JPH05221610A - オゾン発生装置 - Google Patents
オゾン発生装置Info
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- JPH05221610A JPH05221610A JP2560792A JP2560792A JPH05221610A JP H05221610 A JPH05221610 A JP H05221610A JP 2560792 A JP2560792 A JP 2560792A JP 2560792 A JP2560792 A JP 2560792A JP H05221610 A JPH05221610 A JP H05221610A
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- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 29
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 17
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 14
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- 239000012895 dilution Substances 0.000 abstract description 15
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- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 abstract 2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
- C01B13/10—Preparation of ozone
- C01B13/11—Preparation of ozone by electric discharge
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 酸素源オゾナイザを使用して処理水量及び処
理水質に応じた適正なオゾン注入率及び散気面積を得
る。 【構成】 酸素源オゾナイザをオゾン発生機として処理
水に一定注入率でオゾン注入を行うオゾン発生装置にお
いて、酸素源オゾナイザからの高濃度オゾンガスを空気
又は酸素を希釈用源料として希釈混合するオゾン希釈装
置を備え、希釈混合したオゾン化空気に処理水に応じた
オゾン濃度と流量を得る。
理水質に応じた適正なオゾン注入率及び散気面積を得
る。 【構成】 酸素源オゾナイザをオゾン発生機として処理
水に一定注入率でオゾン注入を行うオゾン発生装置にお
いて、酸素源オゾナイザからの高濃度オゾンガスを空気
又は酸素を希釈用源料として希釈混合するオゾン希釈装
置を備え、希釈混合したオゾン化空気に処理水に応じた
オゾン濃度と流量を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水処理のためのオゾン
ガスを発生するオゾン発生装置に関する。
ガスを発生するオゾン発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上水処理や下水処理にはオゾン発生装置
からのオゾンガスを処理水槽内の散気管に圧送し、散気
管からの散気によって処理水にオゾンを溶解させ、処理
水のオゾン処理を得る。
からのオゾンガスを処理水槽内の散気管に圧送し、散気
管からの散気によって処理水にオゾンを溶解させ、処理
水のオゾン処理を得る。
【０００３】オゾン発生装置は、空気を原料とする空気
源オゾナイザと酸素を原料とする酸素源オゾナイザがあ
る。空気源オゾナイザは、発生オゾン濃度が２０ｇ／Ｎ
ｍ3程度であるが、酸素源オゾナイザでは１００〜２０
０ｇ／Ｎｍ3程度の高濃度オゾンを発生できる。つま
り、酸素源オゾナイザは、空気源オゾナイザに比較して
５倍以上の高濃度オゾンを発生でき、同じオゾン発生量
で５倍以上の原水をオゾン処理できることになる。
源オゾナイザと酸素を原料とする酸素源オゾナイザがあ
る。空気源オゾナイザは、発生オゾン濃度が２０ｇ／Ｎ
ｍ3程度であるが、酸素源オゾナイザでは１００〜２０
０ｇ／Ｎｍ3程度の高濃度オゾンを発生できる。つま
り、酸素源オゾナイザは、空気源オゾナイザに比較して
５倍以上の高濃度オゾンを発生でき、同じオゾン発生量
で５倍以上の原水をオゾン処理できることになる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】水処理にオゾン処理を
導入する場合、有害性のある反応副産物の生成を最小限
に抑えるオゾン注入率にすることが要望される。
導入する場合、有害性のある反応副産物の生成を最小限
に抑えるオゾン注入率にすることが要望される。
【０００５】オゾン注入率Ｄ（ｐｐｍ）は、オゾン発生
装置からの発生オゾン濃度Ｃ03（ｇ／Ｎｍ3）及び発生
オゾン流量ｑ03（Ｎｍ3／Ｈ）と、処理水槽内の処理水
流量Ｑ（ｍ3／Ｈ）から次式で求められる。
装置からの発生オゾン濃度Ｃ03（ｇ／Ｎｍ3）及び発生
オゾン流量ｑ03（Ｎｍ3／Ｈ）と、処理水槽内の処理水
流量Ｑ（ｍ3／Ｈ）から次式で求められる。
【０００６】Ｄ＝Ｃ03×ｑ03／Ｑ…（１） このオゾン注入率Ｄは、上水処理では２〜５ｐｐｍ程度
にされ、下水処理では１０〜２０ｐｐｍ程度にされる。
にされ、下水処理では１０〜２０ｐｐｍ程度にされる。
【０００７】上記（１）式から明らかなように、オゾン
注入率Ｄを一定にして処理水量Ｑを大きくするには、発
生オゾン濃度Ｃ03又は散気管へのオゾン流量ｑ03を大き
くする必要がある。
注入率Ｄを一定にして処理水量Ｑを大きくするには、発
生オゾン濃度Ｃ03又は散気管へのオゾン流量ｑ03を大き
くする必要がある。
【０００８】そこで、酸素源オゾナイザによって高いオ
ゾン濃度Ｃ03を注入しようすると、オゾン流量ｑ03小さ
くして一定注入率Ｄを得ることことになり、オゾン流量
ｑ03の低下は同じ散気管からの散気面積を低下させてし
まい、処理水への溶解効率を悪くして所期のオゾン処理
が得られなくなる。
ゾン濃度Ｃ03を注入しようすると、オゾン流量ｑ03小さ
くして一定注入率Ｄを得ることことになり、オゾン流量
ｑ03の低下は同じ散気管からの散気面積を低下させてし
まい、処理水への溶解効率を悪くして所期のオゾン処理
が得られなくなる。
【０００９】本発明の目的は、酸素源オゾナイザを使用
して処理水量及び処理水質に応じた適正なオゾン注入率
及び散気面積を得るオゾン発生装置を提供することにあ
る。
して処理水量及び処理水質に応じた適正なオゾン注入率
及び散気面積を得るオゾン発生装置を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題の解
決を図るため、酸素源オゾナイザをオゾン発生機として
処理水に一定注入率でオゾン注入を行うオゾン発生装置
において、前記酸素源オゾナイザからのオゾン濃度Ｃ03
で発生オゾン流量ｑ03の高濃度オゾンガスに対し、被処
理水に注入する目標気相オゾン濃度Ｃ03setから次式 ｑair＝（Ｃ03／Ｃ03set−１）ｑ03 に従って求める希釈用原料空気又は酸素の流量ｑairで
該高濃度オゾンガスへの希釈・混合を行なうオゾン希釈
装置を備えたことを特徴とする。
決を図るため、酸素源オゾナイザをオゾン発生機として
処理水に一定注入率でオゾン注入を行うオゾン発生装置
において、前記酸素源オゾナイザからのオゾン濃度Ｃ03
で発生オゾン流量ｑ03の高濃度オゾンガスに対し、被処
理水に注入する目標気相オゾン濃度Ｃ03setから次式 ｑair＝（Ｃ03／Ｃ03set−１）ｑ03 に従って求める希釈用原料空気又は酸素の流量ｑairで
該高濃度オゾンガスへの希釈・混合を行なうオゾン希釈
装置を備えたことを特徴とする。
【００１１】
【作用】酸素源オゾナイザからの高濃度オゾンガスを空
気等で所定濃度に希釈処理して一定注入率かつ一定流量
のオゾン化空気を得る。これを以下に詳細に説明する。
気等で所定濃度に希釈処理して一定注入率かつ一定流量
のオゾン化空気を得る。これを以下に詳細に説明する。
【００１２】オゾン注入率Ｄを一定とすると、前記
（１）式のＣ03×ｑ03は処理水流量Ｑに対して一定とな
ることから、 Ｃ03×ｑ03＝ｋＣ03′×ｑ03 ＝Ｃ03′×ｋｑ03 ＝Ｃ03′×ｑ03′ …（２） として変形できる。ここで、 Ｃ03、ｑ03；酸素源オゾナイザの発生オゾン濃度と流量 Ｃ03′、ｑ03′；空気又は酸素で希釈したオゾン濃度と
流量 ｋ；希釈倍率（＝Ｃ03／Ｃ03′） この希釈混合後の気相オゾン濃度Ｃ03′は Ｃ03′＝（Ｃ03・ｑ03＋０・ｑair）／（ｑ03＋ｑair） ＝Ｃ03／（１＋ｑair／ｑ03） …（３） ＝Ｃ03／ｋ …（４） 但し、ｋ＝１＋ｑair／ｑ03 ０、ｑair；希釈空気のオゾン濃度と流量 となる。従って、希釈混合後の目標気相オゾン濃度Ｃ
03set（＝Ｃ03′、目標希釈倍率ｋset）を得るためには
上記（３）及び（４）式の変形により ｑair＝（Ｃ03／Ｃ03set−１）ｑ03 …（５） ＝（ｋset−１）ｑ03 …（６） の希釈用原料空気又は酸素の流量ｑairに制御し、この
流量ｑairによる高濃度オゾンガスの希釈によって一定
注入率Ｄのオゾンガス注入ができる。また、注入量はｑ
03とｑairとを加えた流量が散気管に適正な散気面積に
なるよう酸素源オゾナイザ側の流量調節で実現される。
（１）式のＣ03×ｑ03は処理水流量Ｑに対して一定とな
ることから、 Ｃ03×ｑ03＝ｋＣ03′×ｑ03 ＝Ｃ03′×ｋｑ03 ＝Ｃ03′×ｑ03′ …（２） として変形できる。ここで、 Ｃ03、ｑ03；酸素源オゾナイザの発生オゾン濃度と流量 Ｃ03′、ｑ03′；空気又は酸素で希釈したオゾン濃度と
流量 ｋ；希釈倍率（＝Ｃ03／Ｃ03′） この希釈混合後の気相オゾン濃度Ｃ03′は Ｃ03′＝（Ｃ03・ｑ03＋０・ｑair）／（ｑ03＋ｑair） ＝Ｃ03／（１＋ｑair／ｑ03） …（３） ＝Ｃ03／ｋ …（４） 但し、ｋ＝１＋ｑair／ｑ03 ０、ｑair；希釈空気のオゾン濃度と流量 となる。従って、希釈混合後の目標気相オゾン濃度Ｃ
03set（＝Ｃ03′、目標希釈倍率ｋset）を得るためには
上記（３）及び（４）式の変形により ｑair＝（Ｃ03／Ｃ03set−１）ｑ03 …（５） ＝（ｋset−１）ｑ03 …（６） の希釈用原料空気又は酸素の流量ｑairに制御し、この
流量ｑairによる高濃度オゾンガスの希釈によって一定
注入率Ｄのオゾンガス注入ができる。また、注入量はｑ
03とｑairとを加えた流量が散気管に適正な散気面積に
なるよう酸素源オゾナイザ側の流量調節で実現される。
【００１３】
【実施例】図１は、本発明の一実施例を示すオゾン発生
装置の構成図である。酸素富化装置１は原料となる空気
を取込んで高濃度酸素（９０％酸素）を発生し、オゾン
発生機２は高濃度酸素を原料として高濃度オゾンを発生
する酸素源オゾナイザになる。
装置の構成図である。酸素富化装置１は原料となる空気
を取込んで高濃度酸素（９０％酸素）を発生し、オゾン
発生機２は高濃度酸素を原料として高濃度オゾンを発生
する酸素源オゾナイザになる。
【００１４】オゾン希釈装置３はオゾン発生機２からの
高濃度オゾンを酸素又は空気を希釈用原料として希釈し
たオゾン化空気を得、このオゾン化空気を処理水への注
入オゾンガスとして発生する。
高濃度オゾンを酸素又は空気を希釈用原料として希釈し
たオゾン化空気を得、このオゾン化空気を処理水への注
入オゾンガスとして発生する。
【００１５】このオゾン希釈装置３は、前述の（５）又
は（６）式に従って高濃度オゾンを希釈することにより
所定のオゾン注入率Ｄになるオゾン化空気を得る。
は（６）式に従って高濃度オゾンを希釈することにより
所定のオゾン注入率Ｄになるオゾン化空気を得る。
【００１６】図２はオゾン希釈装置３の構成図を示す。
オゾン発生機２からの高濃度オゾンは、流量計１１によ
る流量ｑ03とオゾン濃度計１２によるオゾン濃度Ｃ03が
計測されながらインジェクタ方式又は管内う流方式のオ
ゾン希釈・混合槽１３に導入される。
オゾン発生機２からの高濃度オゾンは、流量計１１によ
る流量ｑ03とオゾン濃度計１２によるオゾン濃度Ｃ03が
計測されながらインジェクタ方式又は管内う流方式のオ
ゾン希釈・混合槽１３に導入される。
【００１７】オゾン希釈・混合槽１３への希釈用原料は
空気又は酸素にされて導入量ｑairが制御される。この
希釈用原料は除湿装置１４によって除湿され、基準湿度
での導入量ｑairになるよう制御弁１５と流量計１６及
び希釈倍率制御部１７によるフィードバック制御がなさ
れる。
空気又は酸素にされて導入量ｑairが制御される。この
希釈用原料は除湿装置１４によって除湿され、基準湿度
での導入量ｑairになるよう制御弁１５と流量計１６及
び希釈倍率制御部１７によるフィードバック制御がなさ
れる。
【００１８】希釈倍率制御部１７は目標気相オゾン濃度
Ｃ03setが設定され、前述の（５）又は（６）式による
演算によって希釈原料の導入量ｑairを求め、この演算
値を目標値にし、流量計１６の計測値をフィードバック
信号として制御弁１５の流量制御を行う。
Ｃ03setが設定され、前述の（５）又は（６）式による
演算によって希釈原料の導入量ｑairを求め、この演算
値を目標値にし、流量計１６の計測値をフィードバック
信号として制御弁１５の流量制御を行う。
【００１９】気相オゾン濃度計１８は、高濃度オゾンの
濃度Ｃ03の濃度計測のほかにオゾン化空気のオゾン濃度
Ｃ0計測を行ない、制御部１７への演算に必要なオゾン
濃度を与える。１９はオゾン化空気のオゾン濃度計にな
り、このオゾン濃度Ｃ0は処理水槽への注入オゾン濃度
の監視制御に利用され、所定の散気面積を得るためのオ
ゾン発生機２側への流量又はオゾン濃度調節に利用され
る。
濃度Ｃ03の濃度計測のほかにオゾン化空気のオゾン濃度
Ｃ0計測を行ない、制御部１７への演算に必要なオゾン
濃度を与える。１９はオゾン化空気のオゾン濃度計にな
り、このオゾン濃度Ｃ0は処理水槽への注入オゾン濃度
の監視制御に利用され、所定の散気面積を得るためのオ
ゾン発生機２側への流量又はオゾン濃度調節に利用され
る。
【００２０】なお、実施例において、酸素富化装置１と
オゾン発生機２による酸素源オゾナイザが高濃度オゾン
を安定的に供給可能な場合は流入側のオゾン濃度計１２
を省略して同等の作用効果を得ることができる。
オゾン発生機２による酸素源オゾナイザが高濃度オゾン
を安定的に供給可能な場合は流入側のオゾン濃度計１２
を省略して同等の作用効果を得ることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上のとおり、本発明によれば、酸素源
オゾナイザをオゾン発生機として処理水に一定注入率で
オゾン注入を行うにおいて、酸素源オゾナイザの発生オ
ゾンを希釈するオゾン希釈装置を設けたため、高濃度オ
ゾンから任意のオゾン濃度及び流量のオゾン化空気を大
量に得ることができ、低注入率処理の上水処理から高注
入率の下水処理まで処理水量及び水質に応じた適正なオ
ゾン注入率及び酸気面積を得ることができる。
オゾナイザをオゾン発生機として処理水に一定注入率で
オゾン注入を行うにおいて、酸素源オゾナイザの発生オ
ゾンを希釈するオゾン希釈装置を設けたため、高濃度オ
ゾンから任意のオゾン濃度及び流量のオゾン化空気を大
量に得ることができ、低注入率処理の上水処理から高注
入率の下水処理まで処理水量及び水質に応じた適正なオ
ゾン注入率及び酸気面積を得ることができる。
【図１】本発明の一実施例を示す装置構成図。
【図２】オゾン希釈装置の構成図。
１…酸素富化装置、２…オゾン発生機、３…オゾン希釈
装置、１１…オゾン流量計、１２…オゾン濃度計、１３
…オゾン希釈・混合槽、１４…除湿装置、１７…希釈倍
率制御部、１８…気相オゾン濃度計。
装置、１１…オゾン流量計、１２…オゾン濃度計、１３
…オゾン希釈・混合槽、１４…除湿装置、１７…希釈倍
率制御部、１８…気相オゾン濃度計。
Claims (1)
- 【請求項１】 酸素源オゾナイザをオゾン発生機として
処理水に一定注入率でオゾン注入を行うオゾン発生装置
において、前記酸素源オゾナイザからのオゾン濃度Ｃ03
で発生オゾン流量ｑ03の高濃度オゾンガスに対し、被処
理水に注入する目標気相オゾン濃度Ｃ03setから次式 ｑair＝（Ｃ03／Ｃ03set−１）ｑ03 に従って求める希釈用原料空気又は酸素の流量ｑairで
該高濃度オゾンガスへの希釈・混合を行なうオゾン希釈
装置を備えたことを特徴とするオゾン発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2560792A JPH05221610A (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | オゾン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2560792A JPH05221610A (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | オゾン発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221610A true JPH05221610A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=12170586
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2560792A Pending JPH05221610A (ja) | 1992-02-13 | 1992-02-13 | オゾン発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05221610A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09142808A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン発生装置の制御方法 |
| JPH09142807A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン濃縮貯蔵装置とその制御方法 |
| JP2004097982A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 移動式水質浄化装置 |
| JP2011136286A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 洗浄装置及びオゾン水生成装置 |
-
1992
- 1992-02-13 JP JP2560792A patent/JPH05221610A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09142808A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン発生装置の制御方法 |
| JPH09142807A (ja) * | 1995-11-14 | 1997-06-03 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | オゾン濃縮貯蔵装置とその制御方法 |
| JP2004097982A (ja) * | 2002-09-11 | 2004-04-02 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 移動式水質浄化装置 |
| JP2011136286A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 洗浄装置及びオゾン水生成装置 |
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