JPH05245984A - 電気用積層板 - Google Patents
電気用積層板Info
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- JPH05245984A JPH05245984A JP4047388A JP4738892A JPH05245984A JP H05245984 A JPH05245984 A JP H05245984A JP 4047388 A JP4047388 A JP 4047388A JP 4738892 A JP4738892 A JP 4738892A JP H05245984 A JPH05245984 A JP H05245984A
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- benzoxazolylthiophene
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ３８０〜４２０ｎｍの紫外線を吸収しかつ色
調変化のない電気用積層板を得る。 【構成】 化１中の式１で表されるベンゾオキサゾリル
チオフェン化合物又は式２で表されるピラゾリン化合物
を樹脂中に配合する。 【化１】
調変化のない電気用積層板を得る。 【構成】 化１中の式１で表されるベンゾオキサゾリル
チオフェン化合物又は式２で表されるピラゾリン化合物
を樹脂中に配合する。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線硬化型レジスト
インクを使用して、プリント配線板を製造するのに適し
ている電気用積層板に関するものである。本発明で積層
板とは、熱硬化性樹脂を基材に含浸し、加熱加圧して得
た積層板すなわち、熱硬化性樹脂をマトリックスとする
積層板をいい、片面又は両面に金属箔を張り付けた金属
箔張り積層板も含む。
インクを使用して、プリント配線板を製造するのに適し
ている電気用積層板に関するものである。本発明で積層
板とは、熱硬化性樹脂を基材に含浸し、加熱加圧して得
た積層板すなわち、熱硬化性樹脂をマトリックスとする
積層板をいい、片面又は両面に金属箔を張り付けた金属
箔張り積層板も含む。
【０００２】
【従来の技術】近年、プリント配線板は、配線が高密度
化し、ソルダレジスト印刷においてもスクリーン印刷法
による方法よりも感光性レジストインクによる方法が多
くなっている。
化し、ソルダレジスト印刷においてもスクリーン印刷法
による方法よりも感光性レジストインクによる方法が多
くなっている。
【０００３】紫外線硬化型感光性レジストインクは、紫
外線を照射することによって硬化する。ところが、照射
した紫外線が積層板を透過してしまうことがあり、両面
にレジストインクを塗布してある場合、反対面のレジス
トインクも照射した面と同じように感光し、反対面に所
定のパターンを形成できなくなる。
外線を照射することによって硬化する。ところが、照射
した紫外線が積層板を透過してしまうことがあり、両面
にレジストインクを塗布してある場合、反対面のレジス
トインクも照射した面と同じように感光し、反対面に所
定のパターンを形成できなくなる。
【０００４】照射量を減少すると、レジストインクの硬
化が不充分となり、耐摩耗性、耐溶剤性、耐湿性を損な
う。そこで、従来は、ベンゾフェノン系、ベンゾトリア
ゾール系、クマリン系等の添加型紫外線吸収剤を樹脂中
に配合していた。
化が不充分となり、耐摩耗性、耐溶剤性、耐湿性を損な
う。そこで、従来は、ベンゾフェノン系、ベンゾトリア
ゾール系、クマリン系等の添加型紫外線吸収剤を樹脂中
に配合していた。
【０００５】これらの紫外線吸収剤は波長３８０ｎｍ以
下の紫外線しか吸収しない。例えば、ベンゾフェノン系
紫外線吸収剤は２７０〜２９０ｎｍ付近に吸収のピーク
があるものがほとんどであり、ベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤、クマリン系紫外線吸収剤いずれも３４０〜
３６０ｎｍ付近に吸収のピークがある。従来の紫外線硬
化型感光性レジストインクは、１００〜３８０ｎｍの紫
外線を照射して硬化させるものであったので（プリント
回路技術便覧、７６５ページ）これで充分であった。
下の紫外線しか吸収しない。例えば、ベンゾフェノン系
紫外線吸収剤は２７０〜２９０ｎｍ付近に吸収のピーク
があるものがほとんどであり、ベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤、クマリン系紫外線吸収剤いずれも３４０〜
３６０ｎｍ付近に吸収のピークがある。従来の紫外線硬
化型感光性レジストインクは、１００〜３８０ｎｍの紫
外線を照射して硬化させるものであったので（プリント
回路技術便覧、７６５ページ）これで充分であった。
【０００６】
【発明が解決しょうとする課題】ところが、紫外線硬化
型ソルダレジストインクは、その後改良され、可視光に
近い波長で硬化するようになった。このため、電気用積
層板に波長３８０〜４２０ｎｍの紫外線を吸収する性能
をもたせる必要を生じた。
型ソルダレジストインクは、その後改良され、可視光に
近い波長で硬化するようになった。このため、電気用積
層板に波長３８０〜４２０ｎｍの紫外線を吸収する性能
をもたせる必要を生じた。
【０００７】本発明は、波長３８０〜４２０ｎｍの紫外
線を透過しない電気用積層板を提供することを目的とす
る。
線を透過しない電気用積層板を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々検討
した結果、一般式化３で表されるベンゾオキサゾリルチ
オフェン化合物及び一般式化４で表されるピラゾリン化
合物が前記本発明の目的を達成するために有効であるこ
とを見出した。
した結果、一般式化３で表されるベンゾオキサゾリルチ
オフェン化合物及び一般式化４で表されるピラゾリン化
合物が前記本発明の目的を達成するために有効であるこ
とを見出した。
【０００９】
【化３】 置換基Ｒ1及びＲ2は水素、ハロゲン又は炭素数１〜６の
アルキル基を表す。
アルキル基を表す。
【００１０】
【化４】 置換基Ｒ1、Ｒ2及びＲ4は水素、炭素数１〜６のアルキ
ル基又はフェニル基（ハロゲン又はアルキル核置換体を
含む）を表し、置換基Ｒ3はメチレン基、エチレン基、
プロピレン基、カルボニル基又はフェニルエチレン基を
表す。
ル基又はフェニル基（ハロゲン又はアルキル核置換体を
含む）を表し、置換基Ｒ3はメチレン基、エチレン基、
プロピレン基、カルボニル基又はフェニルエチレン基を
表す。
【００１１】一般式化３で表されるベンゾオキサゾリル
チオフェン化合物として一例を示すと、２，５ビス（タ
ーシャリブチルベンゾオキサゾリル（２）チオフェンが
ある。
チオフェン化合物として一例を示すと、２，５ビス（タ
ーシャリブチルベンゾオキサゾリル（２）チオフェンが
ある。
【００１２】また、一般式化４で表されるピラゾリン化
合物として一例を示すと、１−（フェニル）−３−（４
−ターシャリブチル−スチリル）−５−（４−ターシャ
リブチルフェニル）−ピラゾリンがある。
合物として一例を示すと、１−（フェニル）−３−（４
−ターシャリブチル−スチリル）−５−（４−ターシャ
リブチルフェニル）−ピラゾリンがある。
【００１３】一般式化３で表されるベンゾオキサゾリル
チオフェン化合物及び一般式化４で表されるピラゾリン
化合物の両者を併用すること、ベンゾオキサゾリル化合
物、ピラゾリン化合物をそれぞれ１種又は２種以上用い
ることも、もちろん差し支えない。
チオフェン化合物及び一般式化４で表されるピラゾリン
化合物の両者を併用すること、ベンゾオキサゾリル化合
物、ピラゾリン化合物をそれぞれ１種又は２種以上用い
ることも、もちろん差し支えない。
【００１４】一般式化３で表されるベンゾオキサゾリル
チオフェン化合物及び一般式化４で表されるピラゾリン
化合物に、さらに、３４０〜３６０ｎｍの吸収ピークを
持つクマリン系の化合物を配合すると、３８０〜４２０
ｎｍにおける吸収能が向上し、さらに３４０〜３６０ｎ
ｍの紫外線も吸収するので好ましい。
チオフェン化合物及び一般式化４で表されるピラゾリン
化合物に、さらに、３４０〜３６０ｎｍの吸収ピークを
持つクマリン系の化合物を配合すると、３８０〜４２０
ｎｍにおける吸収能が向上し、さらに３４０〜３６０ｎ
ｍの紫外線も吸収するので好ましい。
【００１５】熱硬化性樹脂としては、各種の電気用積層
板に用いられているものであれば使用できるが、特にエ
ポキシ樹脂のように光透過性のよい樹脂の場合に有効で
ある。
板に用いられているものであれば使用できるが、特にエ
ポキシ樹脂のように光透過性のよい樹脂の場合に有効で
ある。
【００１６】基材も同様に各種の電気用積層板に用いら
れているものであれば特に限定のないものであるが、通
常ガラス織布、ガラス不織布、ガラス繊維と他の繊維と
の混合織布や不織布が用いられる。
れているものであれば特に限定のないものであるが、通
常ガラス織布、ガラス不織布、ガラス繊維と他の繊維と
の混合織布や不織布が用いられる。
【００１７】ベンゾオキサゾリルチオフェン化合物又は
ピラゾリン化合物の配合量は、積層板の厚みによって異
なる。積層板の厚みが大きいときは少量でよく、薄い場
合は多くする。例えば厚さ０．１ｍｍのガラス布に熱硬
化性樹脂（エポキシ樹脂）を含浸乾燥して樹脂分４３重
量％として得たプリプレグを２枚重ね成形して成る積層
板においては、熱硬化性樹脂（エポキシ樹脂）に対して
０．２％とする。配合量が多すぎると積層板の色調が変
化するので、１％以下とするのが好ましい。
ピラゾリン化合物の配合量は、積層板の厚みによって異
なる。積層板の厚みが大きいときは少量でよく、薄い場
合は多くする。例えば厚さ０．１ｍｍのガラス布に熱硬
化性樹脂（エポキシ樹脂）を含浸乾燥して樹脂分４３重
量％として得たプリプレグを２枚重ね成形して成る積層
板においては、熱硬化性樹脂（エポキシ樹脂）に対して
０．２％とする。配合量が多すぎると積層板の色調が変
化するので、１％以下とするのが好ましい。
【００１８】ピラゾリン化合物とベンゾオキサゾリルチ
オフェン化合物又はクマリン系化合物とを併用する場合
の配合割合は等量とするのが好ましい。また配合量は両
者合わせて１％以下とするのが好ましい。
オフェン化合物又はクマリン系化合物とを併用する場合
の配合割合は等量とするのが好ましい。また配合量は両
者合わせて１％以下とするのが好ましい。
【００１９】
【作用】ベンゾオキサゾリルチオフェン化合物又はピラ
ゾリン化合物を配合した熱硬化性樹脂を基材に含浸し、
加熱加圧して得た積層板すなわち、熱硬化性樹脂をマト
リックスとする積層板は、３８０〜４２０ｎｍの光を照
射してもこれらの化合物によって吸収され、反対側に塗
布されたレジストインクに影響しなくなる。
ゾリン化合物を配合した熱硬化性樹脂を基材に含浸し、
加熱加圧して得た積層板すなわち、熱硬化性樹脂をマト
リックスとする積層板は、３８０〜４２０ｎｍの光を照
射してもこれらの化合物によって吸収され、反対側に塗
布されたレジストインクに影響しなくなる。
【実施例】 実施例１ １−（フェニル）−３−（４−ターシャリブチルスチリ
ル）−５−（４−ターシャリブチルフェニル）−ピラゾ
リンをエポキシ樹脂１００に対して０．２（重量比、以
下同じ）添加してワニスとし、厚み０．１ｍｍのガラス
布に含浸乾燥して樹脂分４３重量％のプリプレグとし
た。このプリプレグを２枚重ね、その上下に厚さ７０μ
ｍの銅箔を重ね、１７０℃、５．０ＭＰａで９０分間加
熱加圧して積層板を得た。両面の銅箔をエッチングによ
って除去し、色相を１−（フェニル）−３−（４−ター
シャリブチルスチリル）−５−（４−ターシャリブチル
フェニル）−ピラゾリンを配合しない積層板と比較し
た。さらに紫外線照射機（オーク製作所製）で７００ｍ
Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、透過照度計ＵＶ−ＭＯＩ
で２種のセンサー、ＵＶ−３５（３３０〜３７０ｎｍの
紫外線を検知する）及びＵＶ−４２（４００〜４４０ｎ
ｍの紫外線を検知する）を用いて測定し、透過率を求め
た。
ル）−５−（４−ターシャリブチルフェニル）−ピラゾ
リンをエポキシ樹脂１００に対して０．２（重量比、以
下同じ）添加してワニスとし、厚み０．１ｍｍのガラス
布に含浸乾燥して樹脂分４３重量％のプリプレグとし
た。このプリプレグを２枚重ね、その上下に厚さ７０μ
ｍの銅箔を重ね、１７０℃、５．０ＭＰａで９０分間加
熱加圧して積層板を得た。両面の銅箔をエッチングによ
って除去し、色相を１−（フェニル）−３−（４−ター
シャリブチルスチリル）−５−（４−ターシャリブチル
フェニル）−ピラゾリンを配合しない積層板と比較し
た。さらに紫外線照射機（オーク製作所製）で７００ｍ
Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、透過照度計ＵＶ−ＭＯＩ
で２種のセンサー、ＵＶ−３５（３３０〜３７０ｎｍの
紫外線を検知する）及びＵＶ−４２（４００〜４４０ｎ
ｍの紫外線を検知する）を用いて測定し、透過率を求め
た。
【００２０】次に積層板の両面に液状レジストＰＳＲ−
１０００（太陽インキ製）をスクリーン印刷によって塗
布し８０℃で１５分間乾燥した。片面にネガフィルムを
置き、ネガフィルム面側に紫外線を照射し、トリクロロ
メタンで現像し、露光しなかった面にレジストが残って
いるか否かを調べた。
１０００（太陽インキ製）をスクリーン印刷によって塗
布し８０℃で１５分間乾燥した。片面にネガフィルムを
置き、ネガフィルム面側に紫外線を照射し、トリクロロ
メタンで現像し、露光しなかった面にレジストが残って
いるか否かを調べた。
【００２１】実施例２ １−（フェニル）−３−（４−ターシャリブチルスチリ
ル）−５−（４−ターシャリブチルフェニル）−ピラゾ
リンと４−メチル−７−Ｎ，Ｎジエチルアミノクマリン
をエポキシ樹脂１００に対してそれぞれ０．１添加して
ワニスとし、以下実施例１と同様にして積層板を得、こ
の積層板についても実施例１と同じ試験を行った。
ル）−５−（４−ターシャリブチルフェニル）−ピラゾ
リンと４−メチル−７−Ｎ，Ｎジエチルアミノクマリン
をエポキシ樹脂１００に対してそれぞれ０．１添加して
ワニスとし、以下実施例１と同様にして積層板を得、こ
の積層板についても実施例１と同じ試験を行った。
【００２２】実施例３ １−（フェニル）−３−（４−ターシャリブチルスチリ
ル）−５−（４−ターシャリブチルフェニル）−ピラゾ
リンと２，５ビス（ターシャリブチルベンゾオキサゾリ
ル（２）チオフェンとをエポキシ樹脂１００に対してそ
れぞれ０．１添加してワニスとし、以下実施例１と同様
にして積層板を得、この積層板についても実施例１と同
じ試験を行った。
ル）−５−（４−ターシャリブチルフェニル）−ピラゾ
リンと２，５ビス（ターシャリブチルベンゾオキサゾリ
ル（２）チオフェンとをエポキシ樹脂１００に対してそ
れぞれ０．１添加してワニスとし、以下実施例１と同様
にして積層板を得、この積層板についても実施例１と同
じ試験を行った。
【００２３】比較例１ ２ハイドロキシ４メトキシベンゾフェノンをエポキシ樹
脂１００に対し１．０添加し、以下実施例１と同様にし
て積層板を得、この積層板についても実施例１と同じ試
験を行った。
脂１００に対し１．０添加し、以下実施例１と同様にし
て積層板を得、この積層板についても実施例１と同じ試
験を行った。
【００２４】比較例２ ２−（２´−ハイドロキシ５´メチルフェニル）ベンゾ
チアゾールをエポキシ樹脂１００に対して１．０添加
し、以下実施例１と同様にして積層板を得、この積層板
についても実施例１と同じ試験を行った。以上の試験結
果を表１に示す。
チアゾールをエポキシ樹脂１００に対して１．０添加
し、以下実施例１と同様にして積層板を得、この積層板
についても実施例１と同じ試験を行った。以上の試験結
果を表１に示す。
【００２５】
【表１】
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、３８０〜４２０ｎｍの
比較的長波長で紫外線を露光する場合に反対側に塗布し
たレジストインクを感光させることなく、また、積層板
の色調変化もないという効果を奏する。
比較的長波長で紫外線を露光する場合に反対側に塗布し
たレジストインクを感光させることなく、また、積層板
の色調変化もないという効果を奏する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０５Ｋ 1/05 8727−4Ｅ (72)発明者 枝 鉄夫 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館工場内 (72)発明者 武田 良幸 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館工場内
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式化１で表されるベンゾオキサゾリ
ルチオフェン化合物を配合した樹脂をマトリックスとし
た電気用積層板。 【化１】 置換基Ｒ1及びＲ2は水素、ハロゲン又は炭素数１〜６の
アルキル基を表す。 - 【請求項２】 一般式化２で表されるピラゾリン化合物
を配合した樹脂をマトリックスとした電気用積層板。 【化２】 置換基Ｒ1、Ｒ2及びＲ4は水素、炭素数１〜６のアルキ
ル基又はフェニル基（ハロゲン又はアルキル核置換体を
含む）を表し、置換基Ｒ3はメチレン基、エチレン基、
プロピレン基、カルボニル基又はフェニルエチレン基を
表す。 - 【請求項３】 ピラゾリン化合物に加えてクマリン系の
化合物を配合した樹脂をマトリックスとした請求項２記
載の電気用積層板。 - 【請求項４】 一般式化１で表されるベンゾオキサゾリ
ルチオフェン化合物及び一般式化２で表されるピラゾリ
ン化合物を配合した樹脂をマトリックスとした電気用積
層板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4738892A JP2946919B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 電気用積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4738892A JP2946919B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 電気用積層板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05245984A true JPH05245984A (ja) | 1993-09-24 |
| JP2946919B2 JP2946919B2 (ja) | 1999-09-13 |
Family
ID=12773726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4738892A Expired - Fee Related JP2946919B2 (ja) | 1992-03-05 | 1992-03-05 | 電気用積層板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2946919B2 (ja) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3135762A (en) * | 1961-01-19 | 1964-06-02 | Ciba Ltd | Bis(benzoxazolyl)thiophene compounds |
| JPS5575405A (en) * | 1978-11-30 | 1980-06-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photopolymerizable composition |
| JPS5735850A (en) * | 1980-08-13 | 1982-02-26 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Photoresist composition |
| JPS62162535A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-18 | 松下電工株式会社 | 電気用積層板 |
| JPS62262052A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-14 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
| JPH03262185A (ja) * | 1990-03-13 | 1991-11-21 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 紫外線遮蔽回路用基板の製造方法 |
-
1992
- 1992-03-05 JP JP4738892A patent/JP2946919B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3135762A (en) * | 1961-01-19 | 1964-06-02 | Ciba Ltd | Bis(benzoxazolyl)thiophene compounds |
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| JPS5735850A (en) * | 1980-08-13 | 1982-02-26 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Photoresist composition |
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| JPS62262052A (ja) * | 1986-05-07 | 1987-11-14 | Minolta Camera Co Ltd | 感光体 |
| JPH03262185A (ja) * | 1990-03-13 | 1991-11-21 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 紫外線遮蔽回路用基板の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2946919B2 (ja) | 1999-09-13 |
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