JPH05282702A - 情報信号記録媒体の基板 - Google Patents
情報信号記録媒体の基板Info
- Publication number
- JPH05282702A JPH05282702A JP4062296A JP6229692A JPH05282702A JP H05282702 A JPH05282702 A JP H05282702A JP 4062296 A JP4062296 A JP 4062296A JP 6229692 A JP6229692 A JP 6229692A JP H05282702 A JPH05282702 A JP H05282702A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resin
- optical disk
- molding
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 優れた光学特性と転写特性を共に満たした情
報信号記録媒体の基板を提供することである。 【構成】 ガラス転移温度より低い温度での収縮率が約
０．１〜１．０％の樹脂で構成されてなる情報信号記録
媒体の基板。
報信号記録媒体の基板を提供することである。 【構成】 ガラス転移温度より低い温度での収縮率が約
０．１〜１．０％の樹脂で構成されてなる情報信号記録
媒体の基板。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばレーザ光を用い
た記録再生システムに用いられる情報信号記録媒体の基
板に関するものである。
た記録再生システムに用いられる情報信号記録媒体の基
板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、レーザ光を照射して記録媒体に情
報を記録したり、記録されている情報を再生したりする
ことの出来る光学式情報記録再生装置が広く用いられて
いる。このような装置に使用される記録媒体（光ディス
ク）として、コンパクトディスク（ＣＤ）、ビデオディ
スク（ＶＤ）、追記型光ディスク（ＷＯ）、書換可能な
光磁気ディスク（ＭＯ）等が知られている。そして、こ
れらの光ディスクの基板材料としては生産性やコスト等
の面からプラスチックが一般的に用いられ、射出成形手
段により基板が製造されている。
報を記録したり、記録されている情報を再生したりする
ことの出来る光学式情報記録再生装置が広く用いられて
いる。このような装置に使用される記録媒体（光ディス
ク）として、コンパクトディスク（ＣＤ）、ビデオディ
スク（ＶＤ）、追記型光ディスク（ＷＯ）、書換可能な
光磁気ディスク（ＭＯ）等が知られている。そして、こ
れらの光ディスクの基板材料としては生産性やコスト等
の面からプラスチックが一般的に用いられ、射出成形手
段により基板が製造されている。
【０００３】ところで、光ディスクの基板材料として、
従来より、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂などが
知られており、これらの樹脂は透明性に優れているとい
った特長を有している。
従来より、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂などが
知られており、これらの樹脂は透明性に優れているとい
った特長を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの光
ディスクに用いられるプラスチックス基板に要求される
特性として、金型に配置されたスタンパの表面形状、す
なわち情報ピット列が正確に転写されることが挙げられ
る。その他、射出成形時の残留歪による複屈折の発生が
抑制されること、又、高度な寸法安定性が挙げられる。
ディスクに用いられるプラスチックス基板に要求される
特性として、金型に配置されたスタンパの表面形状、す
なわち情報ピット列が正確に転写されることが挙げられ
る。その他、射出成形時の残留歪による複屈折の発生が
抑制されること、又、高度な寸法安定性が挙げられる。
【０００５】しかしながら、これまでに提案されて来た
各種の樹脂では複屈折等の光学特性や転写特性を充分に
満足できているとは言えなかった。例えば、光ディスク
基板材料としてポリカーボネート樹脂が用いられた場
合、上記の課題を解決する為に樹脂温度を上げ過酷な条
件下で成形したり、情報ピット列を正確に転写する為に
冷却時間を長くし、サイクルタイムを長くする等の手段
が考えられている。その結果、生産効率が低下したり、
品質の低下が起きたりしている。
各種の樹脂では複屈折等の光学特性や転写特性を充分に
満足できているとは言えなかった。例えば、光ディスク
基板材料としてポリカーボネート樹脂が用いられた場
合、上記の課題を解決する為に樹脂温度を上げ過酷な条
件下で成形したり、情報ピット列を正確に転写する為に
冷却時間を長くし、サイクルタイムを長くする等の手段
が考えられている。その結果、生産効率が低下したり、
品質の低下が起きたりしている。
【０００６】尚、特開平１−２６４８１６号公報では、
転写性の向上を図る為に、成形終了時に光ディスク基板
の離型法を工夫することが提案されているが、充分な解
決には至っていない。従って、本発明の目的は、優れた
光学特性と転写特性を共に満たした情報信号記録媒体の
基板を提供することである。
転写性の向上を図る為に、成形終了時に光ディスク基板
の離型法を工夫することが提案されているが、充分な解
決には至っていない。従って、本発明の目的は、優れた
光学特性と転写特性を共に満たした情報信号記録媒体の
基板を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記本発明の目的は、ガ
ラス転移温度より低い温度での収縮率が約０．１〜１．
０％の樹脂で構成されてなることを特徴とする情報信号
記録媒体の基板によって達成される。尚、ガラス転移温
度より低い温度での収縮率が約０．３〜０．７％の樹脂
で構成されてなるものが好ましい。このような樹脂材料
としては、例えばポリカーボネート、ポリメチルメタア
クリレート、エポキシ系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、
主鎖中にノルボルナン骨格あるいはナフタレン、アント
ラセン骨格よりなるポリエステルやポリカーボネート又
はポリエステルカーボネート系等の樹脂材料の中から選
ぶことが出来る。勿論、これらに限られるものではな
い。
ラス転移温度より低い温度での収縮率が約０．１〜１．
０％の樹脂で構成されてなることを特徴とする情報信号
記録媒体の基板によって達成される。尚、ガラス転移温
度より低い温度での収縮率が約０．３〜０．７％の樹脂
で構成されてなるものが好ましい。このような樹脂材料
としては、例えばポリカーボネート、ポリメチルメタア
クリレート、エポキシ系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、
主鎖中にノルボルナン骨格あるいはナフタレン、アント
ラセン骨格よりなるポリエステルやポリカーボネート又
はポリエステルカーボネート系等の樹脂材料の中から選
ぶことが出来る。勿論、これらに限られるものではな
い。
【０００８】以下、本発明について詳述する。光ディス
ク基板の成形では加熱溶融されたポリカーボネート等の
樹脂がスタンパの取り付けられた金型キャビティに射出
される。金型には温度調節機構があり、射出された樹脂
は冷却されながら目的とする成形物となる。精密射出成
形では高速で金型キャビティへ樹脂を充填し、素早く冷
却を行い、金型内より取り出すことが要求される。しか
しながら、金型キャビティ内に射出された後、直ちにこ
れを取り出すと、冷却収縮に伴う体積減少が起きる為、
充分な転写が得られない。従って、転写特性を良くする
為には冷却に時間をかけることが必要とされ、射出成形
のサイクルタイムは長くなる。又、光ディスク基板の成
形では、光学特性を良好にする為に金型温度を高くする
ことが要請されている。従って、この面からも射出成形
のサイクルタイムは長くなる。
ク基板の成形では加熱溶融されたポリカーボネート等の
樹脂がスタンパの取り付けられた金型キャビティに射出
される。金型には温度調節機構があり、射出された樹脂
は冷却されながら目的とする成形物となる。精密射出成
形では高速で金型キャビティへ樹脂を充填し、素早く冷
却を行い、金型内より取り出すことが要求される。しか
しながら、金型キャビティ内に射出された後、直ちにこ
れを取り出すと、冷却収縮に伴う体積減少が起きる為、
充分な転写が得られない。従って、転写特性を良くする
為には冷却に時間をかけることが必要とされ、射出成形
のサイクルタイムは長くなる。又、光ディスク基板の成
形では、光学特性を良好にする為に金型温度を高くする
ことが要請されている。従って、この面からも射出成形
のサイクルタイムは長くなる。
【０００９】ところで、本発明者による研究の結果、金
型キャビティ内に配置されたスタンパの表面形状、すな
わちピット列を正確に転写する為には、キャビティ内で
の樹脂冷却過程における収縮率が重要な役割を担ってい
ることが判って来た。しかも、用いられた樹脂のガラス
転移温度（Ｔｇ）以下の領域での収縮率が特に重要であ
ることが判って来た。すなわち、用いられた樹脂のＴｇ
以下の温度領域になると収縮速度が一段と遅くなり、こ
の為に充分正確な転写を得ようとすると長い冷却時間が
必要となり、射出成形のサイクルタイムが一層長くな
り、生産効率が低くなることは前述した通りであるが、
ここでガラス転移温度より低い温度での収縮率が約０．
１〜１．０％である場合には、収縮率が小さいことから
素早く冷却を行って金型内より取り出しても冷却収縮に
伴う体積減少は一段と小さく、射出成形のサイクルタイ
ムを短くしても充分正確な転写が得られていたのであ
る。
型キャビティ内に配置されたスタンパの表面形状、すな
わちピット列を正確に転写する為には、キャビティ内で
の樹脂冷却過程における収縮率が重要な役割を担ってい
ることが判って来た。しかも、用いられた樹脂のガラス
転移温度（Ｔｇ）以下の領域での収縮率が特に重要であ
ることが判って来た。すなわち、用いられた樹脂のＴｇ
以下の温度領域になると収縮速度が一段と遅くなり、こ
の為に充分正確な転写を得ようとすると長い冷却時間が
必要となり、射出成形のサイクルタイムが一層長くな
り、生産効率が低くなることは前述した通りであるが、
ここでガラス転移温度より低い温度での収縮率が約０．
１〜１．０％である場合には、収縮率が小さいことから
素早く冷却を行って金型内より取り出しても冷却収縮に
伴う体積減少は一段と小さく、射出成形のサイクルタイ
ムを短くしても充分正確な転写が得られていたのであ
る。
【００１０】尚、本明細書で述べた収縮率とはガラス転
移点での基板寸法と金型から取り出した基板寸法の比を
意味するものであり、これは前述の精密射出成形の過程
を圧力（ｐ）、温度（Ｔ）、比容積（ｖ）を用いたｐｖ
Ｔ線図（図１）を用いて説明される。先ず、ｐｖＴ線図
上のＡ点で射出が開始され、射出と共にキャビティ内の
圧力が上昇する。次いで、Ｂ点で射出が完了し、保圧の
状態となる。この時点で冷却が始まり、Ｃ点のガラス転
移温度まで収縮が進む。さらに、Ｄ点に到達した時点で
金型より基板を取り出すことになる。図１中におけるＣ
点とＤ点との比容積差が収縮であり、従って収縮率はガ
ラス転移点での基板寸法と金型から取り出した基板寸法
の比となる。
移点での基板寸法と金型から取り出した基板寸法の比を
意味するものであり、これは前述の精密射出成形の過程
を圧力（ｐ）、温度（Ｔ）、比容積（ｖ）を用いたｐｖ
Ｔ線図（図１）を用いて説明される。先ず、ｐｖＴ線図
上のＡ点で射出が開始され、射出と共にキャビティ内の
圧力が上昇する。次いで、Ｂ点で射出が完了し、保圧の
状態となる。この時点で冷却が始まり、Ｃ点のガラス転
移温度まで収縮が進む。さらに、Ｄ点に到達した時点で
金型より基板を取り出すことになる。図１中におけるＣ
点とＤ点との比容積差が収縮であり、従って収縮率はガ
ラス転移点での基板寸法と金型から取り出した基板寸法
の比となる。
【００１１】以下、実施例により本発明をさらに具体的
に説明する。
に説明する。
【００１２】
〔実施例１〕光ディスク基板成形用樹脂としてパンライ
トＡＤ５５０３（帝人化成製のポリカーボネート）を用
い、ノズルヘッド温度３５０℃、金型温度１１５℃にて
射出成形により光ディスク基板を得た。尚、得られた基
板の収縮率は０．５％であった。
トＡＤ５５０３（帝人化成製のポリカーボネート）を用
い、ノズルヘッド温度３５０℃、金型温度１１５℃にて
射出成形により光ディスク基板を得た。尚、得られた基
板の収縮率は０．５％であった。
【００１３】そして、この基板面上にＴｂ／Ｆｅ／Ｃｏ
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔実施例２〕光ディスク基板成形用樹脂としてノルボル
ナン骨格を有する脂環式ポリカーボネート樹脂を用い、
ノズルヘッド温度２６０℃、金型温度１１０℃にて射出
成形により光ディスク基板を得た。尚、得られた基板の
収縮率は０．３％であった。
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔実施例２〕光ディスク基板成形用樹脂としてノルボル
ナン骨格を有する脂環式ポリカーボネート樹脂を用い、
ノズルヘッド温度２６０℃、金型温度１１０℃にて射出
成形により光ディスク基板を得た。尚、得られた基板の
収縮率は０．３％であった。
【００１４】そして、この基板面上にＴｂ／Ｆｅ／Ｃｏ
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔実施例３〕光ディスク基板成形用樹脂としてアントラ
セン骨格を有する脂環式ポリエステルカーボネート樹脂
を用い、ノズルヘッド温度２７０℃、金型温度１１５℃
にて射出成形により光ディスク基板を得た。尚、得られ
た基板の収縮率は０．７％であった。
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔実施例３〕光ディスク基板成形用樹脂としてアントラ
セン骨格を有する脂環式ポリエステルカーボネート樹脂
を用い、ノズルヘッド温度２７０℃、金型温度１１５℃
にて射出成形により光ディスク基板を得た。尚、得られ
た基板の収縮率は０．７％であった。
【００１５】そして、この基板面上にＴｂ／Ｆｅ／Ｃｏ
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔比較例１〕光ディスク基板成形用樹脂としてポリブチ
レンテレフタレートを用い、ノズルヘッド温度２８０
℃、金型温度９０℃にて射出成形により光ディスク基板
を得た。尚、得られた基板の収縮率は１．８％であっ
た。
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔比較例１〕光ディスク基板成形用樹脂としてポリブチ
レンテレフタレートを用い、ノズルヘッド温度２８０
℃、金型温度９０℃にて射出成形により光ディスク基板
を得た。尚、得られた基板の収縮率は１．８％であっ
た。
【００１６】そして、この基板面上にＴｂ／Ｆｅ／Ｃｏ
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔比較例２〕光ディスク基板成形用樹脂としてグラファ
イト強化ポリエチレンテレフタレートを用い、ノズルヘ
ッド温度２８０℃、金型温度１００℃にて射出成形によ
り光ディスク基板を得た。尚、得られた基板の収縮率は
０．０４％であった。
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔比較例２〕光ディスク基板成形用樹脂としてグラファ
イト強化ポリエチレンテレフタレートを用い、ノズルヘ
ッド温度２８０℃、金型温度１００℃にて射出成形によ
り光ディスク基板を得た。尚、得られた基板の収縮率は
０．０４％であった。
【００１７】そして、この基板面上にＴｂ／Ｆｅ／Ｃｏ
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔特性〕上記各例で得られた光ディスクにおけるスタン
パ上のピット列の転写性を、６３３ｎｍのレーザ光によ
る回折効率を測定することで評価した。これらの結果を
表１に示す。
からなる磁気記録膜をスパッタリングにより製膜し、さ
らにその上に保護膜として紫外線硬化膜を塗布・硬化さ
せ、光ディスクを構成した。 〔特性〕上記各例で得られた光ディスクにおけるスタン
パ上のピット列の転写性を、６３３ｎｍのレーザ光によ
る回折効率を測定することで評価した。これらの結果を
表１に示す。
【００１８】
【００１９】
【効果】本発明によれば、光学特性及びピットの正確な
転写が行われた情報信号記録媒体の基板が得られる。
転写が行われた情報信号記録媒体の基板が得られる。
【図１】収縮率を説明する為のｐｖＴ線図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラス転移温度より低い温度での収縮率
が約０．１〜１．０％の樹脂で構成されてなることを特
徴とする情報信号記録媒体の基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062296A JPH05282702A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 情報信号記録媒体の基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4062296A JPH05282702A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 情報信号記録媒体の基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05282702A true JPH05282702A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=13196018
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4062296A Pending JPH05282702A (ja) | 1992-03-18 | 1992-03-18 | 情報信号記録媒体の基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05282702A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0655734A1 (en) * | 1993-11-30 | 1995-05-31 | Sony Corporation | A magnetic disc substrate and a magnetic disc using the same |
-
1992
- 1992-03-18 JP JP4062296A patent/JPH05282702A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0655734A1 (en) * | 1993-11-30 | 1995-05-31 | Sony Corporation | A magnetic disc substrate and a magnetic disc using the same |
| EP1001408A3 (en) * | 1993-11-30 | 2000-06-14 | Sony Corporation | A magnetic disc substrate and a magnetic disc using the same |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5683630A (en) | Process for making optical disk substrates | |
| JPH04105231A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH1186353A (ja) | 光ディスク、光ディスクの射出成形用金型、及び、光ディスク製造用の射出成形機 | |
| JPH05282702A (ja) | 情報信号記録媒体の基板 | |
| USRE38107E1 (en) | Method for producing optical disc substrates | |
| JP3095763B2 (ja) | ディスク基板成型用スタンパ及びディスク基板の成型方法 | |
| JP2693950B2 (ja) | 光学式デイスク用基盤成形方法 | |
| JPH11242829A (ja) | 光記録媒体及びその製造方法 | |
| US5906775A (en) | Method of producing substrate for optical disc | |
| JPH05258350A (ja) | 情報信号記録媒体の基板 | |
| Hellmig | DVDs: in the fast lane | |
| Bruder et al. | Materials for optical disc substrates | |
| JP2001058341A (ja) | 光ディスク基板成形金型および光ディスク基板 | |
| JPH07272324A (ja) | 光ディスク | |
| JP3072736B2 (ja) | 光ディスク基板成形装置 | |
| JPH07107746B2 (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0850737A (ja) | 光記録媒体用基板 | |
| JPH09198722A (ja) | 光記録媒体の基板製造方法および光記録媒体 | |
| JP2002074766A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPS62169643A (ja) | 光学的情報記録媒体 | |
| JPH05109125A (ja) | 光デイスクの製造方法およびその材料 | |
| Sandstrom | Optical Disk Substrate Technology | |
| JP2004355733A (ja) | 光記録媒体 | |
| JPS6398435A (ja) | 光デイスク基板の製造方法 | |
| JP2001155384A (ja) | 情報記録ディスク |