JPH0520686A - デイスクキヤリア - Google Patents

デイスクキヤリア

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Publication number
JPH0520686A
JPH0520686A JP3169925A JP16992591A JPH0520686A JP H0520686 A JPH0520686 A JP H0520686A JP 3169925 A JP3169925 A JP 3169925A JP 16992591 A JP16992591 A JP 16992591A JP H0520686 A JPH0520686 A JP H0520686A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
disk
carrier
uniform
disk carrier
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3169925A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Tomita
健二 冨田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP3169925A priority Critical patent/JPH0520686A/ja
Publication of JPH0520686A publication Critical patent/JPH0520686A/ja
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  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜磁気ディスクの製造に用いるスパッタリ
ング用ディスクキャリアにおいて、磁気特性の均一な薄
膜磁気ディスクが作製でき、耐久性にも優れたディスク
キャリアを提供する。 【構成】 中央部にほぼ円形の穴を有する板状のディス
クキャリア11において、ディスク2を立てて支持する
内周面13にU字形の溝12を設けることにより、ディ
スク2とディスクキャリア11との熱伝導が良くなって
温度分布が均一となり、磁気特性の均一な薄膜磁気ディ
スクが得られる。また、熱応力の部分的集中が抑えられ
るためディスクキャリア11の変形が起り難くなり、そ
の耐久性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体として用
いる薄膜磁気ディスクの製造時に使用する、具体的には
スパッタリング法を用いてディスクの両面に同時に磁性
材等の材料を形成する際に用いるディスクキャリアに関
する。
【0002】
【従来の技術】ディスクドライブ等の電子機器に用いら
れる薄膜磁気ディスクの製造において、ディスク上に情
報を記憶するための磁性材等を形成する方法としては、
通常スパッタリング法を用いている。スパッタリングを
行う際にはディスクをディスクキャリアに挿入して立
て、そのディスクの両面の外側に磁性材等からなる一対
の垂直電極を配置してディスクの両面に同時に磁性材等
を形成する。
【0003】このスパッタリングの際に用いられる従来
のディスクキャリアについて、図面を参照しながら説明
する。
【0004】図2は従来のディスクキャリアの斜視図、
図3は図2におけるA−A線の詳細断面図で、いずれも
ディスクを装着した状態を示す。図2,図3に示すよう
に、ディスクキャリア1は板状のもので、その中央部に
ディスク2を挿入し立てて支持するためのほぼ円形の穴
1aが設けられている。その穴1aの形状は、上半分は
ディスク2の半径よりも大きい半径のほぼ半円の部分円
で、下半分はディスク1の半径よりわずかに小さい半径
のほぼ半円の部分円である。そして、ディスク2の挿入
を容易にするため、上半分の部分円の中心は下半分の部
分円の中心より上側に少しずらされており、また、ディ
スクキャリア1の円周縁には開口部が円形のテーパ1b
が施されている。さらに、ディスク2を立てて支持する
ため、ディスクキャリア1の下半分の内周面にはその内
周に沿ってV字形の溝1cが設けられている。なお、V
字形の溝1cの代りに前記内周面にピンを立てて支持す
る場合もある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなディスクキャリアを用いたスパッタリングにおいて
は、次のような問題点があった。まず第一に、スパッタ
リングはディスクおよびディスクキャリアが加熱された
状態で施されるが、その加熱の際、従来のV字形の溝等
でディスクが支持されている場合は、ディスクの外周縁
と溝の側面との非常に少ない接触面積で熱伝導が行なわ
れるため部分的に熱が集中して温度分布が不均一とな
り、熱応力が発生してディスクおよびディスクキャリア
が変形する。このため、ディスクの変形による不良が発
生し易いだけでなく、ディスクキャリアの寿命が短くな
って耐久性にも劣る。また、ディスクの温度分布が不均
一なためスパッタリングにより形成された薄膜磁気ディ
スクの磁気特性が不均一になるとともに、ディスクの温
度も変動し易いため高い磁気特性の薄膜磁気ディスクを
安定して作製することはかなり困難であった。
【0006】第二に、近年高保磁力の磁気特性に優れた
薄膜磁気ディスクを作製するためのスパッタリング法と
してバイアススパッタ法が利用されるが、バイアス電圧
を印加した際、従来のディスクキャリアの内周縁にテー
パを設けた構造では内周面から遠ざかるに従って板厚が
ディスクの厚みより大幅に厚くなり、電位分布が不均一
になる。このため、ディスクの外周近傍の磁性材等の膜
厚が不均一となるばかりでなく、温度分布も不均一にな
って外周近傍に磁気特性の低い領域が生じるという問題
点があった。
【0007】本発明は前記従来の問題点を解決するもの
で、磁気特性が大きくかつ均一な薄膜磁気ディスクが得
られ、さらに耐久性にも優れたディスクキャリアを提供
することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、中央部にほぼ円形の穴を有する板状のディ
スクキャリアにおいて、ディスクを立てて支持する前記
ディスクキャリアの穴の下半分の内周面に、その内周に
沿って底面が平らで前記内周面における開口部の幅が前
記底面の幅よりも大きいU字形の溝を設けたものであ
る。さらには必要により中央部の穴の外側の周り両面に
円形の窪みを設け、その窪みを設けた部分の板厚をディ
スクの厚みの2〜3倍としたものである。
【0009】
【作用】この構成により、U字形の溝の底面とディスク
の外周面とが接触するため接触面積が広くなってディス
クとディスクキャリアとの熱伝導が良好となり、熱応力
の発生が抑えられてディスクおよびディスクキャリアの
変形が生じ難くなるとともに、ディスクの温度の不均一
分布や温度変動も抑えられて磁気特性が均一でかつ大き
い優れた薄膜磁気ディスクが得られる。
【0010】また、板厚がディスクの厚みの2〜3倍の
窪みを設けたことにより、バイアス電圧を印加した際に
従来発生していたディスクの外周近傍における電位の不
均一分布も解消することができ、磁性材等の膜厚が均一
で磁気特性の大きい薄膜磁気ディスクを作製することが
できる。
【0011】
【実施例】以下本発明の一実施例について図面により説
明する。ただし、本実施例のディスクキャリアの全体的
な構造は図2に示した従来のものと類似しているので、
その説明は省略する。図1は本実施例のディスクキャリ
アにおけるディスクを支持する部分の断面図で、その断
面位置は図3と同じである。図1において、11は本発
明のディスクキャリアであり、12はディスク2を支持
するための穴の内周面13にその内周に沿って設けたU
字形の溝で、その溝12の底面14はディスク2の外周
面と同様平らで底面14の幅はディスク2の厚みより僅
かに大きくしている。また、内周面13における溝12
の開口部の幅は底面14の幅より大きく、底面14の垂
線と底面14の周縁と溝12の開口部の周縁とを結ぶ直
線とのなす角度が約5度になる幅としている。溝12を
このような形状とすることにより、ディスク2とディス
クキャリア11とはディスク2の外周面と溝の底面14
とで面接触することとなって両者の熱伝導が良好とな
り、従来の問題点の発生原因となっていた熱応力や温度
の不均一分布の発生を抑制することができる。
【0012】次に、窪みについて説明する。図1におい
て、15はディスクキャリア11の穴の内周面13の外
側の周り両面に一部を削り取って板面に設けた窪みで、
窪み15の開口部はディスク2を挿入し支持する穴を包
含し、中心が内周面13が作るほぼ半円の中心と一致す
る円形をしている。窪み15を設けた部分の板厚16は
ディスク2の厚みの約2.5倍で、熱変形および電位分
布の発生を考慮すると、2〜3倍が望ましい範囲であ
る。これは板厚16がディスク2の厚みの2倍より薄く
なると熱変形が起り易くなってディスクキャリアの寿命
が短かくなり、一方3倍より厚くなると電位の不均一分
布が発生し易くなることによる。なお、窪み15の開口
部の直径についても熱変形および電位の不均一分布の発
生を考慮する必要があるが、ディスク2の直径よりも5
〜10mm程度大きければよい。このような窪み15を設
けると、ディスク2の厚みと窪み15を設けた板厚との
厚み差が小さくなり、スパッタリングのバイアス電圧印
加時にディスク2の外周近傍で発生する電位の不均一分
布が発生し難くなる。したがって、磁製材等の膜厚が均
一となり、また温度分布も均一となって磁気特性が均一
でかつ大きい薄膜磁気ディスクが得られる。
【0013】
【発明の効果】以上のように本発明は、薄膜磁気ディス
クのスパッタリング時に使用する中央部にほぼ円形の穴
を有する板状のディスクキャリアにおいて、ディスクを
支持する部分の内周面にその内周に沿ってU字形の溝を
設けたことにより、ディスクとディスクキャリアとの接
触面積が広くなって熱伝導が良好となり、熱応力の発生
が抑えられてディスクおよびディスクキャリアの変形が
防止できるとともに、ディスクの温度分布も均一となっ
て磁気特性の均一な薄膜磁気ディスクを得ることができ
る。また、変形が発生しにくいのでディスクキャリアの
寿命が延び、耐久性が向上する。
【0014】さらに、板厚がディスクの厚みの2〜3倍
の窪みを設けたことにより、従来バイアス電圧を印加し
た際にディスクの外周近傍で発生していた電位の不均一
分布も解消でき、磁性材等の膜厚が均一で磁気特性に優
れた薄膜磁気ディスクを作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例におけるディスクキャリアの
ディスクを支持する部分の断面図
【図2】従来のディスクキャリアの斜視図
【図3】従来のディスクキャリアのディスクを支持する
部分の断面図
【符号の説明】
2 ディスク 11 ディスクキャリア 12 U字形の溝 13 内周面 14 底面 15 窪み 16 板厚

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】中央部にほぼ円形の穴を有する板状のディ
    スクキャリアにおいて、ディスクを立てて支持する前記
    ディスクキャリアの穴の下半分の内周面に、その内周に
    沿って底面が平らで前記内周面における開口部の幅が前
    記底面の幅よりも大きいU字形の溝を設けたディスクキ
    ャリア。
  2. 【請求項2】中央部の穴の外側の周り両面に円形の窪み
    を設け、その窪みを設けた部分の板厚をディスクの厚み
    の2〜3倍とした請求項1記載のディスクキャリア。
JP3169925A 1991-07-10 1991-07-10 デイスクキヤリア Pending JPH0520686A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3169925A JPH0520686A (ja) 1991-07-10 1991-07-10 デイスクキヤリア

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3169925A JPH0520686A (ja) 1991-07-10 1991-07-10 デイスクキヤリア

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0520686A true JPH0520686A (ja) 1993-01-29

Family

ID=15895491

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3169925A Pending JPH0520686A (ja) 1991-07-10 1991-07-10 デイスクキヤリア

Country Status (1)

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JP (1) JPH0520686A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007213730A (ja) * 2006-02-10 2007-08-23 Tdk Corp 基板保持装置及び磁気記録媒体の製造方法

Cited By (1)

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