JPH0524850A - 磁気ヘツドスライダ−材料 - Google Patents
磁気ヘツドスライダ−材料Info
- Publication number
- JPH0524850A JPH0524850A JP3205593A JP20559391A JPH0524850A JP H0524850 A JPH0524850 A JP H0524850A JP 3205593 A JP3205593 A JP 3205593A JP 20559391 A JP20559391 A JP 20559391A JP H0524850 A JPH0524850 A JP H0524850A
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- JP
- Japan
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- magnetic head
- magnetic
- compatibility
- head slider
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- Pending
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 本発明は、磁気ヘッドスライダ−材料に関す
る。特に、記録媒体とのなじみ、金属性磁性膜との熱整
合性や被着強度に優れ、耐摩耗性、精密加工性、高張度
組織の緻密性、さらには記録媒体とのなじみ、潤滑性等
の特性を満足する磁気ヘッドスライダー材料を提供す
る。 【構成】 ＣｏＯ及びＮｉＯを基本組成として、該組成
物に対して酸化ジルコニウム、酸化ハフニウムの少なく
とも一種を０．１〜７ｗｔ％添加した磁気ヘッドスライ
ダ−材料。 【効果】 本組成の材料は、熱膨張率、硬度とも磁性膜
構造体とほぼ同等の特性を得ることができる。このた
め、耐摩耗性、精密加工性、高強度、組織の緻密性、さ
らには記録媒体とのなじみ、潤滑性等の諸特性を満足で
きる。また、金属性磁性薄膜との熱整合性や被着強度
に、従来材料にないすぐれた性能を有するため、薄膜磁
気ヘッド装着に最適である。さらに、反応による生成物
の出現が見られず、従来材料にない均質性を有するた
め、薄膜磁気ヘッド装着に最適である。
る。特に、記録媒体とのなじみ、金属性磁性膜との熱整
合性や被着強度に優れ、耐摩耗性、精密加工性、高張度
組織の緻密性、さらには記録媒体とのなじみ、潤滑性等
の特性を満足する磁気ヘッドスライダー材料を提供す
る。 【構成】 ＣｏＯ及びＮｉＯを基本組成として、該組成
物に対して酸化ジルコニウム、酸化ハフニウムの少なく
とも一種を０．１〜７ｗｔ％添加した磁気ヘッドスライ
ダ−材料。 【効果】 本組成の材料は、熱膨張率、硬度とも磁性膜
構造体とほぼ同等の特性を得ることができる。このた
め、耐摩耗性、精密加工性、高強度、組織の緻密性、さ
らには記録媒体とのなじみ、潤滑性等の諸特性を満足で
きる。また、金属性磁性薄膜との熱整合性や被着強度
に、従来材料にないすぐれた性能を有するため、薄膜磁
気ヘッド装着に最適である。さらに、反応による生成物
の出現が見られず、従来材料にない均質性を有するた
め、薄膜磁気ヘッド装着に最適である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドスライダ−
材料に関する。特に、記録媒体とのなじみ、金属性磁性
膜との熱整合性等に優れ、ハードディスク用薄膜磁気ヘ
ッド装着に適した磁気ヘッドスライダ−材料に関するも
のである。
材料に関する。特に、記録媒体とのなじみ、金属性磁性
膜との熱整合性等に優れ、ハードディスク用薄膜磁気ヘ
ッド装着に適した磁気ヘッドスライダ−材料に関するも
のである。
【０００２】
【従来技術】一般に、磁気ヘッドスライダ−材料は、非
磁性材料であるが、耐摩耗性を始め精密加工性、加工能
率、高強度、組織の緻密性、さらには記録媒体とのなじ
み、潤滑性、金属性磁性膜との熱的整合性や被着強度な
どの諸特性が要求されている。
磁性材料であるが、耐摩耗性を始め精密加工性、加工能
率、高強度、組織の緻密性、さらには記録媒体とのなじ
み、潤滑性、金属性磁性膜との熱的整合性や被着強度な
どの諸特性が要求されている。
【０００３】従来、コンピュ−タ−用をはじめとするハ
ードディスク用ヘッドの代表的な構造としては、次の３
種類が挙げられる。（日経ニューマテリアルズ ９１年
４月８日号） （１）モノリシック型（スライダー自体がフェライトで
構成されている） （２）コンポジット型（セラミック製のスライダーにフ
ェライト製の磁気コアをはめこむ） （３）薄膜型（セラミック製のスライダーの端面に薄膜
プロセスで磁気コアを形成する）
ードディスク用ヘッドの代表的な構造としては、次の３
種類が挙げられる。（日経ニューマテリアルズ ９１年
４月８日号） （１）モノリシック型（スライダー自体がフェライトで
構成されている） （２）コンポジット型（セラミック製のスライダーにフ
ェライト製の磁気コアをはめこむ） （３）薄膜型（セラミック製のスライダーの端面に薄膜
プロセスで磁気コアを形成する）
【０００４】これらの記録再生用磁気ヘッドにはフェラ
イト、パ−マロイが用いられ、モノリシック型以外のス
ライダ−材料としては、酸化アルミニウム−炭化チタン
系が最適な材料の一つとされていた。（特開昭55-16366
5）
イト、パ−マロイが用いられ、モノリシック型以外のス
ライダ−材料としては、酸化アルミニウム−炭化チタン
系が最適な材料の一つとされていた。（特開昭55-16366
5）
【０００５】モノリシック構造は、スライダー自体がフ
ェライトでできているため、記録媒体とのなじみ、均質
性の点では優れているが、高コストである難点がある。
また、酸化アルミニウム−炭化チタン系材料は、塗布型
媒体とはなじみが良いが、薄膜媒体とのなじみ、潤滑性
の点で必ずしも安定な材料とはいえない。
ェライトでできているため、記録媒体とのなじみ、均質
性の点では優れているが、高コストである難点がある。
また、酸化アルミニウム−炭化チタン系材料は、塗布型
媒体とはなじみが良いが、薄膜媒体とのなじみ、潤滑性
の点で必ずしも安定な材料とはいえない。
【０００６】さらに、酸化アルミニウム−炭化チタン系
の熱膨張係数も、７．５〜８．０μｍ／ｍ℃であり、こ
れら材料表面に金属性磁性膜等を形成させた場合、機能
部材と薄膜との熱膨張係数の差が大きく、熱整合性及び
被着強度の面で問題があった。
の熱膨張係数も、７．５〜８．０μｍ／ｍ℃であり、こ
れら材料表面に金属性磁性膜等を形成させた場合、機能
部材と薄膜との熱膨張係数の差が大きく、熱整合性及び
被着強度の面で問題があった。
【０００７】今日、磁気記録の高密度化、高速化に伴
い、薄膜磁気ヘッド化が進められている。記録再生のた
めの磁気回路部材としては高周波域の磁気特性がすぐれ
たセンダストあるいはアモルファス薄膜が使用されてお
り、この材料に適したスライダ−材料も必要となってき
た。
い、薄膜磁気ヘッド化が進められている。記録再生のた
めの磁気回路部材としては高周波域の磁気特性がすぐれ
たセンダストあるいはアモルファス薄膜が使用されてお
り、この材料に適したスライダ−材料も必要となってき
た。
【０００８】本発明者等は、上記欠点を解決すべく酸化
物系セラミックスについて研究を進め、ＣｏＯ及びＮｉ
Ｏを基本組成として、酸化アルミニウム等を添加したこ
とを特徴とする材料の有効性を確認しこれを開示した。
（特開平03-040925）
物系セラミックスについて研究を進め、ＣｏＯ及びＮｉ
Ｏを基本組成として、酸化アルミニウム等を添加したこ
とを特徴とする材料の有効性を確認しこれを開示した。
（特開平03-040925）
【０００９】しかしながら、これらの添加材は基本組成
のＣｏＯ，ＮｉＯと反応し、研磨面に反応物が出現する
ため、耐摩耗性、精密加工性に劣るといった欠点が顕著
であった。
のＣｏＯ，ＮｉＯと反応し、研磨面に反応物が出現する
ため、耐摩耗性、精密加工性に劣るといった欠点が顕著
であった。
【００１０】
【問題点を解決する手段】以上の問題点を解決するため
に、本発明者等はＣｏＯ、ＮｉＯを基本組成とした添加
材の検討をさらに続けた結果、該組成物に対して酸化ジ
ルコニウム、酸化ハフニウムの少なくとも一種を０．１
〜７ｗｔ％添加した場合に、上記の特性を満たすことを
見出した。
に、本発明者等はＣｏＯ、ＮｉＯを基本組成とした添加
材の検討をさらに続けた結果、該組成物に対して酸化ジ
ルコニウム、酸化ハフニウムの少なくとも一種を０．１
〜７ｗｔ％添加した場合に、上記の特性を満たすことを
見出した。
【００１１】従って、本発明の目的は、研磨面に反応生
成物が見られず、金属性磁性膜との熱整合性や被着強度
にすぐれ、耐摩耗性、精密加工性、高強度、組織の緻密
性、さらには記録媒体とのなじみ、潤滑性等の諸特性を
満足する磁気ヘッドスライダ−材料を提供することであ
る。特に、ハードディスク用ヘッドのうち、コンポジッ
ト型、薄膜型のセラミック製スライダー材料を提供する
ものである。
成物が見られず、金属性磁性膜との熱整合性や被着強度
にすぐれ、耐摩耗性、精密加工性、高強度、組織の緻密
性、さらには記録媒体とのなじみ、潤滑性等の諸特性を
満足する磁気ヘッドスライダ−材料を提供することであ
る。特に、ハードディスク用ヘッドのうち、コンポジッ
ト型、薄膜型のセラミック製スライダー材料を提供する
ものである。
【００１２】
【発明の構成】即ち、本発明は、ＣｏＯ及びＮｉＯを基
本組成として、該組成物に対して酸化ジルコニウム、酸
化ハフニウムの少なくとも一種を０．１〜７ｗｔ％添加
したことを特徴とする磁気ヘッドスライダ−材料を提供
する。
本組成として、該組成物に対して酸化ジルコニウム、酸
化ハフニウムの少なくとも一種を０．１〜７ｗｔ％添加
したことを特徴とする磁気ヘッドスライダ−材料を提供
する。
【００１３】
【発明の具体的説明】本発明の理解を容易にするため具
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、ＣｏＯとＮｉＯ
の複合酸化物を意味し、例えば、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル
比）＝１／９９〜８０／２０で、より好ましくは、Ｃｏ
Ｏ／ＮｉＯ（モル比）＝３／９７〜６０／４０である。
体的かつ詳細に説明する。基本組成は、ＣｏＯとＮｉＯ
の複合酸化物を意味し、例えば、ＣｏＯ／ＮｉＯ（モル
比）＝１／９９〜８０／２０で、より好ましくは、Ｃｏ
Ｏ／ＮｉＯ（モル比）＝３／９７〜６０／４０である。
【００１４】上記組成物に対して、本発明では、酸化ジ
ルコニウム、酸化ハフニウムの少なくとも一種を０．１
〜７ｗｔ％添加する。酸化ジルコニウム、酸化ハフニウ
ムは、基本組成のＣｏＯ、ＮｉＯと反応物を生成せず、
粒成長抑制効果のある物質である。０．１ｗｔ％以上の
添加により粒径を抑制し、硬度が向上し、センダストの
値により近くなるため均質性の点で好ましい。しかしな
がら熱膨張率がＣｏＯ、ＮｉＯより低く、添加量は７ｗ
ｔ％以内に抑えるのが望ましい。好ましくは、１ｗｔ％
〜３ｗｔ％未満である。また、使用する酸化ジルコニウ
ムについては安定化あるいは部分安定化したものが望ま
しい。
ルコニウム、酸化ハフニウムの少なくとも一種を０．１
〜７ｗｔ％添加する。酸化ジルコニウム、酸化ハフニウ
ムは、基本組成のＣｏＯ、ＮｉＯと反応物を生成せず、
粒成長抑制効果のある物質である。０．１ｗｔ％以上の
添加により粒径を抑制し、硬度が向上し、センダストの
値により近くなるため均質性の点で好ましい。しかしな
がら熱膨張率がＣｏＯ、ＮｉＯより低く、添加量は７ｗ
ｔ％以内に抑えるのが望ましい。好ましくは、１ｗｔ％
〜３ｗｔ％未満である。また、使用する酸化ジルコニウ
ムについては安定化あるいは部分安定化したものが望ま
しい。
【００１５】さらに詳述すれば、例えば、市販の酸化物
を原料として、所望組成になるよう秤量し、ボ−ルミル
により混合する。混合は例えばエタノ−ル中湿式ボ−ル
ミルで１０〜３０時間行う。乾燥後、ＣＩＰ成形し、例
えばＡｒ中８５０〜１１００℃で仮焼し、次いで粗砕機
を用いて粉砕し、１００〜２００μｍの篩で篩分けを行
う。仮焼粉はさらに例えばエタノ−ル中湿式ボ−ルミル
で２０〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。こ
れを造粒後、ＣＩＰ成形し、例えば酸素中１２３０〜１
４００℃で焼結し、その後、ＨＩＰ処理を行う。ＨＩＰ
処理条件は、８０〜１２０ＭＰａ、１２００〜１３５０
℃、１〜２時間が望ましい。
を原料として、所望組成になるよう秤量し、ボ−ルミル
により混合する。混合は例えばエタノ−ル中湿式ボ−ル
ミルで１０〜３０時間行う。乾燥後、ＣＩＰ成形し、例
えばＡｒ中８５０〜１１００℃で仮焼し、次いで粗砕機
を用いて粉砕し、１００〜２００μｍの篩で篩分けを行
う。仮焼粉はさらに例えばエタノ−ル中湿式ボ−ルミル
で２０〜７２時間処理し、１μｍ以下に微粉砕する。こ
れを造粒後、ＣＩＰ成形し、例えば酸素中１２３０〜１
４００℃で焼結し、その後、ＨＩＰ処理を行う。ＨＩＰ
処理条件は、８０〜１２０ＭＰａ、１２００〜１３５０
℃、１〜２時間が望ましい。
【００１６】このようにして得られた焼結体は、研削及
び切削により磁気ヘッドスライダ−に加工される。加工
されたスライダ−は要求される諸特性、すなわち耐摩耗
性、精密加工性、高強度、組織の緻密性、さらには記録
媒体とのなじみ、潤滑性等を満足し、特に被着する金属
性磁性膜に近い熱膨張係数を有し、金属性磁性膜との熱
整合性や被着強度に、従来にないすぐれた性能を示し
た。特に、本材料はセンダストとほぼ同様の熱膨張係数
を有することから、磁気ヘッドと同じ材料であるため、
均質性にも優れ、また、反応生成物の出現も見られずよ
り好ましい。
び切削により磁気ヘッドスライダ−に加工される。加工
されたスライダ−は要求される諸特性、すなわち耐摩耗
性、精密加工性、高強度、組織の緻密性、さらには記録
媒体とのなじみ、潤滑性等を満足し、特に被着する金属
性磁性膜に近い熱膨張係数を有し、金属性磁性膜との熱
整合性や被着強度に、従来にないすぐれた性能を示し
た。特に、本材料はセンダストとほぼ同様の熱膨張係数
を有することから、磁気ヘッドと同じ材料であるため、
均質性にも優れ、また、反応生成物の出現も見られずよ
り好ましい。
【００１７】以下、本発明の実施例について説明する。
【実施例１】ＣｏＯ、ＮｉＯを原料にＣｏＯ／ＮｉＯ
（モル比）＝３５／６５組成となるように調整し、これ
にイットリア安定化ジルコニアを２ｗｔ％添加して混合
した。混合は、エタノール中湿式ボールミルで２０時間
行った。これをＡｒ中１０００℃で仮焼後、エタノ−ル
の湿式ボ−ルミルで４０時間粉砕した。この粉砕粉をＣ
ＩＰ成形後酸素中１３５０℃で焼結した。これを１２５
０℃、１００ＭＰａ、１時間のＨＩＰ処理を行った。焼
結体の相対密度は、９９．９％を超える値であった。こ
の焼結体を長さ４．３ｍｍ、幅３．２ｍｍ、高さ０．８
６ｍｍに加工し、コンポジット型磁気ヘッドスライダ−
として使用したところ充分機能した。加工研磨面のＳＥ
Ｍ写真を図１に示す。研磨面には反応物の出現が見られ
ず良好であった。
（モル比）＝３５／６５組成となるように調整し、これ
にイットリア安定化ジルコニアを２ｗｔ％添加して混合
した。混合は、エタノール中湿式ボールミルで２０時間
行った。これをＡｒ中１０００℃で仮焼後、エタノ−ル
の湿式ボ−ルミルで４０時間粉砕した。この粉砕粉をＣ
ＩＰ成形後酸素中１３５０℃で焼結した。これを１２５
０℃、１００ＭＰａ、１時間のＨＩＰ処理を行った。焼
結体の相対密度は、９９．９％を超える値であった。こ
の焼結体を長さ４．３ｍｍ、幅３．２ｍｍ、高さ０．８
６ｍｍに加工し、コンポジット型磁気ヘッドスライダ−
として使用したところ充分機能した。加工研磨面のＳＥ
Ｍ写真を図１に示す。研磨面には反応物の出現が見られ
ず良好であった。
【００１８】
【実施例２】実施例１と同様の方法で製造した焼結体を
長さ４．３ｍｍ、幅３．２ｍｍ、高さ１．３ｍｍに加工
し、薄膜プロセスで端面に磁気コアを形成した。これ
を、ハードディスク用ヘッドとして使用したところ充分
機能した。研磨面には反応物の出現が見られず良好であ
った。
長さ４．３ｍｍ、幅３．２ｍｍ、高さ１．３ｍｍに加工
し、薄膜プロセスで端面に磁気コアを形成した。これ
を、ハードディスク用ヘッドとして使用したところ充分
機能した。研磨面には反応物の出現が見られず良好であ
った。
【００１９】
【比較例】比較例として、基本組成は同じで、アルミナ
２ｗｔ％を添加し、同じ条件で製造した焼結体を作成し
た。焼結体の相対密度は、９９％を超える値であった。
この焼結体を実施例１、２と同様に加工し、ハードディ
スク用ヘッドとして使用したところ耐摩耗性が、１００
０時間後、本発明の半分の値であり好ましくなっかた。
加工研磨面のＳＥＭ写真を図２に示す。この比較例で
は、反応物の出現が見られ均質性がなく、耐摩耗性の悪
い原因と思われた。
２ｗｔ％を添加し、同じ条件で製造した焼結体を作成し
た。焼結体の相対密度は、９９％を超える値であった。
この焼結体を実施例１、２と同様に加工し、ハードディ
スク用ヘッドとして使用したところ耐摩耗性が、１００
０時間後、本発明の半分の値であり好ましくなっかた。
加工研磨面のＳＥＭ写真を図２に示す。この比較例で
は、反応物の出現が見られ均質性がなく、耐摩耗性の悪
い原因と思われた。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、（１）本組成の材
料は、熱膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同等の特
性を得ることができる。このため、耐摩耗性、精密加工
性、高強度、組織の緻密性、さらには記録媒体とのなじ
み、潤滑性等の諸特性を満足できる。
料は、熱膨張率、硬度とも磁性膜構造体とほぼ同等の特
性を得ることができる。このため、耐摩耗性、精密加工
性、高強度、組織の緻密性、さらには記録媒体とのなじ
み、潤滑性等の諸特性を満足できる。
【００２１】（２）特に金属性磁性薄膜との熱整合性や
被着強度に、従来材料にないすぐれた性能を有するた
め、薄膜磁気ヘッド装着に最適である。
被着強度に、従来材料にないすぐれた性能を有するた
め、薄膜磁気ヘッド装着に最適である。
【００２２】（３）反応による生成物の出現が見られ
ず、従来材料にない均質性を有するため、薄膜磁気ヘッ
ド装着に最適である。
ず、従来材料にない均質性を有するため、薄膜磁気ヘッ
ド装着に最適である。
【００２３】
図１に、本発明の研磨面の態様を示す。図２に、比較例
の研磨面を示す。
の研磨面を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 ＣｏＯ及びＮｉＯを基本組成として、該
組成物に対して酸化ジルコニウム、酸化ハフニウムの少
なくとも一種を０．１〜７ｗｔ％添加したことを特徴と
する磁気ヘッドスライダ−材料
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3205593A JPH0524850A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 磁気ヘツドスライダ−材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3205593A JPH0524850A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 磁気ヘツドスライダ−材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0524850A true JPH0524850A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=16509454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3205593A Pending JPH0524850A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 磁気ヘツドスライダ−材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0524850A (ja) |
-
1991
- 1991-07-23 JP JP3205593A patent/JPH0524850A/ja active Pending
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