JPH05221200A - レリーフパターンの複製方法 - Google Patents
レリーフパターンの複製方法Info
- Publication number
- JPH05221200A JPH05221200A JP3064292A JP3064292A JPH05221200A JP H05221200 A JPH05221200 A JP H05221200A JP 3064292 A JP3064292 A JP 3064292A JP 3064292 A JP3064292 A JP 3064292A JP H05221200 A JPH05221200 A JP H05221200A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- relief pattern
- embossed
- resin
- duplication
- relief
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
- G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ホログラム等のレリーフパターンをエンボス複
製（とりわけ、多面付け複製）する際に、エンボスされ
た部分とされていない部分との境界の段差を低減する。
（多面付けの際には、隣接した部分への熱・圧力の影響
による意匠性の低下を防止する。） 【構成】２つの略かまぼこ型圧台を、長手方向が直交す
るように、凸部を持つ面を合わせて配置し、前記圧台間
に、金属もしくは樹脂製の、レリーフパターンを有する
複製型と被エンボス体を挟持させ、熱と圧力を加えるこ
とにより、前記被エンボス体上に前記複製型よりレリー
フパターンを複製する。多面付けの際は、エンボス複製
後、被エンボス体の位置を変え、さらにエンボス複製工
程を繰り返す。 【効果】意匠性の向上した、レリーフパターン（とりわ
け、多面付けレリーフパターン）の複製が可能となっ
た。
製（とりわけ、多面付け複製）する際に、エンボスされ
た部分とされていない部分との境界の段差を低減する。
（多面付けの際には、隣接した部分への熱・圧力の影響
による意匠性の低下を防止する。） 【構成】２つの略かまぼこ型圧台を、長手方向が直交す
るように、凸部を持つ面を合わせて配置し、前記圧台間
に、金属もしくは樹脂製の、レリーフパターンを有する
複製型と被エンボス体を挟持させ、熱と圧力を加えるこ
とにより、前記被エンボス体上に前記複製型よりレリー
フパターンを複製する。多面付けの際は、エンボス複製
後、被エンボス体の位置を変え、さらにエンボス複製工
程を繰り返す。 【効果】意匠性の向上した、レリーフパターン（とりわ
け、多面付けレリーフパターン）の複製が可能となっ
た。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レリーフパターンの複
製方法に関するものであり、具体的には表面レリーフ型
ホログラムのようなレリーフパターンを複製する方法に
関するものである。
製方法に関するものであり、具体的には表面レリーフ型
ホログラムのようなレリーフパターンを複製する方法に
関するものである。
【０００２】ホログラムは、三次元立体像を再生するこ
とからその優れた意匠性が好まれ、書籍等の表紙、ＰＯ
Ｐディスプレイ、ギフト等に利用されている。また、サ
ブミクロンオーダーの情報を記録していることと等価で
あるため、有価証券、クレジットカード等の偽造防止に
利用されている。
とからその優れた意匠性が好まれ、書籍等の表紙、ＰＯ
Ｐディスプレイ、ギフト等に利用されている。また、サ
ブミクロンオーダーの情報を記録していることと等価で
あるため、有価証券、クレジットカード等の偽造防止に
利用されている。
【０００３】本発明によるレリーフパターンを複製する
技術、特に多面付けされた複製型を得る技術を応用する
ことによって、そのようなレリーフパターンを、包装
紙、カートン等の包装材料、化粧板、特殊用途の壁紙等
の建築材料として使用することができる。
技術、特に多面付けされた複製型を得る技術を応用する
ことによって、そのようなレリーフパターンを、包装
紙、カートン等の包装材料、化粧板、特殊用途の壁紙等
の建築材料として使用することができる。
【０００４】
【従来の技術】従来、レリーフパターンをエンボス複製
するには以下に示す方法がある。まず、レリーフパター
ンが形成されたホトレジスト等の原版から、金属メッキ
等により型どりした金型もしくは（熱圧エンボス耐性を
有する）樹脂型と、被エンボス体（本明細書において、
被エンボス体とは、熱可塑性樹脂シートもしくはフィル
ムを言う）を密着させ、平圧プレス機で全面に均一に圧
力を加えると同時に熱を加え、レリーフパターンを被エ
ンボス体上に複製する方法である。しかし、この方法で
は、被エンボス体上のエンボスされた部分とエンボスさ
れていない部分の境界に明確な段差が生じてしまう。
するには以下に示す方法がある。まず、レリーフパター
ンが形成されたホトレジスト等の原版から、金属メッキ
等により型どりした金型もしくは（熱圧エンボス耐性を
有する）樹脂型と、被エンボス体（本明細書において、
被エンボス体とは、熱可塑性樹脂シートもしくはフィル
ムを言う）を密着させ、平圧プレス機で全面に均一に圧
力を加えると同時に熱を加え、レリーフパターンを被エ
ンボス体上に複製する方法である。しかし、この方法で
は、被エンボス体上のエンボスされた部分とエンボスさ
れていない部分の境界に明確な段差が生じてしまう。
【０００５】また、密に多面付けを行う際、平圧プレス
する面全面により加熱・加圧エンボスされるため、すで
にエンボス成形されレリーフパターンが複製されている
部分へも熱と圧力が加えられてレリーフパターンが劣化
し、意匠性が著しく低下するという問題点がある。
する面全面により加熱・加圧エンボスされるため、すで
にエンボス成形されレリーフパターンが複製されている
部分へも熱と圧力が加えられてレリーフパターンが劣化
し、意匠性が著しく低下するという問題点がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する問題点は、上述の従来法において、被エンボス体が
エンボス成形される際、発生するエンボスされた部分と
されてない部分の境界の段差と、密にレリーフパターン
の多面付けを行う時の隣接した部分への熱・圧力の影響
による意匠性の低下とであり、それぞれを低減、防止す
る事を目的とする。
する問題点は、上述の従来法において、被エンボス体が
エンボス成形される際、発生するエンボスされた部分と
されてない部分の境界の段差と、密にレリーフパターン
の多面付けを行う時の隣接した部分への熱・圧力の影響
による意匠性の低下とであり、それぞれを低減、防止す
る事を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明では、２つの略か
まぼこ型圧台（本明細書において、略かまぼこ型圧台と
は、直方体で、エンボス成形するための面のエッジが面
取りされており、前記面が微少な凸部を有する加圧台を
いう）を、長手方向が直交するように、凸部を持つ面を
合わせて配置し、前記圧台間に、表面に凹凸状のレリー
フパターンを有する複製型と被エンボス体を密着させた
ものを挟持させ、次いで熱と圧力を加えてエンボス複製
する。
まぼこ型圧台（本明細書において、略かまぼこ型圧台と
は、直方体で、エンボス成形するための面のエッジが面
取りされており、前記面が微少な凸部を有する加圧台を
いう）を、長手方向が直交するように、凸部を持つ面を
合わせて配置し、前記圧台間に、表面に凹凸状のレリー
フパターンを有する複製型と被エンボス体を密着させた
ものを挟持させ、次いで熱と圧力を加えてエンボス複製
する。
【０００８】前記略かまぼこ型圧台を、長手方向が直交
するように配置し、使用することにより、隣接した部分
への熱の影響が抑えられ、意匠性の低下を防いだ複製レ
リーフパターンが作製できる。
するように配置し、使用することにより、隣接した部分
への熱の影響が抑えられ、意匠性の低下を防いだ複製レ
リーフパターンが作製できる。
【０００９】この工程を、被エンボス体の位置を変え繰
り返すことにより、密に多面付けされた大面積の被エン
ボス体が得られ、前記被エンボス体を原版としてさら
に、金属または樹脂により複製型を作製することによ
り、意匠性の高い、密なレリーフパターンの多面付けさ
れた複製型を作製することができる。
り返すことにより、密に多面付けされた大面積の被エン
ボス体が得られ、前記被エンボス体を原版としてさら
に、金属または樹脂により複製型を作製することによ
り、意匠性の高い、密なレリーフパターンの多面付けさ
れた複製型を作製することができる。
【００１０】
【実施例】レリーフ原版として、厚さ３ｍｍのガラス板
からなる基板上に、膜厚約１．５μｍの、MICROPOSIT14
00（シプレイ社製）によるホトレジスト層を形成し、ア
ルゴンレーザー（波長４５７．９ｎｍ、強度５０ｍＪ／
ｃｍ2 ）の二光束干渉法によって、正方形で面積が４ｃ
ｍ2 、空間周波数が1300ｌｉｎｅ／ｍｍの干渉稿を約１
分間露光した後、アルカリ現像によってグレーティング
を作製したホトレジストの表面に、厚さ約２００ÅのＡ
ｕ薄膜層を真空蒸着法にて形成した後、これを電極とし
て、厚さ約２００μｍのＮｉメッキ層を形成し、前記Ｎ
ｉメッキ層を剥離するとともにＮｉメッキ層に付着する
余分なＡｕ薄膜層及びホトレジスト層を除去したものを
原版とした。
からなる基板上に、膜厚約１．５μｍの、MICROPOSIT14
00（シプレイ社製）によるホトレジスト層を形成し、ア
ルゴンレーザー（波長４５７．９ｎｍ、強度５０ｍＪ／
ｃｍ2 ）の二光束干渉法によって、正方形で面積が４ｃ
ｍ2 、空間周波数が1300ｌｉｎｅ／ｍｍの干渉稿を約１
分間露光した後、アルカリ現像によってグレーティング
を作製したホトレジストの表面に、厚さ約２００ÅのＡ
ｕ薄膜層を真空蒸着法にて形成した後、これを電極とし
て、厚さ約２００μｍのＮｉメッキ層を形成し、前記Ｎ
ｉメッキ層を剥離するとともにＮｉメッキ層に付着する
余分なＡｕ薄膜層及びホトレジスト層を除去したものを
原版とした。
【００１１】次いで、厚さが１００μｍのポリアリレー
トフィルム（ユニチカ製エンブレートＵ１−１００）か
ら成る支持体上に、下記組成の紫外線硬化性のアクリレ
ート樹脂を約５μｍの膜厚となるようにワイヤーバーコ
ーティングし樹脂液層を形成した。 ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパン
ジアクリレート…７０重量部 ジペンタエリスリトールトリアクリレート…３０重量
部 ベンジルジメチルケタール…４重量部
トフィルム（ユニチカ製エンブレートＵ１−１００）か
ら成る支持体上に、下記組成の紫外線硬化性のアクリレ
ート樹脂を約５μｍの膜厚となるようにワイヤーバーコ
ーティングし樹脂液層を形成した。 ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパン
ジアクリレート…７０重量部 ジペンタエリスリトールトリアクリレート…３０重量
部 ベンジルジメチルケタール…４重量部
【００１２】次に、前記樹脂液層を前記Ｎｉ製のレリー
フ原版のグレーティングレリーフ面に密着させた後、前
記支持体側より５００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し、
その後レリーフ原版から剥離することによって支持体と
硬化した樹脂層からなる複製型を作製した。
フ原版のグレーティングレリーフ面に密着させた後、前
記支持体側より５００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射し、
その後レリーフ原版から剥離することによって支持体と
硬化した樹脂層からなる複製型を作製した。
【００１３】次に、被エンボス体として厚さ４００μｍ
のポリメチルメタクリレート基材上に下記組成の熱可塑
性樹脂層をワイヤーバーコーティングし、乾燥後の膜厚
が約５μｍとなるように設けた多面付け用シートを作製
した。 アクリル共重合樹脂（三菱レイヨン社製ダイヤナール
ＢＲ−１０１）…２０重量部 イソプロパノール…４０重量部 ２−ブタノン…４５重量部
のポリメチルメタクリレート基材上に下記組成の熱可塑
性樹脂層をワイヤーバーコーティングし、乾燥後の膜厚
が約５μｍとなるように設けた多面付け用シートを作製
した。 アクリル共重合樹脂（三菱レイヨン社製ダイヤナール
ＢＲ−１０１）…２０重量部 イソプロパノール…４０重量部 ２−ブタノン…４５重量部
【００１４】次いで、前記複製型と前記多面付け用シー
トとを密着させ、シリコンゴム製略かまぼこ型圧台を長
手方向が直交するように配置したものに挟持させ、圧力
１０ｋｇ／ｃｍ2 、温度９０℃、圧着時間１分の条件に
て平圧プレスを行い、レリーフパターンを複製した後剥
離し、多面付け用シートの位置を変えた。この繰り返し
により、３０個のグレーティーングを間隔約０．５ｍｍ
となるように多面付けした。
トとを密着させ、シリコンゴム製略かまぼこ型圧台を長
手方向が直交するように配置したものに挟持させ、圧力
１０ｋｇ／ｃｍ2 、温度９０℃、圧着時間１分の条件に
て平圧プレスを行い、レリーフパターンを複製した後剥
離し、多面付け用シートの位置を変えた。この繰り返し
により、３０個のグレーティーングを間隔約０．５ｍｍ
となるように多面付けした。
【００１５】前記の多面付けされたシートから、さらに
前述と同様な樹脂型作製工程をへて、多面付けされた樹
脂型を作製した。以上の工程により良好な、密に多面付
けされた複製樹脂型を得ることができた。
前述と同様な樹脂型作製工程をへて、多面付けされた樹
脂型を作製した。以上の工程により良好な、密に多面付
けされた複製樹脂型を得ることができた。
【００１６】
【発明の効果】本発明によるレリーフパターンの複製方
法により、被エンボス体がエンボスされる際発生するエ
ンボスされた部分とされてない部分の境界に発生する段
差が低減した。
法により、被エンボス体がエンボスされる際発生するエ
ンボスされた部分とされてない部分の境界に発生する段
差が低減した。
【００１７】また、隣接したすでにエンボス成形が施さ
れた部分への熱や圧力の影響による意匠性の低下の少な
い多面付けされたレリーフパターンの複製が可能とな
り、また多面付けが可能になったことによる大幅な意匠
性の向上が実現できた。このことにより、レリーフパタ
ーンを使用するホログラムの他、包装紙、カートン等の
包装材料、化粧紙等の建装材料などの意匠性の飛躍的向
上を実現できる。
れた部分への熱や圧力の影響による意匠性の低下の少な
い多面付けされたレリーフパターンの複製が可能とな
り、また多面付けが可能になったことによる大幅な意匠
性の向上が実現できた。このことにより、レリーフパタ
ーンを使用するホログラムの他、包装紙、カートン等の
包装材料、化粧紙等の建装材料などの意匠性の飛躍的向
上を実現できる。
【００１８】
【図１】本発明によるレリーフパターンの多面付け複製
方法を工程順に示す説明図。
方法を工程順に示す説明図。
【図２】金型の製造工程を示す断面説明図。
【図３】樹脂型の製造工程を示す断面説明図。
【図４】略かまぼこ型圧台の側面図。
【００１９】
１、６、９…レリーフ原版 ２…金型もしくは樹脂型 ３…被エンボス体（多面付け用シートもしくはフィル
ム） ４…略かまぼこ型圧台 ５…多面付けされた樹脂型もしくは金型 ７…金属蒸着層 ８…金型 10…支持体 11…少なくとも電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性
樹脂を１成分として含有する樹脂 Ａ…樹脂型
ム） ４…略かまぼこ型圧台 ５…多面付けされた樹脂型もしくは金型 ７…金属蒸着層 ８…金型 10…支持体 11…少なくとも電子線硬化性樹脂もしくは紫外線硬化性
樹脂を１成分として含有する樹脂 Ａ…樹脂型
Claims (4)
- 【請求項１】２つの略かまぼこ型圧台を、長手方向が直
交するように、凸部を持つ面を合わせて配置し、前記圧
台間に、金属もしくは樹脂製の、レリーフパターンを有
する複製型と被エンボス体を挟持させ、熱と圧力を加え
ることにより、前記被エンボス体上に前記複製型よりレ
リーフパターンを複製するレリーフパターンの複製方
法。 - 【請求項２】請求項１の方法で、レリーフパターンを複
製型より被エンボス体に複製した後、被エンボス体の位
置を変え、さらにエンボス複製を行う工程を繰り返すこ
とにより、レリーフパターンが多面付けされた大面積の
被エンボス体を得ることを特徴とするレリーフパターン
の多面付け複製方法。 - 【請求項３】請求項２にて得られた、レリーフパターン
が多面付けされた大面積の被エンボス体より、金属もし
くは樹脂により型取りし、レリーフパターンが多面付け
された大面積の複製型を得ることを特徴とするレリーフ
パターンの多面付け複製方法。 - 【請求項４】型取りの際に用いる樹脂が、放射線硬化型
樹脂を少なくとも１成分含有する樹脂であることを特徴
とする請求項３に記載のレリーフパターンの多面付け複
製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3064292A JPH05221200A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | レリーフパターンの複製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3064292A JPH05221200A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | レリーフパターンの複製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221200A true JPH05221200A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=12309487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3064292A Pending JPH05221200A (ja) | 1992-02-18 | 1992-02-18 | レリーフパターンの複製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05221200A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006516108A (ja) * | 2002-11-16 | 2006-06-22 | フェレンベルク シュテファン | ナノ光学カラーエンボスの方法及び装置 |
| JP2006225004A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Toppan Printing Co Ltd | 万線パターン加飾が施された紙容器 |
| JP2009523635A (ja) * | 2006-01-24 | 2009-06-25 | マイクロラボ ピーティーワイ エルティーディー | スタンピング方法及び装置 |
| JP5502471B2 (ja) | 2007-07-03 | 2014-05-28 | 東洋製罐株式会社 | ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器 |
-
1992
- 1992-02-18 JP JP3064292A patent/JPH05221200A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006516108A (ja) * | 2002-11-16 | 2006-06-22 | フェレンベルク シュテファン | ナノ光学カラーエンボスの方法及び装置 |
| JP2006225004A (ja) * | 2005-02-18 | 2006-08-31 | Toppan Printing Co Ltd | 万線パターン加飾が施された紙容器 |
| JP2009523635A (ja) * | 2006-01-24 | 2009-06-25 | マイクロラボ ピーティーワイ エルティーディー | スタンピング方法及び装置 |
| JP5502471B2 (ja) | 2007-07-03 | 2014-05-28 | 東洋製罐株式会社 | ホログラムパターン付きフィルムの形成方法、及び容器 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5948199A (en) | Surface relief holograms and holographic hot-stamping foils, and method of fabricating same | |
| US4758296A (en) | Method of fabricating surface relief holograms | |
| DE69213952T2 (de) | Optische Speicherplatte | |
| CN102089719B (zh) | 用于表面浮雕凸印的深层结构或浮雕成像 | |
| WO1992001973A2 (en) | Embossing tool | |
| EP0316407A1 (en) | Replicating process for interference patterns | |
| JP4295592B2 (ja) | 複製版の製造方法 | |
| RU2003136081A (ru) | Оптический элемент и способ его изготовления (варианты) | |
| JP2018084613A (ja) | ホログラム転写箔 | |
| JPH05221200A (ja) | レリーフパターンの複製方法 | |
| JPS60169887A (ja) | ホログラム画像再生用転写シ−ト及び物品表面にホログラム画像を再生する方法 | |
| JP4334656B2 (ja) | 変色性蒸着媒体とその製造方法 | |
| JP2000047555A (ja) | 光回折構造を有する物品の製造方法 | |
| JP3899593B2 (ja) | 画像表示媒体およびその製造に用いる転写シート | |
| JPH03129382A (ja) | ホログラム及び回折格子柄付カード | |
| JP2004109417A (ja) | 光回折構造の製造方法、複製版材、及び媒体 | |
| JP2789599B2 (ja) | ホログラム面付型の作製方法 | |
| JPH08305264A (ja) | レリーフパターン複製版の製造方法 | |
| JPH04151188A (ja) | レリーフパターンの複製方法 | |
| JPH1184995A (ja) | 複合ホログラム | |
| JPH04147180A (ja) | パターニングした計算機ホログラム | |
| JP4544492B2 (ja) | ホログラム複製用多面付け原版の作製方法 | |
| JPH1153767A (ja) | 光データ記録ディスクおよびその製造方法 | |
| JP2000066011A (ja) | 格子状レンズアレイ及びその製造方法 | |
| JPH04151189A (ja) | レリーフパターンの複製方法 |