JPH0524191B2 - - Google Patents
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- JPH0524191B2 JPH0524191B2 JP63218230A JP21823088A JPH0524191B2 JP H0524191 B2 JPH0524191 B2 JP H0524191B2 JP 63218230 A JP63218230 A JP 63218230A JP 21823088 A JP21823088 A JP 21823088A JP H0524191 B2 JPH0524191 B2 JP H0524191B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- phosphor
- fluorescent film
- forming
- ray tube
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/04—Chromates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/28—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor for obtaining powder images
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はカラー陰極線管の蛍光面を形成する
ための、感光性樹脂組成物とそれを利用する蛍光
面の製造方法に関する。
ための、感光性樹脂組成物とそれを利用する蛍光
面の製造方法に関する。
カラー陰極線管のフエーズ内面には赤，青，緑
の三色蛍光体パターンを配列して、蛍光面を形成
する。
の三色蛍光体パターンを配列して、蛍光面を形成
する。
この蛍光体がフエーズ内面で所定のパターンを
形成するように塗布する方法には、蛍光体が混合
された感光性樹脂組成物を利用するスラリー塗布
法と、水銀励起紫外線に露光されてジアゾニウム
塩が分解し、この時塩化亜鉛が空気中の水分を吸
収して粘着性をもつジアゾニウム塩でなる感光剤
によるドライ法とがある。
形成するように塗布する方法には、蛍光体が混合
された感光性樹脂組成物を利用するスラリー塗布
法と、水銀励起紫外線に露光されてジアゾニウム
塩が分解し、この時塩化亜鉛が空気中の水分を吸
収して粘着性をもつジアゾニウム塩でなる感光剤
によるドライ法とがある。
これらの感光材を製造する方法は韓国特許願
1983年第3421号やだ3645号によく開示されてい
る。
1983年第3421号やだ3645号によく開示されてい
る。
前者のスラリー塗布法は蛍光体スラリーをフエ
ーズ内面に塗布し、シヤドーマスクを通じて所定
部位だけを露光処理した後、非露光部を洗浄して
現象する方法で、感光度が低いから、露光時間が
長い、また露光紫外線が蛍光体表面で光散乱をし
て、微細で鮮明な蛍光体パターンを得ることがで
きない。
ーズ内面に塗布し、シヤドーマスクを通じて所定
部位だけを露光処理した後、非露光部を洗浄して
現象する方法で、感光度が低いから、露光時間が
長い、また露光紫外線が蛍光体表面で光散乱をし
て、微細で鮮明な蛍光体パターンを得ることがで
きない。
後者のドライ法はフエーズ内面に感光部を塗布
して、乾燥した後、露光をし、蛍光体を散布，吸
着させて、非露光部に残留する蛍光体を空気で洗
浄し、ローデイング材を投与して、露光された感
光剤が発現した純水を消失させて形成する方法
で、スラリー法よりは良質の蛍光体パターンを得
ることができるが、空気で洗浄するから非露光部
で残留する蛍光体きれいに除去することがむずか
しいから、次の蛍光膜塗布時、色時を惹起するこ
とがある。
して、乾燥した後、露光をし、蛍光体を散布，吸
着させて、非露光部に残留する蛍光体を空気で洗
浄し、ローデイング材を投与して、露光された感
光剤が発現した純水を消失させて形成する方法
で、スラリー法よりは良質の蛍光体パターンを得
ることができるが、空気で洗浄するから非露光部
で残留する蛍光体きれいに除去することがむずか
しいから、次の蛍光膜塗布時、色時を惹起するこ
とがある。
カラー陰極線管の書面の鮮明度は赤，青，緑三
色の蛍光膜パターンがどのくらい微細で正しく形
成されるかに左右される。
色の蛍光膜パターンがどのくらい微細で正しく形
成されるかに左右される。
この発明の目的は露光乾燥後にも粘着性の変化
がなく、乾燥温度範囲が広い感光性樹脂組成物を
提供することにある。
がなく、乾燥温度範囲が広い感光性樹脂組成物を
提供することにある。
この発明の目的はまた上記の感光性樹脂組成物
を利用して、整然として鮮明な高精細の蛍光膜パ
ターンをもつ蛍光面の形成方法を提供するにあ
る。
を利用して、整然として鮮明な高精細の蛍光膜パ
ターンをもつ蛍光面の形成方法を提供するにあ
る。
この発明の感光性樹脂組成物は純水10−50重量
％，ポリビニルアルコール５−30重量％，重クロ
ム酸塩0.5−５重量％，ジエチレングリコール0.5
−５重量％，エチレングリコール0.5−５重量％，
尿素0.5−５重量％，アセトアミド0.5−５重量
％，ブタンジオル0.5−10重量％，パラアルデヒ
ド0.5−５重量％，ジオキサン0.5−５重量％，界
面活性剤0.5−５重量％の組成比でできる。
％，ポリビニルアルコール５−30重量％，重クロ
ム酸塩0.5−５重量％，ジエチレングリコール0.5
−５重量％，エチレングリコール0.5−５重量％，
尿素0.5−５重量％，アセトアミド0.5−５重量
％，ブタンジオル0.5−10重量％，パラアルデヒ
ド0.5−５重量％，ジオキサン0.5−５重量％，界
面活性剤0.5−５重量％の組成比でできる。
また、上記の組成物を利用して蛍光面を形成す
る方法はカラー陰極線管のフエーズ内面に上記の
組成物を塗布し、露光および乾燥させた後、蛍光
体粉末を散布して、露光部に付着させ、非露光部
の蛍光体を水で除去した後、硼酸溶液で処理し
て、蛍光体パターンを収縮および固着する工程順
で行う。
る方法はカラー陰極線管のフエーズ内面に上記の
組成物を塗布し、露光および乾燥させた後、蛍光
体粉末を散布して、露光部に付着させ、非露光部
の蛍光体を水で除去した後、硼酸溶液で処理し
て、蛍光体パターンを収縮および固着する工程順
で行う。
この発明の感光性樹脂組成物はつぎの物質によ
つて組成される。
つて組成される。
ポリビニルアルコール：５−30重量％が添付さ
れる。これは波長364nmの光を受けて還元した３
価クロムによつて光架橋される特性をもつてい
る。即、酸化と還元反応をする間に、最終的にあ
らわす分解産物のカルボキシル基は３価クロムと
８面体の化合物を形成する。このカルボキシル基
は構造上α，βで凝固したイオン化基であり、共
有結合をもつ。この共有結合点は異なるポリビニ
ルアルコール鎖のイオン化基によつて飽和され、
３次元的な光架橋をつくつて水に対する溶解度が
かなり減少される。
れる。これは波長364nmの光を受けて還元した３
価クロムによつて光架橋される特性をもつてい
る。即、酸化と還元反応をする間に、最終的にあ
らわす分解産物のカルボキシル基は３価クロムと
８面体の化合物を形成する。このカルボキシル基
は構造上α，βで凝固したイオン化基であり、共
有結合をもつ。この共有結合点は異なるポリビニ
ルアルコール鎖のイオン化基によつて飽和され、
３次元的な光架橋をつくつて水に対する溶解度が
かなり減少される。
重クロム酸使途：0.5−５重量％が添加される。
ポリビニルアルコールと反応して熱や其他外的影
響で感光性を安定に維持する。この発明では重ク
ロム酸塩は重クロム酸カリウム塩を使用するのが
一番よい結果をあらわす。
ポリビニルアルコールと反応して熱や其他外的影
響で感光性を安定に維持する。この発明では重ク
ロム酸塩は重クロム酸カリウム塩を使用するのが
一番よい結果をあらわす。
ジエチレングリコール：0.5−10重量％が添加
される。可塑性剤で使用される。エチレングリコ
ール：0.5−５重量％が添加される。感光度およ
び乾燥状態を決定する。この実験では日本純正化
学株式会社製の一級試薬を使用した。
される。可塑性剤で使用される。エチレングリコ
ール：0.5−５重量％が添加される。感光度およ
び乾燥状態を決定する。この実験では日本純正化
学株式会社製の一級試薬を使用した。
尿素0.5−10重量％とアセトアミド0.5−５重量
％が添加される。アミンを含有するこれら物質は
蛍光膜形成時乾燥状態を維持し、空気中で水分を
吸収して蛍光膜の決定性が良好になるように作用
する。この実験では日本ハヤシピユアケミカルイ
ンダストリー製の一級を使用した。ブタンジオル
0.5−10重量％が添加される。これは全組成物に
包含されて可塑剤で作用する。
％が添加される。アミンを含有するこれら物質は
蛍光膜形成時乾燥状態を維持し、空気中で水分を
吸収して蛍光膜の決定性が良好になるように作用
する。この実験では日本ハヤシピユアケミカルイ
ンダストリー製の一級を使用した。ブタンジオル
0.5−10重量％が添加される。これは全組成物に
包含されて可塑剤で作用する。
パラアルデヒド0.5−10重量％とジオキサン0.5
−５重量％が添加され、可塑剤で作用して、組成
物の蒸発速度を制御し、感光樹脂膜の乾燥状態を
一定に維持する。
−５重量％が添加され、可塑剤で作用して、組成
物の蒸発速度を制御し、感光樹脂膜の乾燥状態を
一定に維持する。
界面活性剤：米国Rohm＆Hass製
Tamo1731SD6gを温水で100mlに溶解し、triton
CF−10 ４−５滴を投与して得る。
Tamo1731SD6gを温水で100mlに溶解し、triton
CF−10 ４−５滴を投与して得る。
上記の物質の組成は次のように行う。まず、室
温で純水にポリビニルアルコール希釈液を継続撹
拌しながらジエチレングリコールとエチレングリ
コールを注ぐ。約10分間程度撹拌して、よく混合
した後、尿素，アセトアミド、ブタンジオールを
順次添加する。継続撹拌しながらパラアルデヒド
とジオキサンを混ぜ、界面活性剤を加える。得ら
れる組成物は400メツシユで過して使用される。
この組成物の粘度と固形物の加減は蛍光膜分布密
度によつてポリビニルアルコール，純水等を加減
して調節する。
温で純水にポリビニルアルコール希釈液を継続撹
拌しながらジエチレングリコールとエチレングリ
コールを注ぐ。約10分間程度撹拌して、よく混合
した後、尿素，アセトアミド、ブタンジオールを
順次添加する。継続撹拌しながらパラアルデヒド
とジオキサンを混ぜ、界面活性剤を加える。得ら
れる組成物は400メツシユで過して使用される。
この組成物の粘度と固形物の加減は蛍光膜分布密
度によつてポリビニルアルコール，純水等を加減
して調節する。
可塑性の全体含量は20−50重量％に制限する。
可塑剤含量が20重量％未満では蛍光膜が速く乾燥
して蛍光膜の付着密度が低くなり、50重量％を超
過すると乾燥がゆるくなつてパターンが形成され
ない。
可塑剤含量が20重量％未満では蛍光膜が速く乾燥
して蛍光膜の付着密度が低くなり、50重量％を超
過すると乾燥がゆるくなつてパターンが形成され
ない。
また、上記組成物は赤，青蛍光膜の塗布時には
そのまま使用されるが、緑蛍光膜の場合にはガラ
ス面との接着力を増大させるために結合剤を添加
することもできる。このときに接合剤は米国デユ
ポン社のLudoxAMを0.5−５重量％範囲にして
使用した。
そのまま使用されるが、緑蛍光膜の場合にはガラ
ス面との接着力を増大させるために結合剤を添加
することもできる。このときに接合剤は米国デユ
ポン社のLudoxAMを0.5−５重量％範囲にして
使用した。
上記の組成物はフエーズ２の内面に塗布して第
一感光膜４を形成する。続いて緑蛍光膜マスク６
をフエーズ２に装着し、露光する。第一感光膜４
で露光された部位は粘着性と水に対する不溶性お
もつて、このとき蛍光体粉末を噴射すると、緑蛍
光膜８が形成される。この組成物の可塑剤含量は
20〜50重量％になるから蛍光体の付着密度はかな
り高くなる。そして過剰に散布された蛍光体粉末
を真空吸入器のような、適当な捕集手段で過剰蛍
光体の回収ができ、蛍光体の汚染が防がれる。こ
れを純水で洗浄して非露光部の蛍光体と残留蛍光
体を完全に洗うと緑蛍光膜パターン８′が残る。
これを硼酸水で洗浄すると蛍光膜パターンが収
縮，固着して整然とした鮮明な蛍光膜パターン
９′を得る。
一感光膜４を形成する。続いて緑蛍光膜マスク６
をフエーズ２に装着し、露光する。第一感光膜４
で露光された部位は粘着性と水に対する不溶性お
もつて、このとき蛍光体粉末を噴射すると、緑蛍
光膜８が形成される。この組成物の可塑剤含量は
20〜50重量％になるから蛍光体の付着密度はかな
り高くなる。そして過剰に散布された蛍光体粉末
を真空吸入器のような、適当な捕集手段で過剰蛍
光体の回収ができ、蛍光体の汚染が防がれる。こ
れを純水で洗浄して非露光部の蛍光体と残留蛍光
体を完全に洗うと緑蛍光膜パターン８′が残る。
これを硼酸水で洗浄すると蛍光膜パターンが収
縮，固着して整然とした鮮明な蛍光膜パターン
９′を得る。
硼酸水は2.5％溶液を使用した。赤，青蛍光膜
パターンは上記組成物をそのまま使用し、緑蛍光
膜パターンと同一な方式でなし得る。
パターンは上記組成物をそのまま使用し、緑蛍光
膜パターンと同一な方式でなし得る。
このようにして得られる蛍光膜パターンを拡大
撮影したのが第二図写真である。肉眼でもこの発
明の蛍光膜パターンがもつと整然として、鮮明な
もので表わされていることがわかる。
撮影したのが第二図写真である。肉眼でもこの発
明の蛍光膜パターンがもつと整然として、鮮明な
もので表わされていることがわかる。
第１図はこの発明の方法をあらわす工程図、第
２図はこの発明で得られる蛍光膜の線条形態の拡
大写真、第３図は従来のスラリー塗布法によつて
得られる蛍光膜の線条形態の拡大写真である。 ２……フエーズ、４……第１感光膜、６……緑
蛍光膜マスク、８……緑蛍光膜、８′……緑蛍光
膜パターン。
２図はこの発明で得られる蛍光膜の線条形態の拡
大写真、第３図は従来のスラリー塗布法によつて
得られる蛍光膜の線条形態の拡大写真である。 ２……フエーズ、４……第１感光膜、６……緑
蛍光膜マスク、８……緑蛍光膜、８′……緑蛍光
膜パターン。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 純水10−50重量％，ポリビニルアルコール５
−30重量％，重クロム酸塩0.5−５重量％，ジエ
チレングリコール0.5−５重量％，エチレングリ
コール0.5−５重量％，尿素0.5−５重量％，アセ
トアミド0.5−５重量％，ブタンジオル0.5−10重
量％，パラアルデヒド0.5−10重量％，ジオキサ
ン0.5−５重量％，界面活性剤0.5−５重量％の組
成比でできたカラー陰極線管蛍光面形成用感光性
樹脂組成物。 ２ 第１項において、ジエチレングリコール，エ
チレングリコール，ブタンジオル，パラアルデヒ
ドとジオキサンの総量が20−50重量％範囲ででき
ることを特徴とするカラー陰極線管蛍光面形成用
感光性樹脂組成物。 ３ カラー陰極線管の赤，青，緑蛍光膜パターン
を形成において、純水10−50重量％，ポリビニル
アルコール５−30重量％，重クロム酸カリウム塩
0.5−５重量％，ジエチレングリコール0.5−10重
量％，エチレングリコール0.5−５重量％，尿素
0.5−10重量％，アセトアミド0.5−５重量％，ブ
タンジオル0.5−10重量％，パラアルデヒド0.5−
５重量％，ジオキサン0.5−５重量％，界面活性
剤0.5−５重量％で組成された感光性樹脂組成物
をカラー陰極線管のフエーズ内面に塗布し、乾燥
した後蛍光膜マスクを通じて紫外線を照射して、
所定部位を露光させ、それに蛍光体粉末を散布付
着し、過剰に噴射された蛍光体粉末を除去した
後、純水でパネルに残留する非露光部の蛍光体を
洗浄し、所定の蛍光膜パターンを形成して硼酸水
で蛍光膜パターンを収縮固着させる工程からなる
蛍光膜の形成方法。 ４ 第３項において、硼酸水は2.5−10％溶液を
使用することを特徴とする蛍光膜の形成方法。 ５ 第３項において、過剰に散布された蛍光体粉
末を真空吸入して蛍光体を回収することを特徴と
する蛍光膜の形成方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR870009598A KR890004378A (ko) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 감광성 수지조성물을 사용하는 음극선관의 형광막 |
| KR87-9597 | 1987-08-31 | ||
| KR87-9598 | 1987-08-31 | ||
| KR1019870009597A KR900001601B1 (ko) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 칼라 음극선관용 감광성수지 조성물을 이용한 형광면 제조방법. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01301785A JPH01301785A (ja) | 1989-12-05 |
| JPH0524191B2 true JPH0524191B2 (ja) | 1993-04-07 |
Family
ID=26627744
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63218230A Granted JPH01301785A (ja) | 1987-08-31 | 1988-08-31 | 感光性樹脂組成物とそれを利用するカラー陰極線管の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5002844A (ja) |
| JP (1) | JPH01301785A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5366834A (en) * | 1989-11-15 | 1994-11-22 | Nichia Kagaku Kogyo K.K. | Method of manufacturing a cathode ray tube phosphor screen |
| US5139957A (en) * | 1990-05-24 | 1992-08-18 | American Sterilizer Company | Chemical indicator that includes potassium dichromate and urea and method of using the same to detect hydrogen peroxide |
| US5674554A (en) * | 1996-01-22 | 1997-10-07 | Industrial Technology Research Institute | Method for forming a phosphor layer |
| JP7549553B2 (ja) * | 2021-03-16 | 2024-09-11 | 株式会社クラレ | 樹脂組成物 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3406068A (en) * | 1951-07-30 | 1968-10-15 | Rca Corp | Photographic methods of making electron-sensitive mosaic screens |
| US2992107A (en) * | 1954-10-19 | 1961-07-11 | Zenith Radio Corp | Method of manufacturing luminescent screens |
| US3140176A (en) * | 1961-04-12 | 1964-07-07 | Rca Corp | Art of making color-phosphor screens of the mosaic variety |
| US3269838A (en) * | 1963-03-18 | 1966-08-30 | Rca Corp | Method of making luminescent screens for cathode ray tubes |
| US3317319A (en) * | 1963-06-04 | 1967-05-02 | Rca Corp | Method of depositing particulate layers |
| US3342594A (en) * | 1965-03-31 | 1967-09-19 | Rauland Corp | Method for making color phosphor screens |
| NL6602797A (ja) * | 1966-03-04 | 1967-09-05 | ||
| JPS5740501B2 (ja) * | 1973-10-24 | 1982-08-27 | ||
| DE2411869C3 (de) * | 1974-03-12 | 1982-07-08 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Photochemisches System zur Beschichtung des Leuchtschirmes von Farbfernsehröhren |
| US4049452A (en) * | 1975-04-23 | 1977-09-20 | Rca Corporation | Reverse-printing method for producing cathode-ray-tube-screen structure |
| US4556626A (en) * | 1983-08-24 | 1985-12-03 | North American Philips Consumer Electronics Corporation | Negative-working dichromate photoresist composition, process for applying it to a polymethyl methacrylate surface, and article produced |
-
1988
- 1988-08-31 US US07/238,401 patent/US5002844A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-08-31 JP JP63218230A patent/JPH01301785A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5002844A (en) | 1991-03-26 |
| JPH01301785A (ja) | 1989-12-05 |
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