JPH05218048A - 半導体ウエハのシール治具 - Google Patents

半導体ウエハのシール治具

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JPH05218048A
JPH05218048A JP5682492A JP5682492A JPH05218048A JP H05218048 A JPH05218048 A JP H05218048A JP 5682492 A JP5682492 A JP 5682492A JP 5682492 A JP5682492 A JP 5682492A JP H05218048 A JPH05218048 A JP H05218048A
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sealing
semiconductor wafers
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Manabu Tsujimura
学 辻村
Takuya Kanayama
拓也 金山
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 治具の厚を薄くし、処理槽を小さくできる半
導体ウエハのシール治具を提供すること。 【構成】 板状の上下面の所定の位置に半導体ウエハ
1,2を収納する凹部5a,5bを形成した中間保持部
材5と、該中間保持部材5の上下面に位置し前記中間保
持部材5の上下凹部に対応する位置に該上下凹部5a,
5bより若干小さい形状の穴3a,4aを形成した上下
保持部材3,4とを具備し、上下保持部材3,4の中間
保持部材5に対向する面に該対向面の上下凹部5a,5
bの縁部に対応する位置及び半導体ウエハ1,2の表面
縁部に対応する位置を覆うシール部材6,7を設け、中
間保持部材5の上下凹部5a,5bに半導体ウエハ1,
2を収納し、中間保持部材5と上下保持部材3,4で半
導体ウエハ1,2を挟持する構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハ表面に形成
するバンプ(金属端子)を鍍金で形成する所謂湿式処理
において、処理面以外の面に処理液が接触しないように
する半導体ウエハのシール治具に関するものである。
【0002】
【従来技術】従来、半導体ウエハ表面にバンフ(金属端
子)を鍍金で形成する時の半導体ウエハのシール治具に
は下記のようなものがあった。
【0003】(1)図2に示すように、半導体ウエハ2
1の鍍金処理面を除いたウエハ裏面、端面及び表面縁部
をレジスト又はワックス22で被覆する方法。
【0004】(2)図3(a)乃至(c)に示す治具に
て半導体ウエハの裏面、端面及び表面縁部をシールする
方法。即ち、治具は図示するように、板状の上部保持部
材31と下部保持部材32の端部が蝶番34により回動
自在に枢着された構造である。下部保持部材32の表面
には半導体ウエハ35が収容される凹部32aが形成さ
れ、上部保持部材31には該凹部32aより若干小さい
穴31aが形成され、更に該上部保持部材31の下面の
穴31aの外周部には断面コ字状のシール部材33が設
けられている。
【0005】図3(b)に示すように、下部保持部材3
2の凹部32aに半導体ウエハ35を入れ、下部保持部
材32と上部保持部材31とで半導体ウエハ35を挟持
することにより、下部保持部材32とシール部材33で
半導体ウエハ35の裏面、端面及び表面縁部がシールさ
れる。なお、図3(a)は治具の斜視図、図3(b)は
断面図、図3(c)は同図(b)のA部分拡大図であ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
(1),(2)のいずれの方法も下記のような問題点が
あった。
【0007】上記(1)の方法では、処理後にレジスト
と又はワックス22を剥離する作業が大変であるばかり
か、その際に半導体ウエハ21に傷を付ける恐れがあっ
た。
【0008】上記(2)の方法では、上記(1)の欠点
を補い端面、裏面及び表面縁部をシールでき、且つレジ
ストやワックスを剥離する必要がないという利点がある
が、図3に示す治具を用いているため、治具が厚く処理
槽中で大きなスペースを占拠してしまうという問題があ
った。
【0009】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
あって、半導体ウエハ当りの治具の厚さが薄くなり、処
理槽中の占拠スペースが小さい、即ち処理槽をできるだ
け小さくできる半導体ウエハのシール治具を提供するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、処理液中で半導体ウエハの表面の所定部分を
処理するに際し、該半導体ウエハの処理面以外の裏面、
端面及び表面縁部に処理液が接触しないようにシールす
る半導体ウエハのシール治具であって、図1に示すよう
に板状の上下面の所定の位置に半導体ウエハ1,2を収
納する凹部5a,5bを形成した中間保持部材5と、該
中間保持部材5の上下面に位置し前記中間保持部材5の
上下凹部に対応する位置に該上下凹部5a,5bより若
干小さい形状の穴3a,4aが形成した上下保持部材
3,4とを具備し、上下保持部材3,4の中間保持部材
5に対向する面に該対向面の上下凹部5a,5bの縁部
に対応する位置及び半導体ウエハ1,2の表面縁部に対
応する位置を覆うシール部材6,7を設け、中間保持部
材5の上下凹部5a,5bに半導体ウエハ1,2を収納
し、中間保持部材5と上下保持部材3,4で半導体ウエ
ハ1,2を挟持することを特徴とする。
【0011】
【作用】本発明の半導体ウエハのシール治具によれば、
上記のように中間保持部材5の上下凹部5a,5bにそ
れぞれ半導体ウエハ1,2を収納し、上下保持部材3,
4で挾むことにより、2枚の半導体ウエハ1,2の処理
面以外の裏面、端面及び表面縁部に処理液が接触しない
ようにシールできるから、2枚の半導体ウエハを処理す
るのに図3のような構造のシール治具を2個必要でな
く、1個の治具で処理でき、シール治具がコンパクトに
なる。
【0012】中間保持部材5を上下保持部材3,4で挾
む構造であるので、図3に示すように片側挟持する場合
よりもシール圧力が両側で均衡するため中間保持部材が
薄くできる。また、中間保持部材5及び上下保持部材
3,4に金属より低強度の材料を用いることが可能にな
り、材料選択の幅が広がる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は本発明の半導体ウエハのシール治具の一実
施例を示す図で、図1(a)は斜視図、図1(b)は断
面図、図1(c)は同図(b)のB部分の拡大図であ
る。図1において、5は板状の中間保持部材であり、該
中間保持部材5の上下面の所定の位置に半導体ウエハ
1,2を収納しやすくする凹部5a,5bを形成してい
る。3,4は中間保持部材5の上下面に位置する上下保
持部材であり、該上下保持部材3,4の前記中間保持部
材5の上下凹部5a,5bに対応する位置に該上下凹部
5a,5bより若干小さい形状の穴3a,4aが形成さ
れている。
【0014】上下保持部材3,4は蝶番8,8により中
間保持部材5に回動自在な枢着されている。上下保持部
材3,4の中間保持部材5に対向する面の上下凹部5
a,5bの縁部に対応する位置及び半導体ウエハ1,2
の表面縁部に対応する位置を覆うシール部材6,7を設
けている。該シール部材6,7は断面コ字状の軟質ゴム
材からなる。
【0015】中間保持部材5の上下凹部5a,5bに半
導体ウエハ1,2を収納し、中間保持部材5と上下保持
部材3,4を蝶番8,8を介して回動させ、先端部クラ
ンパー9を嵌合させて半導体ウエハ1,2を挟持する。
これによりシール部材6,7が中間保持部材5の上下面
の上下凹部5a,5bの縁部及び半導体ウエハ1,2の
表面縁部に密接し、半導体ウエハ1,2の表面処理面以
外の裏面、端面及び表面縁部に処理液が接触しないよう
にシールすることができる。
【0016】半導体ウエハのシール治具を上記のように
構成することにより中間保持部材5の上下凹部5a,5
bのそれぞれに半導体ウエハ1,2を収納し、上下保持
部材3,4で挾むことにより、2枚の半導体ウエハ1,
2を同時にシールできるから、図3のように1枚の半導
体ウエハのみをシールするシール治具と異なり、2枚の
半導体ウエハをシールするためのシール治具がコンパク
トになる。
【0017】また、中間保持部材5を上下保持部材3,
4で挾む構造であるので、図3に示すように片側挟持す
る場合よりもシール部材6,7のシール圧力が両側で均
衡するため中間保持部材が薄くできる。また、中間保持
部材5に金属より低強度の材料を用いることができるこ
とになり、材料選択の幅が広がることは上述した通りで
ある。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば下記
のような優れた効果が得られる。 (1)中間保持部材の上下凹部にそれぞれ半導体ウエハ
を収納し、上下保持部材で挾むことにより、2枚の半導
体ウエハの処理面以外の裏面、端面及び表面縁部に処理
液が接触しないようにシールできるから、2枚の半導体
ウエハを処理するのに従来のようにシール治具が2個必
要でなく、1個の治具で処理でき、シール治具がコンパ
クトになる。 (2)中間保持部材を上下保持部材で挾む構造であるの
で、従来の片側挟持治具よりもシール圧力が両側で均衡
するため中間保持部材が薄くでき、且つ中間保持部材及
び上下保持部材に金属より低強度の樹脂やゴム材料を用
いることが可能になり、材料選択の幅が広がる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体ウエハのシール治具の一実施例
を示す図で、図1(a)は斜視図、図1(b)は断面
図、図1(c)は同図(b)のB部分の拡大図である。
【図2】従来の半導体ウエハのシールを示す図で、図1
(a)は平面図、図1(b)は断面図である。
【図3】従来の半導体ウエハのシール治具を示す図で、
同図3(a)はシール治具の斜視図、図3(b)は断面
図、図3(c)は同図(b)のA部分拡大図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ 2 半導体ウエハ 3 上部保持部材 4 下部保持部材 5 中間保持部材 6 シール部材 7 シール部材 8 蝶番 9 クランパー
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年12月11日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図2
【補正方法】変更
【補正内容】
【図2】従来の半導体ウエハのシールを示す図で、図2
(a)は平面図、図2(b)は断面図である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/68 N 8418−4M

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処理液中で半導体ウエハ表面の所定部分
    を処理するに際し、該半導体ウエハの処理面以外の裏
    面、端面及び表面縁部に前記処理液が接触しないように
    シールする半導体ウエハのシール治具であって、 板状の上下面の所定の位置に半導体ウエハを収納する凹
    部を形成した中間保持部材と、 該中間保持部材の上下面に位置し前記中間保持部材の上
    下凹部に対応する位置に該上下凹部より若干小さい形状
    の穴を形成した上下保持部材とを具備し、 前記上下保持部材の前記中間保持部材に対向する面に該
    対向面の前記上下凹部縁部に対応する位置及び前記半導
    体ウエハの表面縁部に対応する位置を覆うシール部材を
    設け、 前記中間保持部材の上下凹部に半導体ウエハを収納し、
    該中間保持部材と前記上下保持部材で該半導体ウエハを
    挟持することを特徴とする半導体ウエハのシール治具。
  2. 【請求項2】前記シール部材が断面コ字状の材質が軟質
    ゴム材からなることを特徴とする請求項1記載の半導体
    ウエハのシール治具。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2006035484A1 (ja) * 2004-09-27 2008-05-15 三菱電機株式会社 半導体製造装置および半導体製造方法
US7959977B2 (en) * 2002-11-15 2011-06-14 Ebara Corporation Substrate processing method and apparatus
KR20200034964A (ko) 2017-07-25 2020-04-01 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그(jig) 및 전기 도금 장치
KR20210114956A (ko) 2019-01-23 2021-09-24 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치
KR20210114957A (ko) 2019-01-23 2021-09-24 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치
KR20210118084A (ko) 2019-01-23 2021-09-29 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치
KR20240172058A (ko) 2023-05-31 2024-12-09 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그
KR20240172057A (ko) 2023-05-31 2024-12-09 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7959977B2 (en) * 2002-11-15 2011-06-14 Ebara Corporation Substrate processing method and apparatus
US8225803B2 (en) 2002-11-15 2012-07-24 Ebara Corporation Substrate processing method and apparatus
JPWO2006035484A1 (ja) * 2004-09-27 2008-05-15 三菱電機株式会社 半導体製造装置および半導体製造方法
JP4597137B2 (ja) * 2004-09-27 2010-12-15 三菱電機株式会社 半導体製造装置および半導体製造方法
KR20200034964A (ko) 2017-07-25 2020-04-01 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그(jig) 및 전기 도금 장치
KR20210114956A (ko) 2019-01-23 2021-09-24 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치
KR20210114957A (ko) 2019-01-23 2021-09-24 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치
KR20210118084A (ko) 2019-01-23 2021-09-29 우에무라 고교 가부시키가이샤 워크 유지 지그 및 전기 도금 장치
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