JPH05257280A - パターン形成法 - Google Patents
パターン形成法Info
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- JPH05257280A JPH05257280A JP8658592A JP8658592A JPH05257280A JP H05257280 A JPH05257280 A JP H05257280A JP 8658592 A JP8658592 A JP 8658592A JP 8658592 A JP8658592 A JP 8658592A JP H05257280 A JPH05257280 A JP H05257280A
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- Japan
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- monomer
- dyeable
- parts
- pattern
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- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】（ａ）可染性樹脂モノマー（Ａ）、（ｂ）可染
性モノマー（Ａ）以外の親水性モノマー（Ｂ）、（ｃ）
疎水性モノマー（Ｃ）より成る共重合体（Ｄ）とシリコ
ーンオイルを主要成分とする可染性感光性樹脂組成物を
用いて、ガラス板ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等の基材表面に皮膜を設け、マスクを用いて露光し、
次いでアルコール類を用いて現像することを特徴とする
パターンの形成法 【効果】安価で、解像度のよいカラーフィルター用のパ
ターンが得られる。
性モノマー（Ａ）以外の親水性モノマー（Ｂ）、（ｃ）
疎水性モノマー（Ｃ）より成る共重合体（Ｄ）とシリコ
ーンオイルを主要成分とする可染性感光性樹脂組成物を
用いて、ガラス板ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等の基材表面に皮膜を設け、マスクを用いて露光し、
次いでアルコール類を用いて現像することを特徴とする
パターンの形成法 【効果】安価で、解像度のよいカラーフィルター用のパ
ターンが得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス板、ＣＣＤのウ
エハプロセス済みのウエハー等の基材上にストライプ又
は、モザイク状に設けられ、かつ染色する為の可染性樹
脂製のパターンの形成法に関するものである。
エハプロセス済みのウエハー等の基材上にストライプ又
は、モザイク状に設けられ、かつ染色する為の可染性樹
脂製のパターンの形成法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、ガラス、ＣＣＤのウエハプロセス
済みのウエハー等の基材上に設けられた樹脂膜をストラ
イプ又は、モザイク状等に着色したものがカラーフィル
ターとして、液晶ディスプレイやビデオカメラに使用さ
れ、その需要が増大しつつある。本発明は、かかるガラ
ス板、シリコーンウェハー等の基材にストライプ又は、
モザイク状等に染色する為の可染性樹脂膜のパターンを
形成する方法に関するものである。尚、一般に、ＣＣＤ
ウエハープロセス済みのウエハーとしては、アクリル系
樹脂等により、表面コートされたものが使用されてい
る。
済みのウエハー等の基材上に設けられた樹脂膜をストラ
イプ又は、モザイク状等に着色したものがカラーフィル
ターとして、液晶ディスプレイやビデオカメラに使用さ
れ、その需要が増大しつつある。本発明は、かかるガラ
ス板、シリコーンウェハー等の基材にストライプ又は、
モザイク状等に染色する為の可染性樹脂膜のパターンを
形成する方法に関するものである。尚、一般に、ＣＣＤ
ウエハープロセス済みのウエハーとしては、アクリル系
樹脂等により、表面コートされたものが使用されてい
る。
【０００３】従来、この分野に於いては皮膜を設ける為
の樹脂として感光性で可染性の樹脂組成物が用いられて
いるが、これら可染性感光性樹脂の用い方は、先ずその
ような樹脂を適当な濃度に希釈した溶液をガラス板、Ｃ
ＣＤのウエハプロセス済みのウエハー等に塗付し、次
に、マスクを介して露光したのち現像してストライプ又
はモザイク状の可染性樹脂膜を形成し、その後、所定の
分光特性を有する染料により、染色する等の操作を繰返
すことにより色分解フィルター（カラーフィルター）を
作成しているが、可染性感光性樹脂溶液を基材に塗付す
る際、基材と可染性感光性樹脂膜との密着性を充分に保
つ為に、通常シランカップラーが使用される。又、露光
後の現像に於いては、通常２０〜７０℃の中性乃至酸性
水溶液又は、非イオン界面活性剤を含有する水溶液を使
用して行われている。
の樹脂として感光性で可染性の樹脂組成物が用いられて
いるが、これら可染性感光性樹脂の用い方は、先ずその
ような樹脂を適当な濃度に希釈した溶液をガラス板、Ｃ
ＣＤのウエハプロセス済みのウエハー等に塗付し、次
に、マスクを介して露光したのち現像してストライプ又
はモザイク状の可染性樹脂膜を形成し、その後、所定の
分光特性を有する染料により、染色する等の操作を繰返
すことにより色分解フィルター（カラーフィルター）を
作成しているが、可染性感光性樹脂溶液を基材に塗付す
る際、基材と可染性感光性樹脂膜との密着性を充分に保
つ為に、通常シランカップラーが使用される。又、露光
後の現像に於いては、通常２０〜７０℃の中性乃至酸性
水溶液又は、非イオン界面活性剤を含有する水溶液を使
用して行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】可染性感光性樹脂組成
物を、ガラス板、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等に塗付する際にシランカップラーを使用すると、可
染性感光性樹脂膜と基材との密着性は良くなるが、現像
時間が長くかかる上現像時間を長くすると、一度現像に
より脱落した可染性感光性樹脂の粕状物が、ガラス板等
に再付着する為に不良品が発生しやすいとか、ストライ
プ又はモザイク状の樹脂膜の形状が崩れたり、又、未露
光部の脱落が不十分な為解像度が悪くなるとかの問題が
あり、工程の合理化、収率の向上、品質の向上の点で、
更に改良が望まれている。
物を、ガラス板、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等に塗付する際にシランカップラーを使用すると、可
染性感光性樹脂膜と基材との密着性は良くなるが、現像
時間が長くかかる上現像時間を長くすると、一度現像に
より脱落した可染性感光性樹脂の粕状物が、ガラス板等
に再付着する為に不良品が発生しやすいとか、ストライ
プ又はモザイク状の樹脂膜の形状が崩れたり、又、未露
光部の脱落が不十分な為解像度が悪くなるとかの問題が
あり、工程の合理化、収率の向上、品質の向上の点で、
更に改良が望まれている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、これらの
問題点を解決すべく鋭意検討を行った結果、可染性感光
性樹脂液をガラス板、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウ
エハー等に塗付する際、特定の薬剤を含む塗工液を用
い、マスクを介して露光したのち、アルコール類を用い
て現像を行う事により前記目的が達成出来る事を見出
し、本発明を完成させるに至った。
問題点を解決すべく鋭意検討を行った結果、可染性感光
性樹脂液をガラス板、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウ
エハー等に塗付する際、特定の薬剤を含む塗工液を用
い、マスクを介して露光したのち、アルコール類を用い
て現像を行う事により前記目的が達成出来る事を見出
し、本発明を完成させるに至った。
【０００６】即ち本発明は （ａ）可染性樹脂モノマー（Ａ）、（ｂ）可染性モノマ
ー（Ａ）以外の親水性モノマー（Ｂ）、（ｃ）疎水性モ
ノマー（Ｃ）より成る共重合体〔Ｄ〕及びシリコーンオ
イルを主要成分とする可染性感光性樹脂組成物を用いて
基材表面に皮膜を設け、次にマスクを用いて露光したあ
と、アルコール類で現像することを特徴とするパターン
形成法を提供する。
ー（Ａ）以外の親水性モノマー（Ｂ）、（ｃ）疎水性モ
ノマー（Ｃ）より成る共重合体〔Ｄ〕及びシリコーンオ
イルを主要成分とする可染性感光性樹脂組成物を用いて
基材表面に皮膜を設け、次にマスクを用いて露光したあ
と、アルコール類で現像することを特徴とするパターン
形成法を提供する。
【０００７】本発明のパターン形成法によると従来の方
法に比べ、現像時間が短縮できる上に、現像により脱落
した未露光部の樹脂の再付着も減少し、又、ストライプ
又は、モザイク状の樹脂膜の形状が崩れるのを防止でき
る。又、未現像部分が残ることも防止でき解像度をあげ
ることが可能となり、工程の合理化と品質の向上及び収
率の向上を達成する事ができる。
法に比べ、現像時間が短縮できる上に、現像により脱落
した未露光部の樹脂の再付着も減少し、又、ストライプ
又は、モザイク状の樹脂膜の形状が崩れるのを防止でき
る。又、未現像部分が残ることも防止でき解像度をあげ
ることが可能となり、工程の合理化と品質の向上及び収
率の向上を達成する事ができる。
【０００８】本発明で使用するシリコーンオイルは水、
アルコール、セロソルブ、ジグライム等の溶媒に可溶で
あり、その使用量は、感光性樹脂溶液中に含まれる樹脂
固形分に対し、０．０１〜１％、好ましくは０．１〜
０．６％である。本発明のパターン形成法では現像剤と
してアルコール類が使用されるが、アルコール類の例と
してはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ
−プロパノール、イソブタノール、ｎ−ブタノールが挙
げられこれらの混合液であってもよい。これらのアルコ
ール類は水を含まない方が好ましいが数％の水の混入は
許容される。現像温度は、０〜５０℃が好ましいが、特
に好ましいのは１０〜２５℃である。
アルコール、セロソルブ、ジグライム等の溶媒に可溶で
あり、その使用量は、感光性樹脂溶液中に含まれる樹脂
固形分に対し、０．０１〜１％、好ましくは０．１〜
０．６％である。本発明のパターン形成法では現像剤と
してアルコール類が使用されるが、アルコール類の例と
してはメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ
−プロパノール、イソブタノール、ｎ−ブタノールが挙
げられこれらの混合液であってもよい。これらのアルコ
ール類は水を含まない方が好ましいが数％の水の混入は
許容される。現像温度は、０〜５０℃が好ましいが、特
に好ましいのは１０〜２５℃である。
【０００９】本発明で用いられる可染性感光性樹脂組成
物としては、例えば、次のようなものが挙げられる。即
ち、可染性モノマー（Ａ）、親水性モノマー（Ｂ）、疎
水性モノマー（Ｃ）より成る共重合体（Ｄ）に、感光剤
として例えば、４，４′−ジアジドカルコン、２，６−
ビス（４′−アジドベンザル）シクロヘキサン、２，６
−ビス（４′−アジドベンザル）４−メチルシクロヘキ
サノン、１，３−ビス（４′−アジドベンザル）−２−
プロパノン等を組み合わせて、可染性感光性樹脂組成物
としたもの
物としては、例えば、次のようなものが挙げられる。即
ち、可染性モノマー（Ａ）、親水性モノマー（Ｂ）、疎
水性モノマー（Ｃ）より成る共重合体（Ｄ）に、感光剤
として例えば、４，４′−ジアジドカルコン、２，６−
ビス（４′−アジドベンザル）シクロヘキサン、２，６
−ビス（４′−アジドベンザル）４−メチルシクロヘキ
サノン、１，３−ビス（４′−アジドベンザル）−２−
プロパノン等を組み合わせて、可染性感光性樹脂組成物
としたもの
【００１０】又は、この共重合体〔Ｄ〕に感光性基例え
ば、シンナモイル基、アジド基、アクリル基、スチリル
ピリジニウム塩構造、又はスチリルキノリウム塩構造等
を有するモノマーを共重合させて可染性感光性樹脂組成
物としたもの等がある。
ば、シンナモイル基、アジド基、アクリル基、スチリル
ピリジニウム塩構造、又はスチリルキノリウム塩構造等
を有するモノマーを共重合させて可染性感光性樹脂組成
物としたもの等がある。
【００１１】本発明で用いられる可染性モノマー（Ａ）
としては、例えば次のものが挙げられる。 （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート （Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルメタクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリルアミド （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリルアミド （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルビニルエーテル （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリレート ４−ビニルピリジンジアリルアミン ２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピルト
リメチルアンモニウムクロライド メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムク
ロライド
としては、例えば次のものが挙げられる。 （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレート （Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルメタクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリルアミド （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリルアミド （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルビニルエーテル （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルアクリレート （Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピルメタクリレート ４−ビニルピリジンジアリルアミン ２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピルト
リメチルアンモニウムクロライド メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムク
ロライド
【００１２】本発明で用いられる親水性モノマー（Ｂ）
としては、次のものが挙げられる。 ヒドロキシエチルアクリレート ヒドロキシエチルメタクリレート アクリルアミド、メタアクリルアミド ビニルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
としては、次のものが挙げられる。 ヒドロキシエチルアクリレート ヒドロキシエチルメタクリレート アクリルアミド、メタアクリルアミド ビニルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド
【００１３】又、本発明で用いられる疎水性モノマー
（Ｃ）としてはメチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、エチルアクリレート、スチレン、Ｐ−メチルスチ
レン、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート等が
挙げられる。
（Ｃ）としてはメチルアクリレート、メチルメタクリレ
ート、エチルアクリレート、スチレン、Ｐ−メチルスチ
レン、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート等が
挙げられる。
【００１４】これら、可染性モノマー（Ａ）、親水性モ
ノマー（Ｂ）、疎水性モノマー（Ｃ）の配合割合は、可
染性モノマー（Ａ）１０〜８０ｗｔ％、親水性モノマー
（Ｂ）２〜６０ｗｔ％、疎水性モノマー（Ｃ）５〜５０
ｗｔ％、であるものが好ましい。これらのモノマーは、
従来技術により重合できる。
ノマー（Ｂ）、疎水性モノマー（Ｃ）の配合割合は、可
染性モノマー（Ａ）１０〜８０ｗｔ％、親水性モノマー
（Ｂ）２〜６０ｗｔ％、疎水性モノマー（Ｃ）５〜５０
ｗｔ％、であるものが好ましい。これらのモノマーは、
従来技術により重合できる。
【００１５】又、本発明で用いられる可染性感光性樹脂
組成物は、共重合体（Ｄ）とシリコーンオイルを更に必
要により感光剤を混合してえられ、これは更にガラス板
ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハー等に塗布し易く
する為に、通常有機溶剤に希釈されて用いられる。有機
溶剤としては例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ジグライム、エチレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、メチルイソブチルケトン、イソプロピ
ルセロソルブ、トルエン、キシレン等が使用される。
組成物は、共重合体（Ｄ）とシリコーンオイルを更に必
要により感光剤を混合してえられ、これは更にガラス板
ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハー等に塗布し易く
する為に、通常有機溶剤に希釈されて用いられる。有機
溶剤としては例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、ジグライム、エチレングリコールモノエチルエー
テルアセテート、メチルイソブチルケトン、イソプロピ
ルセロソルブ、トルエン、キシレン等が使用される。
【００１６】可染性感光性樹脂組成物又はその溶液が塗
布されたガラス、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等の基材は、マスクを介して紫外線等により面照度５
〜１０ｍｗ／cm2 で３〜３０秒照射し露光される。未露
光部は、アルコール類により現像される。この様に現像
された樹脂の膜厚は、０．１〜１０μになるように樹脂
組成物の塗工量が調整される。現像された所定のパター
ンを有するガラス、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエ
ハー等の基材は、好ましくはアニオン染料により染色さ
れる。
布されたガラス、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエハ
ー等の基材は、マスクを介して紫外線等により面照度５
〜１０ｍｗ／cm2 で３〜３０秒照射し露光される。未露
光部は、アルコール類により現像される。この様に現像
された樹脂の膜厚は、０．１〜１０μになるように樹脂
組成物の塗工量が調整される。現像された所定のパター
ンを有するガラス、ＣＣＤのウエハプロセス済みのウエ
ハー等の基材は、好ましくはアニオン染料により染色さ
れる。
【００１７】アニオン染料としては、カラーインデッス
(Society of Dyers and Colourists発行）に、C.I.Acid
として記載されている酸性染料、同じく、C.I.Directと
して記載されている直接染料及びC.I.Reactiveとして記
載されている反応性染料等が挙げられるが、特に酸性染
料が好ましい。
(Society of Dyers and Colourists発行）に、C.I.Acid
として記載されている酸性染料、同じく、C.I.Directと
して記載されている直接染料及びC.I.Reactiveとして記
載されている反応性染料等が挙げられるが、特に酸性染
料が好ましい。
【００１８】
【実施例】実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例において部は重量部を示す。
実施例において部は重量部を示す。
【００１９】実施例１ ジメチルアミノプロピルアクリルアミド ３０部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １５部 ビニルピロリドン １５部 メチルメタクリレート ３０部 ジメチルアミノアクリルアミド １０部 α−α′−アゾビス（イソブチロニトリル） ２部 ジオキサン ２５０部
【００２０】上記処法の液体を窒素雰囲気中、７０℃で
８時間重合反応を行った後、この重合溶液をイソプロピ
ルエーテル中に投入し、ポリマーを沈澱させた。ポリマ
ーを取出し乾燥後、このポリマー１６部に、４，４′−
ジアジドカルコンの０．６５部、シリコーンオイル、Ｓ
Ｈ２００オイル（東レ、ダウコーニング・シリコーン株
製）０．２部エチルセロソルブ６３部、ジグライム２１
部を混合溶解させ可染性感光性樹脂液とした。次に、ガ
ラス基板にスピンコーター法により前記可染性感光性樹
脂液を塗付し、オーブンで１００℃、３０分乾燥後、所
定のパターンを有するマスクを介して面照度７．５ｍｗ
／cm2 のＵＶ照射を１５秒間行い２０℃のエタノールに
て攪拌下１分間現像を行うと、照射部のみ可染膜（パタ
ーン）を有するガラス基板が得られた。
８時間重合反応を行った後、この重合溶液をイソプロピ
ルエーテル中に投入し、ポリマーを沈澱させた。ポリマ
ーを取出し乾燥後、このポリマー１６部に、４，４′−
ジアジドカルコンの０．６５部、シリコーンオイル、Ｓ
Ｈ２００オイル（東レ、ダウコーニング・シリコーン株
製）０．２部エチルセロソルブ６３部、ジグライム２１
部を混合溶解させ可染性感光性樹脂液とした。次に、ガ
ラス基板にスピンコーター法により前記可染性感光性樹
脂液を塗付し、オーブンで１００℃、３０分乾燥後、所
定のパターンを有するマスクを介して面照度７．５ｍｗ
／cm2 のＵＶ照射を１５秒間行い２０℃のエタノールに
て攪拌下１分間現像を行うと、照射部のみ可染膜（パタ
ーン）を有するガラス基板が得られた。
【００２１】このガラス基板をオーブンで１５０℃、３
０分間乾燥後、これをPC Red 137P（日本化薬（株）製
カラーフィルター用色素）をその濃度が０．１重量％と
なるように水に溶解させた液に浸し、６０℃で１０分間
染色を行うと濃厚赤色のパターンに染色されたガラス板
が得られた。このガラス板は、現像による未露光部の脱
落樹脂の再付着が極めて少ない上、未現像部分が残るこ
ともなく、又、形成された赤色の樹脂膜の形状を崩れる
こともなく，画像は極めて鮮明であった。又、ガラス基
板と樹脂膜の密着性を十分であった。
０分間乾燥後、これをPC Red 137P（日本化薬（株）製
カラーフィルター用色素）をその濃度が０．１重量％と
なるように水に溶解させた液に浸し、６０℃で１０分間
染色を行うと濃厚赤色のパターンに染色されたガラス板
が得られた。このガラス板は、現像による未露光部の脱
落樹脂の再付着が極めて少ない上、未現像部分が残るこ
ともなく、又、形成された赤色の樹脂膜の形状を崩れる
こともなく，画像は極めて鮮明であった。又、ガラス基
板と樹脂膜の密着性を十分であった。
【００２２】比較例１ 実施例１に於いて、 シリコーンオイルＳＨ２００オイ
ルの代わりに、シランカップリング剤（信越化学工業株
製、ＫＢＭ６０３）０．３４部を用いて感光性樹脂液を
調製し、又エマルゲン９１３〔花王石鹸（株）製、ポリ
オキシエチレンノニルフェノールエーテル型非イオン界
面活性剤〕を水１００部中に２部含有する６０℃の現像
液にて攪拌下で５分間現像を行ったところ、実施例１に
比して未現像部分が、極めて多く残り、又、脱落樹脂の
再付着も多く、形成された赤色の樹脂膜の形状も大きく
崩れている事が認められた。現像時間を１０分間にして
も、同様であった。
ルの代わりに、シランカップリング剤（信越化学工業株
製、ＫＢＭ６０３）０．３４部を用いて感光性樹脂液を
調製し、又エマルゲン９１３〔花王石鹸（株）製、ポリ
オキシエチレンノニルフェノールエーテル型非イオン界
面活性剤〕を水１００部中に２部含有する６０℃の現像
液にて攪拌下で５分間現像を行ったところ、実施例１に
比して未現像部分が、極めて多く残り、又、脱落樹脂の
再付着も多く、形成された赤色の樹脂膜の形状も大きく
崩れている事が認められた。現像時間を１０分間にして
も、同様であった。
【００２３】実施例２ 実施例１に於いて、基材としてガラス基板の代わりに、
ＣＣＤのウエハ処理済みのウエハを用いて、実施例１と
同様の操作を行ったところ、実施例１と同様良好な着色
パターンが得られた。
ＣＣＤのウエハ処理済みのウエハを用いて、実施例１と
同様の操作を行ったところ、実施例１と同様良好な着色
パターンが得られた。
【００２４】実施例３ ジメチルアミノプロピルアクリルアミド ４０部 ２−ヒドロキシエチルメタクリレート １０部 ビニルピロリドン ５部 メチルメタクリレート １５部 メチルアクリレート １５部 ジメチルアミノアクリルアミド １５部 α−α′−アゾビス（イソブチロニトリル） １０部 ジオキサン ２５０部
【００２５】上記処法の液体を窒素雰囲気中、７０℃８
時間重合反応を行ったのち、この重合液をイソプロピル
エーテル中に投入し、ポリマーを沈澱させた。ポリマー
を取出し乾燥後、このポリマー１６部に、４，４′−ジ
アジドカルコン０．６５部、シリコーンオイル、ＳＨ７
０９０オイル（東レ、ダウコーニングシリコン（株）
製）０．５部、エチルセロソルブ４２部、ジクライム４
２部を混合溶解させた溶液を可料性感光性樹脂液とし
た。
時間重合反応を行ったのち、この重合液をイソプロピル
エーテル中に投入し、ポリマーを沈澱させた。ポリマー
を取出し乾燥後、このポリマー１６部に、４，４′−ジ
アジドカルコン０．６５部、シリコーンオイル、ＳＨ７
０９０オイル（東レ、ダウコーニングシリコン（株）
製）０．５部、エチルセロソルブ４２部、ジクライム４
２部を混合溶解させた溶液を可料性感光性樹脂液とし
た。
【００２６】次に、この樹脂液をＣＣＤのウエハプロセ
ス済みのウエハにスピンコーター法で塗付し、これをオ
ーブンで１００℃３０分乾燥後、所定のパターンを有す
るマスクを介して面照度７．５ｍｗ／cm2 のＵＶ照射を
１０秒間行い２５℃のイソプロピルアルコールにて、攪
拌下１分間の現像を行うと照射部のみ可染膜（パター
ン）を有する基板が得られた。この可染性膜は０．３ｒ
の膜厚であった。
ス済みのウエハにスピンコーター法で塗付し、これをオ
ーブンで１００℃３０分乾燥後、所定のパターンを有す
るマスクを介して面照度７．５ｍｗ／cm2 のＵＶ照射を
１０秒間行い２５℃のイソプロピルアルコールにて、攪
拌下１分間の現像を行うと照射部のみ可染膜（パター
ン）を有する基板が得られた。この可染性膜は０．３ｒ
の膜厚であった。
【００２７】この基板をオーブンで１５０℃、３０分間
乾燥した後、これをPC cyan16 （日本化薬（株）製 カ
ラーフィルター色素）を０．１％となるように水に溶解
させた液に浸漬し４０℃、５分間染色を行うと、濃厚シ
アン色のパターンに染色された基板が得られた。この基
板は、未露光部への現像による脱落樹脂の再付着を極め
て少なく、未現像部分が残ることもなく、又、形成され
た樹脂膜の形状も崩れることなく画像は、極めて鮮明で
あった。又、形成された樹脂膜と基材のＣＣＤのウエハ
プロセス済みのウエハとの密着性は十分であった。
乾燥した後、これをPC cyan16 （日本化薬（株）製 カ
ラーフィルター色素）を０．１％となるように水に溶解
させた液に浸漬し４０℃、５分間染色を行うと、濃厚シ
アン色のパターンに染色された基板が得られた。この基
板は、未露光部への現像による脱落樹脂の再付着を極め
て少なく、未現像部分が残ることもなく、又、形成され
た樹脂膜の形状も崩れることなく画像は、極めて鮮明で
あった。又、形成された樹脂膜と基材のＣＣＤのウエハ
プロセス済みのウエハとの密着性は十分であった。
【００２８】比較例２ 実施例３に於いて、シリコーンオイルを使用しないこと
以外は、実施例３と同様の操作を行ったところ、未露光
部への脱落樹脂の再付着、並びに未現像部分は実施例３
に比較し、はるかに多く、形成された樹脂膜の形上も崩
れているものが多くみられた。現像時間を１５分に延長
しても同様であった。
以外は、実施例３と同様の操作を行ったところ、未露光
部への脱落樹脂の再付着、並びに未現像部分は実施例３
に比較し、はるかに多く、形成された樹脂膜の形上も崩
れているものが多くみられた。現像時間を１５分に延長
しても同様であった。
【００２９】実施例４ 実施例３に於いてイソプロピルアルコールの代わりにエ
タノールを用い、又シリコーンオイルとしてＳＨ−７０
９０オイルの代わりにＳＨ７０９１オイル（東レ・ダウ
コーニング・シリコーン（株）製）を用いる以外は実施
例３と同様の操作を行ったところ、良好な着色パターン
が得られた。
タノールを用い、又シリコーンオイルとしてＳＨ−７０
９０オイルの代わりにＳＨ７０９１オイル（東レ・ダウ
コーニング・シリコーン（株）製）を用いる以外は実施
例３と同様の操作を行ったところ、良好な着色パターン
が得られた。
【００３０】実施例５ 実施例３に於いて、ＳＨ７０９０オイル（東レ・ダウコ
ーニング・シリコン（株）製）とＳＨ２００オイル（東
レ・ダウコーニング・シリコン（株）製）とを、各々
０．３部ずつ用いる以外は、実施例３と同様の操作を行
ったところ、実施例３と同様な結果が得られた。
ーニング・シリコン（株）製）とＳＨ２００オイル（東
レ・ダウコーニング・シリコン（株）製）とを、各々
０．３部ずつ用いる以外は、実施例３と同様の操作を行
ったところ、実施例３と同様な結果が得られた。
【００３１】
【発明の効果】未露光部への脱落樹脂の再付着が防止出
来、形成された樹脂膜の形状の崩れることのないカラー
着色用のパターンを形成する方法が見出された。本発明
の方法により高品質のパターンが得られると共に歩留り
の向上がはかれる。
来、形成された樹脂膜の形状の崩れることのないカラー
着色用のパターンを形成する方法が見出された。本発明
の方法により高品質のパターンが得られると共に歩留り
の向上がはかれる。
Claims (1)
- 【請求項１】（ａ）可染性樹脂モノマー（Ａ）、（ｂ）
可染性モノマー（Ａ）以外の親水性モノマー（Ｂ）、
（ｃ）疎水性モノマー（Ｃ）より成る共重合体（Ｄ）及
びシリコーンオイルを主要成分とする可染性感光性樹脂
組成物を用いて、基材表面に皮膜を設け、次にマスクを
用いて露光したあとアルコール類で現像することを特徴
とするパターン形成法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8658592A JPH05257280A (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | パターン形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8658592A JPH05257280A (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | パターン形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05257280A true JPH05257280A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=13891092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8658592A Pending JPH05257280A (ja) | 1992-03-11 | 1992-03-11 | パターン形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05257280A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100526527B1 (ko) * | 2002-11-29 | 2005-11-08 | 삼성전자주식회사 | 포토마스크와 그를 이용한 마스크 패턴 형성 방법 |
-
1992
- 1992-03-11 JP JP8658592A patent/JPH05257280A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100526527B1 (ko) * | 2002-11-29 | 2005-11-08 | 삼성전자주식회사 | 포토마스크와 그를 이용한 마스크 패턴 형성 방법 |
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