JPH05221908A - モノビニルエーテルの製法 - Google Patents
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C41/00—Preparation of ethers; Preparation of compounds having groups, groups or groups
- C07C41/01—Preparation of ethers
- C07C41/14—Preparation of ethers by exchange of organic parts on the ether-oxygen for other organic parts, e.g. by trans-etherification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/16—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring the ring being unsaturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 モノビニルエーテルの製法。
【構成】 以下の一般式IIのジオールと以下の一般式II
Iのジビニルエーテルとを、白金族金属の化合物の存在
下に反応させて、以下の一般式Iのモノビニルエーテル
を製造し、ここで、R1及びR3は、同じか又は異なるも
のであり、水素、C1〜C20−アルキル−及び/又はC3
〜C10−シクロアルキル基を表し、R2は、C1〜C20−
アルキレン−、C3〜C10−シクロアルキレン−、C7〜
C12−アルアルキレン−、フェニレン−又はナフチレン
基である。 【化1】
Iのジビニルエーテルとを、白金族金属の化合物の存在
下に反応させて、以下の一般式Iのモノビニルエーテル
を製造し、ここで、R1及びR3は、同じか又は異なるも
のであり、水素、C1〜C20−アルキル−及び/又はC3
〜C10−シクロアルキル基を表し、R2は、C1〜C20−
アルキレン−、C3〜C10−シクロアルキレン−、C7〜
C12−アルアルキレン−、フェニレン−又はナフチレン
基である。 【化1】
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、一般式I:
【0002】
【化4】
【0003】[式中、基R1及びR3は、同じか又は異な
るものであり、水素、C1〜C20−アルキル−及び/又
はC3〜C10−シクロアルキル基を表し、R2は、C1〜
C20−アルキレン−、C3〜C10−シクロアルキレン
−、C7〜C12−アルアルキレン−、フェニレン−又は
ナフチレン基である]のモノビニルエーテルの製法に関
する。
るものであり、水素、C1〜C20−アルキル−及び/又
はC3〜C10−シクロアルキル基を表し、R2は、C1〜
C20−アルキレン−、C3〜C10−シクロアルキレン
−、C7〜C12−アルアルキレン−、フェニレン−又は
ナフチレン基である]のモノビニルエーテルの製法に関
する。
【0004】
【従来の技術】ジオールのモノビニルエーテルは、米国
特許(US−A)第4751273号及び同第4775
732号明細書中に記載のように、価値の高い放射線硬
化性のポリウレタンラッカーの製造に使われる。
特許(US−A)第4751273号及び同第4775
732号明細書中に記載のように、価値の高い放射線硬
化性のポリウレタンラッカーの製造に使われる。
【0005】このモノビニルエーテルの製造の際に、一
般に、当該アルコールが、強塩基の存在下に、アセチレ
ンに付加される、レッペ−ビニル化(Liebigs Ann.Chem.
601,81(1956))を使用する。この反応の際に、特に工業
的規模で実施の際に、副産物として、従来限られた使用
しかできなかったジビニルエーテルが生じる。このジビ
ニルエーテルは、経済的に相応するモノビニルエーテル
に変換することもできなかったので、この副産物の沈降
しない量は、燃焼させるか又は他の方法で廃棄処理せね
ばならなかった。
般に、当該アルコールが、強塩基の存在下に、アセチレ
ンに付加される、レッペ−ビニル化(Liebigs Ann.Chem.
601,81(1956))を使用する。この反応の際に、特に工業
的規模で実施の際に、副産物として、従来限られた使用
しかできなかったジビニルエーテルが生じる。このジビ
ニルエーテルは、経済的に相応するモノビニルエーテル
に変換することもできなかったので、この副産物の沈降
しない量は、燃焼させるか又は他の方法で廃棄処理せね
ばならなかった。
【0006】ビニル基含有化合物からのビニル基、特に
ビニルエーテルからのビニル基のアルコール上への移転
は、水銀−、カドミウム−及びスズ塩により触媒される
(J,Org.Chem.14,1057(1949))。
ビニルエーテルからのビニル基のアルコール上への移転
は、水銀−、カドミウム−及びスズ塩により触媒される
(J,Org.Chem.14,1057(1949))。
【0007】マッケオン等(McKeon et al,Tetrahedron
28,233(1972))は、触媒として、ジアセテート−(1,
10−フェナントロリン)−並びにジアセテート−
(2,2′−ビピリジル)−パラジウム(II)−錯体を使
用する、アルコール上へのビニルエーテルのビニル基移
転を記載している。
28,233(1972))は、触媒として、ジアセテート−(1,
10−フェナントロリン)−並びにジアセテート−
(2,2′−ビピリジル)−パラジウム(II)−錯体を使
用する、アルコール上へのビニルエーテルのビニル基移
転を記載している。
【0008】欧州特許(EP−A)第351603号明
細書によれば、ビニルエステルのビニル基のアルコール
及びヒドロキシカルボン酸エステル上への移転のため
に、触媒として、ルテニウム化合物を使用する。
細書によれば、ビニルエステルのビニル基のアルコール
及びヒドロキシカルボン酸エステル上への移転のため
に、触媒として、ルテニウム化合物を使用する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、ジビニルエーテルを当該モノビニルエーテルに経済
的に変換することを可能にする方法を開発することであ
る。
は、ジビニルエーテルを当該モノビニルエーテルに経済
的に変換することを可能にする方法を開発することであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】それ故、一般式I:
【0011】
【化5】
【0012】[式中、基R1及びR3は、同じか又は異な
るものであり、水素、C1〜C20−アルキル−及び/又
はC3〜C10−シクロアルキル基を表し、R2は、C1〜
C20−アルキレン−、C3〜C10−シクロアルキレン
−、C7〜C12−アルアルキレン−、フェニレン−又は
ナフチレン基である]のモノビニルエーテルの製法が発
見され、これは、一般式II:
るものであり、水素、C1〜C20−アルキル−及び/又
はC3〜C10−シクロアルキル基を表し、R2は、C1〜
C20−アルキレン−、C3〜C10−シクロアルキレン
−、C7〜C12−アルアルキレン−、フェニレン−又は
ナフチレン基である]のモノビニルエーテルの製法が発
見され、これは、一般式II:
【0013】
【化6】
【0014】[式中、基R1、R2及びR3は、前記のも
のを表す]のジオールと一般式III:
のを表す]のジオールと一般式III:
【0015】
【化7】
【0016】[式中、基R1、R2及びR3は、前記のも
のを表す]のジビニルエーテルとを、白金族金属の化合
物の存在下に反応させることよりなる。
のを表す]のジビニルエーテルとを、白金族金属の化合
物の存在下に反応させることよりなる。
【0017】従って、本発明による反応の際に、ジビニ
ルエーテルのビニル基は、使用ジオール上に移転され
る。この場合、平衡反応であるので、できるだけ完全な
変換率の達成のために、両方の反応成分のうちの一つ
を、他の反応成分より有利に過剰に、一般に1.1〜5
倍モル過剰に使用する。反応成分双方のどちらを過剰に
使用するかの選択は、本発明による方法の結果にとって
は厳密なものではなく、経済的考慮にのみ依存するが、
一般に、ジビニルエーテルに関しては、ジオールを過剰
に使用する。
ルエーテルのビニル基は、使用ジオール上に移転され
る。この場合、平衡反応であるので、できるだけ完全な
変換率の達成のために、両方の反応成分のうちの一つ
を、他の反応成分より有利に過剰に、一般に1.1〜5
倍モル過剰に使用する。反応成分双方のどちらを過剰に
使用するかの選択は、本発明による方法の結果にとって
は厳密なものではなく、経済的考慮にのみ依存するが、
一般に、ジビニルエーテルに関しては、ジオールを過剰
に使用する。
【0018】反応は、一般に−40〜150℃、有利に
0〜100℃、特に有利に20〜80℃の温度で、常圧
又は高圧で、特に反応系の自己圧下で行う。減圧下での
作業も同様に可能である。
0〜100℃、特に有利に20〜80℃の温度で、常圧
又は高圧で、特に反応系の自己圧下で行う。減圧下での
作業も同様に可能である。
【0019】反応条件下で不活性な溶剤、例えばエーテ
ル、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ケトン、例えばアセトフェノン、炭化
水素、例えばベンゼン、トルエン又はシクロヘキサン、
ホルムアミド、例えばジメチルホルムアミド、立体障害
性アルコール、例えばt−ブタノール又はネオペンタノ
ール、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド又は
スルホン、例えばジメチルスルホン又はスルホランの存
在下で、反応を行うことができる。反応条件下で反応成
分の少なくとも一つが液体ならば、反応は、溶剤の不在
下でも有利に実施することができる。その際、液体反応
成分を過剰に使用することは、有利でありえ、その結
果、これは、いわば固体反応成分のための溶剤として役
立つ。
ル、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、メチル−t−ブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ケトン、例えばアセトフェノン、炭化
水素、例えばベンゼン、トルエン又はシクロヘキサン、
ホルムアミド、例えばジメチルホルムアミド、立体障害
性アルコール、例えばt−ブタノール又はネオペンタノ
ール、スルホキシド、例えばジメチルスルホキシド又は
スルホン、例えばジメチルスルホン又はスルホランの存
在下で、反応を行うことができる。反応条件下で反応成
分の少なくとも一つが液体ならば、反応は、溶剤の不在
下でも有利に実施することができる。その際、液体反応
成分を過剰に使用することは、有利でありえ、その結
果、これは、いわば固体反応成分のための溶剤として役
立つ。
【0020】本発明による方法では、触媒として、白金
族金属の化合物、特に白金、パラジウム、ロジウム、ル
テニウム及びイリジウムの化合物が使用される。パラジ
ウム触媒を使用するのが特に有利である。反応のために
使用された白金族金属化合物中の白金族金属の原子価
は、一般に白金及びパラジウムに関して+IIであり、ロ
ジウム及びルテニウムに関しては、0又は+IIIであ
る。
族金属の化合物、特に白金、パラジウム、ロジウム、ル
テニウム及びイリジウムの化合物が使用される。パラジ
ウム触媒を使用するのが特に有利である。反応のために
使用された白金族金属化合物中の白金族金属の原子価
は、一般に白金及びパラジウムに関して+IIであり、ロ
ジウム及びルテニウムに関しては、0又は+IIIであ
る。
【0021】白金族金属化合物として、前記白金族金属
の塩又は錯体、特にキレート錯体を使用することができ
る。そのような塩として、例えばハロゲン化物、特に塩
化物、硫酸塩、硝酸塩又はこれらの白金族金属の混合物
が挙げられる。前記白金族金属のカルボキシレート、特
にC1〜C10−カルボキシレート、例えばホルミエー
ト、アセテート、プロピオネート、ブチレート、バレリ
アネート、デカノエート、スクシネート、アジペート、
アセトアセテート及びベンゾエートを使用するのが有利
である。前記白金族金属のアセテート及びアセトアセテ
ートを使用するのが特に有利である。そのような白金族
金属化合物の例として、酢酸パラジウム(II)、酢酸ロジ
ウム(II)又はアセト酢酸ルテニウム(III)が挙げられ
る。
の塩又は錯体、特にキレート錯体を使用することができ
る。そのような塩として、例えばハロゲン化物、特に塩
化物、硫酸塩、硝酸塩又はこれらの白金族金属の混合物
が挙げられる。前記白金族金属のカルボキシレート、特
にC1〜C10−カルボキシレート、例えばホルミエー
ト、アセテート、プロピオネート、ブチレート、バレリ
アネート、デカノエート、スクシネート、アジペート、
アセトアセテート及びベンゾエートを使用するのが有利
である。前記白金族金属のアセテート及びアセトアセテ
ートを使用するのが特に有利である。そのような白金族
金属化合物の例として、酢酸パラジウム(II)、酢酸ロジ
ウム(II)又はアセト酢酸ルテニウム(III)が挙げられ
る。
【0022】本発明による方法で使用された白金族金属
化合物、特に白金族金属カルボキシレートは、有利に、
更に付加的にキレート配位子で安定化され、その際、反
応条件下で不活性の置換基で置換されうる窒素含有キレ
ート配位子、例えば2,2−ビピリジン、2,2−ナフ
チリジン又はフェナントロリンが有利である。しかしな
がら、有利には、そのキレート配位子が窒素を含有しな
い、特にペンタンジオン型のキレート配位子、例えばア
セチルアセトンである、白金族金属のキレート錯体も使
用できる。そのようなキレート−安定化白金族金属錯体
−触媒の例として、フェナントロリンパラジウムジクロ
リド、フェナントロリンロジウムジクロリド、2,2−
ビピリジンパラジウムジブロミド、2,2−ビピリジン
パラジウムジクロリド、フェナントロリンルテニウムト
リクロリド、2,2−ビピリジンルテニウムジクロリ
ド、フェナントロリンパラジウムジアセテート、フェナ
ントロリンロジウムトリアセテート、2,2−ビピリジ
ンパラジウムジアセテート、2,2−ビピリジンロジウ
ムトリアセテート、フェナントロリンルテニウムトリア
セテート、パラジウムアセチルアセトネートジクロリ
ド、ルテニウムアセチルアセトネートトリクロリド、ロ
ジウムアセチルアセトネートトリニトレート、パラジウ
ムアセチルアセトネートスルフェート並びに白金アセチ
ルアセトネートジクロリドが挙げられる。
化合物、特に白金族金属カルボキシレートは、有利に、
更に付加的にキレート配位子で安定化され、その際、反
応条件下で不活性の置換基で置換されうる窒素含有キレ
ート配位子、例えば2,2−ビピリジン、2,2−ナフ
チリジン又はフェナントロリンが有利である。しかしな
がら、有利には、そのキレート配位子が窒素を含有しな
い、特にペンタンジオン型のキレート配位子、例えばア
セチルアセトンである、白金族金属のキレート錯体も使
用できる。そのようなキレート−安定化白金族金属錯体
−触媒の例として、フェナントロリンパラジウムジクロ
リド、フェナントロリンロジウムジクロリド、2,2−
ビピリジンパラジウムジブロミド、2,2−ビピリジン
パラジウムジクロリド、フェナントロリンルテニウムト
リクロリド、2,2−ビピリジンルテニウムジクロリ
ド、フェナントロリンパラジウムジアセテート、フェナ
ントロリンロジウムトリアセテート、2,2−ビピリジ
ンパラジウムジアセテート、2,2−ビピリジンロジウ
ムトリアセテート、フェナントロリンルテニウムトリア
セテート、パラジウムアセチルアセトネートジクロリ
ド、ルテニウムアセチルアセトネートトリクロリド、ロ
ジウムアセチルアセトネートトリニトレート、パラジウ
ムアセチルアセトネートスルフェート並びに白金アセチ
ルアセトネートジクロリドが挙げられる。
【0023】前記白金族金属錯体−触媒は、反応媒体中
に均一に溶けるので、反応を均一触媒的に実施すること
ができる。しかしながら、本発明による方法で、不均一
化された白金族金属錯体−触媒、特に、白金族金属がポ
リマーマトリックスに固定されているものを使用するこ
とも可能である。そのようなポリマーマトリックスは、
例えば樹脂、例えばスチレン−ジビニルベンゼン−樹脂
又はフェノール−ホルムアルデヒド樹脂であってよく、
そこに当該キレート配位子は結合しており、これは、再
び白金族金属化合物と錯体を形成し、これをこういう具
合にいわば固定化する。そのような不均一化、ポリマー
結合白金族金属錯体−触媒は、例えばチュアンギュ等(Z
huangxu et al.Reactive Polymers 9,249(1988))の方法
により得られる。そのような不均一化触媒の使用の利点
は、特に、反応物からの触媒の容易で注意された分離に
ある。これらは、固定床に配置され、反応混合物により
流下されるか、又は反応物中に懸濁されており、反応終
了後に、機械的に、例えば濾過により分離することがで
きる。
に均一に溶けるので、反応を均一触媒的に実施すること
ができる。しかしながら、本発明による方法で、不均一
化された白金族金属錯体−触媒、特に、白金族金属がポ
リマーマトリックスに固定されているものを使用するこ
とも可能である。そのようなポリマーマトリックスは、
例えば樹脂、例えばスチレン−ジビニルベンゼン−樹脂
又はフェノール−ホルムアルデヒド樹脂であってよく、
そこに当該キレート配位子は結合しており、これは、再
び白金族金属化合物と錯体を形成し、これをこういう具
合にいわば固定化する。そのような不均一化、ポリマー
結合白金族金属錯体−触媒は、例えばチュアンギュ等(Z
huangxu et al.Reactive Polymers 9,249(1988))の方法
により得られる。そのような不均一化触媒の使用の利点
は、特に、反応物からの触媒の容易で注意された分離に
ある。これらは、固定床に配置され、反応混合物により
流下されるか、又は反応物中に懸濁されており、反応終
了後に、機械的に、例えば濾過により分離することがで
きる。
【0024】それに対して、反応媒体中に均一に溶かさ
れた白金族金属化合物を使用するならば、反応終了後に
反応生成物から例えば物理的分離法を用いて、例えば好
適な吸着体又はカチオン交換体への吸着により分離する
ことができる。無機吸着体として、例えば活性炭、炭酸
カルシウム、硫酸バリウム、二酸化珪素、酸化アルミニ
ウム、二酸化チタン及び二酸化ジルコニウムが挙げられ
る。カチオン交換体として、市販のカチオン交換樹脂を
使用することができる。
れた白金族金属化合物を使用するならば、反応終了後に
反応生成物から例えば物理的分離法を用いて、例えば好
適な吸着体又はカチオン交換体への吸着により分離する
ことができる。無機吸着体として、例えば活性炭、炭酸
カルシウム、硫酸バリウム、二酸化珪素、酸化アルミニ
ウム、二酸化チタン及び二酸化ジルコニウムが挙げられ
る。カチオン交換体として、市販のカチオン交換樹脂を
使用することができる。
【0025】生成物及び触媒の分離の他の可能性は、所
望の場合には減圧下で実施され、カラム又は有利には気
化器中で、特に薄膜気化器中で行うことのできる反応生
成物の蒸留による分離にあり、その際所望の場合には、
生成物及び触媒の熱負荷を付加的に減ずるために、付加
的に不活性ガス、例えば窒素又はアルゴンを用いて掃気
することができる。反応生成物のそのような蒸留分離の
際に、反応生成物中の高沸点溶剤の存在は、有利であ
り、特に高沸点溶剤中に残留する触媒は、再び反応に戻
すことができ、再使用できる。高沸点溶剤として、この
目的に特にスルホキシド及びスルホン、例えばジメチル
スルホキシド、ジメチルスルホン及びスルホラン(テト
ラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド)並びに高沸
点オリゴマーのエチレングリコール−、プロピレングリ
コールエーテル及びブチレングリコールエーテルが好適
である。
望の場合には減圧下で実施され、カラム又は有利には気
化器中で、特に薄膜気化器中で行うことのできる反応生
成物の蒸留による分離にあり、その際所望の場合には、
生成物及び触媒の熱負荷を付加的に減ずるために、付加
的に不活性ガス、例えば窒素又はアルゴンを用いて掃気
することができる。反応生成物のそのような蒸留分離の
際に、反応生成物中の高沸点溶剤の存在は、有利であ
り、特に高沸点溶剤中に残留する触媒は、再び反応に戻
すことができ、再使用できる。高沸点溶剤として、この
目的に特にスルホキシド及びスルホン、例えばジメチル
スルホキシド、ジメチルスルホン及びスルホラン(テト
ラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド)並びに高沸
点オリゴマーのエチレングリコール−、プロピレングリ
コールエーテル及びブチレングリコールエーテルが好適
である。
【0026】前記白金族金属触媒を有利に、使用物質II
又はIIIの1モル当たり1×10-3〜1×10-5モルの
量で、有利に5×10-3〜8×10-4モルの量で、特に
有利に1×10-4〜5×10-4モルの量で使用すること
ができる。より高い触媒量の使用は、なるほど可能であ
るが、経費の理由から一般に有利ではない。
又はIIIの1モル当たり1×10-3〜1×10-5モルの
量で、有利に5×10-3〜8×10-4モルの量で、特に
有利に1×10-4〜5×10-4モルの量で使用すること
ができる。より高い触媒量の使用は、なるほど可能であ
るが、経費の理由から一般に有利ではない。
【0027】モノビニルエーテルIの製造のための出発
物質として式II:
物質として式II:
【0028】
【化8】
【0029】のジオール及びそれから誘導される式II
I:
I:
【0030】
【化9】
【0031】のジビニルエーテルを使用し、式中、基R
1及びR3は、同じか又は異なるものであり、水素、直鎖
又は分枝鎖のC1〜C20−アルキル−及び/又はシクロ
アルキル基を表す。有利な基R1及びR3は、水素及び/
又はC1〜C4−アルキル基である。
1及びR3は、同じか又は異なるものであり、水素、直鎖
又は分枝鎖のC1〜C20−アルキル−及び/又はシクロ
アルキル基を表す。有利な基R1及びR3は、水素及び/
又はC1〜C4−アルキル基である。
【0032】基R2は、C1〜C20−、有利にC1〜C4−
アルキレン基、C3〜C10−、有利にC5−又はC6−シ
クロアルキレン基、C7〜C12−アルキレン基、フェニ
レン−又はナフチレン基であってよい。有利な基R
2は、C1〜C4−アルキレン−及びC5−又はC6−シク
ロアルキレン基である。モノビニルエーテルの製造のた
めの特に有利な出発物質は、1,4−ブタンジオール及
び式IV:
アルキレン基、C3〜C10−、有利にC5−又はC6−シ
クロアルキレン基、C7〜C12−アルキレン基、フェニ
レン−又はナフチレン基であってよい。有利な基R
2は、C1〜C4−アルキレン−及びC5−又はC6−シク
ロアルキレン基である。モノビニルエーテルの製造のた
めの特に有利な出発物質は、1,4−ブタンジオール及
び式IV:
【0033】
【化10】
【0034】の1,4−ビス(ヒドロキシメチル)シク
ロヘキサン並びにこれら両方のジオールの相応するジビ
ニルエーテルである。
ロヘキサン並びにこれら両方のジオールの相応するジビ
ニルエーテルである。
【0035】本発明による方法では、原則として、任意
のジオールIIと任意のジビニルエーテルIIIとを反応さ
せて、モノビニルエーテルIを形成することができる。
しかしながら、ジオールIIと、その基R1、R2及びR3
が使用ジオールIIのそれと同じであるジビニルエーテル
IIIとを反応させるのが有利である。
のジオールIIと任意のジビニルエーテルIIIとを反応さ
せて、モノビニルエーテルIを形成することができる。
しかしながら、ジオールIIと、その基R1、R2及びR3
が使用ジオールIIのそれと同じであるジビニルエーテル
IIIとを反応させるのが有利である。
【0036】1,4−ブタンジオールは、基本化学薬品
であり、工業的に、ホルムアルデヒド2分子をアセチレ
ンに付加させ、引き続いてその際生じる2−ブチン−
1,4−ジオールに水素添加することにより製造する
(K.Weissermel,H.-J.Arpe:Industrielle Organische C
hemie,2.Auflage,94〜96頁,Verlag Chemie,Weinheim 19
78参照)。1,4−ビス−(ヒドロキシメチル)シクロ
ヘキサンは、西独特許(DE−AS)第1202269
号明細書により、テレフタル酸ジアルキルエステルの水
素添加により得られる。類似の方法で、その他のジオー
ルを相応するジカルボン酸エステルの接触水素添加によ
り製造することができる。ジビニルエーテルは、前記し
たように、レッペ−ビニル化の副産物である。
であり、工業的に、ホルムアルデヒド2分子をアセチレ
ンに付加させ、引き続いてその際生じる2−ブチン−
1,4−ジオールに水素添加することにより製造する
(K.Weissermel,H.-J.Arpe:Industrielle Organische C
hemie,2.Auflage,94〜96頁,Verlag Chemie,Weinheim 19
78参照)。1,4−ビス−(ヒドロキシメチル)シクロ
ヘキサンは、西独特許(DE−AS)第1202269
号明細書により、テレフタル酸ジアルキルエステルの水
素添加により得られる。類似の方法で、その他のジオー
ルを相応するジカルボン酸エステルの接触水素添加によ
り製造することができる。ジビニルエーテルは、前記し
たように、レッペ−ビニル化の副産物である。
【0037】本発明の方法により、ジビニルエーテルを
簡単で経済的な方法で、かつ高い選択性でもって当該モ
ノビニルエーテルに変換することができる。本発明によ
る方法では、白金族金属のきづかわれる分離は、その金
属への還元の結果として、実際に重要ではない。
簡単で経済的な方法で、かつ高い選択性でもって当該モ
ノビニルエーテルに変換することができる。本発明によ
る方法では、白金族金属のきづかわれる分離は、その金
属への還元の結果として、実際に重要ではない。
【0038】
例1 ブタンジオールジビニルエーテル142g(1モル)及
び1,4−ブタンジオール270g(3モル)に、フェ
ナントロリンパラジウムジアセテート0.3g(0.7
4mモル)を添加し、引き続いて60℃で、1時間撹拌
した。反応時間が進むにつれ、最初2相だった反応混合
物は、均一になった。ジビニルエーテルが、72%まで
反応した後で、反応を中断させた。ガスクロマトグラフ
ィーにより、粗反応混合物中に、副産物を確認すること
はできなかった。反応の選択率は、100%であった。
粗生成物を蒸留により後処理した。
び1,4−ブタンジオール270g(3モル)に、フェ
ナントロリンパラジウムジアセテート0.3g(0.7
4mモル)を添加し、引き続いて60℃で、1時間撹拌
した。反応時間が進むにつれ、最初2相だった反応混合
物は、均一になった。ジビニルエーテルが、72%まで
反応した後で、反応を中断させた。ガスクロマトグラフ
ィーにより、粗反応混合物中に、副産物を確認すること
はできなかった。反応の選択率は、100%であった。
粗生成物を蒸留により後処理した。
【0039】例2 シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル196g
(1モル)及びシクロヘキサンジメタノール432g
(3モル)に、フェナントロリンパラジウムジアセテー
ト0.2g(0.49mモル)を添加し、60℃の温度
で8時間撹拌した。反応終了後に、ジビニルエーテルに
関する変換率は、71%であった。反応混合物中に、副
産物は検出されなかった。選択率は、100%であっ
た。粗生成物は蒸留により後処理した。
(1モル)及びシクロヘキサンジメタノール432g
(3モル)に、フェナントロリンパラジウムジアセテー
ト0.2g(0.49mモル)を添加し、60℃の温度
で8時間撹拌した。反応終了後に、ジビニルエーテルに
関する変換率は、71%であった。反応混合物中に、副
産物は検出されなかった。選択率は、100%であっ
た。粗生成物は蒸留により後処理した。
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式I: 【化1】 [式中、基R1及びR3は、同じか又は異なるものであ
り、水素、C1〜C20−アルキル−及び/又はC3〜C10
−シクロアルキル基を表し、R2は、C1〜C20−アルキ
レン−、C3〜C10−シクロアルキレン−、C7〜C12−
アルアルキレン−、フェニレン−又はナフチレン基であ
る]のモノビニルエーテルを製造する際に、一般式II: 【化2】 [式中、基R1、R2及びR3は、前記のものを表す]の
ジオールと一般式III: 【化3】 [式中、基R1、R2及びR3は、前記のものを表す]の
ジビニルエーテルとを、白金族金属の化合物の存在下に
反応させることを特徴とする、モノビニルエーテルの製
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4134807.9 | 1991-10-22 | ||
| DE4134807A DE4134807A1 (de) | 1991-10-22 | 1991-10-22 | Verfahren zur herstellung von monovinylethern |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05221908A true JPH05221908A (ja) | 1993-08-31 |
| JP3363184B2 JP3363184B2 (ja) | 2003-01-08 |
Family
ID=6443151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27965792A Expired - Fee Related JP3363184B2 (ja) | 1991-10-22 | 1992-10-19 | モノビニルエーテルの製法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0538681B1 (ja) |
| JP (1) | JP3363184B2 (ja) |
| DE (2) | DE4134807A1 (ja) |
| ES (1) | ES2110461T3 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003073321A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-12 | Daicel Chem Ind Ltd | ビニルエーテル化合物の製造法 |
| WO2009154284A1 (ja) | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 日本カーバイド工業株式会社 | 多官能ビニルエーテル及びそれを含む樹脂組成物 |
| WO2013005621A1 (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-10 | 株式会社ダイセル | パラジウム錯体及びその製造方法、ビニルエーテル化合物の製造方法、並びにパラジウム錯体の回収方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3296283B1 (en) | 2011-07-01 | 2021-06-16 | Basf Se | Ethers of bis(hydroxymethyl)cyclohexanes |
| CN117019019A (zh) * | 2023-08-04 | 2023-11-10 | 日照盛泉新材料科技有限公司 | 一种双乙烯基醚生产单乙烯基醚的反应装置及方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1990003989A1 (en) * | 1988-10-03 | 1990-04-19 | Desoto, Inc. | Cationically curable polyurethane compositions having vinyl ether functionality |
-
1991
- 1991-10-22 DE DE4134807A patent/DE4134807A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-10-08 DE DE59209108T patent/DE59209108D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-10-08 EP EP92117174A patent/EP0538681B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-10-08 ES ES92117174T patent/ES2110461T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-10-19 JP JP27965792A patent/JP3363184B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003073321A (ja) * | 2001-08-30 | 2003-03-12 | Daicel Chem Ind Ltd | ビニルエーテル化合物の製造法 |
| WO2009154284A1 (ja) | 2008-06-18 | 2009-12-23 | 日本カーバイド工業株式会社 | 多官能ビニルエーテル及びそれを含む樹脂組成物 |
| WO2013005621A1 (ja) * | 2011-07-01 | 2013-01-10 | 株式会社ダイセル | パラジウム錯体及びその製造方法、ビニルエーテル化合物の製造方法、並びにパラジウム錯体の回収方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0538681A1 (de) | 1993-04-28 |
| JP3363184B2 (ja) | 2003-01-08 |
| DE4134807A1 (de) | 1993-04-29 |
| EP0538681B1 (de) | 1998-01-07 |
| ES2110461T3 (es) | 1998-02-16 |
| DE59209108D1 (de) | 1998-02-12 |
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