JPH0525551A

JPH0525551A - 金属体の連続熱処理装置

Info

Publication number: JPH0525551A
Application number: JP20403191A
Authority: JP
Inventors: Akira Futaki; 亮二木; Koichi Ishikawa; 好一石川
Original assignee: SAAMARU KK
Current assignee: SAAMARU KK
Priority date: 1991-07-18
Filing date: 1991-07-18
Publication date: 1993-02-02

Abstract

(57)【要約】【目的】金属体の加熱、または、冷却の温度制御、特
に、恒温状態での圧延、または、引抜き処理時の温度制
御が正確で、熱効率が高く、また、小型な金属体の連続
熱処理装置を提供することを目的とする。【構成】圧延、または、引抜き処理される以前の金属
体を還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で加熱する
加熱装置と、加熱された該金属体を還元性、あるいは、
不活性ガス雰囲気中で第１のセラミックス板で挟持して
直接、冷媒を接触させて冷却するように構成され、該第
１のセラミックス板に測温点を有する第１の測温センサ
を有する冷却装置と、該第１の測温センサからの第１の
信号により該第１のセラミックス板による冷却温度を制
御する第１の制御装置と、該冷却装置から該金属体が搬
出された直後に、還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気
中で圧延、または、引抜き処理する圧延、または、引抜
き装置と、から成る金属体の連続熱処理装置である。さ
らに、圧延、または、引抜き装置が加熱装置の直後では
なく、冷却装置の直後に設けられる場合もある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、鋼、あるいは、金属間
化合物等から成る金属体を正確に温度制御して、熱間、
あるいは、温間加工を行う金属体の連続熱処理装置に関
する。

【従来の技術】従来、本発明者等は、金属体を加熱、冷
却するに際して、直接加熱、および、直接冷却し、これ
により熱効率の向上、装置の小型化を図る非鉄金属板の
連続熱処理装置を提供するものとして、特公平１−１９
４６６号公報で『非金属板の連続熱処理装置』を提案し
た。

【０００２】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来例
は、金属体の圧延処理の後に加熱、冷却する冷間加工に
関するものであるため、熱間、あるいは、温間加工では
全くないことは明らかである。また、他の従来例とし
て、雰囲気の温度を測定して、この測定温度に基づい
て、金属体の温度を制御するが、雰囲気の温度と金属体
の温度の間にはタイムラグが生じ、正確な加熱温度の制
御ができなく、特に、ＴｉＡｌ等の金属間化合物等から
成る金属体を熱処理する場合には、不都合であるという
問題点があった。そこで、本発明は、金属体の加熱、ま
たは、冷却の温度制御、特に、恒温状態での圧延、また
は、引抜き処理時の温度制御が正確で、熱効率が高く、
また、小型な金属体の連続熱処理装置を提供することを
目的とする。

【０００３】

【課題を解決するための手段】本発明は、圧延、また
は、引抜き処理される以前の金属体を還元性、あるい
は、不活性ガス雰囲気中で加熱する加熱装置と、加熱さ
れた該金属体を還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中
で第１のセラミックス板で挟持して直接、冷媒を接触さ
せて冷却するように構成され、該第１のセラミックス板
に測温点を有する第１の測温センサを有する冷却装置
と、該第１の測温センサからの第１の信号により該第１
のセラミックス板による冷却温度を制御する第１の制御
装置と、該冷却装置から該金属体が搬出された直後に、
還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で圧延処理する
圧延装置と、から成る金属体の連続熱処理装置である。
さらに、本発明は、圧延、または、引抜き処理される以
前の金属体を還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で
第２のセラミックス板で挟持して加熱するように構成さ
れ、該第２のセラミックス板に測温点を有する第２の測
温センサを有する加熱装置と、該第２の測温センサから
の第２の信号により該第２のセラミックス板による加熱
温度を制御する第２の制御装置と、該加熱装置から該金
属体が搬出された直後に、還元性、あるいは、不活性ガ
ス雰囲気中で圧延処理する圧延装置と、圧延処理された
該金属体を還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で冷
却する冷却装置と、から成る金属体の連続熱処理装置で
ある。

【０００４】

【作用】本発明によれば、該第１のセラミックス板に測
温点を有する第１の測温センサからの第１の信号により
該第１のセラミックス板による冷却温度を制御するた
め、金属体の冷却温度制御を正確に行うことができる。
さらに、冷却装置から金属体が搬出された直後に、金属
体が恒温状態で、圧延、または、引抜き処理されるた
め、圧延、または、引抜き処理時の金属体の温度制御が
精密となり、特に、ＴｉＡｌ等の金属間化合物等から成
る金属体の加熱処理も可能となる。また、セラミック
ス板で挟持して、直接加熱、あるいは、直接冷却するた
め、熱効率が高く、装置が小型化される。さらに、本発
明によれば、該第２のセラミックス板に測温点を有する
第１の測温センサからの第２の信号により該第２のセラ
ミックス板による加熱温度を制御するため、金属体の加
熱温度制御を正確に行うことができる。さらに、加熱装
置から金属体が搬出された直後に、金属体が加熱された
温度からほとんど低下しない状態で、圧延、または、引
抜き処理されるため、圧延、または、引抜き処理時の金
属体の温度制御が精密となり、特に、ＴｉＡｌ等の金属
間化合物等から成る金属体の加熱処理も可能となる。
また、セラミックス板で挟持して、直接加熱、あるい
は、直接冷却するため、熱効率が高く、装置が小型化さ
れる。

【０００５】

【実施例】以下、本発明を図面を参照してその実施例に
基づいて説明する。図１は本発明の第１の実施例の正面
図、図２は本発明の第２の実施例の正面図、図３は加熱
装置を示す部分破断面図、図４は図３のＡ部拡大図、図
５は冷却装置を示す断面図、図６は冷却装置の内部構造
を示す部分破断斜視図である。図１の第１の実施例は、
圧延、または、引抜き処理される以前の金属体５０をＨ
₂ 等の還元性或はＮ₂ 等の不活性ガス雰囲気中で第２の
セラミックス板２０で挟持しながら所定時間加熱する加
熱装置１と、この加熱された金属体５０を還元性或は不
活性ガス雰囲気中で第１のセラミックス板３３に挟持し
ながら直接的に冷媒を接触させて冷却するように構成さ
れ、第１のセラミックス板３３に測温点を有する図示さ
れない第１の測温センサを有する冷却装置２と、この第
１の測温センサからの第１の信号により第１のセラミッ
クス板３３による冷却温度を制御する図示されないコン
ピュータから成る第１の制御装置と、冷却装置２から金
属体５０が搬出された直後に、還元性、あるいは、不活
性ガス雰囲気中で圧延処理する圧延装置１５と、により
主に構成されている。また、加熱装置は、圧延、また
は、引抜き処理される以前の金属体を第２のセラミック
ス板２０で挟持して加熱するように構成され、第２のセ
ラミックス板２０に測温点を有する図示されない第２の
測温センサを有する。更に、本実施例は、第２の測温
センサからの第２の信号により第２のセラミックス板２
０による加熱温度を制御する図示されないコンピュータ
から成る第２の制御装置を備える。ここで、加熱装置
１は、この構造のものに限定されない。

【０００６】図２の第２の実施例は、圧延、または、引
抜き処理される以前の属体５０をＨ₂ 等の還元性或はＮ
₂ 等の不活性ガス雰囲気中で第２のセラミックス板２０
で挟持しながら挟持して加熱するように構成され、第２
のセラミックス板２０に測温点を有する図示されない第
２の測温センサを有する加熱装置１と、該第２の測温セ
ンサからの第２の信号により第２のセラミックス板２０
による加熱温度を制御する図示されないコンピュータか
ら成る第２の制御装置と、加熱装置１から金属体５０が
搬出された直後に、還元性、あるいは、不活性ガス雰囲
気中で圧延処理する圧延装置１５と、この圧延処理され
た金属体５０を還元性或は不活性ガス雰囲気中で第１の
セラミックス板３３に挟持しながら直接的に冷媒を接触
させて冷却する冷却装置２とにより主に構成されてい
る。冷却装置２は、第１のセラミックス板３３で挟持し
て直接、冷媒を接触させて冷却するように構成され、第
１のセラミックス板３３に測温点を有する図示されない
第１の測温センサを有する。さらに、本実施例は、第
１の測温センサからの第１の信号により第１のセラミッ
クス板３３による冷却温度を制御する図示されないコン
ピュータから成る第１の制御装置を備える。ここで、
冷却装置２は、この構造のものに限定されない。さら
に、上述の図１および図２の実施例における冷却装置２
は、金属体５０を所定温度に、所定時間保持する工程を
反復して、段階的に冷却するように構成されても良い。
さらに、上述の図１および図２の実施例における圧延装
置１５の代わりに図示されない引抜きダイスを用いても
良い。また、加熱装置１、冷却装置２、圧延装置１５お
よび引抜きダイスの間が、還元性雰囲気、あるいは、不
活性ガス雰囲気に維持されるように還元性、あるいは、
不活性ガスを、例えば、ノズルにより吹き付けるように
構成されてもよい。

【０００７】ここで、金属体５０は、鋼、Ｔｉ，Ｎｉ，
Ａｕ，ＴｉＡｌ，Ｎｉ₃ Ａｌ，ＴｉＦｅＡｌ，ＷＭｏの
内の１以上から成り、板状、線状、あるいは、管状に構
成され、例えば、構造鋼、あるいは、特殊鋼の炭素工具
鋼板、低合金工具鋼板、マルテンサイト系ステンレス鋼
板、高炭素クロム軸受鋼板、ばね鋼板などの鋼板、およ
び硬鋼線、ピアノ線、ばね用オイルテンパー線、マルテ
ンサイト系ステンレス鋼線等が用られる。移送手段３
は、金属体５０を供給するロール搬入装置４と、この金
属体５０の移送方向最下流側に位置されて金属体５０を
引き込むことによって金属体５０全体を移送する駆動ロ
ーラボックス装置５と、金属体５０の移送方向最下流に
位置されて熱処理を完了した金属体５０を巻き取る巻取
り装置６とにより構成されている。これにより、金属
体５０は加熱装置１から圧延装置１５を介して冷却装置
２に向けて連続的に移送される。

【０００８】ロール搬入装置４はロール搬入架台７上に
テンションローラ８を回転自在に支持するように構成さ
れる。このテンションローラ８には、例えば、熱処理
すべく予めある程度の厚さの帯板状に成形された金属体
５０をロール状に巻回することにより形成した巻状ロー
ル９が取りつけられており、巻状ロール９を巻き出すこ
とにより金属体５０を順次供給できるように構成され
る。駆動ローラボックス装置５は、架台１３上に既に熱
処理された金属体５０を上下より挟持する一対の駆動ロ
ーラ１１を移送方向へ２組設けることにより構成されて
おり、各駆動ローラ１１をモータ等の駆動源１２から伝
達される駆動力により送り出し方向へ回転することによ
り金属体５０が帯状ロール９から巻き出されて移送され
る。

【０００９】巻取り装置６は、架台１３上に巻き取りド
ラム１４を回転自在に取りつけて成り、巻き取りドラム
１４を巻き取り方向へ回転することにより熱処理完了後
の金属体５０を巻き取るように構成される。ここで、
巻取り装置６の代わりに、金属体５０は回転刃を有する
図示されないカッターで所定長に切断され、次工程に搬
送されるように構成されても良い。加熱装置１から搬出
される金属体５０を、その板厚方向から圧力を加えて還
元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で、熱間圧延する
ための圧延装置１５が加熱装置１の直後で、冷却装置２
との間に設けられる。この圧延装置１５は、それぞれバ
ックアップロール１６で支持された一対のワークロール
１６ａにより金属体５０をその板厚方向から挟圧して圧
延するように構成される。この圧延装置１５の代わり
に引抜きダイスを用いる場合もある。

【００１０】一方、加熱装置１は、図３に示されるよう
に全体が断面略矩形状のハウジング１７により気密に被
われており、金属体５０の搬入口１８及び搬出口１９に
はそれぞれシール部材（図示せず）が介設されている。
また、このハウジング１７内においては金属体５０が約
２００〜６００℃もの高温に熱せられることから非常に
酸化しやすい傾向となるが、ハウジング１７内及びこれ
に接続される連通路３２内はＨ₂ 或はＮ₂ 等の還元性或
は不活性ガス雰囲気が充填されているので、金属体５０
が酸化することはない。

【００１１】図４にも示されるように、ハウジング１７
内においては、この中に通過して移送される金属体５０
を中心として上下方向すなわち板厚方向にこの金属体５
０を上下方向から所要圧により押圧してこれと面接触し
つつ挟持するためのセラミックス板２０と、セラミック
ス板２０の金属体５０に当接する面の反対側面上にセラ
ミックス製均一板２１を介して積層されて且つ上下が耐
熱絶縁板２２により被覆されて絶縁された電熱ヒータ２
３と、このヒータ２３とによる放熱を防止するためにセ
ラミックスウール等よりなる断熱材２４と、セラミック
ス板２０により金属体５０をその板厚方向からすなわち
上下方向から適宜圧により挟持するための挟持手段２５
とがそれぞれ順次積層されている。

【００１２】電熱ヒータ２３は、第２の制御装置である
コンピュータにより精密に所定温度に所定時間制御され
る。さらに、加熱装置１における加熱時間の調整、つま
り、結果としての温度調整は、駆動ローラ１１の回転速
度、即ち、金属体５０の移動速度をこのコンピュータに
より調節する。また、各々の押し板２６の内側には断熱
材２４が介説されるため、電熱ヒータ２３からの熱がこ
こで遮断され、押板２６に洩れる熱損失を最小限にでき
る。この均一板２１はセラミックス板２０に均一に熱を
伝達させる。ここでセラミックス板２０の厚さは、熱
効率を低下させない程度の厚さ、例えば５〜７mm程度が
望ましい。

【００１３】挟持手段２５は、例えば肉厚の炭素鋼より
成る押板２６と、上側押板２６をハウジング１７の外側
より下方向へ押圧するプレス部材２７とにより構成され
ており、これを作用させることにより金属体５０に、そ
の板厚方向、つまり、上下方向から所要圧を付与するよ
うに構成される。以上により、セラミックス板２０の熱
エネルギーを金属体５０に均一に伝導し、金属体５０を
所定温度に加熱し、挟圧されているため変形がない。こ
の場合の圧力はそれほど高くなく、金属体５０とセラミ
ックス板２０との間に雰囲気ガス層ができない程度にこ
れらが面接触する程の圧力でよい。プレス部材２７の
上下動を許容する必要からハウジング１７の上部は上下
方向へ可撓性を有している。

【００１４】また、金属体５０はセラミックス板２０間
で挟持された状態で摺動移動させる必要からプレス部材
２７としてはバネ等の弾発部材を用いて上下から弾力を
もたせて所要圧で加圧する。これと同時に、電熱ヒータ
２３には給電線２８を介して通電されており、これから
の発熱が均一板２１、及び、セラミックス板２０を介し
て金属体５０に伝達されてこれを高温に加熱する。この
場合、金属体５０はセラミックス板２０と面接触してい
ることからこれより直接的に加熱され、その熱効率は非
常に良好となる。この温度は、金属体５０の加熱温度以
上とし、使用する金属材料にもよるが、通常６００〜
１，２００℃前後に設定する。

【００１５】一方、冷却装置２は、図５及び図６に示さ
れるように加熱装置１と同様に全体が断面矩形状のハウ
ジング２９により気密に被われており、加熱装置１側か
ら移送されてくる加熱金属体５０を搬入する搬入口３０
及びこれを搬出する搬出口３１にはそれぞれシール部材
（図示せず）が介設されている。このハウジング２９内
には未だ高温状態にある金属体５０の酸化を防止する目
的でＨ₂ 等の還元性ガス或はＮ₂ 等の不活性ガスが充填
されて還元性或は不活性ガス雰囲気に形成される。すな
わち、金属体５０は、空気中においては約２００℃以上
で酸化して変色などを起こすので、冷却中においても酸
化を防止する必要からハウジング内を還元性或は不活性
ガス雰囲気に形成するのである。

【００１６】従って、加熱装置１の搬出口１９と冷却装
置２の搬入口３０との間は密閉された連通路３２により
接続され、この中に還元性或は不活性ガスを充填するこ
とにより、連通路３２内に移送される金属体５０の酸化
を防止している。ハウジング２９の中を通過して移送さ
れる金属体５０を中心として上下方向すなわち板厚方向
からこれと面接触しつつ挟持するための第１のセラミッ
クス板３３とこのセラミックス板３３の金属体５０を挟
持する面の反対側面に位置される冷却ジャケット３４と
が順次積層されている。箱体３５内にはその幅方向に交
互に複数の仕切板３６を配設しており、これら仕切板３
６の相互間に冷媒流路３７を形成し、温度を制御する。
金属体５０の搬送方向上流側の箱体３５の側部に冷媒導
入口３８が、下流側に冷媒出口（図示せず）が形成さ
れ、冷却ジャケット３４に流通させる水等の冷媒の冷熱
により、第１のセラミックス板３３間にこれに面接触し
て挟持されつつ移動する金属体５０をセラミックス板３
３を介して直接的に徐冷処理する、すなわち光輝焼鈍す
るように構成される。

【００１７】また、第１のセラミックス板３３に測温点
を有する図示されない第１の測温センサを有し、この第
１の測温センサからの第１の信号によりセラミックス板
３３による冷却温度を制御する第２の制御装置であるコ
ンピュータを設けるが、冷却装置２における冷却時間の
調整、つまり、結果としての温度調整は、駆動ローラ１
１の回転速度、即ち、金属体５０の移動速度をこのコン
ピュータにより調節する。このように冷却装置２には冷
媒を通しているが、金属体５０の材質または所要結晶組
織によって、必要度に応じた熱媒体を循環させて、第１
の制御装置であるコンピュータにより冷却温度及び速度
を変化させ、所定温度に所定時間自在に保持して、金属
体５０の金属結晶組織の任意の調整を行う。冷却装置２
は、金属体５０を所定温度に、所定時間保持する工程を
反復して、段階的に冷却するように構成されても良い。

【００１８】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について、さらに、詳説する。まず、例えば、熱処
理すべく予めある程度の厚さの帯状に成型された金属体
５０をロール状に巻回しておく。例えば、初期の板厚
は約１〜０．２mmのものを用い、これを熱処理、熱間ま
たは温間成形加工を行うことにより連続異型型鋼の生産
が可能となる。このような状態で装置全体を稼働させる
と、駆動ローラボックス装置５の駆動ローラ１１が搬送
方向に回転することから、帯状ローラ９から金属体５０
が順次巻き出され、金属体５０全体が巻き取り装置６に
向けて移送されていく。あるいは、金属体５０は硬化
された異型型鋼として、直進し、図示されないカッター
により所定長に切断され、次工程に搬送される。

【００１９】ここで、図１の第１の実施例においては、
冷却装置２から金属体５０が搬出された直後に、金属体
５０が恒温状態で、圧延、または、引抜き処理されるた
め、圧延処理時の金属体５０の温度制御が精密となり、
特に、ＴｉＡｌ等の金属間化合物等から成る金属体５０
の加熱処理も可能となる。また、図２の第２の実施例に
おいては、加熱装置１から金属体５０が搬出された直後
に、金属体５０が加熱された温度からほとんど低下しな
い状態で、圧延、または、引抜き処理されるため、圧延
処理時の金属体５０の温度制御が精密となり、特に、Ｔ
ｉＡｌ等の金属間化合物等から成る金属体５０の加熱処
理も可能となる。加熱装置１においては、挟持手段２５
の一部を構成するプレス部材２７を作動することにより
ハウジング１７上から下方に向けて弾力をもたせて適宜
微小な圧力を加える。これによりハウジング１７内の最
上部と最下部とに積層された押板２６間に微小な押圧が
加わり、セラミックス板２０間を移動する金属体５０が
両板と面接触しつつ摺動移動して挟持される。

【００２０】加熱装置１においては、第２の制御装置で
あるコンピュータにより加熱温度及び速度を変化させ精
密に制御する。冷却装置２においては、セラミックス板
３３の上下に設けた冷却ジャケット３４内に冷媒が金属
体５０の搬送方向に沿って仕切板３６により複数の室に
分断されていて、その冷却熱によりセラミックス板３３
間を摺動移動して行く比較的温度の高い金属体５０を直
接的に冷却して光輝熱処理を行っている。この場合、加
熱装置１と同様に高温状態の金属体５０はセラミックス
板３３と面接触していることから、セラミックス板３３
により直接的に冷却することができ、冷却効率を上げる
ことができる。

【００２１】冷却装置２においては、第１の制御装置で
あるコンピュータにより冷却温度及び速度を変化させ制
御する。これにより、金属体５０の結晶組織をオース
テナイト組織からベーナイト組織等に自在に調整でき
る。この冷却装置２の搬出口３１から搬出された製品と
しての金属体５０はその後流側に位置する巻取りドラム
１４により順次巻き取られる。または、カッターで所
定長に切断され、次工程に搬送される。

【発明の効果】本発明は、以上説明したように、金属体
の加熱あるいは冷却温度制御を正確に行うことができ、
金属体が冷却、あるいは、加熱された温度からほとんど
低下しない状態で、圧延、または、引抜き処理されるた
め、圧延、または、引抜き処理時の金属体の温度制御が
精密となり、鋼、あるいは、ＴｉＡｌ等の金属間化合物
等から成る金属体の加熱処理も可能となる。また、熱
効率が高く、装置が小型化されるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例の正面図である。

【図２】本発明の第２の実施例の正面図である。

【図３】加熱装置を示す部分破断面図である。

【図４】図３のＡ部拡大図である。

【図５】冷却装置を示す断面図である。

【図６】冷却装置の内部構造を示す部分破断斜視図であ
る。

【符号の説明】

１加熱装置２冷却装置２０第２のセラミックス板３３第１のセラミックス板５０金属体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】圧延、または、引抜き処理される以前の
金属体を還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で加熱
する加熱装置と、加熱された該金属体を還元性、あるい
は、不活性ガス雰囲気中で第１のセラミックス板で挟持
して直接、冷媒を接触させて冷却するように構成され、
該第１のセラミックス板に測温点を有する第１の測温セ
ンサを有する冷却装置と、該第１の測温センサからの第
１の信号により該第１のセラミックス板による冷却温度
を制御する第１の制御装置と、該冷却装置から該金属体が搬出された直後に、還元性、
あるいは、不活性ガス雰囲気中で圧延処理する圧延装置
と、から成る金属体の連続熱処理装置。
【請求項２】該加熱装置は、圧延、または、引抜き処
理される以前の該金属体を第２のセラミックス板で挟持
して加熱するように構成され、該第２のセラミックス板
に測温点を有する第２の測温センサを有し、該第２の測温センサからの第２の信号により該第２のセ
ラミックス板による加熱温度を制御する第２の制御装置
を備える請求項１記載の金属体の連続熱処理装置。
【請求項３】圧延、または、引抜き処理される以前の
金属体を還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で第２
のセラミックス板で挟持して加熱するように構成され、
該第２のセラミックス板に測温点を有する第２の測温セ
ンサを有する加熱装置と、該第２の測温センサからの第
２の信号により該第２のセラミックス板による加熱温度
を制御する第２の制御装置と、該加熱装置から該金属体
が搬出された直後に、還元性、あるいは、不活性ガス雰
囲気中で圧延処理する圧延装置と、圧延処理された該金
属体を還元性、あるいは、不活性ガス雰囲気中で冷却す
る冷却装置と、から成る金属体の連続熱処理装置。
【請求項４】該冷却装置は、第１のセラミックス板で
挟持して直接、冷媒を接触させて冷却するように構成さ
れ、該第１のセラミックス板に測温点を有する第１の測
温センサを有し、該第１の測温センサからの第１の信号により該第１のセ
ラミックス板による冷却温度を制御する第１の制御装置
を備えた請求項３記載の金属体の連続熱処理装置。
【請求項５】該冷却装置は、該金属体を所定温度に、
所定時間保持する工程を反復して、段階的に冷却するよ
うに構成される請求項１ないし４のいずれかに記載の金
属体の連続熱処理装置。
【請求項６】該金属体は、鋼、Ｔｉ，Ｎｉ，Ａｕ，Ｔ
ｉＡｌ，Ｎｉ₃Ａｌ，ＴｉＦｅＡｌ，ＷＭｏの内の１以
上からなる請求項１ないし５のいずれかに記載の金属体
の連続熱処理装置。
【請求項７】該金属体は、板状、線状、あるいは、管
状に構成される請求項１ないし６のいずれかに記載の金
属体の連続熱処理装置。
【請求項８】該加熱装置が、還元性雰囲気、あるい
は、不活性ガス雰囲気に維持されるハウジングと、該ハ
ウジング内を通過を通過して、移送される該金属体に面
接触して、該金属体を挟持するための該第２のセラミッ
クス板と、該第２のセラミックス板の該金属体に接する
面の反対側面上に積層された電熱ヒータと、該第２のセ
ラミックス板により該金属体を所定圧で挟持する挟持装
置と、を備えた請求項１ないし７のいずれかに記載の金
属体の連続熱処理装置。
【請求項９】該冷却装置が、還元性雰囲気、あるい
は、不活性ガス雰囲気に維持されるハウジングと、該ハ
ウジング内を通過を通過して、移送される該金属体を挟
持するための該第１のセラミックス板と、該第１のセラ
ミックス板の該金属体を挟持する面の反対側面上に積層
された冷却ジャケットと、を備えた請求項１ないし８の
いずれかに記載の金属体の連続熱処理装置。
【請求項１０】該圧延装置の代わりに、引抜きダイス
が用いられる請求項１ないし９のいずれかに記載の金属
体の連続熱処理装置。
【請求項１１】該加熱装置、該冷却装置、該圧延装置
および該引抜きダイスの間が、還元性雰囲気、あるい
は、不活性ガス雰囲気に維持されるように構成される請
求項１ないし１０のいずれかに記載の金属体の連続熱処
理装置。