JPH05258689A - 駆動用半導体素子内蔵型蛍光表示パネル - Google Patents
駆動用半導体素子内蔵型蛍光表示パネルInfo
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- JPH05258689A JPH05258689A JP4051206A JP5120692A JPH05258689A JP H05258689 A JPH05258689 A JP H05258689A JP 4051206 A JP4051206 A JP 4051206A JP 5120692 A JP5120692 A JP 5120692A JP H05258689 A JPH05258689 A JP H05258689A
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Landscapes
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】従来、駆動用半導体素子内蔵型蛍光表示パネル
の製造においては、アルミニウムワイヤを用い、超音波
ウェッジボンディング法を用いていたが、スピードが遅
く、大量生産には適切ではなかった。この欠点を回避し
ボールボンディング法を採用できるようにすることを目
的とする。 【構成】陽極基板1上にアルミニウム薄膜から成るボン
ディングパッド2を含む配線層3を形成し、このボンデ
ィングパッド2上に厚膜印刷法による銀厚膜から成るバ
リア金属層4′を形成する。この後、ボンディングパッ
ド2がアルミニウム層9とその上に形成されたバリア金
属層4及び保護層10を有する駆動用半導体素子11を
所定の位置に固定し金線12を用いてボールボンディン
グを行う。 【効果】金線を用いてのボールボンディング法を採用す
ることが可能となり、ボンディング作業の高速化、製造
能力の大幅な向上が実現できる。
の製造においては、アルミニウムワイヤを用い、超音波
ウェッジボンディング法を用いていたが、スピードが遅
く、大量生産には適切ではなかった。この欠点を回避し
ボールボンディング法を採用できるようにすることを目
的とする。 【構成】陽極基板1上にアルミニウム薄膜から成るボン
ディングパッド2を含む配線層3を形成し、このボンデ
ィングパッド2上に厚膜印刷法による銀厚膜から成るバ
リア金属層4′を形成する。この後、ボンディングパッ
ド2がアルミニウム層9とその上に形成されたバリア金
属層4及び保護層10を有する駆動用半導体素子11を
所定の位置に固定し金線12を用いてボールボンディン
グを行う。 【効果】金線を用いてのボールボンディング法を採用す
ることが可能となり、ボンディング作業の高速化、製造
能力の大幅な向上が実現できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は駆動用半導体素子を真空
外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルに関し、特に、駆動
用半導体素子を基板の所定の位置に搭載し、高速のワイ
ヤボンディングを実行する方法に関する。
外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルに関し、特に、駆動
用半導体素子を基板の所定の位置に搭載し、高速のワイ
ヤボンディングを実行する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、駆動用半導体素子を真空外囲器内
に内蔵する蛍光表示パネルは、図2に示すように、アル
ミニウムワイヤ13を用いて駆動用半導体素子11と陽
極基板1上のボンディングパッド2の間を超音波ボンデ
ィングによって接続していた。即ち、ガラスから成る陽
極基板1上にスパッタリング法及びフォトリソグラフィ
法を用いてアルミニウムから成るボンディングパッド2
を含む配線層3を形成し、さらに厚膜印刷法を用いてガ
ラスから成る絶縁層5を形成し、その上にグラファイト
から成る表示電極6と蛍光体から成る陽極7、及び周辺
部分にフリットガラスから成るシールガラス層8を形成
した後、ボンディングパッド2が0.5〜1.5ミクロ
ン厚のアルミニウム層9から成る駆動用半導体素子11
を所定の位置に固定し、アルミニウムワイヤ13を用い
てウェッジボンディング法により駆動用半導体素子11
上のボンディングパッド2と陽極基板1上のボンディン
グパッド2間を接続していた。
に内蔵する蛍光表示パネルは、図2に示すように、アル
ミニウムワイヤ13を用いて駆動用半導体素子11と陽
極基板1上のボンディングパッド2の間を超音波ボンデ
ィングによって接続していた。即ち、ガラスから成る陽
極基板1上にスパッタリング法及びフォトリソグラフィ
法を用いてアルミニウムから成るボンディングパッド2
を含む配線層3を形成し、さらに厚膜印刷法を用いてガ
ラスから成る絶縁層5を形成し、その上にグラファイト
から成る表示電極6と蛍光体から成る陽極7、及び周辺
部分にフリットガラスから成るシールガラス層8を形成
した後、ボンディングパッド2が0.5〜1.5ミクロ
ン厚のアルミニウム層9から成る駆動用半導体素子11
を所定の位置に固定し、アルミニウムワイヤ13を用い
てウェッジボンディング法により駆動用半導体素子11
上のボンディングパッド2と陽極基板1上のボンディン
グパッド2間を接続していた。
【0003】ウェッジボンディング法を用いた場合のボ
ンディングスピードはワイヤ当り0.5〜1.0秒であ
った。この後、駆動用半導体素子を実装した陽極基板と
電極部品とを組合せ、更にカバーガラスを合せた後、4
00〜460℃で封入し、次いで300〜350℃で排
気していた。
ンディングスピードはワイヤ当り0.5〜1.0秒であ
った。この後、駆動用半導体素子を実装した陽極基板と
電極部品とを組合せ、更にカバーガラスを合せた後、4
00〜460℃で封入し、次いで300〜350℃で排
気していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】一般に半導体の製造に
於けるワイヤボンディングは金線を用いたボールボンデ
ィング(サーモソニックボンディング)が用いられてい
るが、金とアルミニウムの接合面は加熱されることによ
って金属間化合物が形成され、接合力が低下するという
問題がある為、ボールボンディングを駆動用半導体素子
を真空外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルには使用でき
なかった。
於けるワイヤボンディングは金線を用いたボールボンデ
ィング(サーモソニックボンディング)が用いられてい
るが、金とアルミニウムの接合面は加熱されることによ
って金属間化合物が形成され、接合力が低下するという
問題がある為、ボールボンディングを駆動用半導体素子
を真空外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルには使用でき
なかった。
【0005】この対策は同一金属どうしの接合を実施す
ることが最も確実な方法であり、駆動用半導体素子を真
空外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルの製造に於いては
アルミニウムワイヤを使用し、超音波を用いたウェッジ
ボンディング方法が用いられる。
ることが最も確実な方法であり、駆動用半導体素子を真
空外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルの製造に於いては
アルミニウムワイヤを使用し、超音波を用いたウェッジ
ボンディング方法が用いられる。
【0006】しかしながら、この方法は従来技術を利用
する場合には確実で簡単な方法であり、すぐに実用化で
きるという利点があるが、超音波ウェッジボンディング
方法はそのボンディングスピードがボールボンディング
に比較して遅い為、大量生産には適切なボンディング方
法ではなかった。
する場合には確実で簡単な方法であり、すぐに実用化で
きるという利点があるが、超音波ウェッジボンディング
方法はそのボンディングスピードがボールボンディング
に比較して遅い為、大量生産には適切なボンディング方
法ではなかった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、駆動用半導体
素子を真空外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルにおい
て、蛍光表示パネルを製造する工程の中の封入、排気工
程の高温を受けても、ボンディング接合面の劣化が起き
ないようにするため、ボンディングパッドにバリア金属
層を有する駆動用半導体素子を用い、更に真空外囲器の
一部を構成する基板上のボンディングパッドにバリア金
属層を形成し、金線を用いたボールボンディングを実施
することを特徴とする。これによって、金とアルミニウ
ムとの直接的接合を防ぐと同時にボールボンディングの
高速性を利用することができる。駆動用半導体素子上の
バリア金属層はチタン,タングステン,モリブデンなど
の金属で形成する。
素子を真空外囲器内に内蔵する蛍光表示パネルにおい
て、蛍光表示パネルを製造する工程の中の封入、排気工
程の高温を受けても、ボンディング接合面の劣化が起き
ないようにするため、ボンディングパッドにバリア金属
層を有する駆動用半導体素子を用い、更に真空外囲器の
一部を構成する基板上のボンディングパッドにバリア金
属層を形成し、金線を用いたボールボンディングを実施
することを特徴とする。これによって、金とアルミニウ
ムとの直接的接合を防ぐと同時にボールボンディングの
高速性を利用することができる。駆動用半導体素子上の
バリア金属層はチタン,タングステン,モリブデンなど
の金属で形成する。
【0008】
【実施例】次に本発明について図面を用いて説明する。
図1は本発明の一実施例を示す断面図である。ガラスか
ら成る陽極基板1の表面上にスパッタリング法及びフォ
トリソグラフィ法を用いてアルミニウム薄膜から成るボ
ンディングパッド2を含む配線層3を形成し、このボン
ディングパッド上のみに厚膜印刷法により銀ペーストを
印刷する。さらに銀ペーストに含まれるバインダー成分
を蒸発させるため焼成を施し、バリア金属層4′を完成
させる。この後、バリア金属層4′と同様に厚膜印刷法
によりガラスから成る絶縁層5を形成し、その上にグラ
ファイトから成る表示電極6と蛍光体から成る陽極7、
及び周辺部分にフリットガラスから成るシールガラス層
8を形成する。
図1は本発明の一実施例を示す断面図である。ガラスか
ら成る陽極基板1の表面上にスパッタリング法及びフォ
トリソグラフィ法を用いてアルミニウム薄膜から成るボ
ンディングパッド2を含む配線層3を形成し、このボン
ディングパッド上のみに厚膜印刷法により銀ペーストを
印刷する。さらに銀ペーストに含まれるバインダー成分
を蒸発させるため焼成を施し、バリア金属層4′を完成
させる。この後、バリア金属層4′と同様に厚膜印刷法
によりガラスから成る絶縁層5を形成し、その上にグラ
ファイトから成る表示電極6と蛍光体から成る陽極7、
及び周辺部分にフリットガラスから成るシールガラス層
8を形成する。
【0009】次に、ボンディングパッド2が0.5〜
1.5ミクロン厚のアルミニウム層9とその上に形成さ
れた0.1〜1.0ミクロン厚のチタン層から成るバリ
ア金属層4及び0.1〜0.5ミクロン厚の金層から成
る保護層10を有する駆動用半導体素子11を所定の位
置に固定し、金線12を用いてボールボンディング法に
より駆動用半導体素子11上のボンディングパッド2と
陽極基板1上のボンディングパッド2間を接続した。
1.5ミクロン厚のアルミニウム層9とその上に形成さ
れた0.1〜1.0ミクロン厚のチタン層から成るバリ
ア金属層4及び0.1〜0.5ミクロン厚の金層から成
る保護層10を有する駆動用半導体素子11を所定の位
置に固定し、金線12を用いてボールボンディング法に
より駆動用半導体素子11上のボンディングパッド2と
陽極基板1上のボンディングパッド2間を接続した。
【0010】ボールボンディング法を用いることにより
ワイヤ当り0.15〜0.35秒でワイヤボンディング
が実行できた。従来のウェッジボンディング法によれば
ワイヤ当り0.5〜1.0秒必要であり、その高速性の
差は明かであった。
ワイヤ当り0.15〜0.35秒でワイヤボンディング
が実行できた。従来のウェッジボンディング法によれば
ワイヤ当り0.5〜1.0秒必要であり、その高速性の
差は明かであった。
【0011】この後、駆動用半導体素子を実装した陽極
基板と電極部品とを組合せ、更にカバーガラスを合せた
後、400〜460℃で封入し、次いで300〜350
℃で排気を行った。この様にして製造した駆動用半導体
素子を内蔵する蛍光表示パネルは、85℃、1000H
の高温動作試験にも問題なく、機械的評価試験である振
動衝撃試験も全く問題なかった。
基板と電極部品とを組合せ、更にカバーガラスを合せた
後、400〜460℃で封入し、次いで300〜350
℃で排気を行った。この様にして製造した駆動用半導体
素子を内蔵する蛍光表示パネルは、85℃、1000H
の高温動作試験にも問題なく、機械的評価試験である振
動衝撃試験も全く問題なかった。
【0012】なお、上記実施例では駆動用半導体素子上
のバリア金属層をチタンで形成した場合について述べた
が、タングステンやモリブデンで形成しても良い。
のバリア金属層をチタンで形成した場合について述べた
が、タングステンやモリブデンで形成しても良い。
【0013】尚、駆動用半導体素子のボンディングパッ
ドの表面がバリア層のみの場合は、金線を用いたボール
ボンディングでは充分な接合強度を得ることが出来な
い。これはバリア層表面に形成された酸化層がボンディ
ング時の超音波で破壊できないためであり、バリア層の
酸化防止用の保護用金層が必要である。
ドの表面がバリア層のみの場合は、金線を用いたボール
ボンディングでは充分な接合強度を得ることが出来な
い。これはバリア層表面に形成された酸化層がボンディ
ング時の超音波で破壊できないためであり、バリア層の
酸化防止用の保護用金層が必要である。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、ボンディングパッ
ドにバリア金属層を有する駆動用半導体素子を用い、更
に陽極基板上のアルミニウム薄膜から成るボンディング
パッド上にもバリア金属層を形成することにより、金線
を用いてのボールボンディング法を採用することが可能
となり、ボンディング作業の高速化、製造能力の大幅な
向上が実現できた。
ドにバリア金属層を有する駆動用半導体素子を用い、更
に陽極基板上のアルミニウム薄膜から成るボンディング
パッド上にもバリア金属層を形成することにより、金線
を用いてのボールボンディング法を採用することが可能
となり、ボンディング作業の高速化、製造能力の大幅な
向上が実現できた。
【0015】また、駆動用半導体素子のボンディングパ
ッドと陽極基板上のアルミニウム薄膜から成るボンディ
ングパッドの両方のボンディングパッド上にそれぞれ形
成されたバリア金属層の働きによりアルミニウムと金と
の合金化反応が防止されるため、高温下での信頼性、機
械的接合強度にも全く問題がなかった。
ッドと陽極基板上のアルミニウム薄膜から成るボンディ
ングパッドの両方のボンディングパッド上にそれぞれ形
成されたバリア金属層の働きによりアルミニウムと金と
の合金化反応が防止されるため、高温下での信頼性、機
械的接合強度にも全く問題がなかった。
【図1】本発明の一実施例を示す概略断面図である。
【図2】従来の例を示す概略断面図である。
1 陽極基板 2 ボンディングパッド 3 配線層 4,4′ バリア金属層 5 絶縁層 6 表示電極 7 陽極 8 シールガラス層 9 アルミニウム層 10 保護層 11 駆動用半導体素子 12 金線 13 アルミニウムワイヤ
Claims (5)
- 【請求項1】 駆動用半導体素子を真空外囲器内に内蔵
する蛍光表示パネルにおいて、駆動用半導体素子のボン
ディングパッドにバリア金属層とそれを保護する保護層
を有する事と、真空外囲器の一部を構成する基板上のボ
ンディングパッドを含む配線層がアルミニウム薄膜から
成る事と、前記基板上のボンディングパッドにバリア金
属層を有する事と、金線を用いてワイヤボンディングす
ることを特徴とする駆動用半導体素子内蔵型蛍光表示パ
ネル。 - 【請求項2】 駆動用半導体素子のボンディングパッド
上に形成されたバリア金属層がチタン、保護層が金層か
らなる事を特徴とする請求項1記載の駆動用半導体素子
内蔵型蛍光表示パネル。 - 【請求項3】 駆動用半導体素子のボンディングパッド
上に形成されたバリア金属層がモリブデン、保護層が金
層からなる事を特徴とする請求項1記載の駆動用半導体
素子内蔵型蛍光表示パネル。 - 【請求項4】 駆動用半導体素子のボンディングパッド
上に形成されたバリア金属層がタングステン、保護層が
金層からなる事を特徴とする請求項1記載の駆動用半導
体素子内蔵型蛍光表示パネル。 - 【請求項5】 真空外囲器の一部を構成する基板上のボ
ンディングパッド上に形成されたバリア金属層が銀の厚
膜からなる事を特徴とする請求項1記載の駆動用半導体
素子内蔵型蛍光表示パネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4051206A JPH05258689A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 駆動用半導体素子内蔵型蛍光表示パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4051206A JPH05258689A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 駆動用半導体素子内蔵型蛍光表示パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05258689A true JPH05258689A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=12880435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4051206A Withdrawn JPH05258689A (ja) | 1992-03-10 | 1992-03-10 | 駆動用半導体素子内蔵型蛍光表示パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05258689A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007214363A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
| JP2021129087A (ja) * | 2020-02-17 | 2021-09-02 | 富士電機株式会社 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
-
1992
- 1992-03-10 JP JP4051206A patent/JPH05258689A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007214363A (ja) * | 2006-02-09 | 2007-08-23 | Sony Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
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