JPH0527562A - 画像形成装置 - Google Patents
画像形成装置Info
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- JPH0527562A JPH0527562A JP20565391A JP20565391A JPH0527562A JP H0527562 A JPH0527562 A JP H0527562A JP 20565391 A JP20565391 A JP 20565391A JP 20565391 A JP20565391 A JP 20565391A JP H0527562 A JPH0527562 A JP H0527562A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は感光体ドラムに露光手段を内挿した
画像形成装置において、前記露光手段に発光輝度の小さ
い蛍光発光体を背面露光装置に用いた場合でも、前記光
導電体層に前記露光電荷を効率よく且つ確実に捕足し、
容易に画像鮮明化を達成し得る画像形成装置を提供する
ことを目的とする。 【構成】 前記画像形成装置において、前記光導電層を
5μm以下に設定したアモルファスシリコン(a−S
i)系材料で形成し、且つ該光導電体層と透光性導電層
との境界側に高抵抗若しくは絶縁性の注入阻止層を介在
させて感光体を構成するとともに、該感光体の背面側に
蛍光発光体からなる露光手段を配した事を特徴とする。
画像形成装置において、前記露光手段に発光輝度の小さ
い蛍光発光体を背面露光装置に用いた場合でも、前記光
導電体層に前記露光電荷を効率よく且つ確実に捕足し、
容易に画像鮮明化を達成し得る画像形成装置を提供する
ことを目的とする。 【構成】 前記画像形成装置において、前記光導電層を
5μm以下に設定したアモルファスシリコン(a−S
i)系材料で形成し、且つ該光導電体層と透光性導電層
との境界側に高抵抗若しくは絶縁性の注入阻止層を介在
させて感光体を構成するとともに、該感光体の背面側に
蛍光発光体からなる露光手段を配した事を特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真方式を採るプリ
ンタ、ファクシミリ、複写機等に使用される画像形成装
置に係り、特に透光性支持体上に透光性導電層と光導電
体層を積層してなる感光体の背面側(前記透光性支持体
と対面する側)に、画像情報に対応した光出力を生成す
る露光手段を配し、該露光手段により前記光導電体層に
露光像を形成する画像形成装置に関する。
ンタ、ファクシミリ、複写機等に使用される画像形成装
置に係り、特に透光性支持体上に透光性導電層と光導電
体層を積層してなる感光体の背面側(前記透光性支持体
と対面する側)に、画像情報に対応した光出力を生成す
る露光手段を配し、該露光手段により前記光導電体層に
露光像を形成する画像形成装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より例えば透光性支持体上に透光性
導電層と光導電体層を積層してなる感光体ドラムの内周
側に、画像情報に対応した光出力を生成する露光手段を
配し、該露光手段の光出力を集束化して前記光導電体層
に潜像を結像すると同時若しくはその直後に前記感光体
ドラムと対面配置させた現像手段を介して前記潜像を可
視像(トナー像)化した後、該トナー像を転写ローラそ
の他の転写手段を介して普通紙に転写可能に構成した画
像形成装置は公知である。(特開昭58ー153957号他、)
導電層と光導電体層を積層してなる感光体ドラムの内周
側に、画像情報に対応した光出力を生成する露光手段を
配し、該露光手段の光出力を集束化して前記光導電体層
に潜像を結像すると同時若しくはその直後に前記感光体
ドラムと対面配置させた現像手段を介して前記潜像を可
視像(トナー像)化した後、該トナー像を転写ローラそ
の他の転写手段を介して普通紙に転写可能に構成した画
像形成装置は公知である。(特開昭58ー153957号他、)
【0003】この種の画像形成装置においては、露光手
段を感光体ドラム外周面上に配置した公知の電子写真装
置と異なり、露光手段を感光体ドラムに内挿する構成を
取るためにポリゴンミラー等によるビーム展開する露光
手段を用いる事が出来ず、この為従来装置においては多
数のLED素子をドラム軸方向に沿って列状に配し、該
LED素子を画像情報に対応させて選択的に点灯制御可
能に構成したLEDヘッド、又光源と集束レンズとの間
に液晶シャッタを配し該液晶シャッタの開閉制御により
露光像を形成する液晶プリンタヘッド、等が提案されて
いる。
段を感光体ドラム外周面上に配置した公知の電子写真装
置と異なり、露光手段を感光体ドラムに内挿する構成を
取るためにポリゴンミラー等によるビーム展開する露光
手段を用いる事が出来ず、この為従来装置においては多
数のLED素子をドラム軸方向に沿って列状に配し、該
LED素子を画像情報に対応させて選択的に点灯制御可
能に構成したLEDヘッド、又光源と集束レンズとの間
に液晶シャッタを配し該液晶シャッタの開閉制御により
露光像を形成する液晶プリンタヘッド、等が提案されて
いる。
【0004】しかしながら前者においては前記LED素
子群を配列したヘッドアレイの完成歩留りが悪いのみな
らず、個々の素子間の光量、波長のバラツキ、発熱劣化
等が生じ易い。又、後者においては使用温度域が狭く、
又光源が別途に必要で而もシャッタの応答性やON/O
FFの明暗比が低いので印刷速度を速く出来ないという
欠点を有す。
子群を配列したヘッドアレイの完成歩留りが悪いのみな
らず、個々の素子間の光量、波長のバラツキ、発熱劣化
等が生じ易い。又、後者においては使用温度域が狭く、
又光源が別途に必要で而もシャッタの応答性やON/O
FFの明暗比が低いので印刷速度を速く出来ないという
欠点を有す。
【0005】更にLEDヘッドはそれ自体で発熱が伴
い、又液晶ヘッドにおいてもハロゲンランプその他の光
源よりの発熱を伴い、この様な発熱体を挟口径に形成し
た感光体ドラム内に内挿させて露光動作を行うと、ドラ
ム内温度が上昇して画像品質に悪影響を及ぼすのみなら
ず、特に前記ドラム内はトナー等の塵埃の侵入を防ぐた
めに一般にドラム両端を密閉する構成を取る為に前記欠
点が一層増長される。
い、又液晶ヘッドにおいてもハロゲンランプその他の光
源よりの発熱を伴い、この様な発熱体を挟口径に形成し
た感光体ドラム内に内挿させて露光動作を行うと、ドラ
ム内温度が上昇して画像品質に悪影響を及ぼすのみなら
ず、特に前記ドラム内はトナー等の塵埃の侵入を防ぐた
めに一般にドラム両端を密閉する構成を取る為に前記欠
点が一層増長される。
【0006】一方、近年電子写真装置若しくは静電記録
装置の露光原として蛍光発光体を用いた技術が検討され
ている。例えば特開昭58ー108864号において、
公知のカールソン方式の電子写真装置の露光手段(潜像
形成用発光源)に蛍光発光体を用いた技術が開示されて
いる。
装置の露光原として蛍光発光体を用いた技術が検討され
ている。例えば特開昭58ー108864号において、
公知のカールソン方式の電子写真装置の露光手段(潜像
形成用発光源)に蛍光発光体を用いた技術が開示されて
いる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】さて露光原として蛍光
発光体を用いた場合は、確かに蛍光、発熱がない、駆動
回路の簡易化、高精細度化し易い、又小型化も可能であ
るために、前記した欠点を解消し得るが、蛍光発光体は
LED等に比較して発光輝度が小さく、而も画像形成装
置においては他の電子写真装置と異なり、前記露光手段
の光出力を直接光導電体層に透過させるのではなく、そ
の背面側より透光性支持体と透光性導電層を介して露光
する構成を取るために、前記蛍光ヘッドの発光輝度が小
さい場合光導電体層に蓄積される電荷は一層小さくな
り、鮮明画像を形成する上で致命傷となる。
発光体を用いた場合は、確かに蛍光、発熱がない、駆動
回路の簡易化、高精細度化し易い、又小型化も可能であ
るために、前記した欠点を解消し得るが、蛍光発光体は
LED等に比較して発光輝度が小さく、而も画像形成装
置においては他の電子写真装置と異なり、前記露光手段
の光出力を直接光導電体層に透過させるのではなく、そ
の背面側より透光性支持体と透光性導電層を介して露光
する構成を取るために、前記蛍光ヘッドの発光輝度が小
さい場合光導電体層に蓄積される電荷は一層小さくな
り、鮮明画像を形成する上で致命傷となる。
【0008】本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み、発
光輝度の小さい蛍光発光体を背面露光装置に用いた場合
でも、前記光導電体層に前記露光電荷を効率よく且つ確
実に捕足し、容易に画像鮮明化を達成し得る画像形成装
置を提供することを目的とする。又本発明の他の目的と
する所は、前記感光体の耐摩耗性と耐環境性を向上し、
これにより経時的な画像品質の低下を防止し得る画像形
成装置を提供する事にある。
光輝度の小さい蛍光発光体を背面露光装置に用いた場合
でも、前記光導電体層に前記露光電荷を効率よく且つ確
実に捕足し、容易に画像鮮明化を達成し得る画像形成装
置を提供することを目的とする。又本発明の他の目的と
する所は、前記感光体の耐摩耗性と耐環境性を向上し、
これにより経時的な画像品質の低下を防止し得る画像形
成装置を提供する事にある。
【0009】
【課題を解決する為の手段】前記したように蛍光発光体
は、LEDヘッド等に比較して発光光量が小さいという
問題がある。そこでこの様な蛍光発光体群を露光手段と
して用いた場合には、その受光側でこれを効率よく補足
する必要がある。そこで本発明は、露光手段に蛍光発光
体群を又これを受光する感光体側の光導電体層にa−S
i系材料を用いた点を第一の特徴とする。
は、LEDヘッド等に比較して発光光量が小さいという
問題がある。そこでこの様な蛍光発光体群を露光手段と
して用いた場合には、その受光側でこれを効率よく補足
する必要がある。そこで本発明は、露光手段に蛍光発光
体群を又これを受光する感光体側の光導電体層にa−S
i系材料を用いた点を第一の特徴とする。
【0010】即ちa−Si系光導電体層は、他のSeA
s、SeTe、CdS、OPC等の感光体材料に比べて
光吸収能と光キャリア発生能が高く、而も発生したキャ
リアの移動度が高い為に、低輝度の光出力でも効率よく
光電変換が可能となる。
s、SeTe、CdS、OPC等の感光体材料に比べて
光吸収能と光キャリア発生能が高く、而も発生したキャ
リアの移動度が高い為に、低輝度の光出力でも効率よく
光電変換が可能となる。
【0011】さて前記の様に光電変換された露光電荷は
現像及び転写位置に至るまで効率よくこれを保持する必
要があるが、前記光導電体層の背面側には電極として機
能し得る透光性導電層を有するために、光導電体層を介
して前記導電層と対面する現像スリーブに印加される現
像バイアスが正の場合には該導電層から電子が注入さ
れ、又現像バイアスが負の場合には導電層から正孔が注
入され、結果として露光像の電位度の低下により現像の
際に画像濃度の低下や地かぶりが生じ易い。
現像及び転写位置に至るまで効率よくこれを保持する必
要があるが、前記光導電体層の背面側には電極として機
能し得る透光性導電層を有するために、光導電体層を介
して前記導電層と対面する現像スリーブに印加される現
像バイアスが正の場合には該導電層から電子が注入さ
れ、又現像バイアスが負の場合には導電層から正孔が注
入され、結果として露光像の電位度の低下により現像の
際に画像濃度の低下や地かぶりが生じ易い。
【0012】そこで本発明の第2の特徴とする所は、前
記光導電体層の境界側に高抵抗薄層若しくは絶縁性の注
入阻止層を形成した点にある。かかる構成によれば、前
記電子や正孔の注入が阻止され前記電位度が低下する事
なく現像の際に画像濃度の低下や地かぶりが防止され
る。
記光導電体層の境界側に高抵抗薄層若しくは絶縁性の注
入阻止層を形成した点にある。かかる構成によれば、前
記電子や正孔の注入が阻止され前記電位度が低下する事
なく現像の際に画像濃度の低下や地かぶりが防止され
る。
【0013】そして前記注入阻止層は、高硬度で化学的
安定性の高いa−SiC材で形成するのがよく、これに
より耐摩耗性と耐環境性が向上し、経時的な画像品質の
劣化を防ぐ事が出来るとともに、特に前記注入阻止層に
αーSiC層を用いる事により光導電体層と透光性導電
層との間の密着性が高まる。
安定性の高いa−SiC材で形成するのがよく、これに
より耐摩耗性と耐環境性が向上し、経時的な画像品質の
劣化を防ぐ事が出来るとともに、特に前記注入阻止層に
αーSiC層を用いる事により光導電体層と透光性導電
層との間の密着性が高まる。
【0014】さて前記した背面露光装置は帯電、露光、
現像同時方式の為に、従来のカールソン方式の電子写真
装置のように感光体の帯電電圧の電圧降下がなく、この
為前記背面露光装置においては、現像バイアスや帯電電
圧をその分低下させる事が可能であるが、逆に帯電電圧
を低下させた場合、光導電層厚を薄くして電界強度を高
める必要がある。
現像同時方式の為に、従来のカールソン方式の電子写真
装置のように感光体の帯電電圧の電圧降下がなく、この
為前記背面露光装置においては、現像バイアスや帯電電
圧をその分低下させる事が可能であるが、逆に帯電電圧
を低下させた場合、光導電層厚を薄くして電界強度を高
める必要がある。
【0015】しかしながらLEDと対応する波長660
nmの光出力を照射した場合、例えばa−Si:H材の入
射光の90%が吸収されるまでの膜厚深さは約2.2μ
mであり、このため前記入射光の吸収効率を更に高めよ
うとすると前記膜厚深さは一層大になり、結果として帯
電電圧を上げなければ所定の電界強度を維持できず、結
果として背面露光装置としての特有の効果が滅失してし
まう。
nmの光出力を照射した場合、例えばa−Si:H材の入
射光の90%が吸収されるまでの膜厚深さは約2.2μ
mであり、このため前記入射光の吸収効率を更に高めよ
うとすると前記膜厚深さは一層大になり、結果として帯
電電圧を上げなければ所定の電界強度を維持できず、結
果として背面露光装置としての特有の効果が滅失してし
まう。
【0016】一方蛍光発光体の場合は波長が508nm
前後の為、該発光波長が500〜550nm波長の光出
力を照射した場合、前記a−Si:H材の入射光の90
%が吸収されるまでの膜厚深さは約約0.3〜0.4μ
mと前記LEDに比較して数段薄膜化が可能であり、こ
の為前記光導電層の膜厚を5μm以下、好ましくは3μ
m以下に設定しても高度な吸収効率を得る事が出来、而
も前記膜厚は薄膜であるために帯電電圧を低くしても十
分なる電界強度を維持する事が出来る。
前後の為、該発光波長が500〜550nm波長の光出
力を照射した場合、前記a−Si:H材の入射光の90
%が吸収されるまでの膜厚深さは約約0.3〜0.4μ
mと前記LEDに比較して数段薄膜化が可能であり、こ
の為前記光導電層の膜厚を5μm以下、好ましくは3μ
m以下に設定しても高度な吸収効率を得る事が出来、而
も前記膜厚は薄膜であるために帯電電圧を低くしても十
分なる電界強度を維持する事が出来る。
【0017】そこで本発明は前記光導電層を5μm以下
に設定したアモルファスシリコン(a−Si)系材料で
形成した点にある。
に設定したアモルファスシリコン(a−Si)系材料で
形成した点にある。
【0018】さて前記の様な背面露光装置は一般に導電
性トナーを用い、現像位置上流側に形成されたトナー溜
まりを介して感光体側に電荷注入を行いながら光導電体
層の帯電を行うように構成している為、前記導電性トナ
ーが光導電層と直接接触する事により前記導電層上の露
光電荷が低減し易く、特に前記の様に光導電体層を薄く
し荷電容量を小に設定した場合においては前記露光電荷
の低減は、即、画像品質に大きく影響する。
性トナーを用い、現像位置上流側に形成されたトナー溜
まりを介して感光体側に電荷注入を行いながら光導電体
層の帯電を行うように構成している為、前記導電性トナ
ーが光導電層と直接接触する事により前記導電層上の露
光電荷が低減し易く、特に前記の様に光導電体層を薄く
し荷電容量を小に設定した場合においては前記露光電荷
の低減は、即、画像品質に大きく影響する。
【0019】そこでこの様な場合には、導電性トナーを
用いた画像形成装置において、前記光導電体層の表面側
にも前記高抵抗若しくは絶縁層を形成する事により、現
像スリーブ側からの電荷の注入を効果的に阻止でき、前
記欠点の解消が図れると共に帯電能を高める事が出来
る。
用いた画像形成装置において、前記光導電体層の表面側
にも前記高抵抗若しくは絶縁層を形成する事により、現
像スリーブ側からの電荷の注入を効果的に阻止でき、前
記欠点の解消が図れると共に帯電能を高める事が出来
る。
【0020】更に本発明は、前記光導電体層を単層の層
領域とする事なく、光キャリア発生の機能を高めた層領
域と、その表面側に形成したキャリア輸送の機能を持た
せた層領域とを積層したものとする事により、光感度と
耐電圧等を共に高めることが出来る。
領域とする事なく、光キャリア発生の機能を高めた層領
域と、その表面側に形成したキャリア輸送の機能を持た
せた層領域とを積層したものとする事により、光感度と
耐電圧等を共に高めることが出来る。
【0021】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を例示
的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている
構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは特に
特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれのみ
に限定する趣旨ではなく単なる説明例に過ぎない。
的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている
構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは特に
特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれのみ
に限定する趣旨ではなく単なる説明例に過ぎない。
【0022】図1は本発明の基本構成図で、1はドラム
状若しくはベルト状に形成される感光体の拡大断面図
で、透光性支持体1a上に透光性導電層1b、表面阻止
層1e、光導電体層1c、及び表面層1fが積層されて
形成されている。そして前記感光体1の背面側(ドラム
内周側)に画素数に対応させて多数の蛍光発光素子21
が列状に配列された蛍光発光体22と集束レンズ23の
組合せからなる蛍光ドットアレイ2が配設されている。
状若しくはベルト状に形成される感光体の拡大断面図
で、透光性支持体1a上に透光性導電層1b、表面阻止
層1e、光導電体層1c、及び表面層1fが積層されて
形成されている。そして前記感光体1の背面側(ドラム
内周側)に画素数に対応させて多数の蛍光発光素子21
が列状に配列された蛍光発光体22と集束レンズ23の
組合せからなる蛍光ドットアレイ2が配設されている。
【0023】次に前記各部位について詳細に説明する。
透光性支持体1aは、ガラス(パイレックスガラス、ホ
ウ珪酸ガラス、ソーダガラス等)、石英、サファイア等
の透明な無機材料や、弗素樹脂、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ビニロン、エポキシ、マイラー等の透明な樹脂等が
あり、ドラム状等の形状である。透光性導電層1bは、
ITO(インジウム・スズ・酸化物)、酸化鉛、酸化イ
ンジウム、ヨウ化銅等の透明導電性材料を用いたり、A
I、Ni、Au等の金属を半透明になる程度に薄く形成
してもよい。
透光性支持体1aは、ガラス(パイレックスガラス、ホ
ウ珪酸ガラス、ソーダガラス等)、石英、サファイア等
の透明な無機材料や、弗素樹脂、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ビニロン、エポキシ、マイラー等の透明な樹脂等が
あり、ドラム状等の形状である。透光性導電層1bは、
ITO(インジウム・スズ・酸化物)、酸化鉛、酸化イ
ンジウム、ヨウ化銅等の透明導電性材料を用いたり、A
I、Ni、Au等の金属を半透明になる程度に薄く形成
してもよい。
【0024】光導電体層1cはa−Si:Hからなる光
導電体を用い、そして現像バイアスが正の場合には電子
の移動度を高める為、ノンドープ又はVa族元素を含有
させ、又現像バイアスが負の場合には正孔の移動度を高
めるため、IIIa族元素を含有させるのが好ましい。又
必要に応じて暗導電率や光導電率等の電気的特性、光学
的バンドギャップ等について所望の特性を得るために、
C,O,N等の元素を含有させても良い。
導電体を用い、そして現像バイアスが正の場合には電子
の移動度を高める為、ノンドープ又はVa族元素を含有
させ、又現像バイアスが負の場合には正孔の移動度を高
めるため、IIIa族元素を含有させるのが好ましい。又
必要に応じて暗導電率や光導電率等の電気的特性、光学
的バンドギャップ等について所望の特性を得るために、
C,O,N等の元素を含有させても良い。
【0025】又前記光導電体層1cは、背面側より光キ
ャリア発生の機能を高めた光励起層領域1c1と、キャ
リア輸送の機能を持たせた層領域1c2との2層により
形成する事により光感度と耐電圧を高めることが出来
る。尚、光励起層領域1c1は、成膜時において低成膜
速度で成膜する。H2やHeでの希釈率を高める、ドー
プする元素を輸送層よりも多く含有させる等により光キ
ャリア発生の機能を高めることができる。
ャリア発生の機能を高めた光励起層領域1c1と、キャ
リア輸送の機能を持たせた層領域1c2との2層により
形成する事により光感度と耐電圧を高めることが出来
る。尚、光励起層領域1c1は、成膜時において低成膜
速度で成膜する。H2やHeでの希釈率を高める、ドー
プする元素を輸送層よりも多く含有させる等により光キ
ャリア発生の機能を高めることができる。
【0026】又、キャリア輸送層領域1c2は前記領域
と逆の方法で生成する事が出来、そしてこの層は主に感
光体の耐圧を高めると共に励起層1c1から注入された
キャリアを感光体表面へスムーズに走行させる役割を持
つが、この層においても光励起層を透過してきた光によ
りキャリア生成が行なわれ、感光体1の光感度に寄与す
る。
と逆の方法で生成する事が出来、そしてこの層は主に感
光体の耐圧を高めると共に励起層1c1から注入された
キャリアを感光体表面へスムーズに走行させる役割を持
つが、この層においても光励起層を透過してきた光によ
りキャリア生成が行なわれ、感光体1の光感度に寄与す
る。
【0027】尚、光励起層領域1c1の厚みは0.03〜5
μm、好適には0.5〜3μmの範囲に設定するのが良く、
又輸送領域1c2の厚みは0.05〜5μm、好適には1〜3
μmの範囲が良い。又前記両層域からなるa−Si系光
導電体層1cの厚みは0.05〜5μm、好適には0.1〜3μ
mにするのがよい。
μm、好適には0.5〜3μmの範囲に設定するのが良く、
又輸送領域1c2の厚みは0.05〜5μm、好適には1〜3
μmの範囲が良い。又前記両層域からなるa−Si系光
導電体層1cの厚みは0.05〜5μm、好適には0.1〜3μ
mにするのがよい。
【0028】表面阻止層1eと表面層1fは、αーSi
C、αーSiO,αーSiN、αーSiON、αーSi
CON等のa−Si系の無機高抵抗若しくは絶縁材料、
ポリエチレンテレフタレート、パリレン、ポリ四フッ化
エチレン、ポリイミド、ポリフッ化エチレンプロピレン
等の有機高抵抗若しくは絶縁材料を用いるのがよく、特
に高抵抗のa−SiC層を用いると、絶縁耐圧や耐摩耗
性、耐環境性等の特性が高められるのみならず、透光性
導電層1bと光導電体層1c間の密着性能が高まる。こ
のa−Si1-xCxのx値は0.3≦x<1.0、好適には0.5
≦x≦0.95に設定する事により1012 〜1013Ω・c
m範囲の抵抗値で高耐湿性を得る事が出来、この場合層
内でC量に勾配を持たせてもよい。またCと同時にN,
O,Geを含有させる事により耐湿性を更に高めること
が出来る。
C、αーSiO,αーSiN、αーSiON、αーSi
CON等のa−Si系の無機高抵抗若しくは絶縁材料、
ポリエチレンテレフタレート、パリレン、ポリ四フッ化
エチレン、ポリイミド、ポリフッ化エチレンプロピレン
等の有機高抵抗若しくは絶縁材料を用いるのがよく、特
に高抵抗のa−SiC層を用いると、絶縁耐圧や耐摩耗
性、耐環境性等の特性が高められるのみならず、透光性
導電層1bと光導電体層1c間の密着性能が高まる。こ
のa−Si1-xCxのx値は0.3≦x<1.0、好適には0.5
≦x≦0.95に設定する事により1012 〜1013Ω・c
m範囲の抵抗値で高耐湿性を得る事が出来、この場合層
内でC量に勾配を持たせてもよい。またCと同時にN,
O,Geを含有させる事により耐湿性を更に高めること
が出来る。
【0029】表面阻止層1eの厚みは0.01〜5μm、好
適には0.1〜3μmの範囲内が良く、又表面層1fの厚み
は0.05〜5μm、好適には0.1〜3μmの範囲内が良い。
尚前記表面阻止層1eにa−Si系を用いる場合には、
現像バイアスが正の場合には導電層からの電子の注入を
阻止するためにIIIa族元素(1〜100000ppm、好適には
100〜5000ppm)を、現像バイアスが負の場合には導電層
1bからの正孔の注入を阻止するためにVa族元素(50
00ppm以下、好適には300〜3000ppm)を含有させるのが
よく、又、O,Nを0.01〜30原子%含有させることによ
り、透光性導電層1bとの密着性が一層向上する。
適には0.1〜3μmの範囲内が良く、又表面層1fの厚み
は0.05〜5μm、好適には0.1〜3μmの範囲内が良い。
尚前記表面阻止層1eにa−Si系を用いる場合には、
現像バイアスが正の場合には導電層からの電子の注入を
阻止するためにIIIa族元素(1〜100000ppm、好適には
100〜5000ppm)を、現像バイアスが負の場合には導電層
1bからの正孔の注入を阻止するためにVa族元素(50
00ppm以下、好適には300〜3000ppm)を含有させるのが
よく、又、O,Nを0.01〜30原子%含有させることによ
り、透光性導電層1bとの密着性が一層向上する。
【0030】さて前記各部位の説明より既に明らかにな
ったが、感光体全体の膜厚は、必要な帯電および絶縁耐
圧の確保や、露光された光の吸収や残留電位の抑制等か
ら、1〜15μm、好適には2〜10μmの範囲に設定
するのが良い。又前記a−Si系光導電体層1c、a−
Si系表面阻止層1e及び表面層1fは、グロー放電分
解法、スパッタリング法、ECR法、蒸着法等により成
膜し、その膜形成に当って、ダングリングボンド終端用
の元素、例えば(H)やハロゲンを含有させるのがよ
い。
ったが、感光体全体の膜厚は、必要な帯電および絶縁耐
圧の確保や、露光された光の吸収や残留電位の抑制等か
ら、1〜15μm、好適には2〜10μmの範囲に設定
するのが良い。又前記a−Si系光導電体層1c、a−
Si系表面阻止層1e及び表面層1fは、グロー放電分
解法、スパッタリング法、ECR法、蒸着法等により成
膜し、その膜形成に当って、ダングリングボンド終端用
の元素、例えば(H)やハロゲンを含有させるのがよ
い。
【0031】図4は露光源として用いる蛍光発光体21
の内部構成を示し、長手方向に延設する基板211上を
密封ガラス212で封止して10ー8Torr以上の真空空間
を形成するとともに、該真空空間外の基板211上に設
置されたドライブIC24と接続された多数本のアノー
ド213(リード線)を基板211表面に沿って前記真
空空間内に基板短手方向に平行に延設する。尚、前記ア
ノード213の配列間隔は画素配列間隔と一致、例えば
Aー4,300dpiの画素密度を形成する場合前記ア
ノード213は2560本必要となる。尚、図面から
は、アノード213は1本の線で真空空間を横断するご
とく見えるが、実際は短手方向左右両側より櫛歯状に侵
入されており、その先端部が真空空間中央位置で止設さ
れている。従って前記アノード213は、左右夫々に1
280本存在する事になる。
の内部構成を示し、長手方向に延設する基板211上を
密封ガラス212で封止して10ー8Torr以上の真空空間
を形成するとともに、該真空空間外の基板211上に設
置されたドライブIC24と接続された多数本のアノー
ド213(リード線)を基板211表面に沿って前記真
空空間内に基板短手方向に平行に延設する。尚、前記ア
ノード213の配列間隔は画素配列間隔と一致、例えば
Aー4,300dpiの画素密度を形成する場合前記ア
ノード213は2560本必要となる。尚、図面から
は、アノード213は1本の線で真空空間を横断するご
とく見えるが、実際は短手方向左右両側より櫛歯状に侵
入されており、その先端部が真空空間中央位置で止設さ
れている。従って前記アノード213は、左右夫々に1
280本存在する事になる。
【0032】そして該アノード213先端部に酸化亜鉛
(ZnO)を主成分とする蛍光体を塗布する事により、
軸方向に1列状に配列された発光素子214が形成され
る事となる。又前記真空空間内の上方空間には、前記ア
ノード配列方向と直交する長手方向に沿ってカソード2
15を配列するとともに、該カソード215とアノード
213間に絶縁体217に支持されたグリッド216を
設ける。
(ZnO)を主成分とする蛍光体を塗布する事により、
軸方向に1列状に配列された発光素子214が形成され
る事となる。又前記真空空間内の上方空間には、前記ア
ノード配列方向と直交する長手方向に沿ってカソード2
15を配列するとともに、該カソード215とアノード
213間に絶縁体217に支持されたグリッド216を
設ける。
【0033】かかる装置によれば、例えばカソード21
5とグリッド216間の電位を11Vに設定しておき、
一方カソード電圧に±3.5Vを印加すると熱電子が発
生する。この状態で一走査ライン毎にドライブIC24
に画素情報に対応した制御信号を印加すると、対応する
アノード213に正電圧が印加されてその先端部の蛍光
発光素子214の発光が行なわれ、例えば500nm前
後の短波長可視光の光出力が得られる。
5とグリッド216間の電位を11Vに設定しておき、
一方カソード電圧に±3.5Vを印加すると熱電子が発
生する。この状態で一走査ライン毎にドライブIC24
に画素情報に対応した制御信号を印加すると、対応する
アノード213に正電圧が印加されてその先端部の蛍光
発光素子214の発光が行なわれ、例えば500nm前
後の短波長可視光の光出力が得られる。
【0034】次に本発明の効果を確認する為に、下記の
ような実験を試みた。先ず感光体ドラムとして30φで
軸方向に300mmの長さを有する透明な円筒状ガラス
基板の外周面に、透光精導電層1bとしてITO層を活
性反応蒸着法により1000Åの厚みで形成し、次い
で、その上に容量結合型グロー放電分解装置を用いて、
図3の成膜条件によりa−SiC表面阻止層1eとa−
Si光導電体層1cとa−SiC表面層1fとを順次積
層した感光体を作成した。
ような実験を試みた。先ず感光体ドラムとして30φで
軸方向に300mmの長さを有する透明な円筒状ガラス
基板の外周面に、透光精導電層1bとしてITO層を活
性反応蒸着法により1000Åの厚みで形成し、次い
で、その上に容量結合型グロー放電分解装置を用いて、
図3の成膜条件によりa−SiC表面阻止層1eとa−
Si光導電体層1cとa−SiC表面層1fとを順次積
層した感光体を作成した。
【0035】そして前記のように形成した感光体ドラム
を図2に示す装置に組込んで所定の画像形成を行う。即
ちその構成を簡単に説明するに、2は蛍光ドットアレイ
で、前記感光体ドラム1内に内挿され、図4に示す蛍光
発光体22と集束性レンズ23(商品名:セルフォック
レンズ)からなる露光系を構成し、そして前記露光系の
結像位置は感光体ドラム1と後記現像スリーブ3の軸心
を結ぶ焦点線上に位置する光導電体層1cに結像するよ
うに構成されている。
を図2に示す装置に組込んで所定の画像形成を行う。即
ちその構成を簡単に説明するに、2は蛍光ドットアレイ
で、前記感光体ドラム1内に内挿され、図4に示す蛍光
発光体22と集束性レンズ23(商品名:セルフォック
レンズ)からなる露光系を構成し、そして前記露光系の
結像位置は感光体ドラム1と後記現像スリーブ3の軸心
を結ぶ焦点線上に位置する光導電体層1cに結像するよ
うに構成されている。
【0036】3は固定磁石集成体32を内包する現像ス
リーブで、該スリーブ3を矢印方向に回転させることに
より、トナー容器31内のトナーが、前記露光系22−
23の結像位置と対応する現像位置に導かれるように構
成している。尚、感光体ドラム1と現像スリーブ3は相
対的に速度差が生じる様な回転速度を以て逆方向に回転
可能に構成している。
リーブで、該スリーブ3を矢印方向に回転させることに
より、トナー容器31内のトナーが、前記露光系22−
23の結像位置と対応する現像位置に導かれるように構
成している。尚、感光体ドラム1と現像スリーブ3は相
対的に速度差が生じる様な回転速度を以て逆方向に回転
可能に構成している。
【0037】そして前記現像スリーブ3にはバイアス電
圧が印加されており、現像スリーブ3と感光体ドラム1
間の相対的速度差により感光体ドラム1表面を摺擦しな
がら感光体ドラム1の現像位置上流側に形成したトナー
溜まりを介してスリーブ3に印加されたバイアス電圧を
感光体ドラム1側に注入し、均一帯電を行うように構成
している。
圧が印加されており、現像スリーブ3と感光体ドラム1
間の相対的速度差により感光体ドラム1表面を摺擦しな
がら感光体ドラム1の現像位置上流側に形成したトナー
溜まりを介してスリーブ3に印加されたバイアス電圧を
感光体ドラム1側に注入し、均一帯電を行うように構成
している。
【0038】4は転写ローラで感光体ドラム1と同期し
て回転しながら前記現像装置により感光体ドラム1側に
担持させたトナー像を、普通紙上に転写可能に構成す
る。尚、図中9は普通紙に転写された未定着トナー像の
画像定着を行なう定着ローラである。
て回転しながら前記現像装置により感光体ドラム1側に
担持させたトナー像を、普通紙上に転写可能に構成す
る。尚、図中9は普通紙に転写された未定着トナー像の
画像定着を行なう定着ローラである。
【0039】かかる装置において、現像スリーブ31と
感光体ドラム1の透光性導電層1bとの間に+30Vの
電圧を印加しながら、波長505nm、露光量0.4μJ
/cm2の条件で画像露光を行ない、感光体ドラム1上
にトナー像を形成し、そのトナー像を記録紙に転写し、
熱定着を行なって画像を得た。この画像を評価したとこ
ろ、I.D.が1.3の画像濃度を有し、バックのかぶ
りのない、解像度の良好な画像であった。次に前記実施
例において5000枚の連続ランニング試験を行った
が、感光体ドラム1内温度の上昇は見られず、又画像品
質の劣化も見られなかった。
感光体ドラム1の透光性導電層1bとの間に+30Vの
電圧を印加しながら、波長505nm、露光量0.4μJ
/cm2の条件で画像露光を行ない、感光体ドラム1上
にトナー像を形成し、そのトナー像を記録紙に転写し、
熱定着を行なって画像を得た。この画像を評価したとこ
ろ、I.D.が1.3の画像濃度を有し、バックのかぶ
りのない、解像度の良好な画像であった。次に前記実施
例において5000枚の連続ランニング試験を行った
が、感光体ドラム1内温度の上昇は見られず、又画像品
質の劣化も見られなかった。
【0040】又前記表面阻止層1eがない点を除いては
前記実施例と同様に製作した感光体ドラム1を用いて前
記と同様な試験を行った所I.D.が0.6と大幅に低
下している事が確認された。又前記表面層1fがない点
を除いては前記実施例と同様に製作した感光体ドラムを
用いて前記と同様な試験を行った所やはりI.D.が
0.8と大幅に低下している事が確認された。従って前
記実験結果より本発明の効果が確認された。
前記実施例と同様に製作した感光体ドラム1を用いて前
記と同様な試験を行った所I.D.が0.6と大幅に低
下している事が確認された。又前記表面層1fがない点
を除いては前記実施例と同様に製作した感光体ドラムを
用いて前記と同様な試験を行った所やはりI.D.が
0.8と大幅に低下している事が確認された。従って前
記実験結果より本発明の効果が確認された。
【0041】
【効果】従って本発明によれば、LED等の他の光源に
比べて発光光量が小さい蛍光ヘッドを用いた場合でも、
高感度でキャリア移動度も大きいa−Si系光導電体層
を有する感光体と組合せる事により、画像品質を低下さ
せる事なく低消費電力で小型の画像形成装置を得る事が
出来る。
比べて発光光量が小さい蛍光ヘッドを用いた場合でも、
高感度でキャリア移動度も大きいa−Si系光導電体層
を有する感光体と組合せる事により、画像品質を低下さ
せる事なく低消費電力で小型の画像形成装置を得る事が
出来る。
【0042】而もa−Si系光導電体層は、光吸収が高
く、光キャリア発生やキャリアの移動に優れているの
で、蛍光ヘッドの発光輝度に対応させて光導電体層を5
μm以下に薄膜化しても良好な画像が得られるととも
に、特に前記蛍光ヘッドの使用波長を550nm以下に短
波長化する事により前記膜厚を薄膜化した場合でも露光
された光吸収性が低下する事なく、高度な吸収効率を得
る事が出来、而も前記膜厚は薄膜であるために帯電電圧
を低くしても十分なる電界強度を維持する事が出来る。
等の種々の著効を有する。
く、光キャリア発生やキャリアの移動に優れているの
で、蛍光ヘッドの発光輝度に対応させて光導電体層を5
μm以下に薄膜化しても良好な画像が得られるととも
に、特に前記蛍光ヘッドの使用波長を550nm以下に短
波長化する事により前記膜厚を薄膜化した場合でも露光
された光吸収性が低下する事なく、高度な吸収効率を得
る事が出来、而も前記膜厚は薄膜であるために帯電電圧
を低くしても十分なる電界強度を維持する事が出来る。
等の種々の著効を有する。
【図1】本発明の基本構成図で、感光体と露光手段との
関係を示す。
関係を示す。
【図2】本発明の実施例に係る画像形成装置を組込んだ
画像形成装置
画像形成装置
【図3】本発明の実施例に係る感光体ドラムの製造条件
を示す表図である。
を示す表図である。
【図4】図1及び図2の装置に組込まれる蛍光発生体の
拡大断面図である。
拡大断面図である。
1 感光体
21 蛍光発光体
1a 透光性支持体
1b 透光性導電層
1c 光導電体
1d 表面阻止層表面阻止層
1e 表面層
Claims (3)
- 【請求項1】 透光性支持体上に透光性導電層と光導電
体層を積層してなる感光体の背面側に、画像情報に対応
した光出力を生成する露光手段を配し、該露光手段によ
り前記光導電体層に露光像を形成可能に構成した画像形
成装置において前記光導電層を5μm以下に設定したア
モルファスシリコン(a−Si)系材料で形成し、且つ
該光導電体層と透光性導電層との境界側に高抵抗若しく
は絶縁性の注入阻止層を介在させて感光体を構成すると
ともに、該感光体の背面側に蛍光発光体からなる露光手
段を配した事を特徴とする画像形成装置 - 【請求項2】 前記蛍光発光体の波長を450〜550
nm以下の短波長可視光に設定した請求項1記載の画像
形成装置 - 【請求項3】 導電性トナーを用いた画像形成装置にお
いて、前記光導電体層の表面側に高抵抗若しくは絶縁性
薄膜層を形成した事を特徴とする請求項1記載の画像形
成装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20565391A JPH0527562A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20565391A JPH0527562A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 画像形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527562A true JPH0527562A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16510458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20565391A Pending JPH0527562A (ja) | 1991-07-23 | 1991-07-23 | 画像形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0527562A (ja) |
-
1991
- 1991-07-23 JP JP20565391A patent/JPH0527562A/ja active Pending
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