JPH05271249A - ハイドロシリレーション法 - Google Patents
ハイドロシリレーション法Info
- Publication number
- JPH05271249A JPH05271249A JP4326796A JP32679692A JPH05271249A JP H05271249 A JPH05271249 A JP H05271249A JP 4326796 A JP4326796 A JP 4326796A JP 32679692 A JP32679692 A JP 32679692A JP H05271249 A JPH05271249 A JP H05271249A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- atom
- reaction
- carbon atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 title abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 51
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 36
- 150000003058 platinum compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 12
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 229910003480 inorganic solid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000006557 surface reaction Methods 0.000 claims abstract 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 21
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 8
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 abstract description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 abstract description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 abstract description 2
- 239000013522 chelant Substances 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 25
- -1 polysiloxanes Chemical group 0.000 description 21
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004756 silanes Chemical group 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 229940045985 antineoplastic platinum compound Drugs 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 4
- XQOLMPJRVURWFY-UHFFFAOYSA-N dichloro-hex-5-enyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCC=C XQOLMPJRVURWFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- GUSQYBRZWHTZGT-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylsilane Chemical compound CCCCC=C[SiH3] GUSQYBRZWHTZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- XMRSTLBCBDIKFI-UHFFFAOYSA-N tetradeca-1,13-diene Chemical compound C=CCCCCCCCCCCC=C XMRSTLBCBDIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N (dimethyl-$l^{3}-silanyl)oxy-dimethylsilicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)C KWEKXPWNFQBJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- XRNUBUXSHRXLQV-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-tetradec-13-enylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCCCCCCC=C XRNUBUXSHRXLQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- BARXLYNPSKAQQC-UHFFFAOYSA-N hex-5-enyl-[hex-5-enyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=CCCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCCC=C BARXLYNPSKAQQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical compound C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N butenyne Chemical group C=CC#C WFYPICNXBKQZGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N deca-1,9-diene Chemical compound C=CCCCCCCC=C NLDGJRWPPOSWLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PXQDLAPWGSRDCV-UHFFFAOYSA-N dichloro-[14-[dichloro(methyl)silyl]tetradecyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCCCCCCCCCCC[Si](C)(Cl)Cl PXQDLAPWGSRDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDFFILGCGJJGOS-UHFFFAOYSA-N dichloro-[6-[dichloro(methyl)silyl]hexyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCCCC[Si](C)(Cl)Cl NDFFILGCGJJGOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHSOOADWBVJAOF-UHFFFAOYSA-N dichloro-hex-1-enyl-methylsilane Chemical compound CCCCC=C[Si](C)(Cl)Cl CHSOOADWBVJAOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSXKBBEJCDMBT-UHFFFAOYSA-M lead(2+);octanoate Chemical compound [Pb+2].CCCCCCCC([O-])=O DSSXKBBEJCDMBT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N penta-1,4-diene Chemical compound C=CCC=C QYZLKGVUSQXAMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001843 polymethylhydrosiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0801—General processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
- C07F7/0872—Preparation and treatment thereof
- C07F7/0876—Reactions involving the formation of bonds to a Si atom of a Si-O-Si sequence other than a bond of the Si-O-Si linkage
- C07F7/0878—Si-C bond
- C07F7/0879—Hydrosilylation reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
くとも5個の炭素数をもちかつ不飽和結合が末端炭素原
子に位置するジエンとの反応により珪素と結合したオレ
フィン性不飽和結合を有する基をもつオルガノシリコー
ン化合物の調製方法。該方法は、(i)表面反応性基をも
つ無機質固体、(ii)無機質固体と反応する基及び窒素
及び/または硫黄を含有する基をもつオルガノシリコー
ン化合物、及び(iii)白金化合物または錯化合物Pt
Lb(Lは配位子である)を反応させることにより調製さ
れた触媒の存在下で行われる。 【効果】 生成物は、二重結合の内部位置への移行から
生ずる異性体含量が低減する。
Description
素化合物とジエン類との反応を含むオルガノシリコーン
物質の製造方法に関する。
合物類例えばシラン類及びポリシロキサン類と、オレフ
ィン性またはアセチレン性不飽和結合を有する化合物類
との反応は周知である。この操作はしばしばハイドロシ
リレーションまたはハイドロシレーションと呼ばれ、オ
ルガノシリコーン物質の合成方法として広く使用されて
いる。ハイドロシリレーション反応を促進するために有
効である多数の触媒が知られているが、最も普通には白
金、ロジウム及びパラジウムのような遷移金属の化合物
類または錯化合物類である。該触媒類の例は白金ハロゲ
ン化物及びロジウムハロゲン化物例えばH2PtCl6、PtC
l2、RhCl3、RhCl3(SEt2)3(Etはエチル基を表す)、Rh2
(CO)4Cl2、塩化白金と、不飽和基を有するシロキサン類
との錯化合物、及び白金化合物類とオレフィン類との錯
化合物である。
ドロシリレーション法により合成できる。オルガノ官能
シラン類及びシロキサン類はシランまたはシロキサン中
の≡SiHのオレフィン性不飽和化合物例えばアリルク
ロライドまたはアリルグリシジルエーテルへの付加によ
り得ることができる。同様の方法において、≡SiHを
オレフィン例えばヘキセン−1またはデセン−1と反応
させてそれぞれ珪素と結合したヘキシル基またはデシル
基を有するシランまたはシロキサンを造ることができ
る。また、ハイドロシリレーション反応は、≡SiHと
ジエン類とを反応させてオレフィン性不飽和結合を含む
珪素と結合した基を有するオルガノシリコーン化合物を
得るのに使用することができる。該不飽和オルガノシリ
コーン化合物類はこれを他のオルガノシリコーン化合物
と反応させてエラストマー類、及びプラスチック、紙及
び他の支持体上の皮膜のような有用な生成物を得ること
ができる。しかし、ハイドロシリレーション反応中に、
ジエンの若干の異性化が生じて所望の珪素と結合した基
において二重結合の末端位置から内部への移行が生ずる
ことを本発明者らは見出した。上述のような内部不飽和
結合を有する生成物はエラストマー類及び他の生成物を
製造するための更なるハイドロシリレーションについて
低反応性を示し、従って、反応生成物に対する所望でな
い成分である。
重結合の移行量が、固体支持体に化学的に結合した特定
の白金化合物類及び錯化合物類からなる触媒の使用によ
り顕著に減少できることを本発明者らは今般驚くべきこ
とに見出した。粒子状固体支持体へ化学的に結合した特
定の白金化合物類がペンテン−1、ヘキセン−2、アセ
チレン及びブタジエンを含む不飽和オレフィン質化合物
類のハイドロシリレーション用触媒として使用できるこ
とは英国特許第1,526,324号明細書に開示されている。
しかし、英国特許第1,526,324号明細書には、該触媒の
使用が生成物中の内部二重結合移動の望ましい減少を生
ずることができることは開示または示唆するものではな
い。英国特許2,145,701Aは、Pt−S結合を介して化学
的に結合した白金原子を有するヒドロキシル化された珪
素酸化物またはアルミニウム酸化物よりなるハイドロシ
リレーション触媒を開示している。ハイドロシリレーシ
ョン反応を実施する際に使用できる種々の不飽和化合物
類として、エチレン、プロピレン、スチレン、ビニル−
アセチレン、ブタジエン及びペンタジエンが記載されて
いる。しかし、不飽和結合が末端炭素原子だけに位置す
るジエンの使用について並びに本発明に従ってジエン類
を使用することに付随する利点についての特別の開示は
ない。
分子中に少なくとも1個の珪素と結合した水素原子を有
するシリコーン化合物と、(B)少なくとも5個の炭素原
子を有しかつ不飽和結合が末端炭素原子に位置するジエ
ンとを、(C)(i)表面反応性基を有する無機質固体と、
(ii)一般式
は基を表し、Rはそれぞれ塩素原子、臭素原子、炭素原
子数1〜6個の1価の炭化水素基、炭素原子数1〜6個
のアルコキシ基、または炭素原子数14個以下のオキシ
ム基を表し、R’はそれぞれ炭素原子数1〜8個の1価
の炭化水素基を表し、Xは11個までの炭素原子を有し
かつ炭素、水素及び適宜酸素よりなり、珪素−炭素結合
を介して珪素へ結合する1価の基であって、X中には少
なくとも1個の硫黄原子または窒素原子が存在し、aは
0または1〜20の整数である]のオルガノシリコーン
化合物、及び(iii)白金化合物または錯化合物PtL
b(式中、Lはそれぞれアミノ基またはメルカプト基によ
り置換可能である少なくとも1個の配位子を表し、bは
Ptの遊離価を満足するのうな数である)の反応により
調製された触媒の存在下で反応させることからなるオレ
フィン性不飽和結合を含む珪素と結合した炭化水素基を
有するオルガノシリコーン化合物の調製方法を提供する
ことにある。
1個の≡SiH基を有するモノマー化合物、オリゴマー
化合物またはポリマー化合物のいずれもが本発明方法に
おいて使用できる。該化合物類及びハイドロシリレーシ
ョン反応におけるそれらの使用は業界で良く記載されて
おり、シラン類、線状ポリシロキサン類、枝分かれポリ
シロキサン類及び環状シロキサン類を包含する。水素原
子のほかに存在する珪素と結合する置換基の性質は臨界
的なものではないが、通常該置換基は炭素原子数1〜1
0個をもちかつ脂肪性不飽和結合が不在である1価の炭
化水素基、ハロゲン例えば塩素原子、及び約8個以下の
炭素原子をもつアルコキシ基から選択される。該化合物
類の例は、C6H5SiHCl2、HSi(OCH3)3、HSiCl3、CH3HSi(O
C2H5)2、(CH3)2HSiCl、メチルハイドロジェンポリシロ
キサン類、メチルハイドロジェンシロキサン単位と1種
または2種以上の他のシロキサン単位例えばジメチルシ
ロキサン、トリメチルシロキサン及びジメチルハイドロ
ジェンシロキサン単位とのコポリマーである。しかし、
本発明方法は、内部二重結合移動の最大の減少を示すと
思われるクロロシラン類例えばCH3HSiCl2及びHSiCl3の
反応に関連していることが特に重要である。
子をもちかつ不飽和結合(二重結合)が末端炭素原子に位
置する任意のジエン例えば1,4−ペンタジエン、1,5
−ヘキサジエン、1,9−デカジエン及び1,13−テト
ラデカジエンであることができる。好適なジエン類は炭
素原子数6〜14個のものである。
コーン化合物(ii)及び白金化合物または錯化合物(i
ii)とを反応させと、基
る生成物を提供することにより調製できる。ここに、白
金は、同一結合基中に、あるいは異なる結合基中にあっ
てもよいX中1個または2個以上の窒素または硫黄原子
と配位結合している。反応は任意の順番に反応剤類を混
合することにより例えば必要ならばそれぞれ加温及び触
媒を使用して上記(i)、(ii)及び(iii)を混合する
ことにより行うことができる。別法として、まず、白金
化合物または錯化合物(iii)をオルガノシリコーン化
合物(ii)と反応させ、次に、生成物を無機質固体(i)
と反応させることができる。触媒(C)を調製するための
より好都合でかつ好適な操作は、英国特許第1,526,324
号明細書に記載されている操作であり、この操作におい
ては第1工程としてオルガノシリコーン化合物(ii)を
無機質固体(i)と反応させ、次に第2工程として生成物
を白金化合物または錯化合物(iii)と反応させるもの
である。
ルガノシリコーン化合物(ii)と無機質固体(支持体)
(i)の反応は、不活性溶媒例えばトルエン、キシレン、
ペンタンまたはヘプタンの存在下で好都合に行われる。
オルガノシリコーン化合物が水溶性である場合、水性媒
体中で反応を行うことが好ましい。若干の場合におい
て、反応は通常の環境温度で生ずるが、加温通常約80
℃ないし150℃の使用により反応を促進することが好
ましい。所望であれば、触媒を使用して反応を促進する
ことができ、適当な触媒の例はナトリウムエトキシド、
オクタン酸鉛、ジブチルスズジアセテート及び他のシラ
ノール縮合触媒類である。
持体と結合したオルガノシリコーン化合物と白金化合物
または錯化合物(iii)との反応は、通常環境温度すな
わち約15〜25℃で行うことができる。しかし、所望
であけばより高い温度を使用することもできる。該反応
は好適には溶媒、最適には極性溶媒例えばメタノール、
エタノール、ジオキサン及び/または水の存在下で行わ
れる。白金化合物または錯化合物は、白金1原子当たり
5〜200原子、より好適には30〜150原子の窒素
または硫黄を触媒中に与える割合で反応させることが好
ましい。
において、置換基Zは無機質固体上のヒドロキシル基と
反応する任意の原子または基であることができ、例えば
塩素、臭素、アルコキシ基例えばメトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基、
ヒドロキシル基、オキシム例えば-ON=C(C2H5)2及び-ON=
C(C6H5)2であることができる。R置換基はそれぞれZに
ついて例示したものと同一タイプのものでもよいが、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルカリル基及
びハロゲン化アルキル基から選択することもできる。好
適には、Zは炭素原子数1〜4個のアルコキシ基例えば
メトキシ基またはエトキシ基を表し、Rはメチル基、フ
ェニル基または炭素原子数1〜4個のアルコキシ基を表
す。
れ例えばメチル基、プロピル基、ヘキシル基またはフェ
ニル基であることができる。X基は珪素−炭素結合を介
して珪素へ結合している1価の基であり、該基中には少
なくとも1個の硫黄または窒素原子が存在する。Xは窒
素及び/または硫黄に加えて炭素及び水素よりなること
が好ましいが、エーテル結合の形態で酸素を含有するこ
ともできる。X基の例は-(CH2)3SH、-(CH2)4SH、-CH2CH
(CH3)CH2S(C6H4)、(CH2)3NH2、-(CH2)4NHCH3、-CH2CH(C
H3)CH2N(C3H7)2、-(CH2)3NHCH2CH2NH2及び-(CH2)4NH(CH
2)4NH2である。好適には、Xは窒素含有基例えば-(CH2)
3NH2、-(CH2)3NHCH2CH2NH2または-CH2CH(CH3)CH2NHCH2C
H2NH2である。1個または2個以上の配位子Lは例えば
アルキル基例えばメチル基、ブチル基またはヘキシル
基、フェニル基、−CO、ハロゲン化物例えば塩素、
H、アセチルアセトネート、アミノ基またはオレフィン
例えばCH2=CH2である。有効な白金化合物または錯化合
物(iii)の例は、PtCl2、H2PtCl6、Na2PtCl4・4H2O、K
[Pt(CH2=CH2)Cl3]H2O、Pt2(CH2=CH2)2Cl4、Cl2Pt(Et2S)
2(Etはエチル基である)、[PtCl2P(C6H5)3]2、PtCl
2[P(C6H5)3]2及びPtBr2(NH3)2である。
結合する固体は好ましくは粒状で無機質ものであり、オ
ルガノシリコーン化合物(ii)中の基の化学的結合を許
容できるものでなければならない。通常該固体類は、有
機−珪素結合基が結合する前にはオルガノシリコーン化
合物類と反応して表面と結合した所要の硫黄及び/また
は窒素含有基を提供することができる表面基通常ヒドロ
キシル基を有するものである。粒状固体類として特に好
適なものはシリカ類例えば石英、沈降シリカ及びシリカ
ゲルである。しかし、他の固体類例えばゼオライトモレ
キュラーシーブ、カオリン、アルミナ及びチタニアを使
用することもできる。固体が粒状形態である場合、5〜
100メッシュ英国標準テスト・シーブ(British Stand
ard TestSieve)(BS410:1962)の範囲内の粒径をもつこと
が好ましく、それによってジエンと珪素−水素化合物の
反応生成物からの該固体の分離がより容易に達成でき
る。
と有機化合物(ジエン)(B)の反応は任意の慣用の操作技
法を使用して行うことができる。例えば、常圧下、減圧
下または加圧下で、溶媒の存在または不在下、20℃以
下から160℃以上までの温度で行うことができる。通
常、約80℃ないし約180℃の範囲の温度、及び所望
であれば加圧を使用することによって反応を促進するこ
とが好ましい。珪素−水素化合物とジエン中の両方の不
飽和基との反応を最少限にするために、ジエンは少なく
とも化学量論量の2倍の過剰量で使用することが好まし
い。触媒(C)はデカンテーションまたは濾過により反応
混合物から容易に回収できる。触媒を回収した後、触媒
はリサイクルすることができる。しかし、触媒(C)の不
均質特性のために、触媒(C)はバッチ式ではなく連続式
で使用することが特に適当である。従って、本発明方法
は、所望の反応時間及び生成物類を得るための温度及び
圧力のような反応条件を使用して有機化合物(ジエン)
(B)とシリコーン化合物(珪素−水素化合物)(A)を触媒
床の上または中に通すことにより行うことができる。
素と結合したオレフィン性不飽和結合を含む炭化水素基
が少なくとも1個存在するシラン類及びシロキサン類で
ある。触媒(C)を使用することにより、より一般的な白
金触媒を使用する方法と比較して末端でない位置のオレ
フィン性不飽和結合の割合が顕著に減少した生成物を得
ることができることを見出した。本発明方法による生成
物は、ハイドロシリレーション反応または他の反応によ
り硬化することができるオルガノシリコーン化合物例え
ばエラストマー類及び被覆組成物の調製に使用すること
ができる。
お、Meはメチル基を、Etはエチル基を示す。 実施例1 水(2500g)に溶解した(EtO)3Si(CH2)3NH2(90g)
をシリカゲル[グレース(Grace)ID112](300
g)へ添加し、混合物を通常の環境温度で約16時間に
わたり撹拌した。1.43重量%の窒素を含有するシリ
カゲルを回収し、乾燥した。次に、この生成物(100
g)を水(400ml)及びメタノール(200ml)中に
溶解したNa2PtCl4・4H2O(4.71g)と混合した。固体を
回収し、乾燥して0.49重量%の白金及び40:1の
N:Ptモル比を有する粒状触媒を得た。1,5−ヘキ
サジエン(98.4g)、HSiMeCl2(46.0g)及び上述の
ようにして調製した触媒1.63gをフラスコ中で混合
し、4時間にわたり還流温度へ加熱した。蒸留して過剰
の1,5−ヘキサジエンを除去した後、1,5−ヘキセニ
ル(メチル)ジクロロシラン及びCl2MeSi(CH2)6SiMeCl2の
混合物60.7gを得た。ヘキセニルシランは、内部不
飽和異性体への異性化が1%以下であることが観察され
た。イソプロピルアルコール中のH2PtCl6・6H2O溶液を同
一Pt重量を提供する量で使用して反応を反復したとこ
ろ、ヘキセニルシランは33%の内部結合異性体を含有
することが観察された。触媒をリサイクルし、更に6回
再使用して合計1,5−ヘキサジエン688.8gとHMeS
iCl2322gとを反応させた。
例1に記載したようにして調製した触媒18.5gを充
填した。次に、HSiMeCl26.72kgと1,5−ヘキサジ
エン15.1kgの混合物を234時間にわたり触媒上
に通した。ガラス管から流出する生成物の分析は、実質
上完全な反応が生じ、得られたヘキセニル(メチル)ジク
ロロシラン生成物の異性化は1%以下であることを示し
た。
CH3(45g)をシリカゲル(150g:グレースID11
2)へ添加し、混合物を12時間にわたり95℃で加熱
した。3時間加熱後、触媒としてn−ヘキシルアミン
(0.5ml)を反応混合物混合物へ添加した。次に、シ
リカゲルを回収し、熱トルエンにより抽出し、乾燥して
3.18重量%の硫黄を含有する生成物を得た。次に、
この生成物(100g)を水(300ml)、メタノール
(200ml)、及び水(100ml)中のNa2PtCl4・4H2
O(1.13g)の溶液と混合し、得られた混合物を室温で
24時間にわたり撹拌した。固体を回収し、メタノール
(5×400ml)で洗浄し、エーテル(3×400ml)
で洗浄し、乾燥して0.51重量%の白金を含有し、か
つ38:1のS:Ptモル比を有する粒状触媒を得た。
1,5−ヘキサジエン(49.2g、0.6モル)、メチル
ジクロロシラン(23.0g、0.2モル)及び上述の触媒
0.38g(10-5モルPt)をフラスコへ装入し、加熱
して還流した。反応はスムーズに進行して完了し、完了
までに還流温度が53℃から73℃へ上昇した。次に、
生成物を触媒からデーカンテーションし、更に、1,5
−ヘキサジエン(49.2g)及びメチルジクロロシラン
(23.0g)をフラスコへ添加し、反応を反復した。触
媒を同様に更に2回リサイクルした。得られた生成物の
ガス−液体クロマトグラフ分析により以下の表に示すピ
ーク面積割合が得られ、また、反応が完了するまでの時
間についても記載する。
N.M.R.分析は末端二重結合の2.8%が内部位置に移
行したことを示した。
5g)をシリカゲル(600g:グレースID113)へ
添加し、混合物を24時間にわたり環境温度で撹拌し
た。次に、シリカゲルを回収し、熱トルエンで抽出し、
乾燥して0.1重量%の窒素を含有する生成物を得た。
次に、この生成物(50g)を水(150ml)、メタノー
ル(100ml)及び水(50ml)中のNa2PtCl4・4H2O
(0.0325g)と混合し、得られた混合物を24時間
にわたり室温で撹拌した。固体を回収し、メタノール
(5×200ml)で洗浄し、エーテル(3×200ml)
で洗浄し、乾燥して0.011重量%の白金を含有し、
126:1のN:Pt比を有する粒状触媒を得た。1,
5−ヘキサジエン(49.2g、0.6モル)、メチルジク
ロロシラン(23.0g、0.2モル)及び上述の触媒8.
8g(5×10-6モルPt)をフラスコに装入し、加熱し
て還流した。反応はスムーズに進行して完了し、完了ま
でに還流温度が53℃から72℃へ上昇した。次に、生
成物を触媒からデカンテーションし、更に、1,5−ヘ
キサジエン(49.2g)及びメチルジクロロシラン(2
3.0g)をフラスコへ添加し、反応を反復した。触媒を
更に2回同様にリサイクルした。得られた生成物のガス
−液体クロマトグラフ分析により以下の表に示すピーク
面積割合が得られ、また、反応が完了する時間について
も記載する。
N.M.R.分析は末端二重結合の1.1%が内部位置に移
行したことを示した。
ル)、メチルジクロロシラン(23.0g、0.2モル)及
びハイドロシリレーション触媒(0.40g、10-5モル
Pt、実施例1に記載したように調製したもの)を反応
容器へ装入した。試薬を66℃へ加熱し、90分間掛け
て90℃へ昇温させ、次に、反応混合物をこの温度で更
に150分間維持した。得られた生成物のガス−液体ク
ロマトグラフ分析により以下のピーク面積割合が得られ
た: 1,13-テトラデカジエン 72.9% 1-(メチルジクロロシリル)-13-テトラデセン 17.7% 1,14-ビス(メチルジクロロシリル)テトラデカン 2.4% 1−(メチルジクロロシリル)−13−テトラデセンは、
末端二重結合の2.9%が内部位置に移行した。
3,3−テトラメチルジシロキサン(105g、0.75
モル)及び触媒1.88g(実施例1と同様に調製したも
の、5×10-5モルPt)をフラスコに装入し、加熱し
て還流した。反応はスムーズに進行して完了し、完了す
るまでに還流温度が58℃から72℃へ上昇した。次
に、生成物を触媒からデカンテーションし、更に1,5
−ヘキサジエン(246g)及び1,1,3,3−テトラメ
チルジシロキサン(105g)をフラスコへ添加し、反応
を反復した。得られた生成物のガス−液体クロマトグラ
フ分析により以下の表に示すピーク面積割合が得られ、
また、反応が完了するまでの時間も記載する。
チルジシロキサンのプロトンN.M.R.分析は、1.6%
の二重結合が内部位置に移行したことを示した。
7.1g)と1,5−ヘキサジエン(49.2g)とを反応さ
せた。得られたヘキセニルシランは、内部二重結合異性
体を1.6%しか含有していなかった。触媒としてイソ
プロピルアルコール中のH2PtCl6・6H2Oの溶液を使用し
て反応を反復したところ、異性体の割合は7.8%であ
った。
Claims (7)
- 【請求項1】 (A)分子中に少なくとも1個の珪素と結
合した水素原子を有するシリコーン化合物と、(B)オレ
フィン性不飽和結合を含む有機化合物とを、(C)(i)表
面反応性基を有する無機質固体と、(ii)一般式 【化1】 [式中、Zは(i)中の表面反応性基と反応する原子また
は基を表し、Rはそれぞれ塩素原子、臭素原子、炭素原
子数1〜6個の1価の炭化水素基、炭素原子数1〜6個
のアルコキシ基、または炭素原子数14個以下のオキシ
ム基を表し、R’はそれぞれ炭素原子数1〜8個の1価
の炭化水素基を表し、Xは11個までの炭素原子を有し
かつ炭素、水素及び適宜酸素よりなり、珪素−炭素結合
を介して珪素へ結合する1価の基であって、X中には少
なくとも1個の硫黄原子または窒素原子が存在し、aは
0または1〜20の整数である]のオルガノシリコーン
化合物、及び(iii)白金化合物または錯化合物PtL
b(式中、Lはそれぞれアミノ基またはメルカプト基によ
り置換可能である少なくとも1個の配位子を表し、bは
Ptの遊離価を満足するような数である)の反応により
調製された触媒の存在下で反応させることからなるオレ
フィン性不飽和結合を含む珪素と結合した炭化水素基を
有するオルガノシリコーン化合物の調製方法において、
有機化合物(B)が少なくとも5個の炭素原子をもちかつ
不飽和結合が末端炭素原子に位置するジエンであること
を特徴とするオルガノシリコーン化合物の調製方法。 - 【請求項2】 無機質固体(i)がシリカである、請求項
1記載の方法。 - 【請求項3】 ジエンが6〜14個の炭素原子を有す
る、請求項1または2記載の方法。 - 【請求項4】 触媒(C)中のN原子及び/またはS原子
とPt原子の比が30:1ないし150:1である、請
求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】 Xが窒素含有基である、請求項1ないし
4のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項6】 オルガノシリコーン化合物(A)がCH3
HSiCl2及びHSiCl3から選択される、請求項1
ないし5のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項7】 シリコーン化合物(A)と有機化合物(B)
とを触媒(C)の床上を通過させるか、または該床中を通
過させる請求項1ないし6のいずれか1項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB919126049A GB9126049D0 (en) | 1991-12-07 | 1991-12-07 | Hydrosilylation process |
| GB9126049.7 | 1991-12-07 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05271249A true JPH05271249A (ja) | 1993-10-19 |
| JP3349735B2 JP3349735B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=10705878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32679692A Expired - Lifetime JP3349735B2 (ja) | 1991-12-07 | 1992-12-07 | ヒドロシリル化法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5270424A (ja) |
| EP (1) | EP0546716B1 (ja) |
| JP (1) | JP3349735B2 (ja) |
| DE (1) | DE69219741T2 (ja) |
| GB (1) | GB9126049D0 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015504418A (ja) * | 2011-10-31 | 2015-02-12 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | 不均一系貴金属触媒を用いる、改善された品質を有する有機ケイ素製品の製造プロセス |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9223335D0 (en) * | 1992-11-06 | 1992-12-23 | Dow Corning | Hydrosilylation process |
| KR950003310A (ko) * | 1993-07-22 | 1995-02-16 | 에리히 프랑크, 칼-하인즈 림뵉 | 균질 히드로실릴화 촉매 |
| EP0797612B1 (de) * | 1994-12-12 | 1999-01-13 | Hüls Silicone Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren zur herstellung von im wesentlichen cyclenfreien polyorgano-siloxanen und organofunktionellen siloxanen |
| US5672660A (en) * | 1995-12-01 | 1997-09-30 | Advanced Elastomer Systems, L.P. | Hydrosilylation crosslinking |
| US5567848A (en) * | 1996-01-16 | 1996-10-22 | Dow Corning Corporation | Alkyne hydrosilation using cycloalkadiene-platinum complex as catalyst |
| US6365696B1 (en) | 1999-12-17 | 2002-04-02 | Crompton Corporation | Process for producing epoxyorganosilicon compounds |
| WO2014081817A2 (en) * | 2012-11-20 | 2014-05-30 | Massachusetts Institute Of Technology | Fabrication and passivation of silicon surfaces |
| JP2015098459A (ja) * | 2013-11-20 | 2015-05-28 | 信越化学工業株式会社 | 含窒素オルガノキシシラン化合物含有組成物及びその製造方法 |
| JP6656045B2 (ja) * | 2016-03-29 | 2020-03-04 | 信越化学工業株式会社 | 担持白金触媒を含有する樹脂組成物、及びそれを用いた熱硬化性オルガノポリシロキサン組成物ならびにその硬化方法 |
| EP4073079A1 (en) | 2019-12-13 | 2022-10-19 | Dow Silicones Corporation | Process for synthesizing alkenyl disiloxane |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE553159A (ja) * | 1955-12-05 | |||
| BE789152A (ja) * | 1971-09-22 | 1973-01-15 | Ceskoslovenska Akademie Ved | |
| GB1438949A (en) * | 1972-08-21 | 1976-06-09 | Dow Corning Ltd | Hydrosilylation of dienes and acetylenes |
| GB1527598A (en) * | 1974-11-12 | 1978-10-04 | Dow Corning Ltd | Catalysts and carriers therefor |
| US4268682A (en) * | 1975-09-05 | 1981-05-19 | Exxon Research & Engineering Co. | ω-Alkenyl silanes and αω-silyl alkanes |
| GB1526324A (en) * | 1976-07-14 | 1978-09-27 | Dow Corning Ltd | Hydrosilylation catalysts |
| GB2013207B (en) * | 1977-11-14 | 1982-10-27 | Spencer J L | Hydrosilylation catalysts |
| US4503160A (en) * | 1983-08-29 | 1985-03-05 | General Electric Company | Hydrosilylation method, catalyst and method for making |
-
1991
- 1991-12-07 GB GB919126049A patent/GB9126049D0/en active Pending
-
1992
- 1992-11-23 US US07/980,061 patent/US5270424A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-24 EP EP92310739A patent/EP0546716B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-11-24 DE DE69219741T patent/DE69219741T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-12-07 JP JP32679692A patent/JP3349735B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015504418A (ja) * | 2011-10-31 | 2015-02-12 | モメンティブ パフォーマンス マテリアルズ インコーポレイテッド | 不均一系貴金属触媒を用いる、改善された品質を有する有機ケイ素製品の製造プロセス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5270424A (en) | 1993-12-14 |
| JP3349735B2 (ja) | 2002-11-25 |
| GB9126049D0 (en) | 1992-02-05 |
| EP0546716B1 (en) | 1997-05-14 |
| DE69219741T2 (de) | 1997-09-18 |
| DE69219741D1 (de) | 1997-06-19 |
| EP0546716A1 (en) | 1993-06-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2111221C1 (ru) | Кремнийорганические соединения, образующие клеткоподобную структуру, и способы их получения | |
| US4064154A (en) | Catalysts and carriers therefor | |
| US5939576A (en) | Method of functionalizing polycyclic silicones and the compounds so formed | |
| JP3086258B2 (ja) | 官能化ポリオルガノシロキサン及びその一つの製造方法 | |
| CN100569834C (zh) | 制备具有三有机甲硅烷氧基的有机聚硅氧烷的方法 | |
| JPH0267290A (ja) | 鳥かご状構造を有する親油性二重環ケイ酸誘導体、その製造方法及びその使用方法 | |
| JPH0632906A (ja) | エポキシシリコーンの合成法 | |
| FI94031B (fi) | Rodium-kolloidi, menetelmä sen valmistamiseksi ja sen käyttö | |
| EP0403706A2 (en) | Process for preparing amino-propyl silanes | |
| JPH10501022A (ja) | 官能化ポリオルガノシロキサン及びその一つの製造方法 | |
| US4005046A (en) | Catalysts and carriers therefor | |
| US5395955A (en) | Method for the preparation of carbinol group-containing organopolysiloxane | |
| JP3349735B2 (ja) | ヒドロシリル化法 | |
| JPH06172535A (ja) | クラスターアザシラシクロアルキル官能性ポリシロキサンの調製方法 | |
| WO2015192029A1 (en) | Platinum catalyzed hydrosilylation reactions utilizing cyclodiene additives | |
| EP0596646B1 (en) | Hydrosilylation process | |
| US5041591A (en) | Organopolysiloxane and method for its preparation | |
| CN106536046A (zh) | 二烷基钴催化剂及它们用于氢化硅烷化和脱氢硅烷化的用途 | |
| JP3839498B2 (ja) | 白金−オルガノシロキサン錯体の調製方法 | |
| Duplock et al. | Synthesis of siloxanes containing reactive side chains | |
| EP0768331B1 (en) | Sheet and tube siloxane polymers | |
| EP0831112B1 (en) | Sheet and tube organosilicon polymers | |
| JPH06192275A (ja) | アザシラシクロアルキル官能性アルコキシシラン及びアザシラシクロアルキル官能性テトラメチルジシロキサン | |
| JP3537204B2 (ja) | 反応性ケイ素系高分子、及びそれを用いた硬化性組成物 | |
| JP2001181398A (ja) | 含ケイ素重合体およびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080913 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080913 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090913 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100913 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100913 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110913 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120913 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130913 Year of fee payment: 11 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130913 Year of fee payment: 11 |