ
ール、カルボリン、フェナントリジン、アクリジン、プ
テリジン、フェナントロリン、フェナジン、フェノチア
ジン、フェノキサジン、クロマン、ピロリン、ピラゾリ
ン、インドリン、イソインドリン）、環状アルケン（例
えばシクロペンテン、シクロヘキセン）などが挙げられ
る。また、これらの環は更に他の環と縮環してもよい。
Ｑで形成される環として、好ましくはベンゼン、ナフタ
レン、ピリジン、イミダゾール、ピラジン、ピリミジ
ン、キノリン、キノキサリンであり、さらに好ましくは
ベンゼン、イミダゾールである。Ｑで形成される環は置
換基を有していてもよく、置換基としては例えば一般式
（１）のＲａの置換基として挙げたものが適用できる。
【００８８】一般式（３）で表される化合物のうち、更
に好ましくは下記一般式（２５）で表される化合物であ
る。
【００８９】
【化７８】
【００９０】式中、Ａ31、Ｌ3 、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ
34、ｐおよびｑは一般式（３）のそれぞれと同義であ
る。Ｌ231 、Ｌ232 およびＬ233 はそれぞれ一般式
（３）のＬ3 と同義であり、Ａ231 、Ａ232 およびＡ
233 はそれぞれ一般式（３）のＡ31と同義であり、Ｑは
一般式（２４）のＱと同義である。
【００９１】次に、一般式（４）で表される化合物につ
いて以下に詳細に説明する。一般式（４）において
Ａ41、Ａ42およびＡ43は一般式（３）におけるＡ31と同
義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ43は、一般式（１）にお
けるＬ1 と同義である。Ｙは酸素原子または硫黄原子を
表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０または１を表
す。ａは０、１、２、３または４を表す。Ｒ41は置換基
を表し、例えば一般式（１）におけるＲａの置換基とし
て挙げたものが適用できる。
【００９２】一般式（４）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（２６）で表される化合物である。
【００９３】
【化７９】
【００９４】式中、Ａ41、Ａ42、Ａ43、Ｌ41、Ｌ42、Ｒ
41およびａは、一般式（４）におけるそれぞれと同義で
ある。） 次に、一般式（５）で表される化合物について以下に詳
細に説明する。一般式（５）においてＸ51、Ｘ52、Ｘ53
およびＸ54は水素原子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環
基（脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基は、一般式（１）
におけるＲ11で表されるそれらの基と同義である。）、
−Ｌ51−Ａ51（Ｌ51は一般式（１）におけるＬ1 と同義
である。Ａ51はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、
ヒドロキシ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、ス
ルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキサム酸
基、アルコキシ基またはアルキルチオ基を表し、より好
ましくはカルボキシ基、ヒドロキシ基を表し、更に好ま
しくはカルボキシ基を表す。Ａ51は置換基を有してもよ
く、置換基としては一般式（Ｉ）におけるＲａの置換基
として挙げたものが適用できる。また、Ａ51が炭素原子
を有する場合、炭素数は１０以下のものが好ましく、よ
り好ましくは炭素数６以下のものである。）または下記
一般式（２７）を表す。
【００９５】
【化８０】
【００９６】式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を
形成するのに必要な原子群を表す。Ｂで形成されるアリ
ール基としては単環または二環のものが好ましく、例え
ばフェニル基またはナフチル基が挙げられる。アリール
基としてより好ましくはフェニル基である。Ｂで形成さ
れるヘテロ環はＮ、ＯまたはＳ原子のうち少なくとも一
つを含む３ないし１０員の飽和もしくは不飽和のヘテロ
環であり、これらは単環であってもよいし、更に他の芳
香環もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましくは５ないし６員の芳香族ヘテロ環基
であり、例えば、チオフェン、フラン、ピロール、イミ
ダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジ
ン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドー
ル、インダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジ
アゾール、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノ
キサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アク
リジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾー
ル、チアゾール、オキサゾールなどが挙げられる。芳香
族ヘテロ環基としてより好ましくは、ピロール、イミダ
ゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジ
ン、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノキサリン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾールであり、特にピロール、イミダゾール、ピリジ
ン、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノキサリン、テトラゾール、チアゾール、オキサ
ゾールである。Ｂで形成されるアリール基またはヘテロ
環基は置換基を有してもよく、置換基としては例えば一
般式（１）におけるＲａの置換基として挙げたものが適
用できる。
【００９７】Ａ52は水素原子、カルボキシ基、ホスホノ
基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、カル
バモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒ
ドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ基または
アミノ基を表す。Ａ52が炭素原子を有する場合、炭素数
１０以下のものが好ましく、より好ましくは炭素数６以
下のものである。Ａ52として好ましくは、カルボキシ
基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基であり、より
好ましくはカルボキシ基である。
【００９８】Ｗ51は一般式（１５）におけるＷ131 と同
義である。
【００９９】但し、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54の少な
くとも一つは上記一般式（２７）を表す。
【０１００】一般式（５）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（２８）または（２９）で表される
化合物である。
【０１０１】
【化８１】
【０１０２】（式中、Ａ52、Ｂ、Ｗ51は一般式（５）に
おけるそれぞれと同義である。Ａ52’は一般式（５）に
おけるＡ52と同義であり、Ｂ’は一般式（５）における
Ｂと同義であり、Ｌ251 、Ｌ252 、Ｌ253 、Ｌ261 、Ｌ
262 は一般式（１）におけるＬ1 と同義であり、
Ａ251 、Ａ252 、Ａ253 、Ａ261 、Ａ262 は一般式
（５）におけるＡ51と同義である。） 次に、一般式（７）で表される化合物について以下に詳
細に説明する。一般式（７）において、Ｗ61はチオエー
テル基とアルキレン基及び／又はアリーレン基を含有し
た二価の連結基を表す。Ｗ61で表される二価の連結基は
置換基を有してもよく、置換基としては例えば一般式
（１）におけるＲａの置換基として挙げたものが適用で
きる。Ｗ61で表される二価の連結基の総炭素数は好まし
くは２〜２０であり、より好ましくは２〜８であり、更
に好ましくは２〜４である。Ｗ61で表される二価の連結
基として好ましくは、−Ｗb1−Ｓ−（Ｗb2−Ｓ−）ｄ−
Ｗb3−（Ｗb1、Ｗb2、Ｗb3はアルキレン基及び又はアリ
ーレン基を表し、より好ましくはアルキレン基であり、
特に無置換アルキレン基が好ましい。Ｗb1、Ｗb2、Ｗb3
で表されるアルキレン基及び／又はアリーレン基の炭素
数の総和は好ましくは１〜２０であり、より好ましくは
１〜６である。Ｗb1、Ｗb2、Ｗb3として特に好ましく
は、エチレン基、トリメチレン基である。ｄは０、１ま
たは２を表し、好ましくは０または１であり、より好ま
しくは０である。）で表される基である。
【０１０３】Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はそれぞれ独
立にアルキレン基を表し、好ましくは炭素数１〜４のア
ルキレン基である。Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63、Ｌ64としてより
好ましくは、メチレン基、エチレン基であり、特に好ま
しくはメチレン基である。
【０１０４】Ａ61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれ独
立にカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロ
キシ基を表す。Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64としては、カル
ボキシ基、ヒドロキシ基が好ましく、特に好ましくはカ
ルボキシ基である。
【０１０５】次に、一般式（８）で表される化合物につ
いて以下に詳細に説明する。一般式（８）において、Ｗ
71は総炭素数４以上のアルキレン基を表し、好ましくは
総炭素数４〜２０、より好ましくは４〜８のアルキレン
基である。Ｗ71は置換基を有しても良く、置換基として
は例えば一般式（１）におけるＲａの置換基として挙げ
たものが適用できる。
【０１０６】Ｌ71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74は、一般式
（７）におけるＬ61、Ｌ62、Ｌ63、Ｌ64と同義である。
Ａ71、Ａ72、Ａ73及びＡ74は、一般（７）における
Ａ61、Ａ62、Ａ63、Ａ64と同義である。
【０１０７】次に、一般式（９）で表される化合物につ
いて以下に詳細に説明する。一般式（９）において、Ｊ
は水素原子またはヒドロキシ基を表し、好ましくは水素
原子である。Ｍ8 は水素原子またはカチオン（アルカリ
金属、アンモニウムなど）を表す。ｘは０または１を表
し、好ましくは１である。Ｇ81およびＧ82はヒドロキシ
基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、アミノ基、
またはエーテル基を置換基として有する脂肪族基、芳香
族基またはヘテロ環基を表す。
【０１０８】Ｇ81およびＧ82で表される脂肪族基は、直
鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基または
アルキニル基であり、炭素数１ないし１０のものが好ま
しい。脂肪族基としてより好ましくはアルキル基であ
り、特に炭素数１ないし４のアルキル基が好ましい。
【０１０９】Ｇ81およびＧ82で表される芳香族基は、単
環または二環のアリール基であり、例えばフェニル基、
ナフチル基が挙げられ、フェニル基がより好ましい。
【０１１０】Ｇ81およびＧ82で表されるヘテロ環基は
Ｎ、ＯまたはＳ原子のうち少なくとも一つを含む３ない
し１０員の飽和もしくは不飽和のヘテロ環であり、これ
らは単環であってもよいし、更に他の芳香環もしくはヘ
テロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテロ環として好ま
しくは５ないし６員の芳香族ヘテロ環基であり、例え
ば、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピ
ラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジ
ン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾ
ール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キ
ノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キ
ナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェ
ナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾー
ル、オキサゾールなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基
としてより好ましくは、ピロール、イミダゾール、ピラ
ゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、トリアゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノキサリ
ン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾールであり、
特にピロール、イミダゾール、ピリジン、トリアゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノキサリ
ン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾールである。
【０１１１】また、Ｇ81およびＧ82で表される脂肪族
基、芳香族基、ヘテロ環基はヒドロキシ基、カルボキシ
基、ホスホノ基、スルホ基、アミノ基、エーテル基以外
に置換基を有してもよく、置換基としては例えば一般式
（１）におけるＲａの置換基として挙げたものが適用で
きる。
【０１１２】一般式（９）で表される化合物のうち、好
ましくは下記一般式（３０）表される化合物である。
【０１１３】
【化８２】
【０１１４】式中、Ｊ、ｘは一般式（９）におけるそれ
らと同義である。Ｍ271 およびＭ272 は水素原子または
カチオンを表す。ｙは０、１または２を表し、ｚは１、
２または３を表し、ｙとｚの和は３である。ｙとして好
ましくは２であり、ｚとして好ましくは１である。
【０１１５】一般式（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）、（７）、（８）、（９）で表される化合物の具
体例および合成法は、特開昭６３−９７，９５３号、同
６３−９７，９５４号、特開平１−９３，７４０号、特
開平３−１４８，２４３号、特願平２−１１９，２５０
号、同２−１２７，４７９号、同２−１５６，６８３
号、同２−１７５，０２６号、同２−１９６，９７２
号、同２−２０１，８４６号、同２−２５８，５３９
号、同２−３３０，７７５号、同２−３３０，７７６
号、同２−３３０，７７７号、同３−１５７，４４２
号、同３−１７５，７０８号、同３−１８０，５２４
号、同３−１８９，５５５号、同３−１７５，７０８
号、同３−１９３，６８０号、同３−２５３，７７５号
の各公報などに記載されている。
【０１１６】一般式（１）、（２）、（３）、（４）、
（５）、（７）、（８）、（９）で表される化合物の代
表例（１−１）〜（１−５４）を以下に示すが、これら
に限定されるものではない。
【０１１７】
【化８３】
【０１１８】
【化８４】
【０１１９】
【化８５】
【０１２０】
【化８６】
【０１２１】
【化８７】
【０１２２】
【化８８】
【０１２３】
【化８９】
【０１２４】
【化９０】
【０１２５】上記一般式（１）、（２）、（３）、
（４）、（５）、（７）、（８）及び（９）から選ばれ
た少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合
物の使用量は、目的とする減力幅、使用感材の種類、銀
画像の濃度等により異なるが、０．３ｇ／リットルから
溶解限度までで、好ましくは５〜５０ｇ／リットルであ
る。
【０１２６】本発明の減力液は、基本的には上記一般式
（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（７）、
（８）及び（９）から選ばれた少なくとも１種のアミノ
化合物の第二鉄キレート化合物の水溶液であり、特開昭
５２−６８４１９号に記載されているようなメルカプト
化合物や、２−メルカプト−１，３，４−トリアゾー
ル、２−（２−ジメチルアミノエチル）チオ−５−メル
カプト−チオジアゾールを併用することもできるが、上
記一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、
（７）、（８）及び（９）から選ばれた少なくとも１種
のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物とともに上記一
般式（１０）で表される化合物を減力促進剤として併用
することが好ましい。
【０１２７】以下、上記一般式（１０）で表される化合
物の具体的化合物例（２−１）〜（２−１５）を掲げる
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１２８】
【化９１】
【０１２９】
【化９２】
【０１３０】
【化９３】
【０１３１】上記減力促進剤中、特に好ましい化合物は
２−１、２−２、２−３、２−９、２−１０、２−１１
である。
【０１３２】本発明の一般式（１０）で表される化合物
の使用量は、目的とする減力幅、使用感材の種類等によ
り異なるが、０．００１〜３．０ｇ／リットルで０．０
１〜０．５ｇ／リットルが好ましい。単独または併用し
てもよい。
【０１３３】次に、本発明の減力液は、基本的には上記
一般式（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、
（７）、（８）及び（９）から選ばれた少なくとも１種
のアミノ化合物の第二鉄キレート化合物の水溶液である
が、錯形成剤ならびに染料を併用するとよい。
【０１３４】本発明の減力液に用いられる染料として
は、スチリル系染料、オキソノール系染料、アントラキ
ノン系染料、メロシアニン系染料、シアニン系染料、ト
リアリールメタン系染料、アゾメチン系染料、アゾ系染
料、金属錯体系染料などの水溶性化合物が用いられる。
液中の安全性から、金属錯体系染料、アントラキノン系
染料、トリアリールメタン系染料が適している。色相と
しては青色系が好ましい。
【０１３５】有効な水溶性染料の具体例としては、以下
の（３−１）〜（３−８）が挙げられる。
【０１３６】
【化９４】
【０１３７】
【化９５】
【０１３８】
【化９６】
【０１３９】本発明に用いる水溶性染料の使用量は、使
用する染料の種類や用途により異なるが、１０-4〜５ｇ
／リットル、好ましくは１０-2〜１．０ｇ／リットルで
ある。
【０１４０】減力液に用いる錯形成剤としては、チオ硫
酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、チオシアン酸ア
ンモニウム、チオ尿素、ハロゲン化物、チオエーテル類
など、周知のハロゲン化銀溶剤を用いることができる。
その使用量は５〜２００ｇ／リットル、好ましくは１０
〜１００ｇ／リットルである。
【０１４１】なお、本発明の減力液は、上記一般式
（１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（７）、
（８）及び（９）から選ばれた少なくとも１種のアミノ
化合物の第二鉄キレート化合物と減力促進剤である一般
式（１０）で表される化合物と共に錯形成剤ならびに染
料とを共に使用してもよいことは勿論である。
【０１４２】また、本発明の減力液は、必要に応じ他の
添加剤、例えばｐＨ緩衝剤、亜硫酸塩などの保恒剤、ハ
ロゲン化物などを添加しても良く、また、必要により界
面活性剤、増粘剤を含有せしめることが出来る。
【０１４３】本発明においては、銀画像を減力液中に浸
漬することにより、銀画像を減力処理するが、そのほか
に、本発明の減力液をゼラチン、ポリビニールアルコー
ル、ポリアクリル酸の如き親水性バインダー中に含浸せ
しめて支持体上に塗布して成るシートを銀画像と接触せ
しめることにより減力することもできる。
【０１４４】本発明において、減力処理に先立ち、硫酸
ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、亜硫酸ナトリウ
ム、又はチオ硫酸ナトリウムなどを含有する液で前処理
するとさらにその効果を高めることができる。
【０１４５】本発明の減力液のｐＨは２〜８が好まし
い。
【０１４６】本発明の画像減力方法を適用するハロゲン
化銀感光材料のハロゲン組成は特に制限はない。塩臭化
銀、塩化銀画像、沃臭化銀画像、沃臭塩化銀、あるいは
これらの２種以上の混合のいずれでもよいが、沃化銀を
含有するハロゲン組成（好ましくは０．０５モル％〜５
モル％、特に０．１モル％〜３モル％の沃化銀画像を含
むハロゲン化銀）の場合に特に効果が著しい。
【０１４７】本発明に使用できるハロゲン化銀写真乳剤
は、公知の方法で製造でき、例えばリサーチ・ディスク
ロージャー（ＲＤ）、Ｎｏ．１７６４３（１９７８年１
２月）、２２〜２３頁、“Ｉ．乳剤製造（Ｅｍｕｌｓｉ
ｏｎ ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ａｎｄ ｔｙｐｅ
ｓ）”および同Ｎｏ．１８７１６（１９７９年１１
月）、６４８頁に記載の方法に従うことができる。米国
特許第４，４３４，２２６号、同第４，４３９，５２９
号の各明細書およびリサーチ・ディスクロージャーＮ
ｏ．ｌ２２５３４（１９８３年１月）に記載されたよう
な平板粒子も本発明で使用できる。
【０１４８】本発明に使用できる種々の写真用添加剤
は、例えば前述のリサーチ・ディスクロージャーＮｏ．
１７６４３の２３〜２８頁および同ｏ．１８７１６の６
４８〜６５１頁に記載されている。これらの添加剤の種
類とその詳細な記載箇所を下記に示した： ──────────────────────────────────── 添加剤種類 Ｒ１７６４３ Ｒ１８７１６ ──────────────────────────────────── 化学増感剤 ２３頁 ６４８頁右欄 感度上昇剤 同上 分光増感剤 ２３〜２４頁 ６４８頁右欄〜 強色増感剤 ６４９頁右欄 増白剤 ２４頁 かぶり防止剤および安定剤 ２４〜２５頁 ６４９頁右欄 光吸収剤、フイルター染料 ２５〜２６頁 ６４９頁右欄〜 紫外線吸収剤 ６５０左欄 ステイン防止剤 ２５頁右欄 ６５０頁左〜右欄 硬膜剤 ２６頁 ６５１頁左欄 バインダー ２６頁 同上 可塑剤、潤滑剤 ２７頁 ６５０頁右欄 塗布助剤、表面活性剤 ２６〜２７頁 同上 スタチック防止剤 ２７頁 同上 ──────────────────────────────────── 本発明の減力方法を適用できるハロゲン化銀感光材料に
は特に制限はないが、製版用感光材料に適用するのが好
ましい。
【０１４９】本発明の減力方法は、リス用現像液で処理
された感光材料に適用することもできる。リス用現像液
は基本的にはオルト又はパラジヒドロキシベンゼン、ア
ルカリ剤、少量の遊離の亜硫酸塩および亜硫酸イオンバ
ッファー等から構成される。現像主薬としてのオルト又
はパラジヒドロキシベンゼンとしてはハイドロキノンが
実用的である。
【０１５０】本発明の減力方法は、特にヒドラジン誘導
体を含有した超硬調感材に対して有効に適用することが
できる。かかる感光材料に関しては、特開昭５３−１６
６２３号、同５３−２０９２２号、同５３−６６７３２
号の各公報、米国特許第４，２２４，４０１号、同第
４，１６８，９７７号、同第４，１６６，７４２号、同
第４，３１１，７８１号、同第４，２７２，６０６号、
同第４，２１１，８５７号、同第４，２４３，７３９号
等の各明細書に詳しく記載されている。
【０１５１】また、特開昭５２−１８３１７号、同５３
−９５６２８号、同５３−９５６２９号の各公報に記載
されているテトラゾリウム塩を含有する硬調感材に対し
ても有効である。
【０１５２】これらの新しい硬調感材は、リス現像液よ
りも安定な現像液で硬調な写真特性を得ることができる
という特長をもっている。ここで用いられる現像液はジ
ヒドロキシベンゼン系現像主薬を主現像主薬とし、ｐ−
アミノフェノール系又は１−フェニル−３−ピラゾリゾ
ン系現像剤を補助現像剤として用いる。現像剤は感材中
に含有されていてもよい。保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム、ホルムア
ルデヒド重亜硫酸ナトリウム等がある。
【０１５３】現像液のｐＨ値は１０．５〜１２．３の範
囲に設定される。アルカリ剤には通常の水溶性無機アル
カリ金属塩（例えば水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、
第三リン酸カリウム等）を用いることができる。米国特
許第４，２６９，９２９号明細書記載のアルカノ−ルア
ミンも使用することも出来る。
【０１５４】一般に、現像液にはその他、ホウ酸などの
ｐＨ緩衝剤、臭化カリウム、沃化カリウムごときの現像
抑制剤、トリエチレングリコール、エタノール等の有機
溶剤、５−メチルベンツトリアゾールなどのベンツトリ
アゾール系化合物、５−ニトロインダゾール等のインダ
ゾール系化合物等のカブリ防止剤ないしは黒ボツ防止剤
を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性
剤、硬水軟化剤などを含んでもよい。
【０１５５】定着液としては、一般に用いられている組
成のものを用いることができる。定着剤としてはチオ硫
酸塩、チオシアン酸塩のほか、定着剤としての効果が知
られている有機硫黄化合物を用いることができる。定着
液には硬膜剤として水溶性アルミニウム塩、例えば硫酸
アルミニウム、明バンなど含んでもよい。ここで水溶性
アルミニウム塩の量としては通常０〜３．０ｇＡｌ／リ
ットルである。また酸化剤としてエチレンジアミン四酢
酸Ｆｅ（３価）錯塩を用いてもよい。
【０１５６】処理温度は通常１８℃から５０℃の間に選
ばれるが、１８℃より低い温度または５０℃をこえる温
度としてもよい。
【０１５７】
【作用及び発明の効果】本発明の減力液は、減力速度、
減力適性、減力作業性に優れており、かつ経時後の液に
おいて沈澱物の析出が見られず、安定な液であり、硬調
感光材料への使用に適するものである。
【０１５８】以下に実施例をあげ、本発明を更に詳細に
説明する。
【０１５９】
【実施例１】５０℃に保ったゼラチン水溶液に銀１モル
当たり４×１０-7モルの６塩化イリジウム（３価）カリ
およびアンモニアの存在下で、硝酸銀画像水溶液と沃化
カリウム、臭化カリウムの水溶液を同時に６０分間で加
えその間のｐＡｇを７．８に保つことにより、平均粒子
サイズ０．２８μで、平均沃化銀画像含有量０．３モル
％の立方体単分散乳剤を調製した。
【０１６０】この乳剤をフロキユレーション法により脱
塩を行いその後に、銀１モル当たり４０ｇｒの不活性ゼ
ラチンを加えた後５０℃に保ち増感色素として５，５′
−ジクロロ−９−エチル−３，３′−ビス−（３−スル
フォプロピル）オキサカルボシアニンと、銀１モル当た
り１０-3モルのＫＩ溶液を加え、１５分間経時させた後
降温した。
【０１６１】この乳剤を再溶解し、４０℃にて銀１モル
当たり０．０２モルのメチルハイドロキノン及び下記の
増感色素（１）及びヒドラジン誘導体（２）を１．２×
１０-3モル／Ａｇモル、さらに下記添加剤（３）、５−
メチルベンズトリアゾール、４−ヒドロキシ−１，３，
３ａ，７−テトラザインデン、下記の促進剤（４），
（５）及びポリエチルアクリレート分散物、硬膜剤を添
加しポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し
た。
【０１６２】
【化９７】
【０１６３】このようにして得られたフイルムに１５０
線コンタクトスクリーンを用いてセンシトメトリー用ウ
ェッジを通して露光したのち、下記組成の現像液で３４
℃、３０秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
【０１６４】 エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩 １ｇ 水酸化ナトリウム １８ｇ ５−スルホサルチル酸 ５５ｇ 亜硫酸カリウム １１０ｇ ｎ−ブチルジエタノールアミン １５ｇ Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール１／２硫酸塩 ０．３ｇ ハイドロキノン ５０ｇ ２−メルカプトベンツイミダゾール５− ０．３ｇ スルホン酸 ３−（５−メルカプトテトラゾール）ベンゼン ０．２ｇ スルホン酸ナトリウム トルエンスルホン酸ナトリウム ８．０ｇ ５−メチルベンツトリアゾール ０．５ｇ 臭化ナトリウム １０ｇ 水を加えて １リットル （ｐＨ １１．６） 定着液はＧＲＦ−１（富士フイルム（株）製）を用いた。
【０１６５】得られた網点銀画像（面積率５０％）につ
いて、第二鉄キレート化合物７３ｍｍｏｌ／リットル及
びチオ硫酸ナトリウム３２ｍｍｏｌ／リットル組成の減
力液（ｐＨは６に調整）で減力処理した。減力処理する
前の銀画像濃度（４．６０またはそれ以上）が濃度２．
５０になるまでに網点面積が減少した割合つまり５０％
からの変化量を求め、また残渣を調べて〔表１〜２〕に
示す結果をえた。
【０１６６】
【表１】
【０１６７】
【表２】
【０１６８】〔表１〜２〕から明らかな如く、本発明に
よる減力液は、著しく減力幅が広くなり、また残渣がな
くなっていることがわかる。更に、１，３−ジアミノプ
ロパン四酢酸第２鉄キレートを用いた減力液２では経時
での沈澱物が析出し、減力適性が低下したが、本発明の
減力液ではそのような問題は生じなかった。
【０１６９】
【実施例２】８０モル％塩化銀、１９．５モル％の臭化
銀及び０．５モル％の沃化銀画像からなるハロゲン化銀
乳剤（平均粒子サイズ０．２５μ、立方体）を、金増感
及びイオウ増感し、さらに下記分光増感剤（１）、現像
促進剤（２）、硬膜剤（３）、ラテックスを順次加えた
後、ポリエチレンテレフタレート上に塗布した。
【０１７０】（１）３−カルボキシメチル−５−〔２−
（３−エチルチアゾリニデン）エチリデン〕ローダニン （２）ポリオキシエチレンノニルフェニル・エーテル
（エチレンオキサイド基５０） （３）ムコクロル酸 この感材にマゼンタコンタクトスクリーンを通して露光
したのち、ＨＳ−５（富士写真フイルム（株）製）に
て、３２℃、１分で現像した後、下記〔表３〕の組成の
減力液にて減力し、その結果を下記〔表３〕に示した。
【０１７１】減力速度は６０秒処理後の網点面積率、減
力適性は１０％減力後の濃度（減力前の銀画像濃度４．
６０またはそれ以上）、また減力液を２日間経時した後
の液の状態を調べて〔表３〕に示す結果をえた。
【０１７２】
【表３】
【０１７３】〔表３〕により、本発明の減力液は減力速
度、減力適性に優れており、かつ経時後の液においての
沈澱物の析出も見られず、安定な液であることがわか
る。
【０１７４】
【実施例３】実施例１で得られたフィルムに１５０線コ
ンタクトスクリーンを用いてセンシトメトリー用ウェッ
ジを通して露光したのち、下記組成の現像液で３４℃、
３０秒間現像し、定着、水洗、乾燥した。
【０１７５】 現像液 エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム塩 １ｇ 水酸化ナトリウム １８ｇ 水酸化カリウム ５５ｇ ５−スルホサリチル酸 ３０ｇ ホウ酸 ２０ｇ 亜硫酸カリウム １１０ｇ ｎ−ブチルジエタノールアミン １５ｇ Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール１／２硫酸塩 ０．３ｇ ハイドロキノン ５０ｇ ２−メチルベンツトリアゾール ０．４ｇ 臭化ナトリウム １０ｇ 水を加えて １リットル （ｐＨ １１．６） 定着液は、ＧＲＦ−１（富士写真フイルム（株）製）を
用いた。得られた網点銀（面積率５０％）について下記
〔表４〕に示す減力液で減力処理した。
【０１７６】減力速度は６０秒処理後の網点面積率、減
力適性は１０％減力後の濃度（減力前の銀画像濃度４．
６０またはそれ以上）、また減力作業性及び２日間経時
後の液の状態を調べて〔表４〕に示す結果をえた。
【０１７７】
【表４】
【０１７８】〔表４〕により、本発明の減力液は、減力
速度、減力適性、減力作業性に優れており、かつ経時後
の液において沈澱物の析出が見られず、安定な液である
ことがわかる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記一般式（１）、（２）、（３）、
    （４）、（５）、（７）、（８）及び（９）から選ばれ
    た少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合
    物を含むことを特徴とする減力液。 【化１】 式中、Ｘは−Ｃ（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−Ｒｂ、 −Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝Ｘ12）−Ｒｄ、 −ＳＯ2 ＮＲｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ、 または−ＳＲｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子または硫黄
    原子を表す。Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素原子、ヒド
    ロキシ基、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
    す。Ｒｂ、Ｒｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、芳香族基
    またはヘテロ環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族基、芳香
    族基、ヘテロ環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（ＲｊおよびＲ
    ｋはＲｂと同義である。）または−ＯＲｍ（Ｒｍは脂肪
    族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。）を表す。Ｌ
    1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／またはそ
    れらの組み合わせから成る基を含む二価の連結基を表
    す。Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳
    香族基またはヘテロ環基を表す。 【化２】 式中、Ｒ21およびＲ22は一般式（１）のＲ11と同義であ
    る。Ｚはヘテロ環基を表す。Ｌ2 は二価の連結基を表
    す。ｍは０または１を表す。 【化３】 式中、Ｌ3 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
    またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
    基を表す。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基
    またはヒドロキシ基を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、
    Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、水素原子、脂肪族基、芳香族
    基またはヘテロ環基を表す。Ｒ38およびＲ39は、水素原
    子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファモイル基、カ
    ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
    シカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基を表
    す。また、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成してもよい。
    ｐおよびｑは０または１を表す。 【化４】 式中、Ａ41、Ａ42およびＡ43は、一般式（３）における
    Ａ31と同義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ43は一般式
    （１）におけるＬ1 と同義である。Ｙは酸素原子または
    硫黄原子を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０をま
    たは１を表わす。Ｒ41は置換基を表す。ａは０、１、
    ２、３または４を表す。 【化５】 式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54は、水素原子、脂肪
    族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ51−Ａ51（Ｌ51は一
    般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ａ51はカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボン
    アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
    ァモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基またはア
    ルキルチオ基を表す。）または下記一般式（６）で示さ
    れる基を表す。Ｗ51はアルキレン基および／またはアリ
    ーレン基を含む二価の連結基を表わす。但し、Ｘ51、Ｘ
    52、Ｘ53およびＸ54の少なくとも一つは下記一般式
    （６）で示される基を表わす。 【化６】 式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
    必要な原子群を表す。Ａ52は水素原子、カルボキシ基、
    ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
    基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
    ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
    基またはアミノ基を表す。 【化７】 式中、Ｗ61はチオエーテル基とアルキレン基および／ま
    たはアリーレン基を含有した二価の連結基を表す。
    Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はアルキレン基を表す。Ａ
    61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれカルボキシ基、ホ
    スホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表す。 【化８】 式中、Ｗ71は総炭素数４以上のアルキレン基を表す。Ｌ
    71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74はアルキレン基を表す。
    Ａ71、Ａ72、Ａ73、Ａ74およびＡ74はそれぞれカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
    す。 【化９】 式中、Ｊは水素原子またはヒドロキシ基を表す。Ｍ8 は
    水素原子またはカチオンを表す。Ｇ81およびＧ82はヒド
    ロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、アミ
    ノ基、またはエーテル基を置換基として有する脂肪族
    基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。ｘは０または１
    を表す。
  2. 【請求項２】 ハロゲン化銀感光材料を露光、現像処理
    して形成された銀画像を、下記一般式（１）、（２）、
    （３）、（４）、（５）、（７）、（８）及び（９）か
    ら選ばれた少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレ
    ート化合物の存在下で減力処理することを特徴とする銀
    画像の減力処理法。 【化１０】 式中、Ｘは−Ｃ（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−Ｒｂ、 −Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝Ｘ12）−Ｒｄ、 −ＳＯ2 ＮＲｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ、 または−ＳＲｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子または硫黄
    原子を表す。Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素原子、ヒド
    ロキシ基、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
    す。Ｒｂ、Ｒｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、芳香族基
    またはヘテロ環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族基、芳香
    族基、ヘテロ環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（ＲｊおよびＲ
    ｋはＲｂと同義である。）または−ＯＲｍ（Ｒｍは脂肪
    族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。）を表す。Ｌ
    1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／またはそ
    れらの組み合わせから成る基を含む二価の連結基を表
    す。Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳
    香族基またはヘテロ環基を表す。 【化１１】 式中、Ｒ21およびＲ22は一般式（１）のＲ11と同義であ
    る。Ｚはヘテロ環基を表す。Ｌ2 は二価の連結基を表
    す。ｍは０または１を表す。 【化１２】 式中、Ｌ3 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
    またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
    基を表す。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基
    またはヒドロキシ基を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、
    Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、水素原子、脂肪族基、芳香族
    基またはヘテロ環基を表す。Ｒ38およびＲ39は、水素原
    子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファモイル基、カ
    ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
    シカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基を表
    す。また、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成してもよい。
    ｐおよびｑは０または１を表す。 【化１３】 式中、Ａ41、Ａ42およびＡ43は、一般式（３）における
    Ａ31と同義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ43は一般式
    （１）におけるＬ1 と同義である。Ｙは酸素原子または
    硫黄原子を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０をま
    たは１を表わす。Ｒ41は置換基を表す。ａは０、１、
    ２、３または４を表す。 【化１４】 式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54は、水素原子、脂肪
    族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ51−Ａ51（Ｌ51は一
    般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ａ51はカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボン
    アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
    ァモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基またはア
    ルキルチオ基を表す。）または下記一般式（６）で示さ
    れる基を表す。Ｗ51はアルキレン基および／またはアリ
    ーレン基を含む二価の連結基を表わす。但し、Ｘ51、Ｘ
    52、Ｘ53およびＸ54の少なくとも一つは下記一般式
    （６）で示される基を表わす。 【化１５】 式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
    必要な原子群を表す。Ａ52は水素原子、カルボキシ基、
    ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
    基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
    ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
    基またはアミノ基を表す。 【化１６】 式中、Ｗ61はチオエーテル基とアルキレン基および／ま
    たはアリーレン基を含有した二価の連結基を表す。
    Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はアルキレン基を表す。Ａ
    61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれカルボキシ基、ホ
    スホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表す。 【化１７】 式中、Ｗ71は総炭素数４以上のアルキレン基を表す。Ｌ
    71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74はアルキレン基を表す。
    Ａ71、Ａ72、Ａ73、Ａ74およびＡ74はそれぞれカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
    す。 【化１８】 式中、Ｊは水素原子またはヒドロキシ基を表す。Ｍ8 は
    水素原子またはカチオンを表す。Ｇ81およびＧ82はヒド
    ロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、アミ
    ノ基、またはエーテル基を置換基として有する脂肪族
    基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。ｘは０または１
    を表す。
  3. 【請求項３】 下記一般式（１）、（２）、（３）、
    （４）、（５）、（７）、（８）及び（９）から選ばれ
    た少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合
    物と下記一般式（１０）で表される化合物を含むことを
    特徴とする減力液。 【化１９】 式中、Ｘは−Ｃ（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−Ｒｂ、 −Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝Ｘ12）−Ｒｄ、 −ＳＯ2 ＮＲｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ、 または−ＳＲｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子または硫黄
    原子を表す。Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素原子、ヒド
    ロキシ基、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
    す。Ｒｂ、Ｒｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、芳香族基
    またはヘテロ環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族基、芳香
    族基、ヘテロ環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（ＲｊおよびＲ
    ｋはＲｂと同義である。）または−ＯＲｍ（Ｒｍは脂肪
    族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。）を表す。Ｌ
    1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／またはそ
    れらの組み合わせから成る基を含む二価の連結基を表
    す。Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳
    香族基またはヘテロ環基を表す。 【化２０】 式中、Ｒ21およびＲ22は一般式（１）のＲ11と同義であ
    る。Ｚはヘテロ環基を表す。Ｌ2 は二価の連結基を表
    す。ｍは０または１を表す。 【化２１】 式中、Ｌ3 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
    またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
    基を表す。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基
    またはヒドロキシ基を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、
    Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、水素原子、脂肪族基、芳香族
    基またはヘテロ環基を表す。Ｒ38およびＲ39は、水素原
    子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファモイル基、カ
    ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
    シカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基を表
    す。また、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成してもよい。
    ｐおよびｑは０または１を表す。 【化２２】 式中、Ａ41、Ａ42およびＡ43は、一般式（３）における
    Ａ31と同義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ43は一般式
    （１）におけるＬ1 と同義である。Ｙは酸素原子または
    硫黄原子を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０をま
    たは１を表わす。Ｒ41は置換基を表す。ａは０、１、
    ２、３または４を表す。 【化２３】 式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54は、水素原子、脂肪
    族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ51−Ａ51（Ｌ51は一
    般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ａ51はカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボン
    アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
    ァモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基またはア
    ルキルチオ基を表す。）または下記一般式（６）で示さ
    れる基を表す。Ｗ51はアルキレン基および／またはアリ
    ーレン基を含む二価の連結基を表わす。但し、Ｘ51、Ｘ
    52、Ｘ53およびＸ54の少なくとも一つは下記一般式
    （６）で示される基を表わす。 【化２４】 式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
    必要な原子群を表す。Ａ52は水素原子、カルボキシ基、
    ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
    基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
    ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
    基またはアミノ基を表す。 【化２５】 式中、Ｗ61はチオエーテル基とアルキレン基および／ま
    たはアリーレン基を含有した二価の連結基を表す。
    Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はアルキレン基を表す。Ａ
    61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれカルボキシ基、ホ
    スホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表す。 【化２６】 式中、Ｗ71は総炭素数４以上のアルキレン基を表す。Ｌ
    71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74はアルキレン基を表す。
    Ａ71、Ａ72、Ａ73、Ａ74およびＡ74はそれぞれカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
    す。 【化２７】 式中、Ｊは水素原子またはヒドロキシ基を表す。Ｍ8 は
    水素原子またはカチオンを表す。Ｇ81およびＧ82はヒド
    ロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、アミ
    ノ基、またはエーテル基を置換基として有する脂肪族
    基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。ｘは０または１
    を表す。 【化２８】
  4. 【請求項４】 ハロゲン化銀感光材料を露光、現像処理
    して形成された銀画像を、下記一般式（１）、（２）、
    （３）、（４）、（５）、（７）、（８）及び（９）か
    ら選ばれた少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレ
    ート化合物及び下記一般式（１０）で表される化合物の
    存在下で減力処理することを特徴とする銀画像の減力処
    理法。 【化２９】 式中、Ｘは−Ｃ（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−Ｒｂ、 −Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝Ｘ12）−Ｒｄ、 −ＳＯ2 ＮＲｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ、 または−ＳＲｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子または硫黄
    原子を表す。Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素原子、ヒド
    ロキシ基、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
    す。Ｒｂ、Ｒｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、芳香族基
    またはヘテロ環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族基、芳香
    族基、ヘテロ環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（ＲｊおよびＲ
    ｋはＲｂと同義である。）または−ＯＲｍ（Ｒｍは脂肪
    族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。）を表す。Ｌ
    1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／またはそ
    れらの組み合わせから成る基を含む二価の連結基を表
    す。Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳
    香族基またはヘテロ環基を表す。 【化３０】 式中、Ｒ21およびＲ22は一般式（１）のＲ11と同義であ
    る。Ｚはヘテロ環基を表す。Ｌ2 は二価の連結基を表
    す。ｍは０または１を表す。 【化３１】 式中、Ｌ3 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
    またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
    基を表す。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基
    またはヒドロキシ基を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、
    Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、水素原子、脂肪族基、芳香族
    基またはヘテロ環基を表す。Ｒ38およびＲ39は、水素原
    子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファモイル基、カ
    ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
    シカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基を表
    す。また、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成してもよい。
    ｐおよびｑは０または１を表す。 【化３２】 式中、Ａ41、Ａ42およびＡ43は、一般式（３）における
    Ａ31と同義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ43は一般式
    （１）におけるＬ1 と同義である。Ｙは酸素原子または
    硫黄原子を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０をま
    たは１を表わす。Ｒ41は置換基を表す。ａは０、１、
    ２、３または４を表す。 【化３３】 式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54は、水素原子、脂肪
    族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ51−Ａ51（Ｌ51は一
    般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ａ51はカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボン
    アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
    ァモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基またはア
    ルキルチオ基を表す。）または下記一般式（６）で示さ
    れる基を表す。Ｗ51はアルキレン基および／またはアリ
    ーレン基を含む二価の連結基を表わす。但し、Ｘ51、Ｘ
    52、Ｘ53およびＸ54の少なくとも一つは下記一般式
    （６）で示される基を表わす。 【化３４】 式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
    必要な原子群を表す。Ａ52は水素原子、カルボキシ基、
    ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
    基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
    ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
    基またはアミノ基を表す。 【化３５】 式中、Ｗ61はチオエーテル基とアルキレン基および／ま
    たはアリーレン基を含有した二価の連結基を表す。
    Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はアルキレン基を表す。Ａ
    61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれカルボキシ基、ホ
    スホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表す。 【化３６】 式中、Ｗ71は総炭素数４以上のアルキレン基を表す。Ｌ
    71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74はアルキレン基を表す。
    Ａ71、Ａ72、Ａ73、Ａ74およびＡ74はそれぞれカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
    す。 【化３７】 式中、Ｊは水素原子またはヒドロキシ基を表す。Ｍ8 は
    水素原子またはカチオンを表す。Ｇ81およびＧ82はヒド
    ロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、アミ
    ノ基、またはエーテル基を置換基として有する脂肪族
    基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。ｘは０または１
    を表す。 【化３８】
  5. 【請求項５】 下記一般式（１）、（２）、（３）、
    （４）、（５）、（７）、（８）及び（９）から選ばれ
    た少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレート化合
    物と錯形成剤ならびに染料を含むことを特徴とする減力
    液。 【化３９】 式中、Ｘは−Ｃ（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−Ｒｂ、 −Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝Ｘ12）−Ｒｄ、 −ＳＯ2 ＮＲｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ、 または−ＳＲｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子または硫黄
    原子を表す。Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素原子、ヒド
    ロキシ基、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
    す。Ｒｂ、Ｒｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、芳香族基
    またはヘテロ環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族基、芳香
    族基、ヘテロ環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（ＲｊおよびＲ
    ｋはＲｂと同義である。）または−ＯＲｍ（Ｒｍは脂肪
    族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。）を表す。Ｌ
    1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／またはそ
    れらの組み合わせから成る基を含む二価の連結基を表
    す。Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳
    香族基またはヘテロ環基を表す。 【化４０】 式中、Ｒ21およびＲ22は一般式（１）のＲ11と同義であ
    る。Ｚはヘテロ環基を表す。Ｌ2 は二価の連結基を表
    す。ｍは０または１を表す。 【化４１】 式中、Ｌ3 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
    またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
    基を表す。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基
    またはヒドロキシ基を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、
    Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、水素原子、脂肪族基、芳香族
    基またはヘテロ環基を表す。Ｒ38およびＲ39は、水素原
    子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファモイル基、カ
    ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
    シカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基を表
    す。また、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成してもよい。
    ｐおよびｑは０または１を表す。 【化４２】 式中、Ａ41、Ａ42およびＡ43は、一般式（３）における
    Ａ31と同義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ43は一般式
    （１）におけるＬ1 と同義である。Ｙは酸素原子または
    硫黄原子を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０をま
    たは１を表わす。Ｒ41は置換基を表す。ａは０、１、
    ２、３または４を表す。 【化４３】 式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54は、水素原子、脂肪
    族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ51−Ａ51（Ｌ51は一
    般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ａ51はカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボン
    アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
    ァモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基またはア
    ルキルチオ基を表す。）または下記一般式（６）で示さ
    れる基を表す。Ｗ51はアルキレン基および／またはアリ
    ーレン基を含む二価の連結基を表わす。但し、Ｘ51、Ｘ
    52、Ｘ53およびＸ54の少なくとも一つは下記一般式
    （６）で示される基を表わす。 【化４４】 式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
    必要な原子群を表す。Ａ52は水素原子、カルボキシ基、
    ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
    基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
    ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
    基またはアミノ基を表す。 【化４５】 式中、Ｗ61はチオエーテル基とアルキレン基および／ま
    たはアリーレン基を含有した二価の連結基を表す。
    Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はアルキレン基を表す。Ａ
    61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれカルボキシ基、ホ
    スホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表す。 【化４６】 式中、Ｗ71は総炭素数４以上のアルキレン基を表す。Ｌ
    71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74はアルキレン基を表す。
    Ａ71、Ａ72、Ａ73、Ａ74およびＡ74はそれぞれカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
    す。 【化４７】 式中、Ｊは水素原子またはヒドロキシ基を表す。Ｍ8 は
    水素原子またはカチオンを表す。Ｇ81およびＧ82はヒド
    ロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、アミ
    ノ基、またはエーテル基を置換基として有する脂肪族
    基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。ｘは０または１
    を表す。
  6. 【請求項６】 ハロゲン化銀感光材料を露光、現像処理
    して形成された銀画像を、下記一般式（１）、（２）、
    （３）、（４）、（５）、（７）、（８）及び（９）か
    ら選ばれた少なくとも１種のアミノ化合物の第二鉄キレ
    ート化合物と錯形成剤ならびに染料の存在下で減力処理
    することを特徴とする銀画像の減力処理法。 【化４８】 式中、Ｘは−Ｃ（＝Ｘ11）−Ｎ（Ｒａ）−Ｒｂ、 −Ｎ（Ｒｃ）−Ｃ（＝Ｘ12）−Ｒｄ、 −ＳＯ2 ＮＲｅ（Ｒｆ）、−Ｎ（Ｒｇ）ＳＯ2 Ｒｈ、 または−ＳＲｉ（Ｘ11およびＸ12は酸素原子または硫黄
    原子を表す。Ｒａ、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは水素原子、ヒド
    ロキシ基、脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
    す。Ｒｂ、Ｒｆ、Ｒｉは水素原子、脂肪族基、芳香族基
    またはヘテロ環基を表す。Ｒｄ、Ｒｈは脂肪族基、芳香
    族基、ヘテロ環基、−Ｎ（Ｒｊ）−Ｒｋ（ＲｊおよびＲ
    ｋはＲｂと同義である。）または−ＯＲｍ（Ｒｍは脂肪
    族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。）を表す。Ｌ
    1 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／またはそ
    れらの組み合わせから成る基を含む二価の連結基を表
    す。Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水素原子、脂肪族基、芳
    香族基またはヘテロ環基を表す。 【化４９】 式中、Ｒ21およびＲ22は一般式（１）のＲ11と同義であ
    る。Ｚはヘテロ環基を表す。Ｌ2 は二価の連結基を表
    す。ｍは０または１を表す。 【化５０】 式中、Ｌ3 は脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基および／
    またはそれらの組み合わせから成る基を含む二価の連結
    基を表す。Ａ31はカルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基
    またはヒドロキシ基を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、
    Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、水素原子、脂肪族基、芳香族
    基またはヘテロ環基を表す。Ｒ38およびＲ39は、水素原
    子、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
    シアノ基、ニトロ基、アシル基、スルファモイル基、カ
    ルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキ
    シカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基を表
    す。また、Ｒ38とＲ39は連結して環を形成してもよい。
    ｐおよびｑは０または１を表す。 【化５１】 式中、Ａ41、Ａ42およびＡ43は、一般式（３）における
    Ａ31と同義である。Ｌ41、Ｌ42およびＬ43は一般式
    （１）におけるＬ1 と同義である。Ｙは酸素原子または
    硫黄原子を表す。ｓ、ｔ、ｕおよびｖはそれぞれ０をま
    たは１を表わす。Ｒ41は置換基を表す。ａは０、１、
    ２、３または４を表す。 【化５２】 式中、Ｘ51、Ｘ52、Ｘ53およびＸ54は、水素原子、脂肪
    族基、芳香族基、ヘテロ環基、−Ｌ51−Ａ51（Ｌ51は一
    般式（１）におけるＬ1 と同義である。Ａ51はカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボン
    アミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルフ
    ァモイル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基またはア
    ルキルチオ基を表す。）または下記一般式（６）で示さ
    れる基を表す。Ｗ51はアルキレン基および／またはアリ
    ーレン基を含む二価の連結基を表わす。但し、Ｘ51、Ｘ
    52、Ｘ53およびＸ54の少なくとも一つは下記一般式
    （６）で示される基を表わす。 【化５３】 式中、Ｂはアリール基またはヘテロ環基を形成するのに
    必要な原子群を表す。Ａ52は水素原子、カルボキシ基、
    ホスホノ基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド
    基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイ
    ル基、ヒドロキサム酸基、アルコキシ基、アルキルチオ
    基またはアミノ基を表す。 【化５４】 式中、Ｗ61はチオエーテル基とアルキレン基および／ま
    たはアリーレン基を含有した二価の連結基を表す。
    Ｌ61、Ｌ62、Ｌ63およびＬ64はアルキレン基を表す。Ａ
    61、Ａ62、Ａ63およびＡ64はそれぞれカルボキシ基、ホ
    スホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表す。 【化５５】 式中、Ｗ71は総炭素数４以上のアルキレン基を表す。Ｌ
    71、Ｌ72、Ｌ73およびＬ74はアルキレン基を表す。
    Ａ71、Ａ72、Ａ73、Ａ74およびＡ74はそれぞれカルボキ
    シ基、ホスホノ基、スルホ基またはヒドロキシ基を表
    す。 【化５６】 式中、Ｊは水素原子またはヒドロキシ基を表す。Ｍ8 は
    水素原子またはカチオンを表す。Ｇ81およびＧ82はヒド
    ロキシ基、カルボキシ基、ホスホノ基、スルホ基、アミ
    ノ基、またはエーテル基を置換基として有する脂肪族
    基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。ｘは０または１
    を表す。
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