JPH0519759Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0519759Y2 JPH0519759Y2 JP1986180726U JP18072686U JPH0519759Y2 JP H0519759 Y2 JPH0519759 Y2 JP H0519759Y2 JP 1986180726 U JP1986180726 U JP 1986180726U JP 18072686 U JP18072686 U JP 18072686U JP H0519759 Y2 JPH0519759 Y2 JP H0519759Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat
- heat treatment
- treatment container
- container
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は高温高真空熱処理装置に関し、特に高
温高真空中での被熱処理物の温度分布改善に使用
する熱処理容器の改良に関する。
温高真空中での被熱処理物の温度分布改善に使用
する熱処理容器の改良に関する。
従来、タンタル固体電解コンデンサ等の製造過
程で使用する、高温高真空熱処理装置は第３図に
示すように、半円筒状に成形した発熱体４と、該
発熱体４内に搬出入する搬送台５とを備え、被熱
処理物３、例えば粉末成形体などの小塊を板状に
載置した箱状の耐熱性容器２を搬送台５上に搭載
しこれを発熱体４内に搬入して高温高真空状態の
下に熱処理を行つている。
程で使用する、高温高真空熱処理装置は第３図に
示すように、半円筒状に成形した発熱体４と、該
発熱体４内に搬出入する搬送台５とを備え、被熱
処理物３、例えば粉末成形体などの小塊を板状に
載置した箱状の耐熱性容器２を搬送台５上に搭載
しこれを発熱体４内に搬入して高温高真空状態の
下に熱処理を行つている。
しかしながら、従来の熱処理装置の構造では被
熱処理物３を積載した耐熱性容器２を搬入・搬出
するための搬送台５は上方の発熱体４からの熱輻
射に対して熱処理容器２の影になるため、温度が
上がりにくく、熱処理容器２に比べて低温とな
る。このため、熱処理容器２の底面から搬送台５
への輻射による熱の発散が大きく、被熱処理物３
上では表面の温度に比べて底面での温度が低くな
り、品質の均一な製品が得られないという欠点が
ある。
熱処理物３を積載した耐熱性容器２を搬入・搬出
するための搬送台５は上方の発熱体４からの熱輻
射に対して熱処理容器２の影になるため、温度が
上がりにくく、熱処理容器２に比べて低温とな
る。このため、熱処理容器２の底面から搬送台５
への輻射による熱の発散が大きく、被熱処理物３
上では表面の温度に比べて底面での温度が低くな
り、品質の均一な製品が得られないという欠点が
ある。
本考案の目的は、熱処理容器に収容された被熱
処理物の各部を均一に熱処理しうる熱処理装置を
提供することにある。
処理物の各部を均一に熱処理しうる熱処理装置を
提供することにある。
上記目的を達成するため、本考案による熱処理
装置においては、発熱体と搬送台と熱処理容器と
熱遮蔽板とを有し、高温高真空の下で熱処理を行
う熱処理装置であつて、 発熱体は、半円筒状をなし、内部に搬送台の挿
入空間を形成し、半円筒表面から搬送台上に向け
て熱を照射するものであり、 搬送台は、熱処理容器を搭載して発熱体内に搬
出入するものであり、上面要所に突状の搭載部を
有し、 熱処理容器は、被熱処理物を収容するものであ
り、 熱遮蔽板は、熱処理容器の底部下面に設置さ
れ、熱処理容器と搬送台間を熱的に遮蔽し、熱処
理容器内に収容された被熱処理物の表面側と底面
側とに生ずる温度差を改善するものである。
装置においては、発熱体と搬送台と熱処理容器と
熱遮蔽板とを有し、高温高真空の下で熱処理を行
う熱処理装置であつて、 発熱体は、半円筒状をなし、内部に搬送台の挿
入空間を形成し、半円筒表面から搬送台上に向け
て熱を照射するものであり、 搬送台は、熱処理容器を搭載して発熱体内に搬
出入するものであり、上面要所に突状の搭載部を
有し、 熱処理容器は、被熱処理物を収容するものであ
り、 熱遮蔽板は、熱処理容器の底部下面に設置さ
れ、熱処理容器と搬送台間を熱的に遮蔽し、熱処
理容器内に収容された被熱処理物の表面側と底面
側とに生ずる温度差を改善するものである。
タンタル固体電解コンデンサ等の製造過程での
熱処理は、一般に1500℃〜2000℃の高温，10-5〜
10-6Torrの高真空下で行われる。熱処理物から
の熱発散は、輻射によるものが主要因であり、熱
伝導，対流は殆ど無視できる。熱輻射により搬送
台側に発散する熱量Q′は概ね次式で表わされる。
熱処理は、一般に1500℃〜2000℃の高温，10-5〜
10-6Torrの高真空下で行われる。熱処理物から
の熱発散は、輻射によるものが主要因であり、熱
伝導，対流は殆ど無視できる。熱輻射により搬送
台側に発散する熱量Q′は概ね次式で表わされる。
Q′＝（１／２）nＱ
ただし、Ｑは被熱処理物の熱量、ｎは熱遮蔽板
の枚数である。
の枚数である。
熱遮蔽に必要な熱遮蔽板の枚数を設定して発熱
体の半円筒表面から熱照射を行うと、熱は、被熱
処理物に蓄熱され、被熱処理物は、各部の温度差
が少なく均一に加熱処理される。
体の半円筒表面から熱照射を行うと、熱は、被熱
処理物に蓄熱され、被熱処理物は、各部の温度差
が少なく均一に加熱処理される。
以下、本考案の一実施例を図により説明する。
第１図において、本考案に係る高温高真空熱処
理装置は厚さ１mmのタンタル板を長さ400mm，半
径100mmの半円筒状の発熱体４と、該発熱体４内
に搬出入させる幅180mm，長さ400mm，高さ20mmの
カーボン製搬送台５とを備えている。搬送台５は
その上面に箱状熱処理容器２を載置する突状の搭
載部５ａ，５ａが設けてある。容器２は厚さ0.5
mmのタンタル板を幅150mm，長さ300mm，高さ10mm
に成形した箱状の耐熱性容器である。第２図は厚
さ0.5mm，幅150mm，長さ300mmのタンタル板を３
枚0.5mm間隔に配置しリベツトにて固定した熱遮
蔽板１である。本考案は第２図に示す熱遮蔽板１
を容器２の底部下部に敷設したものである。
理装置は厚さ１mmのタンタル板を長さ400mm，半
径100mmの半円筒状の発熱体４と、該発熱体４内
に搬出入させる幅180mm，長さ400mm，高さ20mmの
カーボン製搬送台５とを備えている。搬送台５は
その上面に箱状熱処理容器２を載置する突状の搭
載部５ａ，５ａが設けてある。容器２は厚さ0.5
mmのタンタル板を幅150mm，長さ300mm，高さ10mm
に成形した箱状の耐熱性容器である。第２図は厚
さ0.5mm，幅150mm，長さ300mmのタンタル板を３
枚0.5mm間隔に配置しリベツトにて固定した熱遮
蔽板１である。本考案は第２図に示す熱遮蔽板１
を容器２の底部下部に敷設したものである。
実施例において、板状に載置したタンタル粉末
成形体３を収容した容器２を熱遮蔽板１を介して
搬送台５の搭載部５ａ上に載置する。本考案によ
れば、搬送台５と容器２との間に熱遮蔽板１が存
在するため、容器２内から底面を通して搬送台５
への熱発散は熱遮蔽板１に阻止され、容器２内に
おける被熱処理物３の表面と底面との温度分布が
改善される。
成形体３を収容した容器２を熱遮蔽板１を介して
搬送台５の搭載部５ａ上に載置する。本考案によ
れば、搬送台５と容器２との間に熱遮蔽板１が存
在するため、容器２内から底面を通して搬送台５
への熱発散は熱遮蔽板１に阻止され、容器２内に
おける被熱処理物３の表面と底面との温度分布が
改善される。
第４図は本考案の熱処理容器を使用し、加熱温
度1800℃、真空度10-5Torr台にて熱処理し、被
熱処理物上の表面での温度と底面での温度の差を
求めるという操作を10回繰り返して平均を求め、
従来例と比較した図である。第４図において、ａ
−Ａ，ｃ−Ｃは第１図に示す熱処理容器２の外縁
部２ａ，２ｃでの測定位置、ｂ−Ｂは中央部２ｂ
での測定位置を示す。
度1800℃、真空度10-5Torr台にて熱処理し、被
熱処理物上の表面での温度と底面での温度の差を
求めるという操作を10回繰り返して平均を求め、
従来例と比較した図である。第４図において、ａ
−Ａ，ｃ−Ｃは第１図に示す熱処理容器２の外縁
部２ａ，２ｃでの測定位置、ｂ−Ｂは中央部２ｂ
での測定位置を示す。
第４図に示す如く、従来例の表面と底面の温度
差の分布ΔT2では、表面と底面との温度差が最大
で10℃であつたのに対して、本考案の実施例の温
度差の分布ΔT1では最大温度差が最大４℃とな
り、被熱処理物３上での温度分布が大幅に改善さ
れた。
差の分布ΔT2では、表面と底面との温度差が最大
で10℃であつたのに対して、本考案の実施例の温
度差の分布ΔT1では最大温度差が最大４℃とな
り、被熱処理物３上での温度分布が大幅に改善さ
れた。
以上説明したように本考案は高温高真空熱処理
装置の熱処理容器の下面に熱遮蔽板を敷設するこ
とにより、熱処理容器底面から搬送台への熱の発
散を減少でき、品質の均一な製品を得ることがで
きる効果を有するものである。
装置の熱処理容器の下面に熱遮蔽板を敷設するこ
とにより、熱処理容器底面から搬送台への熱の発
散を減少でき、品質の均一な製品を得ることがで
きる効果を有するものである。
第１図は本考案の一実施例を示す断面図、第２
図は熱遮蔽板の構造を示す斜視図、第３図は従来
例を示す断面図、第４図は本考案と従来例におけ
る被熱処理物上での表面と底面との温度差の分布
を示すグラフである。 １……熱遮蔽板、２……熱処理容器、３……被
熱処理物、４……発熱体、５……搬送台。
図は熱遮蔽板の構造を示す斜視図、第３図は従来
例を示す断面図、第４図は本考案と従来例におけ
る被熱処理物上での表面と底面との温度差の分布
を示すグラフである。 １……熱遮蔽板、２……熱処理容器、３……被
熱処理物、４……発熱体、５……搬送台。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 発熱体と搬送台と熱処理容器と熱遮蔽板とを有
し、高温高真空の下で熱処理を行う熱処理装置で
あつて、 発熱体は、半円筒状をなし、内部に搬送台の挿
入空間を形成し、半円筒表面から搬送台上に向け
て熱を照射するものであり、 搬送台は、熱処理容器を搭載して発熱体内に搬
出入するものであり、上面要所に突状の搭載部を
有し、 熱処理容器は、被熱処理物を収容するものであ
り、 熱遮蔽板は、熱処理容器の底部下面に設置さ
れ、熱処理容器と搬送台間を熱的に遮蔽し、熱処
理容器内に収容された被熱処理物の表面側と底面
側とに生ずる温度差を改善するものであることを
特徴とする熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986180726U JPH0519759Y2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986180726U JPH0519759Y2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6387500U JPS6387500U (ja) | 1988-06-07 |
| JPH0519759Y2 true JPH0519759Y2 (ja) | 1993-05-24 |
Family
ID=31124944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986180726U Expired - Lifetime JPH0519759Y2 (ja) | 1986-11-25 | 1986-11-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0519759Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2526160Y2 (ja) * | 1990-05-24 | 1997-02-19 | 大同特殊鋼株式会社 | 真空熱処理炉における段積みトレー |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57163598U (ja) * | 1981-04-09 | 1982-10-15 |
-
1986
- 1986-11-25 JP JP1986180726U patent/JPH0519759Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6387500U (ja) | 1988-06-07 |
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