JPH05109023A - 磁気ヘツド用基板 - Google Patents
磁気ヘツド用基板Info
- Publication number
- JPH05109023A JPH05109023A JP3297887A JP29788791A JPH05109023A JP H05109023 A JPH05109023 A JP H05109023A JP 3297887 A JP3297887 A JP 3297887A JP 29788791 A JP29788791 A JP 29788791A JP H05109023 A JPH05109023 A JP H05109023A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- slider
- substrate
- zro
- wear resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】摺動特性に優れ、高強度、高靭性、耐摩耗性に
加えて、小さい比抵抗のため耐摩擦帯電性が小さい、磁
気ヘッド用として好適な基板材料を提供する。 【構成】Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とし、Ｙ2 Ｏ3 またはＭｇ
Ｏを固溶させた正方晶ＺｒＯ2 を１０〜２５重量％、か
つＺｒ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａの炭化物、窒化物の少くとも
１種以上を１５〜３５重量％含む磁気ヘッド用基板材
料。
加えて、小さい比抵抗のため耐摩擦帯電性が小さい、磁
気ヘッド用として好適な基板材料を提供する。 【構成】Ａｌ2 Ｏ3 を主成分とし、Ｙ2 Ｏ3 またはＭｇ
Ｏを固溶させた正方晶ＺｒＯ2 を１０〜２５重量％、か
つＺｒ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａの炭化物、窒化物の少くとも
１種以上を１５〜３５重量％含む磁気ヘッド用基板材
料。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐久性、耐摩耗性に優
れた磁気ヘッドスライダー（基板）材料に関するもので
ある。
れた磁気ヘッドスライダー（基板）材料に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】近年磁気ディスク装置の分野において増
大する高記録密度化の要請に応えるため、薄膜磁気ヘッ
ドが急速に普及しつつある。薄膜磁気ヘッドはセラミッ
クス製スライダーの後端面に磁気信号の記録再生を行う
薄膜素子が形成された構造を有しており、スライダーが
磁気ディスクの高速回転（２０〜４０ｍ／ｓ）によって
発生する空気層流に乗って磁気ディスク面上にわずかに
浮上（０．２〜４μｍ）することを利用し磁気ディスク
に対して記録の書き込み、読み取りを行う機能を有す
る。したがってスライダーは磁気ディスク回転の起動、
停止時は十分な空気層流が得られないため必ず磁気ディ
スクと摺動し、いわゆるコンタクト・スタート・ストッ
プ（ＣＳＳ）動作を行う。さらにスライダーは定常浮上
中であっても振動や塵埃の介入などの外的要因によって
浮上高さや浮上姿勢が乱れることが避けられない。
大する高記録密度化の要請に応えるため、薄膜磁気ヘッ
ドが急速に普及しつつある。薄膜磁気ヘッドはセラミッ
クス製スライダーの後端面に磁気信号の記録再生を行う
薄膜素子が形成された構造を有しており、スライダーが
磁気ディスクの高速回転（２０〜４０ｍ／ｓ）によって
発生する空気層流に乗って磁気ディスク面上にわずかに
浮上（０．２〜４μｍ）することを利用し磁気ディスク
に対して記録の書き込み、読み取りを行う機能を有す
る。したがってスライダーは磁気ディスク回転の起動、
停止時は十分な空気層流が得られないため必ず磁気ディ
スクと摺動し、いわゆるコンタクト・スタート・ストッ
プ（ＣＳＳ）動作を行う。さらにスライダーは定常浮上
中であっても振動や塵埃の介入などの外的要因によって
浮上高さや浮上姿勢が乱れることが避けられない。
【０００３】記録密度を大きくするために浮上高さは一
層小さくなりつつあるため、このような乱れによりスラ
イダーが高速回転中の磁気ディスクと衝突する回数がま
すます増大してきている。
層小さくなりつつあるため、このような乱れによりスラ
イダーが高速回転中の磁気ディスクと衝突する回数がま
すます増大してきている。
【０００４】これらのことからＣＳＳ性能を向上させる
ためには、磁気ヘッドのスライダーの摺動性を高めるこ
とが重要である。更にスライダーの表面が平滑で気孔が
存在しないこと、耐摩耗性が良いことが必要である。
ためには、磁気ヘッドのスライダーの摺動性を高めるこ
とが重要である。更にスライダーの表面が平滑で気孔が
存在しないこと、耐摩耗性が良いことが必要である。
【０００５】又磁気ヘッドは上に述べた如く、磁気ディ
スクに接触摺動する時に摩擦帯電する。この帯電量が過
度に大きくなると磁気トランスジューサーの信号巻線に
ノイズが発生したり、磁気ヘッドの浮上量が変わったり
する恐れがある。そこで摩擦帯電のできるだけ生じない
材料で磁気ヘッドのスライダーを構成することが望まし
い。
スクに接触摺動する時に摩擦帯電する。この帯電量が過
度に大きくなると磁気トランスジューサーの信号巻線に
ノイズが発生したり、磁気ヘッドの浮上量が変わったり
する恐れがある。そこで摩擦帯電のできるだけ生じない
材料で磁気ヘッドのスライダーを構成することが望まし
い。
【０００６】更に磁気ヘッドのスライダーは例えば特開
昭５５−１６３６６５に示されているように極めて複雑
な構造をしているものであるが、このような複雑な構造
の磁気ヘッドを生産性良く作るには、スライダー構成材
が機械加工性に優れていることが必要である。即ち加工
時の切削抵抗の少ないことや切削ブレード等への目づま
りのないことやクラックやチッピングの生じないことが
重要である。
昭５５−１６３６６５に示されているように極めて複雑
な構造をしているものであるが、このような複雑な構造
の磁気ヘッドを生産性良く作るには、スライダー構成材
が機械加工性に優れていることが必要である。即ち加工
時の切削抵抗の少ないことや切削ブレード等への目づま
りのないことやクラックやチッピングの生じないことが
重要である。
【０００７】従来のスライダー材料としては薄膜素子の
形成性が良好な点からAl2O3系セラミックが広く知られ
ており、改良提案も多い。例えば特開昭６１−１５８８
６２、特開昭６０−２３１３０８、特開昭６０−１８３
７０９及び特開昭６０−１７９９２３等に示されたもの
がある。
形成性が良好な点からAl2O3系セラミックが広く知られ
ており、改良提案も多い。例えば特開昭６１−１５８８
６２、特開昭６０−２３１３０８、特開昭６０−１８３
７０９及び特開昭６０−１７９９２３等に示されたもの
がある。
【０００８】これらはいずれも Al2O3粒子を主とし、Ti
C 粒子とその他の添加粒子からなっており、加工性が良
好で複雑な形状のものを加工した際、クラックやチッピ
ングを生じることなく耐摩耗性に優れると記載されてい
る。
C 粒子とその他の添加粒子からなっており、加工性が良
好で複雑な形状のものを加工した際、クラックやチッピ
ングを生じることなく耐摩耗性に優れると記載されてい
る。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記 Al2
O3と TiCとからなるスライダーは、スライダーの重要な
性能であるＣＳＳ性特に摺動特性に劣っている。又 Al2
O3は電気絶縁性が高いので電気抵抗を小さくして静電性
を下げるため、導電性の TiCを多く含有する必要があ
る。ところが TiCは高硬度であるところから TiC含有量
を多くすると摺動特性が悪くなる。又加工性は複雑な形
状のものを加工した際のクラックやチッピングも少なく
なく、加工歩留を落しており、より摺動性、耐摩耗性、
機械加工性特に靭性の向上が強く望まれている。
O3と TiCとからなるスライダーは、スライダーの重要な
性能であるＣＳＳ性特に摺動特性に劣っている。又 Al2
O3は電気絶縁性が高いので電気抵抗を小さくして静電性
を下げるため、導電性の TiCを多く含有する必要があ
る。ところが TiCは高硬度であるところから TiC含有量
を多くすると摺動特性が悪くなる。又加工性は複雑な形
状のものを加工した際のクラックやチッピングも少なく
なく、加工歩留を落しており、より摺動性、耐摩耗性、
機械加工性特に靭性の向上が強く望まれている。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の問題点を
解決すべくなされたものであり、Al2O3 を主成分としZr
O2中にY2O3又は MgOを３〜７重量％（以下同じ）含む正
方晶ZrO2を１０〜２５％含み、Zr, Ti, Nb, Taの炭化
物、窒化物のうち少なくとも１種を１５〜３５％含有し
てなることを特徴とする磁気ヘッド特に薄膜磁気ヘッド
用基板材料を提供するものである。
解決すべくなされたものであり、Al2O3 を主成分としZr
O2中にY2O3又は MgOを３〜７重量％（以下同じ）含む正
方晶ZrO2を１０〜２５％含み、Zr, Ti, Nb, Taの炭化
物、窒化物のうち少なくとも１種を１５〜３５％含有し
てなることを特徴とする磁気ヘッド特に薄膜磁気ヘッド
用基板材料を提供するものである。
【００１１】本発明は従来の基板材料である Al2O3を主
成分とし、摺動特性が良好で高靭性、高強度の正方晶 Z
rO2 を添加して分散強化し、耐摩耗性、帯電防止に良好
なZr,Ti ,Nb ,Ta の炭化物、窒化物の１種以上を分散し
た構成相からなる摺動特性、耐摩耗姓、機械加工性に優
れた基板材料を得ることができる。
成分とし、摺動特性が良好で高靭性、高強度の正方晶 Z
rO2 を添加して分散強化し、耐摩耗性、帯電防止に良好
なZr,Ti ,Nb ,Ta の炭化物、窒化物の１種以上を分散し
た構成相からなる摺動特性、耐摩耗姓、機械加工性に優
れた基板材料を得ることができる。
【００１２】本発明の分散強化相である ZrO2 はその中
に Y2O3 又はMgO が３〜７％固溶された正方晶 ZrO2 と
する必要がある。Y2O3や MgOが３％より少ないと単斜晶
ZrO2が増加し、焼結体冷却中にマイクロクラックが発生
し機械的強度が著しく低下し、７％より多いと立方晶 Z
rO2 が増加して強度、破壊靭性が著しく低下するため好
ましくない。
に Y2O3 又はMgO が３〜７％固溶された正方晶 ZrO2 と
する必要がある。Y2O3や MgOが３％より少ないと単斜晶
ZrO2が増加し、焼結体冷却中にマイクロクラックが発生
し機械的強度が著しく低下し、７％より多いと立方晶 Z
rO2 が増加して強度、破壊靭性が著しく低下するため好
ましくない。
【００１３】分散強化材である正方晶ZrO2のAl2O3主成
分からなる焼結体に占める割合は１０〜２５％が必要で
ある。正方晶ZrO2が１０％以下ではその優れた摺動特
性、高靭性、高強度が発揮されず、さらに２５％以上で
は ZrO2 の正方晶から単斜晶への変態に伴なう微少亀裂
により強度、破壊靭性が低下するため好ましくない。
分からなる焼結体に占める割合は１０〜２５％が必要で
ある。正方晶ZrO2が１０％以下ではその優れた摺動特
性、高靭性、高強度が発揮されず、さらに２５％以上で
は ZrO2 の正方晶から単斜晶への変態に伴なう微少亀裂
により強度、破壊靭性が低下するため好ましくない。
【００１４】又本発明の分散強化材である正方晶ZrO2の
平均結晶粒径は２μｍ以下であることが望ましく、２μ
ｍ以下にすることによって強度、破壊靭性が向上し、機
械加工性やチッピングを小さくすることができる。後述
するようにアルミナや特定種類の炭化物、窒化物の微粒
子を分散することにより正方晶 ZrO2 相の結晶粒の成長
を抑制し、ZrO2相の結晶粒を微細化することができる。
平均結晶粒径は２μｍ以下であることが望ましく、２μ
ｍ以下にすることによって強度、破壊靭性が向上し、機
械加工性やチッピングを小さくすることができる。後述
するようにアルミナや特定種類の炭化物、窒化物の微粒
子を分散することにより正方晶 ZrO2 相の結晶粒の成長
を抑制し、ZrO2相の結晶粒を微細化することができる。
【００１５】本発明焼結体において耐摩耗性、帯電防止
機能を付与する炭化物、窒化物はZr,Ti ,Nb ,Ta等の炭
化物、窒化物の少なくとも１種を Al2O3−ZrO2構成相中
に分散した状態で含有することが必要である。炭化物や
窒化物の含有量は１５〜３５％が耐摩耗性、導電性、さ
らに正方晶ZrO2の結晶粒の微細化のために必要であり、
１５％以下では導電性や耐摩耗性の点で不十分であり、
３５％以上では炭化物や窒化物が高硬度であるため、添
加量が増えると摺動特性が低下するため好ましくない。
機能を付与する炭化物、窒化物はZr,Ti ,Nb ,Ta等の炭
化物、窒化物の少なくとも１種を Al2O3−ZrO2構成相中
に分散した状態で含有することが必要である。炭化物や
窒化物の含有量は１５〜３５％が耐摩耗性、導電性、さ
らに正方晶ZrO2の結晶粒の微細化のために必要であり、
１５％以下では導電性や耐摩耗性の点で不十分であり、
３５％以上では炭化物や窒化物が高硬度であるため、添
加量が増えると摺動特性が低下するため好ましくない。
【００１６】本発明を構成する Al2O3、Y2O3又は MgOで
固溶された正方晶ZrO2、炭化物、窒化物の原料の粒度は
平均粒径が０．１μｍ以下で使用することが好ましくは
必要である。それは、０．１μｍ以上では焼結して生成
する結晶粒が大きくなり、基板の表面の平滑性が低下す
るので好ましくないからである。又不純物としては少量
の他の成分が存在しても構わないが、０．５％以下特に
は０．１％以下にすることが望ましい。
固溶された正方晶ZrO2、炭化物、窒化物の原料の粒度は
平均粒径が０．１μｍ以下で使用することが好ましくは
必要である。それは、０．１μｍ以上では焼結して生成
する結晶粒が大きくなり、基板の表面の平滑性が低下す
るので好ましくないからである。又不純物としては少量
の他の成分が存在しても構わないが、０．５％以下特に
は０．１％以下にすることが望ましい。
【００１７】本発明は以上の構成によりなるが、本発明
のセラミックス基板を製造するには０．１μｍ以下の A
l2O3粉末、Y2O3又は MgOで固溶された ZrO2 粉末、Zr,
Ti,Nb,Ta 等の炭化物、窒化物のうちの１種の粉末を所
定の割合で配合し十分混合して乾燥し、ホットプレスを
使用して焼結体を得ることができる。又上記の混合粉末
に少量のバインダーを添加してスプレイドライヤにて造
粒し、この造粒物をＣＩＰにより成形し、真空又は非酸
化雰囲気中で常圧焼結や予備焼成ＨＩＰ（SinterＨＩ
Ｐ）やカプセルＨＩＰ（カプセル中に封入）しても同様
の効果が得られる。
のセラミックス基板を製造するには０．１μｍ以下の A
l2O3粉末、Y2O3又は MgOで固溶された ZrO2 粉末、Zr,
Ti,Nb,Ta 等の炭化物、窒化物のうちの１種の粉末を所
定の割合で配合し十分混合して乾燥し、ホットプレスを
使用して焼結体を得ることができる。又上記の混合粉末
に少量のバインダーを添加してスプレイドライヤにて造
粒し、この造粒物をＣＩＰにより成形し、真空又は非酸
化雰囲気中で常圧焼結や予備焼成ＨＩＰ（SinterＨＩ
Ｐ）やカプセルＨＩＰ（カプセル中に封入）しても同様
の効果が得られる。
【００１８】このホットプレスを行う場合の焼結温度は
得られるセラミックスの性能を大きく左右するため１４
００〜１６５０℃が好ましく、焼結温度が１４００℃以
下では密度が低く緻密な焼結体は得られにくく、１６５
０℃を超えると正方晶ZrO2の結晶粒の成長が著しくなる
ので好ましくない。
得られるセラミックスの性能を大きく左右するため１４
００〜１６５０℃が好ましく、焼結温度が１４００℃以
下では密度が低く緻密な焼結体は得られにくく、１６５
０℃を超えると正方晶ZrO2の結晶粒の成長が著しくなる
ので好ましくない。
【００１９】
【作用】前述して説明した如く、従来の基板材料である
Al2O3を主構成相とし摺動特性に優れた正方晶 ZrO2 を
Al2O3主相中に分散して強化し、強度や破壊靭性等の機
械加工性を良好にし、正方晶 ZrO2 の結晶粒の成長を制
御し、適度の耐摩耗性、導電性を付与する Zr ,Ti ,Nb
,Ta の炭化物、窒化物のうちの１種を分散したもので
あって、これらの相互作用によって薄膜磁気ヘッド基板
材料としての摺動特性、耐摩耗性、機械加工性に優れた
特性を呈するものと考えられる。
Al2O3を主構成相とし摺動特性に優れた正方晶 ZrO2 を
Al2O3主相中に分散して強化し、強度や破壊靭性等の機
械加工性を良好にし、正方晶 ZrO2 の結晶粒の成長を制
御し、適度の耐摩耗性、導電性を付与する Zr ,Ti ,Nb
,Ta の炭化物、窒化物のうちの１種を分散したもので
あって、これらの相互作用によって薄膜磁気ヘッド基板
材料としての摺動特性、耐摩耗性、機械加工性に優れた
特性を呈するものと考えられる。
【００２０】
【実施例】以下本発明を実施例に基づいて説明する。原
料として Al2O3（純度９９．９ｗｔ％、平均粒径０．１
μｍ以下）、Y2O3又は MgOを３〜７％固溶させた ZrO2
粉末（純度９９％、平均粒径０．０３μｍ）、Zr ,Ti ,
Nb ,Taの炭化物、窒化物粉末（純度９９ｗｔ％、平均粒
径０．１μｍ以下）のうちいずれか１種を所定の割合に
て配合し、ボールミルにてエタノール溶媒を用いアルミ
ナボールで１０時間混合粉砕した。この混合粉末をエバ
ポレーターで乾燥し、エタノールを抽出し乾燥し、軽く
解砕した。
料として Al2O3（純度９９．９ｗｔ％、平均粒径０．１
μｍ以下）、Y2O3又は MgOを３〜７％固溶させた ZrO2
粉末（純度９９％、平均粒径０．０３μｍ）、Zr ,Ti ,
Nb ,Taの炭化物、窒化物粉末（純度９９ｗｔ％、平均粒
径０．１μｍ以下）のうちいずれか１種を所定の割合に
て配合し、ボールミルにてエタノール溶媒を用いアルミ
ナボールで１０時間混合粉砕した。この混合粉末をエバ
ポレーターで乾燥し、エタノールを抽出し乾燥し、軽く
解砕した。
【００２１】この粉末をホットプレスの黒鉛鋳型内に充
填し圧力３５０ｋｇ／ｃｍ2 、温度をそれぞれ１４００
〜１６５０℃、Ar雰囲気下で１時間ホットプレスし、６
０ｍｍφ×厚み５ｍｍの焼結体を得た。
填し圧力３５０ｋｇ／ｃｍ2 、温度をそれぞれ１４００
〜１６５０℃、Ar雰囲気下で１時間ホットプレスし、６
０ｍｍφ×厚み５ｍｍの焼結体を得た。
【００２２】焼結体の物性として密度はアルキメデス法
により測定し、理論密度を除して相対密度を求め、曲げ
強度は JIS R 1601 「ファインセラミックスの曲げ試験
法」に従って測定した。
により測定し、理論密度を除して相対密度を求め、曲げ
強度は JIS R 1601 「ファインセラミックスの曲げ試験
法」に従って測定した。
【００２３】又破壊靭性はＳＥＰＢ法（ Single Edge P
re-Cracked Beam 法）により測定した。即ち JIS R 160
1 に準拠した試料を用意しビッカース圧子圧入により圧
痕をつけた後、予亀裂を入れるための荷重を加え、イヤ
ホンでポップイン（Ｐｏｐ−ｉｎ）を検知した。続いて
予亀裂長さを測定するために着色を行い、そして曲げ試
験を行って破断荷重を測定した。破断試料の予亀裂長さ
を測定した後、破壊靭性の算出式により破壊靭性を求め
た。
re-Cracked Beam 法）により測定した。即ち JIS R 160
1 に準拠した試料を用意しビッカース圧子圧入により圧
痕をつけた後、予亀裂を入れるための荷重を加え、イヤ
ホンでポップイン（Ｐｏｐ−ｉｎ）を検知した。続いて
予亀裂長さを測定するために着色を行い、そして曲げ試
験を行って破断荷重を測定した。破断試料の予亀裂長さ
を測定した後、破壊靭性の算出式により破壊靭性を求め
た。
【００２４】ビッカース硬度は曲げ試験片の鏡面研磨面
を用い荷重３００ｇにてビッカース硬度計により測定し
た。比抵抗の測定は曲げ試験片を用い、４端子法にて測
定した。
を用い荷重３００ｇにてビッカース硬度計により測定し
た。比抵抗の測定は曲げ試験片を用い、４端子法にて測
定した。
【００２５】上記と同様な方法にて製作した６０ｍｍφ
×厚み５ｍｍの焼結体で磁気ヘッドスライダーとしての
評価試験を行った。
×厚み５ｍｍの焼結体で磁気ヘッドスライダーとしての
評価試験を行った。
【００２６】得られた焼結体を鏡面研磨してダイヤモン
ド切断砥石で切断し、角部の微細なチッピングを顕微鏡
にて観察することにより行った。このチッピング試験は
幅０．２８ｍｍ及び直径５２ｍｍのレジノイド砥石（３
０μｍのダイヤ砥粒を有するカッター）を用い、切込み
０．３ｍｍ，送り量５ｍｍ／ｓｅｃで実施した。チッピ
ング深さが２μｍを超えない場合実質的にスライダー品
質に影響を及ぼさず満足すべき品質を維持するもので、
これを○で示し、２μｍを超える場合は△及び著しいチ
ッピングの場合は×として示した。
ド切断砥石で切断し、角部の微細なチッピングを顕微鏡
にて観察することにより行った。このチッピング試験は
幅０．２８ｍｍ及び直径５２ｍｍのレジノイド砥石（３
０μｍのダイヤ砥粒を有するカッター）を用い、切込み
０．３ｍｍ，送り量５ｍｍ／ｓｅｃで実施した。チッピ
ング深さが２μｍを超えない場合実質的にスライダー品
質に影響を及ぼさず満足すべき品質を維持するもので、
これを○で示し、２μｍを超える場合は△及び著しいチ
ッピングの場合は×として示した。
【００２７】又摺動性及び耐摩耗性は焼結体から実際の
薄膜磁気ヘッド形状に切り出し、磁気ディスクと接触さ
せてディスクを回転させるＣＳＳ試験により特性を評価
した。
薄膜磁気ヘッド形状に切り出し、磁気ディスクと接触さ
せてディスクを回転させるＣＳＳ試験により特性を評価
した。
【００２８】摺動性はディスクとヘッドのＣＳＳ試験に
より摩擦係数を求め、摩擦係数が０．５より小さいもの
を○で示し、摩擦係数が０．５より大きいものは△及び
著しく大きい場合は×として示した。耐摩耗性はＣＳＳ
試験を１００００回繰返し、磁気ヘッドスライダーの摺
動面の傷の有無について評価した。比較例として Al2O3
−TiC ３０％基板を用いて比較した。それぞれの結果を
表１、表２に示した。
より摩擦係数を求め、摩擦係数が０．５より小さいもの
を○で示し、摩擦係数が０．５より大きいものは△及び
著しく大きい場合は×として示した。耐摩耗性はＣＳＳ
試験を１００００回繰返し、磁気ヘッドスライダーの摺
動面の傷の有無について評価した。比較例として Al2O3
−TiC ３０％基板を用いて比較した。それぞれの結果を
表１、表２に示した。
【００２９】表１、表２に示されるように本発明は高密
度で比抵抗も小さく、硬度、曲げ強度も高く、特に破壊
靭性は Al2O3−３０％TiC 基板に比べ約１．５〜２倍程
度向上している。
度で比抵抗も小さく、硬度、曲げ強度も高く、特に破壊
靭性は Al2O3−３０％TiC 基板に比べ約１．５〜２倍程
度向上している。
【００３０】磁気ヘッドスライダーとしての評価では鏡
面研磨した場合の気孔はほとんど観察されず緻密化して
おり、耐チッピング性、耐摩耗性、摺動性は Al2O3−Ti
C 基板に比べ優れており、スライダーとして最適なもの
である。
面研磨した場合の気孔はほとんど観察されず緻密化して
おり、耐チッピング性、耐摩耗性、摺動性は Al2O3−Ti
C 基板に比べ優れており、スライダーとして最適なもの
である。
【００３１】
【表１】
【００３２】
【表２】
【００３３】
【発明の効果】本発明の磁気ヘッドスライダー（基板）
は、Al2O3 を主構成相とし、これに摺動特性の優れた正
方晶ZrO2を分散強化材として配分し、適度の耐摩耗性、
導電性を、Zr、Ti、Nb、Taの炭化物、窒化物のうち１種
以上を添加して均一に分散したものであり、摺動特性、
耐摩耗性、機械加工性に優れ、且つ比抵抗が小さく摩擦
帯電性が小さい優れた技術的長所を有するものである。
は、Al2O3 を主構成相とし、これに摺動特性の優れた正
方晶ZrO2を分散強化材として配分し、適度の耐摩耗性、
導電性を、Zr、Ti、Nb、Taの炭化物、窒化物のうち１種
以上を添加して均一に分散したものであり、摺動特性、
耐摩耗性、機械加工性に優れ、且つ比抵抗が小さく摩擦
帯電性が小さい優れた技術的長所を有するものである。
Claims (2)
- 【請求項１】Al2O3 を主成分とし、ZrO2中に Y2O3 又は
MgOを３〜７重量％含む正方晶ZrO2を１０〜２５重量％
含み、Zr ,Ti ,Nb ,Taの炭化物、窒化物のうち少なくと
も１種を１５〜３５重量％含んでなることを特徴とする
磁気ヘッド用基板。 - 【請求項２】請求項１において正方晶 ZrO2 の平均結晶
粒径が２μｍ以下である磁気ヘッド用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3297887A JPH05109023A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 磁気ヘツド用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3297887A JPH05109023A (ja) | 1991-10-18 | 1991-10-18 | 磁気ヘツド用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05109023A true JPH05109023A (ja) | 1993-04-30 |
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ID=17852398
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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| Country | Link |
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| JP (1) | JPH05109023A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006248803A (ja) * | 2005-03-08 | 2006-09-21 | Kyocera Corp | 磁気ヘッド用基板及びその製造方法 |
| US7247588B2 (en) * | 2002-11-22 | 2007-07-24 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Zirconia toughened alumina ESD safe ceramic composition, component, and methods for making same |
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-
1991
- 1991-10-18 JP JP3297887A patent/JPH05109023A/ja not_active Withdrawn
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2011068561A (ja) * | 2002-11-22 | 2011-04-07 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc | ジルコニア強化アルミナのｅｓｄ保護用セラミック組成物、部材及びそれを形成するための方法 |
| US8516857B2 (en) | 2002-11-22 | 2013-08-27 | Coorstek, Inc. | Zirconia toughened alumina ESD safe ceramic composition, component, and methods for making same |
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