JPH05266513A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光ディスク及びその製造方法Info
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- JPH05266513A JPH05266513A JP4093833A JP9383392A JPH05266513A JP H05266513 A JPH05266513 A JP H05266513A JP 4093833 A JP4093833 A JP 4093833A JP 9383392 A JP9383392 A JP 9383392A JP H05266513 A JPH05266513 A JP H05266513A
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- JP
- Japan
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- recording
- substrate
- reproducing layer
- monomer
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録再生層及び保護膜をスピンコートで形成
する光ディスクにおいて、記録再生層を適正な形態で形
成すると共に、保護膜形成用モノマーの液だれによる問
題点を解消する。 【構成】 ポリカーボネート基板１１のレーザ光入射面
２に、有機色素溶液をはじく性質を有するアクリル樹脂
のモノマーをスピンコートし、基板外周端面のモノマー
液だれをローラーで拭ったのち硬化させてハードコート
３とし、次いでシアニン色素溶液を記録再生層形成面１
にスピンコートし、この記録再生層４上面に金の反射層
５を設け、次いでアクリル樹脂のモノマーをスピンコー
トし、基板外周面のモノマー液だれをローラーで拭った
のち硬化させてトップコート６とする。
する光ディスクにおいて、記録再生層を適正な形態で形
成すると共に、保護膜形成用モノマーの液だれによる問
題点を解消する。 【構成】 ポリカーボネート基板１１のレーザ光入射面
２に、有機色素溶液をはじく性質を有するアクリル樹脂
のモノマーをスピンコートし、基板外周端面のモノマー
液だれをローラーで拭ったのち硬化させてハードコート
３とし、次いでシアニン色素溶液を記録再生層形成面１
にスピンコートし、この記録再生層４上面に金の反射層
５を設け、次いでアクリル樹脂のモノマーをスピンコー
トし、基板外周面のモノマー液だれをローラーで拭った
のち硬化させてトップコート６とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、片面に記録再生層を設
け、他面をレーザ光入射面とした光ディスク及びその製
造方法に関する。
け、他面をレーザ光入射面とした光ディスク及びその製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクとして、基板の片面側にグル
ーブ（案内溝）を形成して記録再生層形成面とし、これ
に有機色素溶液を塗布して記録再生層を設け、さらにこ
の記録再生層上に反射層を設けると共に、この反射層上
面と基板の他面側、すなわちレーザ光入射面側に硬質合
成樹脂による保護膜を設けたものが知られている。
ーブ（案内溝）を形成して記録再生層形成面とし、これ
に有機色素溶液を塗布して記録再生層を設け、さらにこ
の記録再生層上に反射層を設けると共に、この反射層上
面と基板の他面側、すなわちレーザ光入射面側に硬質合
成樹脂による保護膜を設けたものが知られている。
【０００３】上記光ディスクでは保護膜及び記録再生層
は一般的にスピンコートにより成膜されている。例え
ば、レーザ光入射面側の保護膜は、図２に示すような、
片面にグルーブ１ａを形成して記録再生層形成面１と
し、他面をレーザ光入射面２とした基板１１を低速回転
させつつ、硬質合成樹脂のモノマーを滴下し、基板１１
を高速回転させてモノマーを振り切って数μｍの厚さに
成膜したのち、紫外線、電子線により、あるいは加熱等
で、モノマーを重合硬化させることにより有機高分子の
保護膜（ハードコート）３が形成されている。
は一般的にスピンコートにより成膜されている。例え
ば、レーザ光入射面側の保護膜は、図２に示すような、
片面にグルーブ１ａを形成して記録再生層形成面１と
し、他面をレーザ光入射面２とした基板１１を低速回転
させつつ、硬質合成樹脂のモノマーを滴下し、基板１１
を高速回転させてモノマーを振り切って数μｍの厚さに
成膜したのち、紫外線、電子線により、あるいは加熱等
で、モノマーを重合硬化させることにより有機高分子の
保護膜（ハードコート）３が形成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記モノマ
ーを振り切る際に、これが基板１１の外周面にまで流れ
て、図２に示すように液だれ４１が発生する。この液だ
れ４１は光ディスクの重心を狂わせる原因となるだけで
なく、この液だれ４１をそのまま残してモノマーを硬化
させると、この部分が後で剥離して光ディスク製品の外
観を損じたり、剥離しかかったまま光ディスク製品に同
伴する結果となり易い。特に、含溶剤タイプのモノマー
を使用した場合には、モノマー硬化時に、液だれ４１部
分に気泡が発生し、硬化後に壊れて光ディスク製品の外
観を著しく悪化させてしまう。
ーを振り切る際に、これが基板１１の外周面にまで流れ
て、図２に示すように液だれ４１が発生する。この液だ
れ４１は光ディスクの重心を狂わせる原因となるだけで
なく、この液だれ４１をそのまま残してモノマーを硬化
させると、この部分が後で剥離して光ディスク製品の外
観を損じたり、剥離しかかったまま光ディスク製品に同
伴する結果となり易い。特に、含溶剤タイプのモノマー
を使用した場合には、モノマー硬化時に、液だれ４１部
分に気泡が発生し、硬化後に壊れて光ディスク製品の外
観を著しく悪化させてしまう。
【０００５】したがって従来、この液だれ４１部分の硬
化物を切削等の手段により除去し、外周面を仕上げる端
面処理が行われてきたが、作業が面倒であるうえ、切削
屑が静電気のために付着し、この切削屑の除去作業もや
っかいであるという問題点があった。
化物を切削等の手段により除去し、外周面を仕上げる端
面処理が行われてきたが、作業が面倒であるうえ、切削
屑が静電気のために付着し、この切削屑の除去作業もや
っかいであるという問題点があった。
【０００６】また、有機色素溶液を上記と同様の方法で
基板にスピンコートして記録再生層を設ける場合、この
塗布液が図３に示すように基板１１の外周面をこえてレ
ーザ光入射面２の外周部まで流れこんで、塗布液のまわ
り込み４２が発生し、これをそのまま放置すると光ディ
スクの記録再生機能に障害が生じてしまう。
基板にスピンコートして記録再生層を設ける場合、この
塗布液が図３に示すように基板１１の外周面をこえてレ
ーザ光入射面２の外周部まで流れこんで、塗布液のまわ
り込み４２が発生し、これをそのまま放置すると光ディ
スクの記録再生機能に障害が生じてしまう。
【０００７】このため、従来、このまわり込み４２部分
を有機溶剤で洗浄して除去したり、有機色素溶液の塗布
後にハードコートの成膜工程を行い、その際にハードコ
ート用のモノマーにより洗浄する方法がとられてきた
が、いずれも作業が面倒であるうえ、洗浄用有機溶剤の
使用により光ディスクがコストアップしたり、洗浄後の
モノマーの回収再利用が困難であるなどの問題点があっ
た。
を有機溶剤で洗浄して除去したり、有機色素溶液の塗布
後にハードコートの成膜工程を行い、その際にハードコ
ート用のモノマーにより洗浄する方法がとられてきた
が、いずれも作業が面倒であるうえ、洗浄用有機溶剤の
使用により光ディスクがコストアップしたり、洗浄後の
モノマーの回収再利用が困難であるなどの問題点があっ
た。
【０００８】本発明は上記問題点に鑑みなされたもの
で、本発明の第１の目的は、記録再生層を有機色素溶液
のスピンコートにより形成した光ディスクにおいて、記
録再生層の断面構造上の欠陥や記録再生時のエラーがな
く、外観上の欠陥もない光ディスクを提供することにあ
る。また、本発明の第２の目的は、保護膜をスピンコー
トにより形成する光ディスクにおいて、保護膜形成用の
モノマーの液だれ発生に伴う問題点を解消することが可
能な光ディスクの製造方法を提供することにある。さら
に、本発明の第３の目的は、記録再生層を有機色素溶液
のスピンコートにより形成する光ディスクにおいて、こ
の有機色素溶液のまわり込みを防止できる光ディスクの
製造方法を提供することである。
で、本発明の第１の目的は、記録再生層を有機色素溶液
のスピンコートにより形成した光ディスクにおいて、記
録再生層の断面構造上の欠陥や記録再生時のエラーがな
く、外観上の欠陥もない光ディスクを提供することにあ
る。また、本発明の第２の目的は、保護膜をスピンコー
トにより形成する光ディスクにおいて、保護膜形成用の
モノマーの液だれ発生に伴う問題点を解消することが可
能な光ディスクの製造方法を提供することにある。さら
に、本発明の第３の目的は、記録再生層を有機色素溶液
のスピンコートにより形成する光ディスクにおいて、こ
の有機色素溶液のまわり込みを防止できる光ディスクの
製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の光ディ
スクは、片面を記録再生層形成面、他面をレーザ光入射
面とした基板のレーザ光入射面に硬質合成樹脂による保
護膜を設けた光ディスクにおいて、この保護膜を基板の
外周端面、及び記録再生層形成面の非グルーブ領域にも
設けると共に、この保護膜を、記録再生層を形成する有
機色素溶液をはじく性質を有する硬質合成樹脂により形
成したことを特徴とする。
スクは、片面を記録再生層形成面、他面をレーザ光入射
面とした基板のレーザ光入射面に硬質合成樹脂による保
護膜を設けた光ディスクにおいて、この保護膜を基板の
外周端面、及び記録再生層形成面の非グルーブ領域にも
設けると共に、この保護膜を、記録再生層を形成する有
機色素溶液をはじく性質を有する硬質合成樹脂により形
成したことを特徴とする。
【００１０】請求項２に記載の光ディスクの製造方法
は、片面を記録再生層形成面、他面をレーザ光入射面と
した基板のレーザ光入射面または記録再生層形成面に硬
質合成樹脂による保護膜を設けた光ディスクの製造方法
において、前記硬質合成樹脂のモノマーを基板面にスピ
ンコートし、基板外周端面に垂れたモノマーを拭ったの
ち、基板面上のモノマーを重合硬化させて保護膜を形成
することを特徴とする。
は、片面を記録再生層形成面、他面をレーザ光入射面と
した基板のレーザ光入射面または記録再生層形成面に硬
質合成樹脂による保護膜を設けた光ディスクの製造方法
において、前記硬質合成樹脂のモノマーを基板面にスピ
ンコートし、基板外周端面に垂れたモノマーを拭ったの
ち、基板面上のモノマーを重合硬化させて保護膜を形成
することを特徴とする。
【００１１】請求項３に記載の光ディスクの製造方法
は、記録再生層形成面に有機色素の有機溶媒溶液を塗布
して記録再生層を形成するに際し、レーザ光入射面に前
記有機色素溶液をはじく性質を有する保護膜を形成した
のち、この有機色素溶液をスピンコートすることを特徴
とする。
は、記録再生層形成面に有機色素の有機溶媒溶液を塗布
して記録再生層を形成するに際し、レーザ光入射面に前
記有機色素溶液をはじく性質を有する保護膜を形成した
のち、この有機色素溶液をスピンコートすることを特徴
とする。
【００１２】請求項１に記載の光ディスク及び、請求項
３に記載の光ディスクの製造方法において、基板形成用
の樹脂と保護膜形成用の樹脂との組合わせは、特に限定
されるものではないが、有機色素溶液に対する濡れ性
が、保護膜形成用樹脂の方が基板形成用樹脂より小さい
ことが重要である。このようなものの組合わせとしては
例えばポリカーボネート樹脂基板とアクリル樹脂保護
膜、ポリカーボネート樹脂基板とシリコーン樹脂保護
膜、ポリメチルメタクリレート樹脂基板とフッ素樹脂保
護膜との組合わせが挙げられる。請求項２に記載の光デ
ィスクの製造方法においては、保護膜が有機色素溶液を
はじく性質のものであることは必須の条件ではないが、
このようなものの方が好ましい。
３に記載の光ディスクの製造方法において、基板形成用
の樹脂と保護膜形成用の樹脂との組合わせは、特に限定
されるものではないが、有機色素溶液に対する濡れ性
が、保護膜形成用樹脂の方が基板形成用樹脂より小さい
ことが重要である。このようなものの組合わせとしては
例えばポリカーボネート樹脂基板とアクリル樹脂保護
膜、ポリカーボネート樹脂基板とシリコーン樹脂保護
膜、ポリメチルメタクリレート樹脂基板とフッ素樹脂保
護膜との組合わせが挙げられる。請求項２に記載の光デ
ィスクの製造方法においては、保護膜が有機色素溶液を
はじく性質のものであることは必須の条件ではないが、
このようなものの方が好ましい。
【００１３】請求項３に記載の光ディスクの製造方法に
おいては、基板外周面のモノマー液だれを基板外周面及
び記録再生層形成面の非グルーブ領域（外周ミラー部）
に引き伸ばすように拭うことが大切であるが、請求項２
に記載の光ディスクの製造方法では、所望によりこの液
だれを完全に拭い去ってもよい。
おいては、基板外周面のモノマー液だれを基板外周面及
び記録再生層形成面の非グルーブ領域（外周ミラー部）
に引き伸ばすように拭うことが大切であるが、請求項２
に記載の光ディスクの製造方法では、所望によりこの液
だれを完全に拭い去ってもよい。
【００１４】なお、記録再生層形成用の有機色素の有機
溶媒溶液としては、従来使用されているものから適宜に
選択して使用することができる。
溶媒溶液としては、従来使用されているものから適宜に
選択して使用することができる。
【００１５】
【作用】請求項１に記載の光ディスクにおいては、有機
色素溶液が基板のレーザ光入射面側へまわり込むことな
く、適正に記録再生層形成面のグルーブ領域に塗布され
ているので、記録再生層の断面構造が良好で、記録再生
も正確に行うことができる。
色素溶液が基板のレーザ光入射面側へまわり込むことな
く、適正に記録再生層形成面のグルーブ領域に塗布され
ているので、記録再生層の断面構造が良好で、記録再生
も正確に行うことができる。
【００１６】請求項２に記載の光ディスクの製造方法に
おいては、スピンコート時に基板外周面に垂れたモノマ
ーを拭ったのち、基板面上のモノマーを重合硬化させる
ものであるから、この液だれ部分が基板外周面及び記録
再生層形成面の非グルーブ領域（外周ミラー部）に薄く
引き伸ばされて塗布され、基板面に対する保護膜の固着
力が高くなるので、後にこれが剥離することはない。
おいては、スピンコート時に基板外周面に垂れたモノマ
ーを拭ったのち、基板面上のモノマーを重合硬化させる
ものであるから、この液だれ部分が基板外周面及び記録
再生層形成面の非グルーブ領域（外周ミラー部）に薄く
引き伸ばされて塗布され、基板面に対する保護膜の固着
力が高くなるので、後にこれが剥離することはない。
【００１７】請求項３に記載の光ディスクの製造方法に
おいては、基板のレーザ光入射面に、有機色素溶液をは
じく性質を有する保護膜形成用のモノマーをスピンコー
トし、基板外周面に垂れたモノマーを拭ってからモノマ
ーを硬化させ、その後に有機色素をスピンコートするも
のであるから、上記保護膜が記録再生層形成面の非グル
ーブ領域に形成されたのちに、記録再生層が形成される
ので（拭うことによって、モノマーの一部が薄く伸ばさ
れて上記非グルーブ領域に塗布される）、上記スピンコ
ート時に有機色素溶液がレーザ光入射面側へまわり込む
ことがない。
おいては、基板のレーザ光入射面に、有機色素溶液をは
じく性質を有する保護膜形成用のモノマーをスピンコー
トし、基板外周面に垂れたモノマーを拭ってからモノマ
ーを硬化させ、その後に有機色素をスピンコートするも
のであるから、上記保護膜が記録再生層形成面の非グル
ーブ領域に形成されたのちに、記録再生層が形成される
ので（拭うことによって、モノマーの一部が薄く伸ばさ
れて上記非グルーブ領域に塗布される）、上記スピンコ
ート時に有機色素溶液がレーザ光入射面側へまわり込む
ことがない。
【００１８】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。 実施例１ 片面にスパイラル状グルーブ１ａを設けて記録再生層形
成面１とし、他面を平面状に仕上げてレーザ光入射面２
とした直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネ
ート製基板１１を用意する（図１（ａ））。この基板１
１のレーザ光入射面２にアクリル樹脂のモノマーＴＢ３
０７０（スリーボンド社製）をスピンコートにより約５
μｍの厚さでコートし、基板１１外周面の液だれ部分
（図２を参照）をローラー３１で拭って基板外周面２
１、及び記録再生層形成面１の非グルーブ領域２２に引
き伸ばしたのち（図１（ｂ））、紫外線照射によりモノ
マーを重合硬化させてハードコート（保護膜）３を設け
る。上記アクリル樹脂は、後記する有機色素の有機溶媒
溶液をはじく性質を有するものである。
する。 実施例１ 片面にスパイラル状グルーブ１ａを設けて記録再生層形
成面１とし、他面を平面状に仕上げてレーザ光入射面２
とした直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネ
ート製基板１１を用意する（図１（ａ））。この基板１
１のレーザ光入射面２にアクリル樹脂のモノマーＴＢ３
０７０（スリーボンド社製）をスピンコートにより約５
μｍの厚さでコートし、基板１１外周面の液だれ部分
（図２を参照）をローラー３１で拭って基板外周面２
１、及び記録再生層形成面１の非グルーブ領域２２に引
き伸ばしたのち（図１（ｂ））、紫外線照射によりモノ
マーを重合硬化させてハードコート（保護膜）３を設け
る。上記アクリル樹脂は、後記する有機色素の有機溶媒
溶液をはじく性質を有するものである。
【００１９】次に、シアニン色素の３％イソプロピルア
ルコール溶液を記録再生層形成面１にスピンコートして
記録再生層４を設けたのち（図１（ｃ））、この記録再
生層４の上面にＤＣマグネトロンスパッタにより膜厚１
０００Åの金（Ａｕ）の反射層５を設ける（図１
（ｄ））。さらに、この反射層５の上面に、上記ハード
コート３形成用と同じモノマーを使用し同じ要領で膜厚
約５μｍのトップコート６を設ける（図１（ｅ））。こ
の場合、基板１１外周面の液だれ部分をローラー３１で
同様に引き伸ばす。
ルコール溶液を記録再生層形成面１にスピンコートして
記録再生層４を設けたのち（図１（ｃ））、この記録再
生層４の上面にＤＣマグネトロンスパッタにより膜厚１
０００Åの金（Ａｕ）の反射層５を設ける（図１
（ｄ））。さらに、この反射層５の上面に、上記ハード
コート３形成用と同じモノマーを使用し同じ要領で膜厚
約５μｍのトップコート６を設ける（図１（ｅ））。こ
の場合、基板１１外周面の液だれ部分をローラー３１で
同様に引き伸ばす。
【００２０】なお、上記アクリル樹脂は、有機色素の塗
布に用いられる有機溶媒（イソプロピルアルコール、ブ
チルセロソルブ、シクロヘキサン、ジアセトンアルコー
ルなど）に対する濡れ性が、ポリカーボネート樹脂のこ
れら有機溶媒に対する濡れ性に比べて小さいため、有機
色素の有機溶媒溶液をはじくものである。
布に用いられる有機溶媒（イソプロピルアルコール、ブ
チルセロソルブ、シクロヘキサン、ジアセトンアルコー
ルなど）に対する濡れ性が、ポリカーボネート樹脂のこ
れら有機溶媒に対する濡れ性に比べて小さいため、有機
色素の有機溶媒溶液をはじくものである。
【００２１】このようにして作製された光ディスクの断
面構造は図１（ｅ）に示すとおりであり、ハードコート
３形成工程（図１（ｂ））では、モノマーの液だれ部分
を基板の外周端面２１及び非グルーブ領域２２に薄肉で
引き伸ばしてあるので、これらが後に剥離する心配がな
いうえ、非グルーブ領域２２のハードコートは上記有機
色素溶液のスピンコート時にこれをはじくので、これが
レーザ光入射面２側へまわり込むトラブルも生じない。
トップコート６も同様に引き伸ばしてあるから、後に剥
離することはない。したがって、この光ディスクでは記
録再生機能に優れ、ハードコート、トップコートの剥離
も生じない、外観良好な光ディスクとなるものである。
面構造は図１（ｅ）に示すとおりであり、ハードコート
３形成工程（図１（ｂ））では、モノマーの液だれ部分
を基板の外周端面２１及び非グルーブ領域２２に薄肉で
引き伸ばしてあるので、これらが後に剥離する心配がな
いうえ、非グルーブ領域２２のハードコートは上記有機
色素溶液のスピンコート時にこれをはじくので、これが
レーザ光入射面２側へまわり込むトラブルも生じない。
トップコート６も同様に引き伸ばしてあるから、後に剥
離することはない。したがって、この光ディスクでは記
録再生機能に優れ、ハードコート、トップコートの剥離
も生じない、外観良好な光ディスクとなるものである。
【００２２】
【発明の効果】以上のように、請求項１に記載の光ディ
スクでは、有機色素による記録再生層が適正に形成され
ているため、記録再生特性に優れた光ディスクとなる効
果がある。また、請求項２に記載の光ディスクの製造方
法によれば、保護膜形成用モノマーをスピンコートした
際に生じる液だれを、基板面に薄く引き伸ばして重合硬
化させるから、保護膜が後に基板から剥離することがな
くなる効果がある。さらに、請求項３に記載の光ディス
クの製造方法によれば、スピンコートされた有機色素溶
液が、記録再生層形成面の非グルーブ領域の保護膜によ
りはじかれるので、有機色素溶液がレーザ光入射面側に
まわり込むことはなくなって、記録再生層が適正に形成
され、記録再生特性に優れた光ディスクを低コストで製
造できる効果がある。
スクでは、有機色素による記録再生層が適正に形成され
ているため、記録再生特性に優れた光ディスクとなる効
果がある。また、請求項２に記載の光ディスクの製造方
法によれば、保護膜形成用モノマーをスピンコートした
際に生じる液だれを、基板面に薄く引き伸ばして重合硬
化させるから、保護膜が後に基板から剥離することがな
くなる効果がある。さらに、請求項３に記載の光ディス
クの製造方法によれば、スピンコートされた有機色素溶
液が、記録再生層形成面の非グルーブ領域の保護膜によ
りはじかれるので、有機色素溶液がレーザ光入射面側に
まわり込むことはなくなって、記録再生層が適正に形成
され、記録再生特性に優れた光ディスクを低コストで製
造できる効果がある。
【図１】本発明に係る光ディスク製造方法の実施例を示
す工程説明図であり、（ａ）は記録再生層形成用のグル
ーブを形成した基板の断面図、（ｂ）はハードコート形
成工程、（ｃ）は記録再生層形成工程、（ｄ）は反射層
形成工程、（ｅ）はトップコート形成工程及び光ディス
ク完成品の断面構造を、それぞれ示す。
す工程説明図であり、（ａ）は記録再生層形成用のグル
ーブを形成した基板の断面図、（ｂ）はハードコート形
成工程、（ｃ）は記録再生層形成工程、（ｄ）は反射層
形成工程、（ｅ）はトップコート形成工程及び光ディス
ク完成品の断面構造を、それぞれ示す。
【図２】従来の光ディスク製造方法の問題点を示す説明
図である。
図である。
【図３】従来の光ディスク製造方法の別の問題点を示す
説明図である。
説明図である。
１ 記録再生層形成面 １ａ グルーブ ２ レーザ光入射面 ３ ハードコート ４ 記録再生層 ５ 反射層 ６ トップコート １１ 基板 ２１ 外周端面 ２２ 非グルーブ領域 ３１ ローラー ４１ 液だれ ４２ まわり込み
Claims (3)
- 【請求項１】 片面を記録再生層形成面、他面をレーザ
光入射面とした基板のレーザ光入射面に硬質合成樹脂に
よる保護膜を設けた光ディスクにおいて、この保護膜を
基板の外周端面、及び記録再生層形成面の非グルーブ領
域にも設けると共に、この保護膜を、記録再生層を形成
する有機色素溶液をはじく性質を有する硬質合成樹脂に
より形成したことを特徴とする光ディスク。 - 【請求項２】 片面を記録再生層形成面、他面をレーザ
光入射面とした基板のレーザ光入射面または記録再生層
形成面に硬質合成樹脂による保護膜を設けた光ディスク
の製造方法において、前記硬質合成樹脂のモノマーを基
板面にスピンコートし、基板外周端面に垂れたモノマー
を拭ったのち、基板面上のモノマーを重合硬化させて保
護膜を形成することを特徴とする光ディスクの製造方
法。 - 【請求項３】 前記記録再生層形成面に有機色素の有機
溶媒溶液を塗布して記録再生層を形成するに際し、レー
ザ光入射面に前記有機色素溶液をはじく性質を有する保
護膜を形成したのち、この有機色素溶液をスピンコート
することを特徴とする請求項２に記載の光ディスクの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4093833A JPH05266513A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | 光ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4093833A JPH05266513A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | 光ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05266513A true JPH05266513A (ja) | 1993-10-15 |
Family
ID=14093395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4093833A Pending JPH05266513A (ja) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | 光ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05266513A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11203724A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Sony Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
-
1992
- 1992-03-19 JP JP4093833A patent/JPH05266513A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11203724A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Sony Corp | 光ディスク及びその製造方法 |
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