JPH0414928Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0414928Y2 JPH0414928Y2 JP1983184972U JP18497283U JPH0414928Y2 JP H0414928 Y2 JPH0414928 Y2 JP H0414928Y2 JP 1983184972 U JP1983184972 U JP 1983184972U JP 18497283 U JP18497283 U JP 18497283U JP H0414928 Y2 JPH0414928 Y2 JP H0414928Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating element
- heat
- treated
- temperature
- heat treatment
- Prior art date
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- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は高温・高真空熱処理装置に関し、とく
に高温・高真空中での熱処理に使用する発熱体構
造の改良に関する。
に高温・高真空中での熱処理に使用する発熱体構
造の改良に関する。
従来、タンタル固体電解コンデンサ等の製造過
程で使用する高温・高真空熱処理装置の炉内構成
は第１図の断面図に示す如く、図示省略したベル
ジヤー内に配置された半円筒状の発熱体１と板状
に載置された例えばタンタル粉末成形体（図示省
略）を積載してなる被熱処理体３（以下被熱処理
体と称す）からなり、発熱体１からの直接の熱輻
射により、被熱処理体３を熱処理していた。この
ため、被熱処理体３は発熱体１の不均一な熱輻射
の影響を直接受け、被熱処理体３上での温度分布
が一様にならず品質の均一な製品が得られない欠
点を有していた。
程で使用する高温・高真空熱処理装置の炉内構成
は第１図の断面図に示す如く、図示省略したベル
ジヤー内に配置された半円筒状の発熱体１と板状
に載置された例えばタンタル粉末成形体（図示省
略）を積載してなる被熱処理体３（以下被熱処理
体と称す）からなり、発熱体１からの直接の熱輻
射により、被熱処理体３を熱処理していた。この
ため、被熱処理体３は発熱体１の不均一な熱輻射
の影響を直接受け、被熱処理体３上での温度分布
が一様にならず品質の均一な製品が得られない欠
点を有していた。
本考案の目的はかかる従来欠点を改良した高
温・高真空熱処理装置を提供することにある。
温・高真空熱処理装置を提供することにある。
本考案によれば、ベルジヤー内に半円筒状の発
熱体を配置してなる高温・高真空熱処理装置にお
いて、上記発熱体と被熱処理体との間に間接発熱
体を被熱処理体と間接発熱体との距離が一定にな
るよう被覆配置したことを特徴とする高温・高真
空熱処理装置が得られる。
熱体を配置してなる高温・高真空熱処理装置にお
いて、上記発熱体と被熱処理体との間に間接発熱
体を被熱処理体と間接発熱体との距離が一定にな
るよう被覆配置したことを特徴とする高温・高真
空熱処理装置が得られる。
以下、本考案の実施例について第２図、第３図
を参照し説明する。
を参照し説明する。
第２図に示すように厚さ１mmのタンタル板を半
径100mm、長さ200mmの半円筒状に形成した発熱体
１を図示省略のベルジヤー内の底部に配置する。
次に、発熱体１と同材質で厚さ0.5mmの板を断面
コの字形（縦150mm×横145mm×高さ15mm）に折曲
げ加工した間接発熱体２を作製する。次に、この
間接発熱体２を図示省略の直方体状の熱処理容器
（タンタル材で縦140mm×横140mm×高さ10mm）内
に収納されたタンタル粉末成形体などの被熱処理
体３上に等間隔の間隙を設けて配置し、発熱体
１、間接発熱体２、および被熱処理体３の三者が
第２図の位置関係をなすように構成する。次に被
熱処理体３を発熱体１の熱輻射および間接発熱体
２の熱輻射により最高温度1500〜2000℃、真空度
10-5〜10-6Torr台にて、５回熱処理し第２図の
ａ〜ａ位置下の被熱処理体３の温度分布の平均値
を求めた。一方、従来例第１図に示す位置構成か
らなる被熱処理体３を発熱体１のみで本考案実施
例と同様に熱処理し同一個所の温度分布の平均値
を求めた。この結果は、第３図に示す如く、従来
例の鎖線Ａでは被熱処理体３上での温度分布のバ
ラツキが最大20℃であつたのに対し、本考案の実
線Ｂでは温度分布のバラツキが最大10℃以内であ
つた。
径100mm、長さ200mmの半円筒状に形成した発熱体
１を図示省略のベルジヤー内の底部に配置する。
次に、発熱体１と同材質で厚さ0.5mmの板を断面
コの字形（縦150mm×横145mm×高さ15mm）に折曲
げ加工した間接発熱体２を作製する。次に、この
間接発熱体２を図示省略の直方体状の熱処理容器
（タンタル材で縦140mm×横140mm×高さ10mm）内
に収納されたタンタル粉末成形体などの被熱処理
体３上に等間隔の間隙を設けて配置し、発熱体
１、間接発熱体２、および被熱処理体３の三者が
第２図の位置関係をなすように構成する。次に被
熱処理体３を発熱体１の熱輻射および間接発熱体
２の熱輻射により最高温度1500〜2000℃、真空度
10-5〜10-6Torr台にて、５回熱処理し第２図の
ａ〜ａ位置下の被熱処理体３の温度分布の平均値
を求めた。一方、従来例第１図に示す位置構成か
らなる被熱処理体３を発熱体１のみで本考案実施
例と同様に熱処理し同一個所の温度分布の平均値
を求めた。この結果は、第３図に示す如く、従来
例の鎖線Ａでは被熱処理体３上での温度分布のバ
ラツキが最大20℃であつたのに対し、本考案の実
線Ｂでは温度分布のバラツキが最大10℃以内であ
つた。
以下、本考案により被熱処理体上での温度分布
が均一になるので品質の均一な製品を得ることが
できる効果がある。
が均一になるので品質の均一な製品を得ることが
できる効果がある。
第１図は従来例の熱処理装置の内部構造の断面
図、第２図は本考案による間接発熱体を有する熱
処理装置の内部構造の斜視図、第３図は、従来例
と本考案実施例における被熱処理物上での温度分
布状態を示すグラフである。 １……発熱体、２……間接発熱体、３……被熱
処理体、Ａ……従来例における被熱処理体上での
温度分布線、Ｂ……本考案実施例における被熱処
理体上での温度分布線。
図、第２図は本考案による間接発熱体を有する熱
処理装置の内部構造の斜視図、第３図は、従来例
と本考案実施例における被熱処理物上での温度分
布状態を示すグラフである。 １……発熱体、２……間接発熱体、３……被熱
処理体、Ａ……従来例における被熱処理体上での
温度分布線、Ｂ……本考案実施例における被熱処
理体上での温度分布線。
Claims (1)
- ベルジヤー内に半円筒状の発熱体を配置してな
る高温・高真空熱処理装置において、前記発熱体
と被熱処理体との間に間接発熱体を被熱処理体と
間接発熱体の距離が一定になるよう被覆配置した
ことを特徴とする高温・高真空熱処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983184972U JPS6092819U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 高温・高真空熱処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983184972U JPS6092819U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 高温・高真空熱処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092819U JPS6092819U (ja) | 1985-06-25 |
| JPH0414928Y2 true JPH0414928Y2 (ja) | 1992-04-03 |
Family
ID=30399921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983184972U Granted JPS6092819U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 高温・高真空熱処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092819U (ja) |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP1983184972U patent/JPS6092819U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6092819U (ja) | 1985-06-25 |
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