JPH05242538A - 光磁気記録体の製法 - Google Patents
光磁気記録体の製法Info
- Publication number
- JPH05242538A JPH05242538A JP4353692A JP4353692A JPH05242538A JP H05242538 A JPH05242538 A JP H05242538A JP 4353692 A JP4353692 A JP 4353692A JP 4353692 A JP4353692 A JP 4353692A JP H05242538 A JPH05242538 A JP H05242538A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical recording
- magneto
- protective layer
- layer
- resin protective
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光磁気記録体の樹脂保護層へのフライングヘ
ッドの吸着や接触を極力防止できる信頼性の高い光磁気
記録体を提供すること。 【構成】 基板の一主面上に少なくとも光記録層及び樹
脂保護層を順次積層し、しかる後に前記樹脂保護層表面
に生じた局所的な凸部を研削することにより平坦化し、
該樹脂保護層表面を最大高さが2 μm 以下の面とするこ
とによって、光磁気記録体の樹脂保護層に対するフライ
ングヘッドの吸着やヘッド浮上時の接触を極力防止する
ことができ、フライングヘッドの浮上特性が安定した信
頼性の高い光磁気記録体を提供できる。
ッドの吸着や接触を極力防止できる信頼性の高い光磁気
記録体を提供すること。 【構成】 基板の一主面上に少なくとも光記録層及び樹
脂保護層を順次積層し、しかる後に前記樹脂保護層表面
に生じた局所的な凸部を研削することにより平坦化し、
該樹脂保護層表面を最大高さが2 μm 以下の面とするこ
とによって、光磁気記録体の樹脂保護層に対するフライ
ングヘッドの吸着やヘッド浮上時の接触を極力防止する
ことができ、フライングヘッドの浮上特性が安定した信
頼性の高い光磁気記録体を提供できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基板の一主面に少なく
とも光記録層を形成した光磁気記録体の製法に関する。
とも光記録層を形成した光磁気記録体の製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在、記録情報を一度だけ書き込めるラ
イト・ワンス型、情報の再書き込みが可能なリライタブ
ル型等の光磁気ディスクが開発され実用化され始めてい
る。これらの光磁気ディスクは、通常、基板上に光記録
層と該光記録層を保護する保護層とを順次積層したもの
が使用される。
イト・ワンス型、情報の再書き込みが可能なリライタブ
ル型等の光磁気ディスクが開発され実用化され始めてい
る。これらの光磁気ディスクは、通常、基板上に光記録
層と該光記録層を保護する保護層とを順次積層したもの
が使用される。
【０００３】このような光磁気ディスクのうち、情報の
書き込みにフライングヘッドを使用するものでは、フラ
イングヘッドが光磁気ディスクの回転開始時及び停止時
に保護層表面に接触した場合、フライングヘッドが動作
不良となったり、保護層に傷やクラック等が発生して光
記録層を損傷させるという問題があった。
書き込みにフライングヘッドを使用するものでは、フラ
イングヘッドが光磁気ディスクの回転開始時及び停止時
に保護層表面に接触した場合、フライングヘッドが動作
不良となったり、保護層に傷やクラック等が発生して光
記録層を損傷させるという問題があった。
【０００４】そこで、保護層である樹脂層に潤滑剤やフ
ィラーを混入させて、保護層の表面硬度を向上させると
ともに潤滑性をもたせることでフライングヘッドの接触
による問題を解消する提案がなされている（特開平2-40
149 号公報等参照) 。また、保護層上に粗面化した樹脂
層を積層させてフライングヘッドの吸着を防止し、フラ
イングヘッドの摺動摩擦や衝撃を避ける提案がなされて
いる（特開平２−２３２８３６号公報等参照） 。
ィラーを混入させて、保護層の表面硬度を向上させると
ともに潤滑性をもたせることでフライングヘッドの接触
による問題を解消する提案がなされている（特開平2-40
149 号公報等参照) 。また、保護層上に粗面化した樹脂
層を積層させてフライングヘッドの吸着を防止し、フラ
イングヘッドの摺動摩擦や衝撃を避ける提案がなされて
いる（特開平２−２３２８３６号公報等参照） 。
【０００５】
【従来技術の課題】しかしながら、上記いずれの提案も
樹脂層の形成時にゴミ等の異物が混入して局所的に突起
（凸部）が発生したり、フィラーの大きさやその凝集に
よっても局所的な凸部が発生することにより、浮上した
フライングヘッドがこれに接触して、やはり従来のよう
に動作不良が起こり情報記録の信頼性が低下するので問
題であった。
樹脂層の形成時にゴミ等の異物が混入して局所的に突起
（凸部）が発生したり、フィラーの大きさやその凝集に
よっても局所的な凸部が発生することにより、浮上した
フライングヘッドがこれに接触して、やはり従来のよう
に動作不良が起こり情報記録の信頼性が低下するので問
題であった。
【０００６】
【発明の目的】そこで、上記問題を解消して光磁気記録
体の樹脂保護層へのフライングヘッドの吸着や接触を極
力防止できる信頼性の高い光磁気記録体を提供すること
を目的とする。
体の樹脂保護層へのフライングヘッドの吸着や接触を極
力防止できる信頼性の高い光磁気記録体を提供すること
を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の光磁気記録体の
製法は、基板の一主面上に少なくとも光記録層及び樹脂
保護層を順次積層し、しかる後に前記樹脂保護層表面に
生じた局所的な凸部を研削することにより平坦化し、該
樹脂保護層表面を最大高さが2 μm 以下の面とする。な
お、ここで光記録層とは少なくとも光磁気記録層を含む
層をいう。
製法は、基板の一主面上に少なくとも光記録層及び樹脂
保護層を順次積層し、しかる後に前記樹脂保護層表面に
生じた局所的な凸部を研削することにより平坦化し、該
樹脂保護層表面を最大高さが2 μm 以下の面とする。な
お、ここで光記録層とは少なくとも光磁気記録層を含む
層をいう。
【０００８】
【実施例】本発明に係る一実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図１に示す光磁気記録体Ｍは、ポリカーボ
ネート等の樹脂から成るディスク状の基板１( 厚み1.2
mm) の一主面上に、光記録層２をスパッタ法で形成し、
さらにスピンコート法により樹脂保護層３を形成したも
のである。
に説明する。図１に示す光磁気記録体Ｍは、ポリカーボ
ネート等の樹脂から成るディスク状の基板１( 厚み1.2
mm) の一主面上に、光記録層２をスパッタ法で形成し、
さらにスピンコート法により樹脂保護層３を形成したも
のである。
【０００９】ここで、光記録層２は、非晶質イットリウ
ムサイアロンの第１誘電体層（約100 nm厚) 、非晶質Gd
-Dy-Fe系の光磁気記録層( 約20nm厚) 、非晶質イットリ
ウムサイアロンの第２誘電体層( 約30nm厚) 、及び金属
アルミニウムの反射層( 約100 nm厚) を順次積層したも
のである。なお、第１及び第２誘電体層の材質としては
他に窒化シリコン、窒化アルミニウム、炭化シリコン、
硫化カドミウム、窒化チタン、硫化亜鉛、フッ化マグネ
シウム、酸化カドミウム、酸化ビスマスなどが単体ある
いは組合せて用いられる。また、特に光磁気記録層の材
料としてはGd-Dy-Fe系の他に例えばGd-Dy-Fe,Gd-Tb-Fe,
Tb-Fe-Co,Dy-Fe-Co,Gd-Tb-Dy-Fe,Gd-Tb-Fe-Co,Tb-Dy-Fe
-Co,Gd-Dy-Fe-Co,Nd-Gd-Dy-Fe,Nd-Dy-Fe-Co,Nd-Gd-Dy-F
e-Co系などの合金系が用いられる。また、反射層の材質
としては、他にCr,Ti,Cu,Ag,SUSなどが単体あるいは組
合わせて用いられる。
ムサイアロンの第１誘電体層（約100 nm厚) 、非晶質Gd
-Dy-Fe系の光磁気記録層( 約20nm厚) 、非晶質イットリ
ウムサイアロンの第２誘電体層( 約30nm厚) 、及び金属
アルミニウムの反射層( 約100 nm厚) を順次積層したも
のである。なお、第１及び第２誘電体層の材質としては
他に窒化シリコン、窒化アルミニウム、炭化シリコン、
硫化カドミウム、窒化チタン、硫化亜鉛、フッ化マグネ
シウム、酸化カドミウム、酸化ビスマスなどが単体ある
いは組合せて用いられる。また、特に光磁気記録層の材
料としてはGd-Dy-Fe系の他に例えばGd-Dy-Fe,Gd-Tb-Fe,
Tb-Fe-Co,Dy-Fe-Co,Gd-Tb-Dy-Fe,Gd-Tb-Fe-Co,Tb-Dy-Fe
-Co,Gd-Dy-Fe-Co,Nd-Gd-Dy-Fe,Nd-Dy-Fe-Co,Nd-Gd-Dy-F
e-Co系などの合金系が用いられる。また、反射層の材質
としては、他にCr,Ti,Cu,Ag,SUSなどが単体あるいは組
合わせて用いられる。
【００１０】また、樹脂保護層３は下部層４と上部層５
とから成る。ここで、下部層４はウレタンアクリレート
系の紫外線硬化型樹脂（大日本インキ（株）製；商品名
SD-301）を約10μm 厚に塗布形成したものであり、上部
層５はアクリル系紫外線硬化型樹脂にシリカのフィラー
（粒径1 〜10μm , 平均粒径4 μm ) を加えた樹脂(三
菱レイヨン製) を約5 μm 厚に塗布形成したものであ
る。下部層４及び上部層５の材料としては、上記材料の
他に例えばアクリル系、エポキシ系、ポリエステル系、
アクリル酸エステル系、ウレタンアクリル系、ポリエー
テル系、シリコン系等の紫外線硬化型、熱硬化型、嫌気
性硬化型、湿気性硬化型などが使用可能である。
とから成る。ここで、下部層４はウレタンアクリレート
系の紫外線硬化型樹脂（大日本インキ（株）製；商品名
SD-301）を約10μm 厚に塗布形成したものであり、上部
層５はアクリル系紫外線硬化型樹脂にシリカのフィラー
（粒径1 〜10μm , 平均粒径4 μm ) を加えた樹脂(三
菱レイヨン製) を約5 μm 厚に塗布形成したものであ
る。下部層４及び上部層５の材料としては、上記材料の
他に例えばアクリル系、エポキシ系、ポリエステル系、
アクリル酸エステル系、ウレタンアクリル系、ポリエー
テル系、シリコン系等の紫外線硬化型、熱硬化型、嫌気
性硬化型、湿気性硬化型などが使用可能である。
【００１１】また、上部層５のフィラーは上記材料の他
に Al 2 O 3 ,Si 3 N 4 ,SiC,CdS,ZnS,SiO等のセラミッ
クとを樹脂に混合しても良く、さらに導電性のあるセラ
ミック例えばＩＴＯ( SnO 2 添加のIn2 O 3 ),Sb2 O
3 ,IrO2 ,MoO2 ,NbO2 ,PtO2 ,RuO2 ,WO 2 等の酸化
物、MoC,NbC,TaC,TiC,WC等の炭化物、NbN,Ta2 N,TiN,Zr
N,VN等の窒化物等を混合しても良い。
に Al 2 O 3 ,Si 3 N 4 ,SiC,CdS,ZnS,SiO等のセラミッ
クとを樹脂に混合しても良く、さらに導電性のあるセラ
ミック例えばＩＴＯ( SnO 2 添加のIn2 O 3 ),Sb2 O
3 ,IrO2 ,MoO2 ,NbO2 ,PtO2 ,RuO2 ,WO 2 等の酸化
物、MoC,NbC,TaC,TiC,WC等の炭化物、NbN,Ta2 N,TiN,Zr
N,VN等の窒化物等を混合しても良い。
【００１２】保護層３の層厚については、フライングヘ
ッドと光記録層２との距離が実際上25μm 以下であるこ
とから、下部層４の層厚は樹脂などの有機質材料では信
頼性を得るために2 〜20μm 、好ましくは4 〜15μm が
最適となる。また、上部層５はフィラーの粒径にもよる
が、粒径は4 〜8 μm が良く、その時の膜厚は4 〜８μ
ｍ が良い。
ッドと光記録層２との距離が実際上25μm 以下であるこ
とから、下部層４の層厚は樹脂などの有機質材料では信
頼性を得るために2 〜20μm 、好ましくは4 〜15μm が
最適となる。また、上部層５はフィラーの粒径にもよる
が、粒径は4 〜8 μm が良く、その時の膜厚は4 〜８μ
ｍ が良い。
【００１３】上部層５の表面はフィラーにより粗面化
し、フィラーの凝集やゴミ等の異物などによ局部的に生
じる凸部の高さが4 〜10μm の凹凸状となる。次に、一
般にハードディスクなどで使用されているバニッシュヘ
ッドタイプの研削用ヘッドを用いて、光磁気記録体Ｍを
回転させながらこの凸部の最大の高さが0.05〜3.0 μm
となる試料を多数作製した。なお、この高さの測定は触
針型の表面粗さ計により凸部の底辺から頂点までの高さ
を測定することより行った。また、各試料の表面粗さは
中心線粗さで100 nmRa程度となるように上部層５を塗布
形成した。
し、フィラーの凝集やゴミ等の異物などによ局部的に生
じる凸部の高さが4 〜10μm の凹凸状となる。次に、一
般にハードディスクなどで使用されているバニッシュヘ
ッドタイプの研削用ヘッドを用いて、光磁気記録体Ｍを
回転させながらこの凸部の最大の高さが0.05〜3.0 μm
となる試料を多数作製した。なお、この高さの測定は触
針型の表面粗さ計により凸部の底辺から頂点までの高さ
を測定することより行った。また、各試料の表面粗さは
中心線粗さで100 nmRa程度となるように上部層５を塗布
形成した。
【００１４】そして、各試料についてフライングヘッド
６による浮上テスト( 光磁気記録体の回転数3600rpm ,
フライングヘッド６の荷重4g重) を行ったところ、凸部
の最大高さが2.5 μm 以上では図２に示すようにフライ
ングヘッド６の光磁気記録体Ｍへの接触が発生した。ま
た、凸部の最大高さが0.1 μm より小さい場合ではフラ
イングヘッド６の吸着がみられ、表面粗さも初期の約10
0 nmRaから約10nmRaへとかなり低下していた。一方、凸
部の最大高さが0.1 〜2.0 μm の場合は、フライングヘ
ッド６の光磁気記録体Ｍへの接触や吸着は全く見られ
ず、表面粗さも初期の約100 nmRaを維持していた。な
お、表面粗さは表面粗さ計で測定し、光磁気記録体の直
径方向に沿った中心線平均粗さ（測定長さ＝2mm ）の平
均値を算出したものである。
６による浮上テスト( 光磁気記録体の回転数3600rpm ,
フライングヘッド６の荷重4g重) を行ったところ、凸部
の最大高さが2.5 μm 以上では図２に示すようにフライ
ングヘッド６の光磁気記録体Ｍへの接触が発生した。ま
た、凸部の最大高さが0.1 μm より小さい場合ではフラ
イングヘッド６の吸着がみられ、表面粗さも初期の約10
0 nmRaから約10nmRaへとかなり低下していた。一方、凸
部の最大高さが0.1 〜2.0 μm の場合は、フライングヘ
ッド６の光磁気記録体Ｍへの接触や吸着は全く見られ
ず、表面粗さも初期の約100 nmRaを維持していた。な
お、表面粗さは表面粗さ計で測定し、光磁気記録体の直
径方向に沿った中心線平均粗さ（測定長さ＝2mm ）の平
均値を算出したものである。
【００１５】なお、上部層５の表面粗さはこの実施例に
限定されるものではなく、凸部の最大高さが0.1 〜2.0
μm の場合は、フライングヘッド６の光磁気記録体Ｍへ
の接触や吸着は全く見られず、表面粗さも初期の粗さを
維持することが判明した。また、樹脂保護層の態様は上
述の構成に限定されるものではなく、例えばサンドペー
パー等による表面研磨でもよく粗面化を施したものであ
れば適宜変更し実施しうる。
限定されるものではなく、凸部の最大高さが0.1 〜2.0
μm の場合は、フライングヘッド６の光磁気記録体Ｍへ
の接触や吸着は全く見られず、表面粗さも初期の粗さを
維持することが判明した。また、樹脂保護層の態様は上
述の構成に限定されるものではなく、例えばサンドペー
パー等による表面研磨でもよく粗面化を施したものであ
れば適宜変更し実施しうる。
【００１６】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の光磁気記録
体の製法によれば、光磁気記録体の樹脂保護層に対する
フライングヘッドの吸着やヘッド浮上時の接触を極力防
止することができ、フライングヘッドの浮上特性が安定
した信頼性の高い光磁気記録体を提供できる。
体の製法によれば、光磁気記録体の樹脂保護層に対する
フライングヘッドの吸着やヘッド浮上時の接触を極力防
止することができ、フライングヘッドの浮上特性が安定
した信頼性の高い光磁気記録体を提供できる。
【図１】本発明に係る一実施例の光磁気記録体の断面図
である。
である。
【図２】フライングヘッドが樹脂保護層に接触した様子
を示す光磁気記録体の断面図である。
を示す光磁気記録体の断面図である。
１ ・・・ 基板 ２ ・・・ 光記
録層 ３ ・・・ 樹脂保護層 ４ ・・・ 下部
層 ５ ・・・ 上部層 ６ ・・・ フラ
イングヘッド Ｍ ・・・ 光磁気記録体
録層 ３ ・・・ 樹脂保護層 ４ ・・・ 下部
層 ５ ・・・ 上部層 ６ ・・・ フラ
イングヘッド Ｍ ・・・ 光磁気記録体
Claims (1)
- 【請求項１】 基板の一主面上に少なくとも光記録層及
び樹脂保護層を順次積層し、しかる後に前記樹脂保護層
表面を研削することにより平坦化し、該樹脂保護層表面
を最大高さが2 μm 以下の面とすることを特徴とする光
磁気記録体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4353692A JPH05242538A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 光磁気記録体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4353692A JPH05242538A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 光磁気記録体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05242538A true JPH05242538A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=12666463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4353692A Pending JPH05242538A (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 光磁気記録体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05242538A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4863154A (en) * | 1984-03-27 | 1989-09-05 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Conveyor system for planar objects |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP4353692A patent/JPH05242538A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4863154A (en) * | 1984-03-27 | 1989-09-05 | Mitsubishi Jukogyo Kabushiki Kaisha | Conveyor system for planar objects |
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