JPH0526816A - パターン検査装置 - Google Patents
パターン検査装置Info
- Publication number
- JPH0526816A JPH0526816A JP3168617A JP16861791A JPH0526816A JP H0526816 A JPH0526816 A JP H0526816A JP 3168617 A JP3168617 A JP 3168617A JP 16861791 A JP16861791 A JP 16861791A JP H0526816 A JPH0526816 A JP H0526816A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- mask
- pattern
- circuit
- line
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- Pending
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 パターン検査のとき、パターン上の“Ｖ”字
状に鋭角に折れ曲っている部分による疑似不良を除外
し、真のパターン間隔不良のみを判定する。 【構成】 被検査パターンに対して円マスクと円周マス
クとを走査し、間隔不良の候補として検査位置を決定す
るとき、円周マスクの“１”パターンとなる点において
円周マスクと接する線マスクをその点の両側に発生し、
それらの内部の点がすべて被検査パターンに含まれるか
否かを調べ、一つの線マスクが被検査パターンに含まれ
ないとき、“Ｖ”字状被検査パターンによる疑似不良と
して間隔不良の候補から除外する。
状に鋭角に折れ曲っている部分による疑似不良を除外
し、真のパターン間隔不良のみを判定する。 【構成】 被検査パターンに対して円マスクと円周マス
クとを走査し、間隔不良の候補として検査位置を決定す
るとき、円周マスクの“１”パターンとなる点において
円周マスクと接する線マスクをその点の両側に発生し、
それらの内部の点がすべて被検査パターンに含まれるか
否かを調べ、一つの線マスクが被検査パターンに含まれ
ないとき、“Ｖ”字状被検査パターンによる疑似不良と
して間隔不良の候補から除外する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は印刷配線回路のパターン
検査装置に関し、特に２値画像パターンの各パターンの
間隔不良の検出に使用する検査マスク方式によるパター
ン検査装置に関する。
検査装置に関し、特に２値画像パターンの各パターンの
間隔不良の検出に使用する検査マスク方式によるパター
ン検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は従来のパターン検査手段を説明す
るための模式図、図４は従来のパターン検査手段におけ
る欠点を示す模式図である。
るための模式図、図４は従来のパターン検査手段におけ
る欠点を示す模式図である。
【０００３】従来の印刷配線回路のパターン検査手段
は、図３に示すように、非検査パターン１０ｂに対して
円マスク１２ｃを走査させてその円周上の対向する２点
と、それに直角な方向の円周上の対向する２点とが、非
検査パターン１０ｂ上にあるか否かを判定し、非検査パ
ターン１０ｂ上にあるときはその点を“１”パターンで
あるとし、非検査パターン１０ｂ上にないときはその点
を“０”パターンであるとし、“１”パターンと“０”
パターンとの発生状態を判断して非検査パターン１０ｂ
の良否を判断している。
は、図３に示すように、非検査パターン１０ｂに対して
円マスク１２ｃを走査させてその円周上の対向する２点
と、それに直角な方向の円周上の対向する２点とが、非
検査パターン１０ｂ上にあるか否かを判定し、非検査パ
ターン１０ｂ上にあるときはその点を“１”パターンで
あるとし、非検査パターン１０ｂ上にないときはその点
を“０”パターンであるとし、“１”パターンと“０”
パターンとの発生状態を判断して非検査パターン１０ｂ
の良否を判断している。
【０００４】すなわち、円マスク１２ｃが検査位置１１
ｃにおいては、２本の非検査パターン１０ｂの間隔が正
常であるので、２本の非検査パターン１０ｂと平行な２
個の“０”パターンの点１３ｃと直角な点１３ａおよび
１３ｂのうち、点１３ａは“１”パターンであるが、点
１３ｂは“０”パターンである。しかし、検査位置１１
ｂにおいては、点１３ａおよび１３ｂは、共に“１”パ
ターンとなるため、パターン間隔が不良であることを検
出できる。
ｃにおいては、２本の非検査パターン１０ｂの間隔が正
常であるので、２本の非検査パターン１０ｂと平行な２
個の“０”パターンの点１３ｃと直角な点１３ａおよび
１３ｂのうち、点１３ａは“１”パターンであるが、点
１３ｂは“０”パターンである。しかし、検査位置１１
ｂにおいては、点１３ａおよび１３ｂは、共に“１”パ
ターンとなるため、パターン間隔が不良であることを検
出できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
パターン検査手段は、図４に示すように、非検査パター
ン１０ａのように“Ｖ”字状に鋭角に折れ曲っている場
合は、円マスク１２ｃが検査位置１１ａにおいては、点
１３ａおよび１３ｂが共に“１”パターンとなり、パタ
ーン間隔不良と誤認するという欠点がある。
パターン検査手段は、図４に示すように、非検査パター
ン１０ａのように“Ｖ”字状に鋭角に折れ曲っている場
合は、円マスク１２ｃが検査位置１１ａにおいては、点
１３ａおよび１３ｂが共に“１”パターンとなり、パタ
ーン間隔不良と誤認するという欠点がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のパターン検査装
置は、被検査パターンを走査して読出す光電変換回路
と、前記光電変換回路からの信号をデジタル信号に変換
するＡ／Ｄ変換回路と、前記デジタル信号を２値画像信
号に変換する２値化回路と、前記２値画像信号を入力し
て検査基準で定められた直径の円マスクを発生し前記円
マスクの内部がすべて“０”のときに円の中心を検査位
置と決定する円マスク発生回路と、前記２値画像信号を
入力して前記円マスクの直径よりも１ビット大きな直径
の円周マスクを発生し前記被検査パターンと平行な前記
円周マスク上の対向する２点が“０”でかつ前記２点と
直角の位置にある対向する２点が“１”となる点を抽出
する円周マスク発生回路と、前記円マスク発生回路の出
力信号と前記円周マスク発生回路の出力信号とを入力し
てそれらの共通点を求めその点を間隔不良の候補として
近接点信号を出力する近接点抽出回路と、前記２値画像
信号と前記円周マスク発生回路の出力信号とを入力して
前記円周マスク発生回路が発生した円周マスク上の
“１”となった２点を中心として円周マスクの接線方向
の両側に前記円周マスクの線の幅の２倍程度の線幅の線
マスクを発生し前記線マスクのうちの３本が“１”とな
り１本が“０”となったときに線パターン抽出信号を出
力する線マスク発生回路と、前記近接点信号と前記線パ
ターン抽出信号とを入力して前記近接点信号の間隔不良
候補から前記線パターン抽出信号の疑似不良を除去して
欠陥信号を出力する欠陥判定回路とを備えている。
置は、被検査パターンを走査して読出す光電変換回路
と、前記光電変換回路からの信号をデジタル信号に変換
するＡ／Ｄ変換回路と、前記デジタル信号を２値画像信
号に変換する２値化回路と、前記２値画像信号を入力し
て検査基準で定められた直径の円マスクを発生し前記円
マスクの内部がすべて“０”のときに円の中心を検査位
置と決定する円マスク発生回路と、前記２値画像信号を
入力して前記円マスクの直径よりも１ビット大きな直径
の円周マスクを発生し前記被検査パターンと平行な前記
円周マスク上の対向する２点が“０”でかつ前記２点と
直角の位置にある対向する２点が“１”となる点を抽出
する円周マスク発生回路と、前記円マスク発生回路の出
力信号と前記円周マスク発生回路の出力信号とを入力し
てそれらの共通点を求めその点を間隔不良の候補として
近接点信号を出力する近接点抽出回路と、前記２値画像
信号と前記円周マスク発生回路の出力信号とを入力して
前記円周マスク発生回路が発生した円周マスク上の
“１”となった２点を中心として円周マスクの接線方向
の両側に前記円周マスクの線の幅の２倍程度の線幅の線
マスクを発生し前記線マスクのうちの３本が“１”とな
り１本が“０”となったときに線パターン抽出信号を出
力する線マスク発生回路と、前記近接点信号と前記線パ
ターン抽出信号とを入力して前記近接点信号の間隔不良
候補から前記線パターン抽出信号の疑似不良を除去して
欠陥信号を出力する欠陥判定回路とを備えている。
【０００７】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【０００８】図１は本発明の一実施例を示すブロック図
である。
である。
【０００９】図１において、光電変換回路１は、被検査
パターンを走査して読出し、映像信号３１を出力する。
この映像信号３１は、Ａ／Ｄ変換回路２に入力してそこ
でデジタル信号３２に変換される。デジタル信号３２
は、２値化回路３に入力し、そこで“０”または“１”
の２値画像信号３３に変換される。２値画像信号３３
は、円マスク発生回路５に入力する。円マスク発生回路
５は、被検査パターンの線間隔に対応して検査基準で定
められている直径の円マスクを発生し、その円マスクの
内部がすべて“０”のときに円の中心の位置を検出し、
その中心点を円形抽出点信号３５として出力する。２値
画像信号３３はまた、円周マスク発生回路４にも入力す
る。円周マスク発生回路４は、円マスク発生回路５で発
生する円マスクよりも１ビット大きな直径の円周マスク
を発生し、被検査パターンと平行な円周マスク上の２点
が“０”で、それらの点と直角の位置にある対向する円
周マスク上の２点が“１”となる位置の円周マスクの中
心の位置を検出し、その中心点を円周抽出点信号３４と
して出力する。近接点抽出回路６は、円形抽出点信号３
５と円周抽出点信号３４とを入力してそれらの共通点を
求め、その点を間隔不良の候補として近接点信号３６を
出力する。
パターンを走査して読出し、映像信号３１を出力する。
この映像信号３１は、Ａ／Ｄ変換回路２に入力してそこ
でデジタル信号３２に変換される。デジタル信号３２
は、２値化回路３に入力し、そこで“０”または“１”
の２値画像信号３３に変換される。２値画像信号３３
は、円マスク発生回路５に入力する。円マスク発生回路
５は、被検査パターンの線間隔に対応して検査基準で定
められている直径の円マスクを発生し、その円マスクの
内部がすべて“０”のときに円の中心の位置を検出し、
その中心点を円形抽出点信号３５として出力する。２値
画像信号３３はまた、円周マスク発生回路４にも入力す
る。円周マスク発生回路４は、円マスク発生回路５で発
生する円マスクよりも１ビット大きな直径の円周マスク
を発生し、被検査パターンと平行な円周マスク上の２点
が“０”で、それらの点と直角の位置にある対向する円
周マスク上の２点が“１”となる位置の円周マスクの中
心の位置を検出し、その中心点を円周抽出点信号３４と
して出力する。近接点抽出回路６は、円形抽出点信号３
５と円周抽出点信号３４とを入力してそれらの共通点を
求め、その点を間隔不良の候補として近接点信号３６を
出力する。
【００１０】線マスク発生回路７は、２値画像信号３３
と円周抽出点信号３４とを入力し、円周マスク発生回路
４が発生した円周マスク上の“１”となった２点を中心
として円周マスクの接線方向に、円周マスクの線の幅の
２倍程度の線幅の線マスクを発生する。このとき、円周
マスク上の“１”となった点の両側のすべての点が
“１”であるか否かを調べ、線マスクのうちの３本が
“１”となり１本が“０”となったときに、被検査パタ
ーンが“Ｖ”字状に鋭角に折れ曲っているとして、線パ
ターン抽出信号３７を出力する。
と円周抽出点信号３４とを入力し、円周マスク発生回路
４が発生した円周マスク上の“１”となった２点を中心
として円周マスクの接線方向に、円周マスクの線の幅の
２倍程度の線幅の線マスクを発生する。このとき、円周
マスク上の“１”となった点の両側のすべての点が
“１”であるか否かを調べ、線マスクのうちの３本が
“１”となり１本が“０”となったときに、被検査パタ
ーンが“Ｖ”字状に鋭角に折れ曲っているとして、線パ
ターン抽出信号３７を出力する。
【００１１】欠陥判定回路８は、近接点抽出回路６から
の近接点信号３６と、線マスク発生回路７からの線パタ
ーン抽出信号３７とを入力し、間隔不良の候補から
“Ｖ”字状被検査パターンによる疑似不良を除去し、真
の不良のみの欠陥信号３８を出力する。
の近接点信号３６と、線マスク発生回路７からの線パタ
ーン抽出信号３７とを入力し、間隔不良の候補から
“Ｖ”字状被検査パターンによる疑似不良を除去し、真
の不良のみの欠陥信号３８を出力する。
【００１２】図２は図１の実施例の動作を説明するため
の模式図である。
の模式図である。
【００１３】図２に示すように、“Ｖ”字状の被検査パ
ターン２０に対して円マスク２４と円周マスク２２とを
走査し、間隔不良の候補として検査位置２１を決定す
る。このとき、円周マスク２２の“１”パターンとなる
点２５ａおよび２５ｂにおいて円周マスク２２と接する
線マスク２３ａおよび２３ｂならびに２３ｃおよび２３
ｄを発生し、それらの内部の点がすべて被検査パターン
２０に含まれるか否かを調べる。図２に示すような
“Ｖ”字状の被検査パターンの場合は、線マスク２３ａ
ならびに２３ｃおよび２３ｄは被検査パターン２０に含
まれるが線マスク２３ｂは被検査パターン２０に含まれ
ずその外側となる。このようなときは、“Ｖ”字状被検
査パターンによる疑似不良として、検査位置２１を間隔
不良の候補から除外する。
ターン２０に対して円マスク２４と円周マスク２２とを
走査し、間隔不良の候補として検査位置２１を決定す
る。このとき、円周マスク２２の“１”パターンとなる
点２５ａおよび２５ｂにおいて円周マスク２２と接する
線マスク２３ａおよび２３ｂならびに２３ｃおよび２３
ｄを発生し、それらの内部の点がすべて被検査パターン
２０に含まれるか否かを調べる。図２に示すような
“Ｖ”字状の被検査パターンの場合は、線マスク２３ａ
ならびに２３ｃおよび２３ｄは被検査パターン２０に含
まれるが線マスク２３ｂは被検査パターン２０に含まれ
ずその外側となる。このようなときは、“Ｖ”字状被検
査パターンによる疑似不良として、検査位置２１を間隔
不良の候補から除外する。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のパターン
検査装置は、被検査パターンの“Ｖ”字状に鋭角に折れ
曲っている部分を検出するために線マスクを出力し、こ
れによって真の間隔不良と“Ｖ”字状の折れ曲り部によ
る疑似的な間隔不良とを区別できるようにすることによ
り、“Ｖ”字状に鋭角に折れ曲っている部分をパターン
間隔不良と誤認するのを防止できるという効果があり、
従って信頼性の高い印刷配線回路のパターンの検査がで
きる効果がある。
検査装置は、被検査パターンの“Ｖ”字状に鋭角に折れ
曲っている部分を検出するために線マスクを出力し、こ
れによって真の間隔不良と“Ｖ”字状の折れ曲り部によ
る疑似的な間隔不良とを区別できるようにすることによ
り、“Ｖ”字状に鋭角に折れ曲っている部分をパターン
間隔不良と誤認するのを防止できるという効果があり、
従って信頼性の高い印刷配線回路のパターンの検査がで
きる効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示すブロック図である。
【図２】図１の実施例の動作を説明するための模式図で
ある。
ある。
【図３】従来のパターン検査手段を説明するための模式
図である。
図である。
【図４】従来のパターン検査手段における欠点を示す模
式図である。
式図である。
１ 光電変換回路 ２ Ａ／Ｄ変換回路 ３ ２値化回路 ４ 円周マスク発生回路 ５ 円マスク発生回路 ６ 近接点抽出回路 ７ 線マスク発生回路 ８ 欠陥判定回路 １０ａ〜１０ｂ 被検査パターン １１ａ〜１１ｃ 検査位置 １２ｃ 円マスク ２０ 被検査パターン ２１ 検査位置 ２２ 円周マスク ２３ａ〜２３ｄ 線マスク ２４ 円マスク ３１ 映像信号 ３２ デジタル信号 ３３ ２値画像信号 ３４ 円周抽出点信号 ３５ 円形抽出点信号 ３６ 近接点信号 ３７ 線パターン抽出信号 ３８ 欠陥信号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 被検査パターンを走査して読出す光電変
換回路と、前記光電変換回路からの信号をデジタル信号
に変換するＡ／Ｄ変換回路と、前記デジタル信号を２値
画像信号に変換する２値化回路と、前記２値画像信号を
入力して検査基準で定められた直径の円マスクを発生し
前記円マスクの内部がすべて“０”のときに円の中心を
検査位置と決定する円マスク発生回路と、前記２値画像
信号を入力して前記円マスクの直径よりも１ビット大き
な直径の円周マスクを発生し前記被検査パターンと平行
な前記円周マスク上の対向する２点が“０”でかつ前記
２点と直角の位置にある対向する２点が“１”となる点
を抽出する円周マスク発生回路と、前記円マスク発生回
路の出力信号と前記円周マスク発生回路の出力信号とを
入力してそれらの共通点を求めその点を間隔不良の候補
として近接点信号を出力する近接点抽出回路と、前記２
値画像信号と前記円周マスク発生回路の出力信号とを入
力して前記円周マスク発生回路が発生した円周マスク上
の“１”となった２点を中心として円周マスクの接線方
向の両側に前記円周マスクの線の幅の２倍程度の線幅の
線マスクを発生し前記線マスクのうちの３本が “１”
となり１本が“０”となったときに線パターン抽出信号
を出力する線マスク発生回路と、前記近接点信号と前記
線パターン抽出信号とを入力して前記近接点信号の間隔
不良候補から前記線パターン抽出信号の疑似不良を除去
して欠陥信号を出力する欠陥判定回路とを備えることを
特徴とするパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3168617A JPH0526816A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3168617A JPH0526816A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | パターン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0526816A true JPH0526816A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=15871382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3168617A Pending JPH0526816A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | パターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0526816A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9240833B2 (en) | 2008-10-27 | 2016-01-19 | Lg Electronics Inc. | Method of operating relay station in wireless communication system |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP3168617A patent/JPH0526816A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9240833B2 (en) | 2008-10-27 | 2016-01-19 | Lg Electronics Inc. | Method of operating relay station in wireless communication system |
| US9680557B2 (en) | 2008-10-27 | 2017-06-13 | Lg Electronics Inc. | Method of operating relay station in wireless communication system |
| US10206222B2 (en) | 2008-10-27 | 2019-02-12 | Lg Electronics Inc. | Method of operating relay station in wireless communication system |
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