JPH05214364A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】i)式（Ｉ）の陰イオン性界面活性剤又はその
塩、及び式（II）の両イオン性界面活性剤からなる群か
ら選ばれた少なくとも１種の界面活性剤、ii) 式（II
I）の陰イオン性界面活性剤又はその塩、並びにiii)ヒ
ノキチオール又はその塩からなる防腐剤、を含有する洗
浄剤組成物。 （式中、Ｒ^１は炭素数４０以下の飽和又は不飽和炭化水
素基を示し、Ｒ^２は低級アルキル基を示し、Ａは低級ア
ルキレン基を示す。） （式中、Ｒ^３は、炭素数４０以下の飽和又は不飽和炭化
水素基を示し、Ｒ^４及びＲ^５はそれぞれ低級アルキル基
を示し、Ｂは低級アルキレン基を示す。） Ｒ^６Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎＣＨ_２ＣＯＯＨ （III） （式中、Ｒ^６は、炭素数４０以下の飽和又は不飽和炭化
水素基を示し、１≦ｎ≦１０である。） 【効果】この洗浄剤組成物は、皮膚に対して低刺激性
で、起泡性、洗浄性等の洗浄剤としての必須の性能も充
分に満足するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、低刺激性及び低脱脂力
の洗浄剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来用
いられてきた洗浄剤組成物（例えばシャンプー）は刺激
性が強いため、かゆみの発生を促し、あるいはアレルギ
ーの原因となるものであり、アトピー性皮膚炎、接触皮
膚炎等の皮膚疾患の患者、特に刺激に弱い患者に用いる
ことはできなかった。更に、従来の洗浄剤組成物は、一
般に脱脂力が強すぎるために油分の滞留量等に大きな問
題があり、皮膚の乾燥やつっぱり感等の原因となり、こ
れが皮膚の正常な活動を妨げる要因となることもあっ
た。一方、脱脂力の弱い洗浄剤組成物は、泡立ちが悪い
等使用感の点で満足のいくものではなかった。

【０００３】本発明の目的は、起泡性、洗浄性等の洗浄
剤としての必須の性能が良好であり、かつアトピー性皮
膚炎又はその他の皮膚疾患の患者、特に刺激に弱い患者
に用いることのできる低刺激性の洗浄剤組成物であっ
て、更に脱脂力の弱い洗浄剤組成物を提供することにあ
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねてきた。その結果、ヒノキチ
オール又はその塩が、皮膚に対して極めて刺激性が低
く、しかも優れた防腐効果を有するものであり、化粧品
や洗剤等の皮膚と接触する組成物用の防腐剤として非常
に有用であることを見出した。そして、ヒノキチオール
又はその塩を防腐剤として用いると共に、界面活性剤と
して特定の陰イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤の
少なくとも１種と、特定の弱酸性陰イオン界面活性剤と
を組み合わせて用いる場合に、洗浄性等の洗浄剤として
の必須の性能を十分に維持した上で、皮膚に対する刺激
性が著るしく低減され、かつ脱脂力の弱い洗浄剤組成物
が得られることを見出し、ここに本発明を完成するに至
った。

【０００５】即ち本発明は、 ｉ）一般式

【０００６】

【化３】

【０００７】（式中、Ｒ¹ は炭素数４０以下の飽和又は
不飽和炭化水素基を示し、Ｒ² は低級アルキル基を示
し、Ａは低級アルキレン基を示す。）で表わされる陰イ
オン性界面活性剤又はその塩、及び一般式

【０００８】

【化４】

【０００９】（式中、Ｒ³ は、炭素数４０以下の飽和又
は不飽和炭化水素基を示し、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ はそれぞれ低
級アルキル基を示し、Ｂは低級アルキレン基を示す。）
で表わされる両イオン性界面活性剤からなる群から選ば
れた少なくとも１種の界面活性剤、 ii) 一般式 Ｒ⁶ Ｏ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）_nＣＨ₂ ＣＯＯＨ (III) （式中、Ｒ⁶ は、炭素数４０以下の飽和又は不飽和炭化
水素基を示し、１≦ｎ≦１０である。）で表わされる陰
イオン性界面活性剤又はその塩、並びに iii)ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤を含有す
ることを特徴とする洗浄剤組成物を提供するものであ
る。

【００１０】本明細書において低級アルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を、特に
好ましくはメチル基を例示できる。

【００１１】炭素数が４０以下の飽和又は不飽和炭化水
素基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシ
ル、ドデシル、１１−メチルドデシル、１０−メチルウ
ンデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、
ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、
ヘンイコシル、ドコシル、テトラコシル、トリアコンチ
ル、ペンタトリアコンチル、テトラコンチル、ビニル、
アリル、イソプロペニル、エチニル、２−ペンチニル、
３−ブテニル、９−デセニル、シス−８−ヘプタデセニ
ル、トランス−８−ヘプタデセニル、２−デシニル、２
−オクチニル、ヤシ油アルキル等を挙げることができ、
之等の内で炭素数５〜１９の飽和又は不飽和炭化水素基
は好ましく、炭素数７〜１３の飽和又は不飽和炭化水素
基はより好ましい。特に、前記式（Ｉ）中Ｒ¹ で定義さ
れる該基としては、ウンデシル、トリデシル等の炭素数
９〜１３の飽和炭化水素基が好ましく、前記式(II)中Ｒ
³ で定義される該基としては、ヤシ油アルキル基やウン
デシル、トリデシル等の炭素数９〜１３の飽和炭化水素
基が好ましく、前記式(III) 中Ｒ⁶ で定義される該基と
しては、ヤシ油アルキル基やウンデシル、トリデシル等
の炭素数９〜１３の飽和炭化水素基が好ましい。

【００１２】低級アルキレン基としてはメチレン、エチ
レン、トリメチレン、２−メチルトリメチレン、２，２
−ジメチルトリメチレン、１−メチルトリメチレン、メ
チルメチレン、エチルメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン基等の炭素数１〜６個の直
鎖又は分枝状のアルキレン基を挙げることができる。之
等の内で前記式（Ｉ）中Ａで定義される該基としては、
好ましくはメチレン及びエチレン基を、より好ましくは
エチレン基を例示でき、また前記式(II)中Ｂで定義され
る該基としては、好ましくはエチレン及びトリメチレン
基を、より好ましくはトリメチレン基を例示できる。

【００１３】一般式（Ｉ）、(II)又は(III) で表わされ
る界面活性剤は、同一の置換基を有するものだけでな
く、異なる種類の置換基を有するものを混合して用いて
もよい。

【００１４】一般式（Ｉ）又は(III) で表わされる化合
物の塩としては、ナトリウム、カリウム塩等のアルカリ
金属塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類金属塩、Ｃｕ
塩、Ｚｎ塩等の金属塩類等の無機塩、ジエタノールアミ
ン塩、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオ
ール塩、トリエタノールアミン塩等のアルカノールアミ
ン塩、モルホリン塩、ピペラジン塩、ピペリジン塩等、
アンモニウム塩、アルギニン塩、リジン塩、ヒスチジン
塩等の塩基性アミノ酸塩等の有機塩類を挙げることがで
きる。塩基性アミノ酸としては、Ｄ体、Ｌ体又は之等の
混合物のいずれも使用できる。

【００１５】ヒノキチオールの塩としては、上記した一
般式（Ｉ）又は(III) で表わされる化合物の塩と同様の
ものを挙げることができる。

【００１６】本発明の洗浄剤組成物では、界面活性剤と
しては、一般式（Ｉ）の陰イオン性界面活性剤及び一般
式(II)の両イオン性界面活性剤の少なくとも１種の界面
活性剤と、一般式(III) の界面活性剤とを用いる。之等
の界面活性剤は、優れた洗浄能力を有すると共に、皮膚
に対する刺激性が非常に低いものであり、また、これら
を組み合わせて用いる場合には脱脂力が弱くなり、皮膚
の乾燥やつっぱり感を低減できる。界面活性剤の使用割
合は、一般式（Ｉ）の陰イオン性界面活性剤及び一般式
(II)の両イオン性界面活性剤の総量と、一般式(III) の
界面活性剤との割合が、前者：後者（重量比）＝１：２
０〜２０：１の範囲、好ましくは４：１〜１：４の範
囲、より好ましくは４：１〜１：２の範囲となるように
すればよい。

【００１７】本発明では、特に、一般式（Ｉ）の陰イオ
ン性界面活性剤と一般式(II)の両イオン性界面活性剤と
を併用することが好ましく、併用により、洗浄性及び低
刺激性が極めて良好となり、また脱脂力も適度なものと
なる。併用する場合には、通常一般式（Ｉ）の界面活性
剤と一般式(II)の界面活性剤の使用割合は、前者：後者
（重量比）＝１：２０〜２０：１の範囲、好ましくは
４：１〜１：３の範囲、より好ましくは４：１〜２：３
の範囲とすることができる。

【００１８】洗浄剤組成物中の界面活性剤量は、洗浄効
果を充分に発揮する範囲であれば特に限定されないが、
界面活性剤総量として、全組成物中の３〜４０重量％と
することが好ましく、５〜３０重量％とすることがより
好ましい。

【００１９】ヒノキチオール又はその塩の配合量は、防
腐効果が発揮される量であれば特に限定されないが、洗
浄剤組成物中に０．００１重量％以上とすることが好ま
しく、０．００１〜１．０重量％とすることがより好ま
しい。

【００２０】ヒノキチオール又はその塩を防腐剤として
用い、これを上記した界面活性剤と共に配合することに
よって、皮膚に対する刺激性及び脱脂力が著るしく低減
され、更に良好な洗浄性能、防腐性能等を発揮する洗浄
剤組成物が得られる。

【００２１】本発明の洗浄剤組成物では、更に、（１）
一般式

【００２２】

【化５】

【００２３】〔式中、Ｒ⁷ は炭素数４０以下の飽和又は
不飽和炭化水素基を示し、Ｒ⁸ はナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属；マグネシウム等のアルカリ土類金
属；銅、亜鉛等の金属イオンを示し、ｍは１又は２であ
る。〕で表わされる化合物、（２）ミラノールＣ２Ｍコ
ンク、ミラノールＣ２ＭコンクＮＰ、ミラノール２ＭＣ
Ａモデファイド、ミラノールＨＭＳコンク（いずれもロ
ーヌ・プーラン社(RHONE POULENC SURFACTANTS & SPECI
ALITIES DIY.) 製造、香栄興業株式会社(KOEI PERFUMER
Y CO.,LTD.) 販売）等の通常のイミダゾリニウムベタイ
ン系両イオン性界面活性剤等を加えることができ、これ
らの添加によって、例えば、眼粘膜に対する刺激を減少
させることができる。添加量は、一般式（Ｉ）の陰イオ
ン性界面活性剤の１０〜２００重量％程度とすることが
好ましい。

【００２４】本発明の洗浄剤組成物は、化粧品を使用す
ることのできる通常のｐＨ範囲で用いることができ、一
般にそのｐＨは６．０〜８．０程度の範囲、好ましくは
６．４〜７．５程度の範囲内とするのが好ましい。

【００２５】本発明の洗浄剤組成物には、必要に応じて
その性能を損わない範囲で、他の界面活性剤や、高級ア
ルコール等の油剤、カチオン化セルロース等の毛髪柔軟
剤、グリセリン、プロピレングリコール、ソルビット、
マルチトール等の保湿剤、メチルセルロース、ヒドロキ
シメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カ
ルボキシビニルポリマー、ポリビニルアルコール等の粘
度調整剤、加水分解コラーゲン等の皮膜形成剤、エタノ
ール等の溶剤、クエン酸、塩酸等のｐＨ調節剤、紫外線
吸収剤、酸化防止剤、金属封鎖剤、殺菌剤、防腐剤、無
機塩、抗フケ剤、ビタミン類、消炎剤等の薬効剤、動植
物抽出剤、色素、香料等を適時配合することができる。
これらの添加剤は、添加によって洗浄剤組成物の刺激性
や脱脂力が高くなり過ぎないように注意することが必要
であり、例えば、アトピー性皮膚炎の患者用の洗浄剤組
成物として用いる場合には、後記試験例において示す皮
膚刺激指数が１５程度以下となるように配合し、健常人
用の洗浄剤組成物として用いる場合には、皮膚刺激指数
が３０程度以下となるように配合することが好ましい。

【００２６】本発明の洗浄剤組成物は、その剤型につい
ては特に制限はなく、従来より公知の種々の剤型、例え
ば液体シャンプー、クリーム状洗顔料、ゲル状洗顔料、
ボディシャンプー、泡状清拭料（エアゾール容器充填
品）、食器等の器具用洗剤、ウェットティッシュ等とし
て用いることができる。

【００２７】本発明洗浄剤組成物は、使用時に、必要に
応じて適宜、水で希釈して用いてもよい。

【００２８】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、皮膚に対する
刺激性が非常に低いことに加えて、起泡性、洗浄性等の
洗浄剤としての必須の性能も充分に満足するものであ
り、更に脱脂力が弱いことから皮膚の乾燥やつっばり感
をなくし、油分の滞留量をよりよい状態に維持するよう
に助け、皮膚の正常な活動を妨げる要因から保護するこ
とができるものである。かかる洗浄剤組成物は、アトピ
ー性皮膚炎又は他の皮膚疾患の患者に用いることができ
る他、健常人に対しても同等に有用である。

【００２９】

【実施例】以下、実施例を示して本発明をより詳細に説
明する。

【００３０】実施例１ 下記配合の洗顔料組成物を調製した。

【００３１】 （Ｗ／Ｗ％） アラニネートＬＮ−３０^* ７．５ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ^** ５．５ ニッコールＥＣＴＤ−３ＮＥＸ^*** ２．３ ヒノキチオール ０．０４ ９９．５％エタノール ０．５ ｐＨ調整剤、パール化剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ６．８）^* アラニネートＬＮ−３０ 日光ケミカルズ株式会社製、Ｎ−ラウロイル−Ｎ−メチ
ル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界面活性剤^** スワノールＡＭ−３１３０Ｎ 日光ケミカルズ株式会社製、ヤシ油脂肪酸アミドプロピ
ルジメチルアミノ酢酸ベタインを主成分とする界面活性
剤^*** ニッコールＥＣＴＤ−３ＮＥＸ 日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシエチレン（３）
アルキルエーテル酢酸ナトリウムを主成分とする界面活
性剤上記洗顔料組成物は良好な洗浄性と低脱脂力を有す
るものであった。該組成物について以下の方法で皮膚刺
激性を評価した。

【００３２】上記組成物の１％水溶液をしみ込ませたろ
紙をＦｉｎｎ ｃｈａｍｂｅｒ，Ｓｃａｎｐｏｒ ｔａ
ｐｅを用いて、１２人の被験者に４８時間閉鎖貼布し、
除去後、１時間と２４時間に皮膚反応を判定した。判定
結果は、以下の基準で評点した。

【００３３】 反応なし ０ わずかな紅斑 ０．５ 明らかな紅斑 １．０ 丘疹ないし浮腫を伴う紅斑 ２．０ 貼付除去後、１時間と２４時間の判定結果のうち、評点
の高いほうの結果を選び、評点総和を被験者数で除し、
その商の百分率を皮膚刺激指数とした。

【００３４】比較として精製水についても同様の皮膚刺
激試験を行った。結果を下記表１に示す。

【００３５】 以上の結果より、本発明の洗顔料組成物が極めて低刺激
性であることがわかる。

【００３６】実施例２ 下記配合のボディシャンプーを調製した。

【００３７】 （Ｗ／Ｗ％） アミゼット５Ｃ^* ２．５ アラノンＡＣＥ^** ７．５ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ ３．０ ニッコールＥＣＴＤ−３ＮＥＸ ３．０ ヒノキチオールナトリウム塩 ０．０５ 濃グリセリン ５．０ 金属キレート剤 適 量 ｐＨ調整剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ６．８）^* アミゼット５Ｃ 川研ファインケミカル株式会社製、ポシオキシエチレン
（５）ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミドを主成分とす
る界面活性剤^** アラノンＡＣＥ 川研ファインケミカル株式会社製、Ｎ−ココイル−Ｎ−
メチル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界面活
性剤実施例３下記配合のシャンプーを調製した。

【００３８】 （Ｗ／Ｗ％） アラニネートＬＮ−３０ ３８．０ アラノンＡＭＥ^* １．０ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ ６．０ ニッコールＥＣＴＤ−６ＮＥＸ^** ４．０ ヒノキチオールトリエタノールアミン塩 ０．１ 香料 適 量 金属キレート剤 適 量 ｐＨ調整剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ６．５）^* アラノンＡＭＥ 川研ファインケミカル株式会社製、Ｎ−ミリストイル−
Ｎ−メチル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界
面活性剤^** ニッコールＥＣＴＤ−６ＮＥＸ 日光ケミカルズ株式会社製、ポリオキシエチレン（６）
アルキルエーテル酢酸ナトリウムを主成分とする界面活
性剤 実施例４ 下記配合の洗顔料を調製した。

【００３９】 （Ｗ／Ｗ％） アラニネートＬＮ−３０ ７．０ ソフタゾリンＮＳ^* １．５ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ ５．０ ニッコールＥＣＴＤ−３ＮＥＸ ３．０ ニッコールＣＤＳ６０００Ｐ^** ２．５ ヒノキチオールＬ−アルギニン塩 ０．０２ パラオキシ安息香酸メチル ０．１ ｐＨ調整剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ６．８）^* ソフタゾリンＮＳ 川研ファインケミカル株式会社製、２−アルキル−Ｎ−
カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニ
ウムベタインを主成分とする界面活性剤^** ニッコールＣＤＳ６０００Ｐ 日光ケミカルズ株式会社製、ポリエチレングリコールジ
ステアレートを主成分とする界面活性剤 実施例５ 下記配合の器具洗浄料を調製した。

【００４０】 （Ｗ／Ｗ％） アラノンＡＬＥ^* ８．０ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ ２．０ ニッコールＥＣＴＤ−６ＮＥＸ １５．０ ヒノキチオールモルホリン塩 ０．１ ｐＨ調整剤、増粘剤、色素 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ７．５）^* アラノンＡＬＥ 川研ファインケミカル株式会社製、Ｎ−ラウロイル−Ｎ
−メチル−β−アラニンナトリウムを主成分とする界面
活性剤 実施例６ 下記配合の清拭料を調製した。

【００４１】 （Ｗ／Ｗ％） ニッコールサルコシネートＬＫ−３０^* ２．０ アラニネートＬＮ−３０ ２．０ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ ０．５ ニッコールＥＣＴＤ−３ＮＥＸ ３．０ ヒノキチオール ０．１ ９９．５％エタノール ２．０ ｐＨ調整剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ６．５）^* ニッコールサルコシネートＬＫ−３０ 日光ケミカルズ株式会社製、ラウロイルサルコシンカリ
ウムを主成分とする界面活性剤 実施例７ 下記配合の洗顔料を調製した。

【００４２】 （Ｗ／Ｗ％） アラニネートＬＮ−３０ ７．５ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ ５．５ ニッコールＥＣＴＤ−３ＮＥＸ ２．３ ヒノキチオール ０．０２ パラオキシ安息香酸ブチル ０．１ パラオキシ安息香酸メチル ０．１ ９９．５％エタノール ０．５ ｐＨ調整剤、パール化剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ６．８） 実施例８ 下記配合のシャンプーを調製した。

【００４３】 （Ｗ／Ｗ％） アラニネートＬＮ−３０ ４０．０ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ １０．０ ヒノキチオール ０．０４ ニッコールＥＣＴＤ−３ＮＥＸ ０．８８ ｐＨ調整剤、金属イオン封鎖剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ６．８） 実施例９ 下記配合のボディシャンプーを調製した。

【００４４】 （Ｗ／Ｗ％） アラノンＡＬＥ ０．５ スワノールＡＭ−３１３０Ｎ ２．０ ニッコールＥＣＴＤ−６ＮＥＸ １７．６ ミラノールＣ２Ｍコンク^* ２．０ ヒノキチオール ０．０１ パール化剤、ｐＨ調整剤、保湿剤 適 量 水にて 全量を１００．０ （１０Ｗ／Ｗ％水溶液のｐＨ７．０）^* ミラノールＣ２Ｍコンク 香栄興業株式会社、ヤシ油アルキルＮ−カルボキシメト
キシエチル−Ｎ−カルボキシメチルイミタゾリニウムジ
ナトリウムヒドロキシドを主成分とする界面活性剤

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 1:06 1:90 1:10 3:20）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ｉ）一般式 【化１】 （式中、Ｒ¹ は炭素数４０以下の飽和又は不飽和炭化水
   素基を示し、Ｒ² は低級アルキル基を示し、Ａは低級ア
   ルキレン基を示す。）で表わされる陰イオン性界面活性
   剤又はその塩、及び一般式 【化２】 （式中、Ｒ³ は、炭素数４０以下の飽和又は不飽和炭化
   水素基を示し、Ｒ⁴ 及びＲ⁵ はそれぞれ低級アルキル基
   を示し、Ｂは低級アルキレン基を示す。）で表わされる
   両イオン性界面活性剤からなる群から選ばれた少なくと
   も１種の界面活性剤、 ii) 一般式 Ｒ⁶ Ｏ（ＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ）_nＣＨ₂ ＣＯＯＨ (III) （式中、Ｒ⁶ は、炭素数４０以下の飽和又は不飽和炭化
   水素基を示し、１≦ｎ≦１０である。）で表わされる陰
   イオン性界面活性剤又はその塩、並びに iii)ヒノキチオール又はその塩からなる防腐剤を含有す
   ることを特徴とする洗浄剤組成物。