JPH05280863A - クリプトン及びキセノンの精製装置 - Google Patents
クリプトン及びキセノンの精製装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な装置構成で、効率よくクリプトン及び
キセノンを精製することができる装置を提供する。 【構成】 濃縮塔２を、主凝縮蒸発器１ａからの液化酸
素が自然流入可能な位置に設けるとともに、メタンパー
ジ塔７を、濃縮塔２の底部から導出した濃縮液が自然流
入可能な位置に設け、さらに、該メタンパージ塔７の底
部から導出した塔底液を気化する加熱器１２を、加熱器
１２で気化して導出したガスを、第１触媒反応塔１４，
第１吸着器１６を経て前記脱酸素塔１９に導入するため
に必要な圧力に相当する液ヘッドが得られる位置に設置
する。
キセノンを精製することができる装置を提供する。 【構成】 濃縮塔２を、主凝縮蒸発器１ａからの液化酸
素が自然流入可能な位置に設けるとともに、メタンパー
ジ塔７を、濃縮塔２の底部から導出した濃縮液が自然流
入可能な位置に設け、さらに、該メタンパージ塔７の底
部から導出した塔底液を気化する加熱器１２を、加熱器
１２で気化して導出したガスを、第１触媒反応塔１４，
第１吸着器１６を経て前記脱酸素塔１９に導入するため
に必要な圧力に相当する液ヘッドが得られる位置に設置
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クリプトン及びキセノ
ンの精製装置に関し、詳しくは、空気液化分離装置の複
精留塔上部塔下部に設けられた主凝縮蒸発器部分から導
出される液化酸素中のクリプトン及びキセノンを精製す
る装置に関する。
ンの精製装置に関し、詳しくは、空気液化分離装置の複
精留塔上部塔下部に設けられた主凝縮蒸発器部分から導
出される液化酸素中のクリプトン及びキセノンを精製す
る装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、空気液化分離装置の液化酸素
中に濃縮されるクリプトン及びキセノンをさらに濃縮
し、それぞれに分離することが行われている。通常、こ
れらの装置は、濃縮塔，メタンパージ塔，触媒反応装
置，吸着装置，脱酸素塔等を備えており、これらに上記
液化酸素を順次導入して最終的に分離塔でクリプトン及
びキセノンを精製するようにしている。
中に濃縮されるクリプトン及びキセノンをさらに濃縮
し、それぞれに分離することが行われている。通常、こ
れらの装置は、濃縮塔，メタンパージ塔，触媒反応装
置，吸着装置，脱酸素塔等を備えており、これらに上記
液化酸素を順次導入して最終的に分離塔でクリプトン及
びキセノンを精製するようにしている。
【０００３】そして、従来の精製装置では、上記各機器
を地上部に設けているため、処理中のガスあるいは液化
ガスを次工程に送出するため、必要に応じてブロワーや
ポンプを設置していた。
を地上部に設けているため、処理中のガスあるいは液化
ガスを次工程に送出するため、必要に応じてブロワーや
ポンプを設置していた。
【０００４】また、濃縮塔及びメタンパージ塔に液ヘッ
ドが加わる分、精留が圧力の高い状況下で行われ、精留
分離効果が損なわれていた。
ドが加わる分、精留が圧力の高い状況下で行われ、精留
分離効果が損なわれていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そのため、ブロワー等
の設備費や運転費がかかるだけでなく、該ブロワー等か
ら処理ガス中に不純物成分が侵入し、製品の純度を損な
うこともあった。さらに、上記液ヘッド分が加わり、精
留効果が減少することになった。
の設備費や運転費がかかるだけでなく、該ブロワー等か
ら処理ガス中に不純物成分が侵入し、製品の純度を損な
うこともあった。さらに、上記液ヘッド分が加わり、精
留効果が減少することになった。
【０００６】そこで本発明は、上記従来技術の不都合を
解決し、簡単な装置構成で設備費や運転費を低減でき、
効率よくクリプトン及びキセノンを精製することができ
る装置を提供することを目的としている。
解決し、簡単な装置構成で設備費や運転費を低減でき、
効率よくクリプトン及びキセノンを精製することができ
る装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明のクリプトン及びキセノンの精製装置は、
空気液化分離装置の複精留塔の主凝縮蒸発器部分から導
出する液化酸素中のクリプトン及びキセノンを、濃縮
塔，メタンパージ塔，触媒反応装置，吸着装置，脱酸素
塔等に順次導入して精製する装置において、前記濃縮塔
を、前記主凝縮蒸発器より僅かに低く、該主凝縮蒸発器
からの液化酸素が自身の液ヘッドで自然流入可能な位置
に設けるとともに、メタンパージ塔を設ける場合は、前
記メタンパージ塔を、上記濃縮塔の底部から導出した濃
縮液が自身の液ヘッドにより自然流入可能な位置に設
け、さらに、前記濃縮塔又は該メタンパージ塔の底部か
ら導出した液化ガスを気化する加熱器を、メタンパージ
塔より下方で、かつ、該加熱器で気化して導出したガス
を、前記触媒反応装置，吸着装置を経て前記脱酸素塔に
導入するために必要な圧力に相当する液ヘッドが得られ
る位置に設置したことを特徴としている。
ため、本発明のクリプトン及びキセノンの精製装置は、
空気液化分離装置の複精留塔の主凝縮蒸発器部分から導
出する液化酸素中のクリプトン及びキセノンを、濃縮
塔，メタンパージ塔，触媒反応装置，吸着装置，脱酸素
塔等に順次導入して精製する装置において、前記濃縮塔
を、前記主凝縮蒸発器より僅かに低く、該主凝縮蒸発器
からの液化酸素が自身の液ヘッドで自然流入可能な位置
に設けるとともに、メタンパージ塔を設ける場合は、前
記メタンパージ塔を、上記濃縮塔の底部から導出した濃
縮液が自身の液ヘッドにより自然流入可能な位置に設
け、さらに、前記濃縮塔又は該メタンパージ塔の底部か
ら導出した液化ガスを気化する加熱器を、メタンパージ
塔より下方で、かつ、該加熱器で気化して導出したガス
を、前記触媒反応装置，吸着装置を経て前記脱酸素塔に
導入するために必要な圧力に相当する液ヘッドが得られ
る位置に設置したことを特徴としている。
【０００８】
【作 用】上記構成によれば、ブロワーやポンプを用い
ずに処理ガスを次工程に送ることが可能となり、設備費
や運転費の低減が図れるとともに、精留圧力が減少する
ので、精留効率が向上する。
ずに処理ガスを次工程に送ることが可能となり、設備費
や運転費の低減が図れるとともに、精留圧力が減少する
ので、精留効率が向上する。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を、図面に示す一実施例に基づ
いて、さらに詳細に説明する。
いて、さらに詳細に説明する。
【００１０】まず、空気液化分離装置の複精留塔１の上
部塔下部の主凝縮蒸発器１ａ部分から、クリプトン（１
００〜１０００ｐｐｍ）及びキセノン（１０〜１００ｐ
ｐｍ）が濃縮された液化酸素を導出し、主凝縮蒸発器１
ａより下方に設置された濃縮塔２の中段に導入する。
部塔下部の主凝縮蒸発器１ａ部分から、クリプトン（１
００〜１０００ｐｐｍ）及びキセノン（１０〜１００ｐ
ｐｍ）が濃縮された液化酸素を導出し、主凝縮蒸発器１
ａより下方に設置された濃縮塔２の中段に導入する。
【００１１】この場合、上記主凝縮蒸発器１ａは、通
常、複精留塔１の中間部、下部塔頂部の上に設けられて
いるため、地上より約２０ｍ程度の高い位置に設けられ
ている。また、下部塔，上部塔，主凝縮蒸発器がそれぞ
れ分離して設置されている型式の複精留塔であっても、
主凝縮蒸発器は、通常、この程度の高い位置に設けられ
ている。
常、複精留塔１の中間部、下部塔頂部の上に設けられて
いるため、地上より約２０ｍ程度の高い位置に設けられ
ている。また、下部塔，上部塔，主凝縮蒸発器がそれぞ
れ分離して設置されている型式の複精留塔であっても、
主凝縮蒸発器は、通常、この程度の高い位置に設けられ
ている。
【００１２】上記濃縮塔２の底部には、管３から供給さ
れる酸素ガスを加熱源とするリボイラー４が設けられて
おり、塔底液を加熱して上昇ガスを生成する。また、該
リボイラー４で液化した液化酸素は、管５を介して塔頂
部に導入され、該濃縮塔２の還流液となる。
れる酸素ガスを加熱源とするリボイラー４が設けられて
おり、塔底液を加熱して上昇ガスを生成する。また、該
リボイラー４で液化した液化酸素は、管５を介して塔頂
部に導入され、該濃縮塔２の還流液となる。
【００１３】前記複精留塔１から導入されたクリプトン
及びキセノンを含む液化酸素は、上記濃縮塔２による精
留で、塔底部にクリプトン及びキセノンを１０〜２０倍
に濃縮した濃縮液が得られ、塔頂部からは酸素ガスが管
６に導出される。
及びキセノンを含む液化酸素は、上記濃縮塔２による精
留で、塔底部にクリプトン及びキセノンを１０〜２０倍
に濃縮した濃縮液が得られ、塔頂部からは酸素ガスが管
６に導出される。
【００１４】上記塔底部の濃縮液には、クリプトン及び
キセノンに加えて、原料である液化酸素中に含まれてい
るメタンも濃縮され、１０００ｐｐｍ程度となることが
ある。これ以上メタン濃度が高まると危険であり、法的
規制もあるため、必要に応じてメタンパージ塔７を設
け、このメタンパージ塔７でメタンをパージする。
キセノンに加えて、原料である液化酸素中に含まれてい
るメタンも濃縮され、１０００ｐｐｍ程度となることが
ある。これ以上メタン濃度が高まると危険であり、法的
規制もあるため、必要に応じてメタンパージ塔７を設
け、このメタンパージ塔７でメタンをパージする。
【００１５】濃縮塔２の底部の濃縮液は、管８に導出さ
れて該濃縮液の液ヘッドで自然流入可能な位置に設置さ
れたメタンパージ塔７の中段に導入される。このメタン
パージ塔７の底部には、前記管３から導入される酸素ガ
スを分岐して用いるリボイラー９が設けられており、上
昇ガスを生成している。
れて該濃縮液の液ヘッドで自然流入可能な位置に設置さ
れたメタンパージ塔７の中段に導入される。このメタン
パージ塔７の底部には、前記管３から導入される酸素ガ
スを分岐して用いるリボイラー９が設けられており、上
昇ガスを生成している。
【００１６】また、メタンパージ塔７の中段、前記濃縮
液の導入部より下部には、前記濃縮塔２の頂部から管６
に導出された酸素ガスを上昇ガスとして導入する導入部
が設けられており、塔頂部には、前記濃縮塔２のリボイ
ラー４で液化し、管５に導出した液化酸素の一部が管９
に分岐して還流液として導入されている。
液の導入部より下部には、前記濃縮塔２の頂部から管６
に導出された酸素ガスを上昇ガスとして導入する導入部
が設けられており、塔頂部には、前記濃縮塔２のリボイ
ラー４で液化し、管５に導出した液化酸素の一部が管９
に分岐して還流液として導入されている。
【００１７】なお、このメタンパージ塔７の還流液に
は、該メタンパージ塔７のリボイラー９で液化した液化
酸素を用いることもできる。
は、該メタンパージ塔７のリボイラー９で液化した液化
酸素を用いることもできる。
【００１８】このメタンパージ塔７の頂部からは、メタ
ンを多量に含む酸素ガスが管１０に抜き出される。ま
た、メタンパージ塔７の底部には、クリプトンが約９０
００ｐｐｍ、キセノンが約１０００ｐｐｍに濃縮される
とともに、原料液化酸素中に含まれていた炭化水素（残
存メタンも含む）が約１０００ｐｐｍに濃縮される。
ンを多量に含む酸素ガスが管１０に抜き出される。ま
た、メタンパージ塔７の底部には、クリプトンが約９０
００ｐｐｍ、キセノンが約１０００ｐｐｍに濃縮される
とともに、原料液化酸素中に含まれていた炭化水素（残
存メタンも含む）が約１０００ｐｐｍに濃縮される。
【００１９】上記液化酸素中への炭化水素の過度の濃縮
は危険であるから、次に、この炭化水素を除去する工程
を行う。この炭化水素除去工程では、まず、メタンパー
ジ塔７の底部から管１１に導出した塔底液を、加熱器１
２で気化した後、管１３から加熱器１４ａを有する第１
触媒反応塔１４に導入して含有する炭化水素類と酸素と
を反応させ、二酸化炭素及び水にする。
は危険であるから、次に、この炭化水素を除去する工程
を行う。この炭化水素除去工程では、まず、メタンパー
ジ塔７の底部から管１１に導出した塔底液を、加熱器１
２で気化した後、管１３から加熱器１４ａを有する第１
触媒反応塔１４に導入して含有する炭化水素類と酸素と
を反応させ、二酸化炭素及び水にする。
【００２０】第１触媒反応塔１４を導出したガスは、冷
却器１５で降温した後、切換え使用される第１吸着器１
６の一方に導入され、触媒反応で生成した二酸化炭素と
水が吸着除去される。
却器１５で降温した後、切換え使用される第１吸着器１
６の一方に導入され、触媒反応で生成した二酸化炭素と
水が吸着除去される。
【００２１】上記第１の炭化水素除去工程から管１７に
導出したガスは、熱交換器１８で再び液化されて脱酸素
塔１９の中段に導入される。
導出したガスは、熱交換器１８で再び液化されて脱酸素
塔１９の中段に導入される。
【００２２】ここで、前記加熱器１２は、前記メタンパ
ージ塔７より下方で、かつ、該メタンパージ塔７底部か
ら導出される塔底液を加熱器１２で気化した後、前記第
１触媒反応塔１４，第１吸着器１６等を経て前記脱酸素
塔１９に導入するために必要な圧力に相当する液ヘッド
が得られる位置に設置されている。
ージ塔７より下方で、かつ、該メタンパージ塔７底部か
ら導出される塔底液を加熱器１２で気化した後、前記第
１触媒反応塔１４，第１吸着器１６等を経て前記脱酸素
塔１９に導入するために必要な圧力に相当する液ヘッド
が得られる位置に設置されている。
【００２３】即ち、メタンパージ塔７塔底液と加熱器１
２との上下関係は、該加熱器１２で気化したガスが、次
工程を経て脱酸素塔１９に導入されるまでの工程におけ
る圧力損失と同等以上の圧力を与える液ヘッドが得られ
る高さ以上に設定される。本実施例では、約１０ｍであ
る。
２との上下関係は、該加熱器１２で気化したガスが、次
工程を経て脱酸素塔１９に導入されるまでの工程におけ
る圧力損失と同等以上の圧力を与える液ヘッドが得られ
る高さ以上に設定される。本実施例では、約１０ｍであ
る。
【００２４】前記脱酸素塔１９の底部には、前記同様、
酸素ガスを加熱源とするリボイラー２０が設けられ、頂
部には、リボイラー２０で液化した液化酸素を寒冷源と
する凝縮器２１が設けられている。
酸素ガスを加熱源とするリボイラー２０が設けられ、頂
部には、リボイラー２０で液化した液化酸素を寒冷源と
する凝縮器２１が設けられている。
【００２５】この脱酸素塔１９における精留により、塔
頂部にはクリプトンを１０〜５０ｐｐｍ含む酸素ガスが
分離して管２２から導出され、塔底部には、クリプトン
９０〜９５％及びキセノン５〜７％、残部が酸素及び微
量の炭化水素からなる液化ガスが分離する。
頂部にはクリプトンを１０〜５０ｐｐｍ含む酸素ガスが
分離して管２２から導出され、塔底部には、クリプトン
９０〜９５％及びキセノン５〜７％、残部が酸素及び微
量の炭化水素からなる液化ガスが分離する。
【００２６】上記塔底部の液化ガスは、管２３に導出さ
れた後、一時液化ガス容器２４内に貯留される。この液
化ガス容器２４内の液化ガスは、該液化ガスが所定量、
即ち、後工程で精留分離が可能な量になったときに管２
５に導出され、上記残留する酸素や炭化水素とクリプト
ン及びキセノンとを分離する次工程に送られる。
れた後、一時液化ガス容器２４内に貯留される。この液
化ガス容器２４内の液化ガスは、該液化ガスが所定量、
即ち、後工程で精留分離が可能な量になったときに管２
５に導出され、上記残留する酸素や炭化水素とクリプト
ン及びキセノンとを分離する次工程に送られる。
【００２７】即ち、第２触媒塔，第２吸着器，第３触媒
塔，第３吸着器，分離塔等を経て、精製クリプトン及び
キセノンとして純度９９．９９％以上の製品ガスが得ら
れる。
塔，第３吸着器，分離塔等を経て、精製クリプトン及び
キセノンとして純度９９．９９％以上の製品ガスが得ら
れる。
【００２８】本発明では、上記のようにして液化酸素中
からクリプトン及びキセノンを分離精製する装置におい
て、主凝縮蒸発器１ａ部分の液化酸素が自身の液ヘッド
で自然流入できる位置に濃縮塔２を設置するとともに、
該濃縮塔２の底部から導出する濃縮液が自身の液ヘッド
で自然流入できる位置にメタンパージ塔７を設置し、さ
らに、該メタンパージ塔７の底部から導出された塔底液
を気化して、次工程の第１触媒反応塔１４，第１吸着器
１６及び熱交換器１８を経て脱酸素塔１９に送る加熱器
１２をメタンパージ塔７の下方に設置し、塔底液の液ヘ
ッドで前記経路にガスを送出するようにしたので、液化
酸素や濃縮液等の液ヘッドで次工程に液化ガス及び該液
化ガスを気化したガスを送出することができる。
からクリプトン及びキセノンを分離精製する装置におい
て、主凝縮蒸発器１ａ部分の液化酸素が自身の液ヘッド
で自然流入できる位置に濃縮塔２を設置するとともに、
該濃縮塔２の底部から導出する濃縮液が自身の液ヘッド
で自然流入できる位置にメタンパージ塔７を設置し、さ
らに、該メタンパージ塔７の底部から導出された塔底液
を気化して、次工程の第１触媒反応塔１４，第１吸着器
１６及び熱交換器１８を経て脱酸素塔１９に送る加熱器
１２をメタンパージ塔７の下方に設置し、塔底液の液ヘ
ッドで前記経路にガスを送出するようにしたので、液化
酸素や濃縮液等の液ヘッドで次工程に液化ガス及び該液
化ガスを気化したガスを送出することができる。
【００２９】これにより、従来設けられていたブロワー
等を省略することが可能となり、設備費や運転費の低減
が図れるとともに、不純物の侵入も防止できる。また、
濃縮塔２やメタンパージ塔７，加熱器１２等を上下に立
体的に配置するので、設置面積の低減も図れる。
等を省略することが可能となり、設備費や運転費の低減
が図れるとともに、不純物の侵入も防止できる。また、
濃縮塔２やメタンパージ塔７，加熱器１２等を上下に立
体的に配置するので、設置面積の低減も図れる。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のクリプト
ン及びキセノンの精製装置は、上述のような位置関係に
主凝縮蒸発器，濃縮塔，メタンパージ塔及び加熱器を配
設したので、液化酸素や濃縮液の自身の液ヘッドで次工
程に液化ガス及び該液化ガスを気化したガスを送出する
ことができ、ブロワーやポンプを設置する必要がなくな
るため、設備費や運転費の低減が図れるとともに、不純
物の侵入も防止できる。さらに、濃縮塔やメタンパージ
塔における精留圧力を減少させることができるので、精
留効率を向上させることができる。
ン及びキセノンの精製装置は、上述のような位置関係に
主凝縮蒸発器，濃縮塔，メタンパージ塔及び加熱器を配
設したので、液化酸素や濃縮液の自身の液ヘッドで次工
程に液化ガス及び該液化ガスを気化したガスを送出する
ことができ、ブロワーやポンプを設置する必要がなくな
るため、設備費や運転費の低減が図れるとともに、不純
物の侵入も防止できる。さらに、濃縮塔やメタンパージ
塔における精留圧力を減少させることができるので、精
留効率を向上させることができる。
【図１】本発明のクリプトン及びキセノンの精製装置の
一実施例を示す系統図である。
一実施例を示す系統図である。
１…複精留塔 １ａ…主凝縮蒸発器 ２…濃縮塔
４…リボイラー ７…メタンパージ塔 ９…リボイラー １２…
加熱器 １４…第１触媒反応塔 １５…冷却器 １６…
第１吸着器 １８…熱交換器 １９…脱酸素塔 ２０…リボ
イラー ２１…凝縮器 ２４…液化ガス容器
４…リボイラー ７…メタンパージ塔 ９…リボイラー １２…
加熱器 １４…第１触媒反応塔 １５…冷却器 １６…
第１吸着器 １８…熱交換器 １９…脱酸素塔 ２０…リボ
イラー ２１…凝縮器 ２４…液化ガス容器
Claims (2)
- 【請求項１】 空気液化分離装置の複精留塔の主凝縮蒸
発器部分から導出する液化酸素中のクリプトン及びキセ
ノンを、濃縮塔，触媒反応装置，吸着装置，脱酸素塔等
に順次導入して精製する装置において、前記濃縮塔を、
前記主凝縮蒸発器より僅かに低く、該主凝縮蒸発器から
の液化酸素が自身の液ヘッドで自然流入可能な位置に設
けるとともに、該濃縮塔の底部から導出した濃縮液を気
化する加熱器を、濃縮塔より下方で、かつ、該加熱器で
気化して導出したガスを、前記触媒反応装置，吸着装置
を経て前記脱酸素塔に導入するために必要な圧力に相当
する液ヘッドが得られる位置に設置したことを特徴とす
るクリプトン及びキセノンの精製装置。 - 【請求項２】 空気液化分離装置の複精留塔の主凝縮蒸
発器部分から導出する液化酸素中のクリプトン及びキセ
ノンを、濃縮塔，メタンパージ塔，触媒反応装置，吸着
装置，脱酸素塔等に順次導入して精製する装置におい
て、前記濃縮塔を、前記主凝縮蒸発器より僅かに低く、
該主凝縮蒸発器からの液化酸素が自身の液ヘッドで自然
流入可能な位置に設けるとともに、前記メタンパージ塔
を、上記濃縮塔の底部から導出した濃縮液が自身の液ヘ
ッドにより自然流入可能な位置に設け、さらに、該メタ
ンパージ塔の底部から導出した塔底液を気化する加熱器
を、メタンパージ塔より下方で、かつ、該加熱器で気化
して導出したガスを、前記触媒反応装置，吸着装置を経
て前記脱酸素塔に導入するために必要な圧力に相当する
液ヘッドが得られる位置に設置したことを特徴とするク
リプトン及びキセノンの精製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07474392A JP3261484B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | クリプトン及びキセノンの精製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07474392A JP3261484B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | クリプトン及びキセノンの精製装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05280863A true JPH05280863A (ja) | 1993-10-29 |
| JP3261484B2 JP3261484B2 (ja) | 2002-03-04 |
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ID=13556037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07474392A Expired - Fee Related JP3261484B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | クリプトン及びキセノンの精製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3261484B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112432429A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-03-02 | 杭州制氧机集团股份有限公司 | 一种低温精馏提取液氧中氪氙的装置及方法 |
| JP2021162247A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 大陽日酸株式会社 | 空気液化分離装置 |
| EP4782084A1 (de) * | 2025-01-24 | 2026-07-29 | Linde GmbH | Verfahren und anlage zur bearbeitung eines krypton, xenon, methan und sauerstoff enthaltenden einsatzgemischs |
| WO2026158953A1 (de) * | 2025-01-24 | 2026-07-30 | Linde Gmbh | Verfahren und anlage zur bearbeitung eines krypton, xenon, methan und sauerstoff enthaltenden einsatzgemischs |
-
1992
- 1992-03-30 JP JP07474392A patent/JP3261484B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
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|---|---|---|---|---|
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| CN112432429A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-03-02 | 杭州制氧机集团股份有限公司 | 一种低温精馏提取液氧中氪氙的装置及方法 |
| CN112432429B (zh) * | 2020-11-02 | 2024-02-20 | 杭氧集团股份有限公司 | 一种低温精馏提取液氧中氪氙的装置及方法 |
| EP4782084A1 (de) * | 2025-01-24 | 2026-07-29 | Linde GmbH | Verfahren und anlage zur bearbeitung eines krypton, xenon, methan und sauerstoff enthaltenden einsatzgemischs |
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| WO2026158953A1 (de) * | 2025-01-24 | 2026-07-30 | Linde Gmbh | Verfahren und anlage zur bearbeitung eines krypton, xenon, methan und sauerstoff enthaltenden einsatzgemischs |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3261484B2 (ja) | 2002-03-04 |
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