JPH0521320Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0521320Y2 JPH0521320Y2 JP1986121736U JP12173686U JPH0521320Y2 JP H0521320 Y2 JPH0521320 Y2 JP H0521320Y2 JP 1986121736 U JP1986121736 U JP 1986121736U JP 12173686 U JP12173686 U JP 12173686U JP H0521320 Y2 JPH0521320 Y2 JP H0521320Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- surface plate
- rotating surface
- signal
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は、ポリシング(ラツピング)装置等に
おける定盤の温度を一定に保つための温度制御装
置に関する。
おける定盤の温度を一定に保つための温度制御装
置に関する。
(従来の技術)
周知のように、ポリシング装置はポリシング液
等を介して定盤にてワーク表面を研磨するもので
あり、回転する定盤とワークとの摩擦によつて定
盤の温度は次第に上昇していく。この温度上昇を
放置しておくと熱膨張等による定盤の変形によつ
て定盤の平面度が低下し、ひいてはワークの加工
精度も低下することとなる。このため、従来から
定盤を冷却してその温度を一定に保つための温度
制御装置が種々提案されている。
等を介して定盤にてワーク表面を研磨するもので
あり、回転する定盤とワークとの摩擦によつて定
盤の温度は次第に上昇していく。この温度上昇を
放置しておくと熱膨張等による定盤の変形によつ
て定盤の平面度が低下し、ひいてはワークの加工
精度も低下することとなる。このため、従来から
定盤を冷却してその温度を一定に保つための温度
制御装置が種々提案されている。
具体的には実開昭60−56460号公報記載の研磨
装置が知られており、第2図はその構成中におけ
る温度検出部と冷却装置部についての一部を示す
ものである。図において11は定盤、12は定盤
11内を循環させる冷却液が収容されるタンク、
13は冷却コイル、14はポンプ、15,16は
パイプ、19はパツドをそれぞれ示す。そして、
定盤11の温度は赤外線温度センサ17によつて
検出され、この温度に応じて制御回路18を介し
てポンプ14内のニードル弁の開口度を変え、か
つ電磁弁をON・OFFさせて冷却能力を調節し、
もつて定盤11の温度を上昇させることなく一定
に保つものである。
装置が知られており、第2図はその構成中におけ
る温度検出部と冷却装置部についての一部を示す
ものである。図において11は定盤、12は定盤
11内を循環させる冷却液が収容されるタンク、
13は冷却コイル、14はポンプ、15,16は
パイプ、19はパツドをそれぞれ示す。そして、
定盤11の温度は赤外線温度センサ17によつて
検出され、この温度に応じて制御回路18を介し
てポンプ14内のニードル弁の開口度を変え、か
つ電磁弁をON・OFFさせて冷却能力を調節し、
もつて定盤11の温度を上昇させることなく一定
に保つものである。
また、図示されていないが、回転する定盤に温
度センサを埋め込み、温度信号の送信用アンテナ
を定盤の周辺部に取り付けると共に、別個に設置
した温度信号の受信用アンテナにて受けたFM波
等のワイヤレスの信号をコントローラに送り、こ
のコントローラによつて冷却液流量の制御時間間
隔や目標温度を制御するものも提供されている。
度センサを埋め込み、温度信号の送信用アンテナ
を定盤の周辺部に取り付けると共に、別個に設置
した温度信号の受信用アンテナにて受けたFM波
等のワイヤレスの信号をコントローラに送り、こ
のコントローラによつて冷却液流量の制御時間間
隔や目標温度を制御するものも提供されている。
(考案が解決しようとする問題点)
しかしながら、第2図の方法では定盤11の温
度を定盤11の外部において間接的に検出するも
のであるため、検出温度の正確性に乏しく、定盤
11の一定温度制御を精度よく行なえないという
問題があつた。また、図示されていない方法では
回転する定盤の回転中心以外の場所から温度信号
をFM等によつてワイヤレスで送るため、連続信
号が取り出しにくいという欠点があつた。
度を定盤11の外部において間接的に検出するも
のであるため、検出温度の正確性に乏しく、定盤
11の一定温度制御を精度よく行なえないという
問題があつた。また、図示されていない方法では
回転する定盤の回転中心以外の場所から温度信号
をFM等によつてワイヤレスで送るため、連続信
号が取り出しにくいという欠点があつた。
本考案は上記の問題点を解決するべく提案され
たもので、その目的とするところは、定盤から直
接検出した正確な温度に基づいて一定温度制御を
可能にし、しかも信号の連続的な授受によつて温
度制御を一層正確に行い得る構成簡単な定盤の温
度制御装置を提供することにある。
たもので、その目的とするところは、定盤から直
接検出した正確な温度に基づいて一定温度制御を
可能にし、しかも信号の連続的な授受によつて温
度制御を一層正確に行い得る構成簡単な定盤の温
度制御装置を提供することにある。
(問題点を解決するための手段)
上記目的を達成するため、本考案は、回転定盤
の温度を温度センサにより測定しながら、回転定
盤内部に冷却液を循環させて回転定盤を所定温度
に保持するポリシング装置用回転定盤の温度制御
装置において、回転定盤内部に設置した接触型の
温度センサと、回転定盤の中心部に信号送出部を
配設するとともに前記温度センサが検出した温度
信号をワイヤレスにより送信する送信回路部と、
回転定盤の中心部上方であつて、前記信号送出部
に対向する位置に信号受信部を設置し送信されて
きた温度信号を受信する受信回路部と、この受信
回路部に受信された温度信号にもとづき、回転定
盤内部に供給される冷却液の温度または/および
流量を制御する制御手段とを具備することを特徴
とする。
の温度を温度センサにより測定しながら、回転定
盤内部に冷却液を循環させて回転定盤を所定温度
に保持するポリシング装置用回転定盤の温度制御
装置において、回転定盤内部に設置した接触型の
温度センサと、回転定盤の中心部に信号送出部を
配設するとともに前記温度センサが検出した温度
信号をワイヤレスにより送信する送信回路部と、
回転定盤の中心部上方であつて、前記信号送出部
に対向する位置に信号受信部を設置し送信されて
きた温度信号を受信する受信回路部と、この受信
回路部に受信された温度信号にもとづき、回転定
盤内部に供給される冷却液の温度または/および
流量を制御する制御手段とを具備することを特徴
とする。
(作用)
本考案においては、ポリシング装置用の回転定
盤内部に設置された接触型の温度センサが回転定
盤の温度を直接検出し、送信回路部がその温度信
号を回転定盤の中心部に位置する信号送出部より
ワイヤレスで送出する。送出された温度信号は、
信号送出部に対向した位置に設置された信号受信
部を介して受信回路部に受信され、受信した温度
信号にもとづき制御手段が回転定盤内部に供給さ
れる冷却液の温度、流量を制御することにより、
回転定盤の温度を一定温度以下に均一に保持する
ことができる。
盤内部に設置された接触型の温度センサが回転定
盤の温度を直接検出し、送信回路部がその温度信
号を回転定盤の中心部に位置する信号送出部より
ワイヤレスで送出する。送出された温度信号は、
信号送出部に対向した位置に設置された信号受信
部を介して受信回路部に受信され、受信した温度
信号にもとづき制御手段が回転定盤内部に供給さ
れる冷却液の温度、流量を制御することにより、
回転定盤の温度を一定温度以下に均一に保持する
ことができる。
また、信号送出部が回転定盤の中心部に位置す
るとともに、同じく回転中心部の上方に信号受信
部が信号送出部に対向して配置されているため
に、回転駆動されている状態であつても、受信部
に対する信号の送出位置が一定となり温度信号が
連続して送受信されて、制御手段における冷却液
の制御が連続となつて応答性が向上する。
るとともに、同じく回転中心部の上方に信号受信
部が信号送出部に対向して配置されているため
に、回転駆動されている状態であつても、受信部
に対する信号の送出位置が一定となり温度信号が
連続して送受信されて、制御手段における冷却液
の制御が連続となつて応答性が向上する。
これらの結果、回転定盤の温度が高精度で常時
一定値以下に保たれて温度むらによる回転定盤の
変形が防止され、ポリシング加工されたワークの
平面精度が向上する。
一定値以下に保たれて温度むらによる回転定盤の
変形が防止され、ポリシング加工されたワークの
平面精度が向上する。
(実施例)
以下、図に沿つて本考案の一実施例を説明す
る。第1図は本考案に係るポリシング装置の要部
を示すもので、1は回転定盤(以下、定盤と略称
する)、2はその表面に取り付けられたパツドを
示している。定盤1の内部には従来と同様に冷却
液を循環させるパイプ3が収容されており、これ
らのパイプ3はパイプ15A,16Aを介してポ
ンプ14Aおよび冷却液用のタンク12Aに連通
されている。なお、13Aは冷却コイルを示す。
る。第1図は本考案に係るポリシング装置の要部
を示すもので、1は回転定盤(以下、定盤と略称
する)、2はその表面に取り付けられたパツドを
示している。定盤1の内部には従来と同様に冷却
液を循環させるパイプ3が収容されており、これ
らのパイプ3はパイプ15A,16Aを介してポ
ンプ14Aおよび冷却液用のタンク12Aに連通
されている。なお、13Aは冷却コイルを示す。
一方、定盤1の内部の適宜な位置にはサーミス
タ等からなる接触型の温度測定用センサ4が取り
付けられ、このセンサ4には定盤1の上面の回転
中心に位置する送信回路部としての送信器6がリ
ード線5を介して接続されている。送信器6は信
号送出部としてのアンテナ7を備えており、セン
サ4にて検出した温度に対応する電気信号は送信
器6内で増幅された後に例えばFM変調され、か
かるFM波がアンテナ7から送信される。
タ等からなる接触型の温度測定用センサ4が取り
付けられ、このセンサ4には定盤1の上面の回転
中心に位置する送信回路部としての送信器6がリ
ード線5を介して接続されている。送信器6は信
号送出部としてのアンテナ7を備えており、セン
サ4にて検出した温度に対応する電気信号は送信
器6内で増幅された後に例えばFM変調され、か
かるFM波がアンテナ7から送信される。
アンテナ7の上方にはポリシング液8等を供給
するパイプ9が配設され、その直下には前記FM
波を受信する信号受信部としてのアンテナ10が
取り付けられている。また、アンテナ10にはコ
ントローラ18Aが接続されている。このコント
ローラ18Aは受信器やアンプ、更にはポンプ1
4A内のニードル弁、電磁弁やポンプ14Aの回
転速度、冷却液の温度等を制御する制御回路を備
えている。
するパイプ9が配設され、その直下には前記FM
波を受信する信号受信部としてのアンテナ10が
取り付けられている。また、アンテナ10にはコ
ントローラ18Aが接続されている。このコント
ローラ18Aは受信器やアンプ、更にはポンプ1
4A内のニードル弁、電磁弁やポンプ14Aの回
転速度、冷却液の温度等を制御する制御回路を備
えている。
この動作を説明すると、既に明らかなようにセ
ンサ4によつて直接検出された定盤1の温度は電
気信号として送信器6のアンテナ7から受信器の
アンテナ10に送られる。この電気信号はコント
ローラ18A内で増幅・復調等の後に所定の設定
温度に対応する電気信号と比較される。そして、
その偏差に応じて前記コントローラ18Aを介し
てニードル弁の開口度やポンプ14Aの回転速
度、冷却液の温度を調節することにより、定盤1
に供給する冷却液の流量や温度を制御し、定盤1
を低温かつ一定温度に保つものである。
ンサ4によつて直接検出された定盤1の温度は電
気信号として送信器6のアンテナ7から受信器の
アンテナ10に送られる。この電気信号はコント
ローラ18A内で増幅・復調等の後に所定の設定
温度に対応する電気信号と比較される。そして、
その偏差に応じて前記コントローラ18Aを介し
てニードル弁の開口度やポンプ14Aの回転速
度、冷却液の温度を調節することにより、定盤1
に供給する冷却液の流量や温度を制御し、定盤1
を低温かつ一定温度に保つものである。
なお、実施例ではアンテナ7とアンテナ10の
間をFM波により温度の信号を送信していたが、
FM波以外にも赤外線等を用いることも可能であ
る。
間をFM波により温度の信号を送信していたが、
FM波以外にも赤外線等を用いることも可能であ
る。
(考案の効果)
以上のように本考案によれば、本考案において
は、外部から非接触の温度センサを用いてポリシ
ング装置の回転定盤の温度を検出する場合と異な
り、回転定盤内部の任意の位置に接触型の温度セ
ンサを設置し、しかも温度センサが検出した回転
定盤の温度信号を回転定盤の中心部に対向して設
置された信号の送・受信部を介してワイヤレスで
外部の制御手段に連続して送出することにより、
制御手段が回転定盤へ送る冷却液の温度または/
および流量を短い応答時間で正確に制御可能とな
り、回転定盤の温度を高精度で所定温度に保持す
ることができ、温度むらによる回転定盤の変形が
解消される。その結果、回転定盤上のセツトされ
たワークの平面度および温度が均一に維持され
て、ポリシング装置が加工したワークの平面度を
大幅に高めることができる。
は、外部から非接触の温度センサを用いてポリシ
ング装置の回転定盤の温度を検出する場合と異な
り、回転定盤内部の任意の位置に接触型の温度セ
ンサを設置し、しかも温度センサが検出した回転
定盤の温度信号を回転定盤の中心部に対向して設
置された信号の送・受信部を介してワイヤレスで
外部の制御手段に連続して送出することにより、
制御手段が回転定盤へ送る冷却液の温度または/
および流量を短い応答時間で正確に制御可能とな
り、回転定盤の温度を高精度で所定温度に保持す
ることができ、温度むらによる回転定盤の変形が
解消される。その結果、回転定盤上のセツトされ
たワークの平面度および温度が均一に維持され
て、ポリシング装置が加工したワークの平面度を
大幅に高めることができる。
更に、構成が比較的簡単であるから、低コスト
にて提供することができる。
にて提供することができる。
第1図は本考案の一実施例を示す要部の説明
図、第2図は従来例を示す説明図である。 1……回転定盤、2……パツド、3……パイ
プ、4……センサ、5……リード線、6……送信
器、7……アンテナ、8……ポリシング液、9…
…パイプ、10……アンテナ、12A……タン
ク、13A……冷却コイル、14A……ポンプ、
15A,16A……パイプ、18A……コントロ
ーラ。
図、第2図は従来例を示す説明図である。 1……回転定盤、2……パツド、3……パイ
プ、4……センサ、5……リード線、6……送信
器、7……アンテナ、8……ポリシング液、9…
…パイプ、10……アンテナ、12A……タン
ク、13A……冷却コイル、14A……ポンプ、
15A,16A……パイプ、18A……コントロ
ーラ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 回転定盤の温度を温度センサにより測定しなが
ら、回転定盤内部に冷却液を循環させて回転定盤
を所定温度に保持するポリシング装置用回転定盤
の温度制御装置において、 回転定盤内部に設置した接触型の温度センサ
と、 回転定盤の中心部に信号送出部を配設するとと
もに前記温度センサが検出した温度信号をワイヤ
レスにより送信する送信回路部と、 回転定盤の中心部上方であつて、前記信号送出
部に対向する位置に信号受信部を設置し送信され
てきた温度信号を受信する受信回路部と、 この受信回路部に受信された温度信号にもとづ
き、回転定盤内部に供給される冷却液の温度また
は/および流量を制御する制御手段と、 を具備することを特徴とするポリシング装置用回
転定盤の温度制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986121736U JPH0521320Y2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986121736U JPH0521320Y2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6330466U JPS6330466U (ja) | 1988-02-27 |
| JPH0521320Y2 true JPH0521320Y2 (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=31011278
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986121736U Expired - Lifetime JPH0521320Y2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521320Y2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6056460U (ja) * | 1983-09-27 | 1985-04-19 | 株式会社東芝 | 研磨装置 |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP1986121736U patent/JPH0521320Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6330466U (ja) | 1988-02-27 |
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