JPH05281157A - X線撮像装置 - Google Patents
X線撮像装置Info
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- JPH05281157A JPH05281157A JP4074290A JP7429092A JPH05281157A JP H05281157 A JPH05281157 A JP H05281157A JP 4074290 A JP4074290 A JP 4074290A JP 7429092 A JP7429092 A JP 7429092A JP H05281157 A JPH05281157 A JP H05281157A
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(1)からのX線を検出することにより、被写体のX線
透過像を撮像するX線撮像装置(2)において、被写体
で放出される二次X線および可視光を透過せず、被写体
を透過したX線源からのX線のみを選択的に透過する例
えばAl製の容器(21)と、この容器の内部に設けら
れた撮像デバイス(24)と、この撮像デバイスの受光
面側に設けられたファイバ光学プレート(23)と、こ
のファイバ光学プレートの前面に設けられてX線の入射
により発光するシンチレータ(22)とを備える。そし
て、上記容器の内面には、シンチレータからの光の反射
を防止する処理が施されている。容器が可視光と二次X
線を透過しない構成なので、X線撮像に係わる硬X線の
みを透過させる。また、容器の内面には、シンチレーシ
ョン光の反射防止処理がされているので、シンチレータ
からの光の再入射による解像度の低下が生じない。
Description
のである。
撮像素子が用いられる。ここで、固体撮像素子はX線に
感度を持たないので、固体撮像素子の前面にはシンチレ
ータが設けられる。X線が入射されるとシンチレータが
発光し、この可視光はファイバ光学プレート(FOP)
などを介して固体撮像素子に入射される。
なX線撮像装置は、一般には容器に収められ、X線撮像
に使用される。すると、シンチレータからの発光は、固
体撮像素子の方向だけでなく、その反対方向にも生じる
ため、容器の内面で反射されてシンチレータに再入射さ
れ、そのままFOPを通って固体撮像素子に検出される
ことがある。
かった。特に、容器を反射性の大きいアルミニウム(A
l)で形成すると、反射光による解像度低下は著しい。
を目的としている。
したX線源からのX線を検出することにより、前記被写
体のX線透過像を撮像するX線撮像装置において、被写
体で放出される二次X線および可視光を透過せず、被写
体を透過したX線源からのX線のみを選択的に透過する
容器と、この容器の内部に設けられた撮像デバイスと、
この撮像デバイスの受光面側に設けられたファイバ光学
プレートと、このファイバ光学プレートの前面に設けら
れてX線の入射により発光するシンチレータとを備え、
上記容器の内面にはシンチレータからの光の反射を防止
する処理が施されていることを特徴とする。
のように、可視光と二次X線を透過しない構成なので、
X線撮像に係わる高エネルギーのX線のみを透過させ
る。また、容器の内面には、シンチレーション光の反射
防止処理がされているので、シンチレータからの光の再
入射による解像度の低下が生じない。
を説明する。
像装置2の間には被写体3が置かれている。X線撮像装
置2は例えばAl製の容器21を有し、この内部にはX
線の入射方向から順に、シンチレータ22、FOP23
および固体撮像デバイス24がセットされている。そし
て、容器21の内面には反射防止膜25が形成されてい
る。
容器21は、外部からの可視光と、低エネルギー(10
keV以下)の軟X線を透過しない性質を有し、反射防
止膜25は可視光を反射させない性質を有している。一
方、X線源1は高エネルギー(100keV程度)の硬
X線を投射する能力を有し、被写体3はこの硬X線をの
一部を透過させつつ、二次X線としての軟X線を放出す
る性質を有する。
源1から硬X線が被写体3に照射されると、被写体3の
材質や厚さに応じた割合で硬X線が透過し、同時に軟X
線が二次放出される。これらX線のうち、硬X線は容器
21および反射防止膜25を透過してシンチレータ22
に入射され、軟X線は容器21で吸収あるいは反射され
る。このため、信号成分の硬X線のみが容器21内に入
射される。
視光が生成され、固体撮像デバイス24に向かう方向の
成分はFOP23を通って固体撮像デバイス24に検出
される。このため、被写体3のイメージングが可能とな
る。これに対し、固体撮像デバイス24に向かう方向以
外のシンチレーション光は、容器21の内面の反射防止
膜25で吸収される。このため、反射光がシンチレータ
22にフィードバックされてFOP23から固体撮像デ
バイス24に入射し、解像度が低下するという事態にな
らない。
吸収する性質も有しているので、残った軟X線の入射に
より固体撮像デバイス24でキャリアが生成し、解像度
が低下するようなこともなく、また固体撮像デバイス2
4を長寿命にできる。
のものに限らず、軟X線および可視光を反射あるいは吸
収して、硬X線を透過する性質を持っていればよい。ま
た、内面の反射防止処理は、誘電体多層膜のコーティン
グにより実現してもよく、黒色アルマイト加工などによ
り実現してもよい。
器が例えばAl容器のように、可視光と二次X線を透過
しない構成なので、X線撮像に係わる高エネルギーのX
線(硬X線)のみを透過させる。また、容器の内面に
は、シンチレーション光の反射防止処理がされているの
で、シンチレータからの光の再入射による解像度の低下
が生じない。このため、簡単な構成によって、大幅な解
像度の向上が可能になる。
ンチレータ、23…FOP(ファイバ光学プレート)、
24…固体撮像デバイス、25…反射防止膜、3…被写
体。
Claims (1)
- 【請求項1】 被写体を透過したX線源からのX線を検
出することにより、前記被写体のX線透過像を撮像する
X線撮像装置において、 前記被写体で放出される二次X線および可視光を透過せ
ず、前記被写体を透過した前記X線源からのX線のみを
選択的に透過する容器と、 この容器の内部に設けられた撮像デバイスと、 この撮像デバイスの受光面側に設けられたファイバ光学
プレートと、 このファイバ光学プレートの前面に設けられてX線の入
射により発光するシンチレータとを備え、前記容器の内
面には前記シンチレータからの光の反射を防止する処理
が施されていることを特徴とするX線撮像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07429092A JP3610075B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | X線撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07429092A JP3610075B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | X線撮像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05281157A true JPH05281157A (ja) | 1993-10-29 |
| JP3610075B2 JP3610075B2 (ja) | 2005-01-12 |
Family
ID=13542860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07429092A Expired - Lifetime JP3610075B2 (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | X線撮像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3610075B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013181759A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Daishinku Corp | シンチレータ素子保持モジュールおよび当該シンチレータ素子保持モジュールを用いた放射光発生装置 |
| JP2016125900A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 京セラオプテック株式会社 | 間接撮影用レンズ装置 |
| CN120668701A (zh) * | 2025-08-21 | 2025-09-19 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种宽能区的原位x射线谱学表征系统 |
-
1992
- 1992-03-30 JP JP07429092A patent/JP3610075B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013181759A (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-12 | Daishinku Corp | シンチレータ素子保持モジュールおよび当該シンチレータ素子保持モジュールを用いた放射光発生装置 |
| JP2016125900A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 京セラオプテック株式会社 | 間接撮影用レンズ装置 |
| CN120668701A (zh) * | 2025-08-21 | 2025-09-19 | 中国科学院上海高等研究院 | 一种宽能区的原位x射线谱学表征系统 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3610075B2 (ja) | 2005-01-12 |
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