JPH07291671A - 電波透過型の熱線遮蔽ガラス - Google Patents
電波透過型の熱線遮蔽ガラスInfo
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/225—Nitrides
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- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
- C03C17/3435—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐摩耗性、耐食性、耐久性に優れた膜構成
で、電波透過性が通常のフロ−トガラス並でTV帯での電
波障害を低減しかつ車輌用ガラスアンテナ付単板断熱ガ
ラスに極めて有用であり、熱線遮蔽性で冷暖房効果を向
上し、透過色調がグレー系色調を呈し、合せ或いは複層
ガラス等は勿論、単板ガラスとして使用可能なガラスを
得る。 【構成】 透明なガラス基板の片面に、Crを主成分と
し、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少なくとも１種の
元素とCrの化合物または混合物の窒化物または窒素酸化
物薄膜を熱線遮蔽性能膜として被覆したことを特徴とす
る電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
で、電波透過性が通常のフロ−トガラス並でTV帯での電
波障害を低減しかつ車輌用ガラスアンテナ付単板断熱ガ
ラスに極めて有用であり、熱線遮蔽性で冷暖房効果を向
上し、透過色調がグレー系色調を呈し、合せ或いは複層
ガラス等は勿論、単板ガラスとして使用可能なガラスを
得る。 【構成】 透明なガラス基板の片面に、Crを主成分と
し、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少なくとも１種の
元素とCrの化合物または混合物の窒化物または窒素酸化
物薄膜を熱線遮蔽性能膜として被覆したことを特徴とす
る電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、太陽輻射エネルギ−を
遮蔽する主として自動車等の車輌あるいは建築物等の窓
ガラスに用いる被膜付きの熱線遮蔽ガラスであって、と
りわけ冷暖房効果を向上せしめることができるととも
に、電波の透過性が通常すなわち未加工のフロートガラ
ス並であって、建築物用として利用した場合には、ビル
周囲の住宅等においてTV画像でのゴースト現象等の電波
の障害を低減でき、高層建築用窓ガラスとして有用であ
り、さらにとりわけ電波の高透過性能を必要とする車輌
用ガラスにおいて、特に熱線反射膜の表面抵抗率が100
ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高抵抗を必要
とするフロントウインド、リヤウインド等のガラスアン
テナ付き単板断熱ガラス等にきわめて有用である電波透
過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラスに関する。
遮蔽する主として自動車等の車輌あるいは建築物等の窓
ガラスに用いる被膜付きの熱線遮蔽ガラスであって、と
りわけ冷暖房効果を向上せしめることができるととも
に、電波の透過性が通常すなわち未加工のフロートガラ
ス並であって、建築物用として利用した場合には、ビル
周囲の住宅等においてTV画像でのゴースト現象等の電波
の障害を低減でき、高層建築用窓ガラスとして有用であ
り、さらにとりわけ電波の高透過性能を必要とする車輌
用ガラスにおいて、特に熱線反射膜の表面抵抗率が100
ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高抵抗を必要
とするフロントウインド、リヤウインド等のガラスアン
テナ付き単板断熱ガラス等にきわめて有用である電波透
過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラスに関する。
【０００２】
【従来技術】近年、省エネや冷暖房効率の向上等から熱
線反射ガラスが多用されるようになり、一方では種々の
情報網が発達するなかで各種の電波が行き交うこととな
ってきており、例えばテレビ電波の受信にあたり、ビル
の反射によるゴースト障害が問題視され、また例えば車
輌用ガラスアンテナ付き窓ガラスにおける性能への影響
をより低減する必要がある等、より高性能でかつ多機能
を要求されるようになってきている。
線反射ガラスが多用されるようになり、一方では種々の
情報網が発達するなかで各種の電波が行き交うこととな
ってきており、例えばテレビ電波の受信にあたり、ビル
の反射によるゴースト障害が問題視され、また例えば車
輌用ガラスアンテナ付き窓ガラスにおける性能への影響
をより低減する必要がある等、より高性能でかつ多機能
を要求されるようになってきている。
【０００３】従来の熱線反射ガラスはあまりにも断熱性
能を重視するために透過率が比較的低く、例えば特開昭
63ー190742号公報には熱線反射ガラスの製法について記
載されており、ガラス基板からの反射色調がブルー色系
を得るために、第１層であるTiO2層の膜厚が５〜10nm、
第２層であるTiN 層の膜厚が22.5〜31.5nm、第３層であ
るTiO2層の膜厚12.5〜17.5nmであること、またガラス面
側からの反射色調がグリーン系を得るためには、第１層
であるTiO2層の膜厚が14〜18nm、第２層であるTiN 層の
膜厚が37.5〜42.5nm、第３層であるTiO2層の膜厚8.5 〜
15.5nmであること、あるいは第１層であるTiO2層の膜厚
が９〜13nm、第２層であるTiN 層の膜厚が38〜42nm、第
３層であるTiO2層の膜厚15.5〜20nmであること等が開示
されている。
能を重視するために透過率が比較的低く、例えば特開昭
63ー190742号公報には熱線反射ガラスの製法について記
載されており、ガラス基板からの反射色調がブルー色系
を得るために、第１層であるTiO2層の膜厚が５〜10nm、
第２層であるTiN 層の膜厚が22.5〜31.5nm、第３層であ
るTiO2層の膜厚12.5〜17.5nmであること、またガラス面
側からの反射色調がグリーン系を得るためには、第１層
であるTiO2層の膜厚が14〜18nm、第２層であるTiN 層の
膜厚が37.5〜42.5nm、第３層であるTiO2層の膜厚8.5 〜
15.5nmであること、あるいは第１層であるTiO2層の膜厚
が９〜13nm、第２層であるTiN 層の膜厚が38〜42nm、第
３層であるTiO2層の膜厚15.5〜20nmであること等が開示
されている。
【０００４】また例えば、本出願人が既に提案した特開
平３−208837号公報では、単板断熱ガラス板およびその
色ガラスを記載しており、ガラス基板からの反射色調が
ブルー色系を得るためには、ガラス板のような透明板の
一方の表面に、第１層として膜厚が10〜30nmのSiOxまた
はAl-SiOx 膜、第２層として膜厚が10〜40nmのTiNx膜、
第３層として膜厚が０〜20nmのTiOx膜、第４層として膜
厚が30〜50nmのSiOxまたはAl-SiOx 膜をそれぞれスパッ
タ法で成膜してなるものを開示している。
平３−208837号公報では、単板断熱ガラス板およびその
色ガラスを記載しており、ガラス基板からの反射色調が
ブルー色系を得るためには、ガラス板のような透明板の
一方の表面に、第１層として膜厚が10〜30nmのSiOxまた
はAl-SiOx 膜、第２層として膜厚が10〜40nmのTiNx膜、
第３層として膜厚が０〜20nmのTiOx膜、第４層として膜
厚が30〜50nmのSiOxまたはAl-SiOx 膜をそれぞれスパッ
タ法で成膜してなるものを開示している。
【０００５】さらに電波障害を低減しようとするものと
しては例えば、本出願人が既に提案した特開平３−2523
32号公報では、電波低反射の熱線反射ガラスを記載して
おり、電波障害を低減したブルー系色調を呈する熱線反
射ガラスを得るためには、透明なガラス基板の一方の表
面に、第１層ならびに第３層として有色誘電体薄膜を積
層し、第２層として表面抵抗率が200 Ω／口以上の金属
薄膜または金属窒化物薄膜を積層して成り、該被膜面の
反対側から見た反射色調がブルーあるいはゴールド色で
あるものを開示している。
しては例えば、本出願人が既に提案した特開平３−2523
32号公報では、電波低反射の熱線反射ガラスを記載して
おり、電波障害を低減したブルー系色調を呈する熱線反
射ガラスを得るためには、透明なガラス基板の一方の表
面に、第１層ならびに第３層として有色誘電体薄膜を積
層し、第２層として表面抵抗率が200 Ω／口以上の金属
薄膜または金属窒化物薄膜を積層して成り、該被膜面の
反対側から見た反射色調がブルーあるいはゴールド色で
あるものを開示している。
【０００６】さらに例えば、本出願人が既に提案した特
願平４−203948号では、電波透過型熱線反射ガラスを記
載しており、電波障害を低減したブルー系またはグリー
ン系色調を呈する熱線反射ガラスを得るためには、透明
なガラス基板の一方の表面に、膜厚が５〜70nmのTiとB
の化合物を主成分とする窒化物薄膜または窒素酸化物薄
膜を第１層として被覆した後、該第１層の上に膜厚が５
〜50nmのTi、Ta、Sn、TiSi、Zr、Al、Siの内少なくとも
１種を選択した酸化物薄膜を第２層として被覆した熱線
反射ガラスであって、該被膜面の反対面から見た反射色
調がブルーあるいはグリーン色であるものを開示してい
る。
願平４−203948号では、電波透過型熱線反射ガラスを記
載しており、電波障害を低減したブルー系またはグリー
ン系色調を呈する熱線反射ガラスを得るためには、透明
なガラス基板の一方の表面に、膜厚が５〜70nmのTiとB
の化合物を主成分とする窒化物薄膜または窒素酸化物薄
膜を第１層として被覆した後、該第１層の上に膜厚が５
〜50nmのTi、Ta、Sn、TiSi、Zr、Al、Siの内少なくとも
１種を選択した酸化物薄膜を第２層として被覆した熱線
反射ガラスであって、該被膜面の反対面から見た反射色
調がブルーあるいはグリーン色であるものを開示してい
る。
【０００７】さらに車輌用においては例えば、本出願人
が既に提案した特開平２−80352 号公報では、車両用窓
ガラスについて記載しており、透明なガラス板の表面
に、窒化アルミニウム薄膜ならびに金属薄膜を順次交互
に繰り返し積層し、３〜９層の多層膜を形成した単板あ
るいは合わせガラス等からなる車両用窓ガラスにおい
て、金属薄膜の厚みが４〜14nmであり、第１層および最
外層の厚みが10〜80nmであって、中間の奇数層の各厚み
が20〜150nm であるものを開示している。
が既に提案した特開平２−80352 号公報では、車両用窓
ガラスについて記載しており、透明なガラス板の表面
に、窒化アルミニウム薄膜ならびに金属薄膜を順次交互
に繰り返し積層し、３〜９層の多層膜を形成した単板あ
るいは合わせガラス等からなる車両用窓ガラスにおい
て、金属薄膜の厚みが４〜14nmであり、第１層および最
外層の厚みが10〜80nmであって、中間の奇数層の各厚み
が20〜150nm であるものを開示している。
【０００８】またさらに例えば、本出願人が既に提案し
た特開平３−65531 号公報では、単板断熱ガラスについ
て記載しており、透明なガラス板の表面に、ガラス面よ
り第１層として屈折率が1.8 〜2.1 の透明誘電体膜を膜
厚10〜200nm 、第２層として屈折率が2.2 〜2.5 の透明
誘電体膜を膜厚10〜200nm 、第３層として屈折率が1.8
〜2.1 の透明誘電体膜を膜厚10〜200nm またはこれに加
えて最外表面膜としてシリコン合金酸化物膜を10〜2000
nmとそれぞれ積層したものを開示している。
た特開平３−65531 号公報では、単板断熱ガラスについ
て記載しており、透明なガラス板の表面に、ガラス面よ
り第１層として屈折率が1.8 〜2.1 の透明誘電体膜を膜
厚10〜200nm 、第２層として屈折率が2.2 〜2.5 の透明
誘電体膜を膜厚10〜200nm 、第３層として屈折率が1.8
〜2.1 の透明誘電体膜を膜厚10〜200nm またはこれに加
えて最外表面膜としてシリコン合金酸化物膜を10〜2000
nmとそれぞれ積層したものを開示している。
【０００９】
【発明が解決しようとする問題点】前述したような、例
えば特開昭63−190742号公報に記載されたものならびに
特開平３ー208837号公報に記載したものでは、TiNx層薄
膜の膜厚が比較的厚く、その結果低抵抗な膜となり、高
層建築物の窓ガラスとして施工した際に、電波反射体と
なって高層建築物と放送局の間にある一般家庭などで見
られているTV画像におけるゴースト現象を発現すること
となり、また多層積層膜の光学干渉作用によって種々の
反射色調を発現し、グレー系の透過色調は得難いもので
あった。
えば特開昭63−190742号公報に記載されたものならびに
特開平３ー208837号公報に記載したものでは、TiNx層薄
膜の膜厚が比較的厚く、その結果低抵抗な膜となり、高
層建築物の窓ガラスとして施工した際に、電波反射体と
なって高層建築物と放送局の間にある一般家庭などで見
られているTV画像におけるゴースト現象を発現すること
となり、また多層積層膜の光学干渉作用によって種々の
反射色調を発現し、グレー系の透過色調は得難いもので
あった。
【００１０】また例えば特開平３ー252332号公報に記載
したものでは、金属薄膜または金属窒化物薄膜の5 〜13
nm程度の超薄膜を酸化物薄膜等でサンドイッチしたもの
であって、電波低反射ガラスではあるものの、表面抵抗
率が比較的低く、その電波低反射性能は鉄筋コンクリー
ト以下であるとは言え、近年のさらなる電波低反射性能
に優れるものが望まれつつあるなかでは格段に充分な満
足を付与するものとは言い難いものである。
したものでは、金属薄膜または金属窒化物薄膜の5 〜13
nm程度の超薄膜を酸化物薄膜等でサンドイッチしたもの
であって、電波低反射ガラスではあるものの、表面抵抗
率が比較的低く、その電波低反射性能は鉄筋コンクリー
ト以下であるとは言え、近年のさらなる電波低反射性能
に優れるものが望まれつつあるなかでは格段に充分な満
足を付与するものとは言い難いものである。
【００１１】また例えば特願平４−203948号に記載した
ものでは、ブルーあるいはグリーン色調を呈する熱線遮
蔽膜であるTiBNまたはTiBNO 膜をうるためのTiとB で成
るスパッタリングターゲットは焼結体ターゲットである
ため、非常に高価であり、結果として熱線反射ガラスの
製造コストのアップに繋がる等必ずしも充分経済的であ
るとは言い難いものである。
ものでは、ブルーあるいはグリーン色調を呈する熱線遮
蔽膜であるTiBNまたはTiBNO 膜をうるためのTiとB で成
るスパッタリングターゲットは焼結体ターゲットである
ため、非常に高価であり、結果として熱線反射ガラスの
製造コストのアップに繋がる等必ずしも充分経済的であ
るとは言い難いものである。
【００１２】さらに、車輌用熱線反射ガラスについて
は、例えば特開平２ー80352 号公報に記載したもので
は、膜構成の主要素をなす窒化アルミニウム薄膜は、大
面積のガラスに薄膜を作製することが可能であるが、熱
線反射ガラスの生産に実用されているDCマグネトロンス
パッタリング法では長時間の成膜安定性に乏しいこと、
および４層以上の多層膜の構成にした場合には、生産性
の観点からコストアップとなることなど、はなはだ実用
に供し難いものであると言わざるを得ない。
は、例えば特開平２ー80352 号公報に記載したもので
は、膜構成の主要素をなす窒化アルミニウム薄膜は、大
面積のガラスに薄膜を作製することが可能であるが、熱
線反射ガラスの生産に実用されているDCマグネトロンス
パッタリング法では長時間の成膜安定性に乏しいこと、
および４層以上の多層膜の構成にした場合には、生産性
の観点からコストアップとなることなど、はなはだ実用
に供し難いものであると言わざるを得ない。
【００１３】またさらに、特開平３ー65531 号公報に記
載したものでは、生産性に優れるとは言い難い誘電体膜
を例えば約200nm 程度積層成膜することは、熱線反射ガ
ラスの生産においては、現実的であるとははなはだ言い
難いものである。
載したものでは、生産性に優れるとは言い難い誘電体膜
を例えば約200nm 程度積層成膜することは、熱線反射ガ
ラスの生産においては、現実的であるとははなはだ言い
難いものである。
【００１４】さらにまた、金属等の導電性の高い膜につ
いては、断熱性を高めようとして膜厚を厚くすればする
ほど低抵抗となって、電波低反射性能が損なわれること
となり、逆に膜厚を薄くしたとしても大きな表面抵抗率
とはなりにくく、同様に上述の性能が充分得難い等の問
題があり、ことに熱線反射膜の表面抵抗率が100 ｋΩ／
口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高抵抗を必要とす
る、特に透過色調がグレー系であるフロントウインド、
リヤウインドのガラスアンテナ付き単板断熱ガラス等に
極めて有用で、しかも高層建築物用窓ガラスとしても有
用な電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスとして有用
なものは未だに提案されていない。
いては、断熱性を高めようとして膜厚を厚くすればする
ほど低抵抗となって、電波低反射性能が損なわれること
となり、逆に膜厚を薄くしたとしても大きな表面抵抗率
とはなりにくく、同様に上述の性能が充分得難い等の問
題があり、ことに熱線反射膜の表面抵抗率が100 ｋΩ／
口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高抵抗を必要とす
る、特に透過色調がグレー系であるフロントウインド、
リヤウインドのガラスアンテナ付き単板断熱ガラス等に
極めて有用で、しかも高層建築物用窓ガラスとしても有
用な電波低反射特性を有する熱線遮蔽ガラスとして有用
なものは未だに提案されていない。
【００１５】
【問題点を解決するための手段】本発明は従来のこのよ
うな点に鑑みてなしたものであり、特定膜厚でガラス基
板の片面にCrを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選
ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物または混合物
の窒化物または窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜として
利用することによって、建築用熱線遮蔽ガラスとして
は、１ｋΩ／口以上で電波反射率をTV電波帯、ことに周
波数150MHz付近において約３％以下程度とフロートガラ
ス並に低くすることができ、従ってビル周囲の住宅等に
おいてTV画像でのゴースト現象等の電波の障害を低減で
き、また車輌用熱線反射ガラスにおいては、熱線遮蔽性
能膜の表面抵抗率を100 ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ
／口以上の高抵抗を利用することによって、例えばフロ
ントウインド、リヤウインドのガラスアンテナ付き単板
断熱ガラス等に極めて有用である。
うな点に鑑みてなしたものであり、特定膜厚でガラス基
板の片面にCrを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選
ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物または混合物
の窒化物または窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜として
利用することによって、建築用熱線遮蔽ガラスとして
は、１ｋΩ／口以上で電波反射率をTV電波帯、ことに周
波数150MHz付近において約３％以下程度とフロートガラ
ス並に低くすることができ、従ってビル周囲の住宅等に
おいてTV画像でのゴースト現象等の電波の障害を低減で
き、また車輌用熱線反射ガラスにおいては、熱線遮蔽性
能膜の表面抵抗率を100 ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ
／口以上の高抵抗を利用することによって、例えばフロ
ントウインド、リヤウインドのガラスアンテナ付き単板
断熱ガラス等に極めて有用である。
【００１６】また、前記熱線遮蔽性能膜の上に無色透明
な誘電体薄膜を積層すること、あるいは前記熱線遮蔽性
能膜の下地層に無色透明な誘電体薄膜をアンダーコート
として用いる積層構成とすることで、光の干渉作用を巧
みに利用することによって種々の色調を発現させ、色調
を微妙にコントロールすることができるものであって、
耐摩耗性や耐久性をより格段に向上せしめるものとな
り、さらには特定膜厚のCrの窒化物または窒素酸化物薄
膜を熱線遮蔽性能膜の下地層としてアンダーコート被覆
することで、可視光透過率等を特定範囲、例えば５〜60
％で任意に調整せしめることを可能とし、またそれらの
膜を巧みに組み合わせることにより透過色調をグレー系
色調とすることができ、しかも電波反射率をTV電波帯、
ことに周波数150MHz付近において約３％以下程度とフロ
ートガラス並に低くすることができ、断熱性能を保持し
つつ、単板で充分使用することができる電波低反射性能
を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラスを提供することが
できるものである。
な誘電体薄膜を積層すること、あるいは前記熱線遮蔽性
能膜の下地層に無色透明な誘電体薄膜をアンダーコート
として用いる積層構成とすることで、光の干渉作用を巧
みに利用することによって種々の色調を発現させ、色調
を微妙にコントロールすることができるものであって、
耐摩耗性や耐久性をより格段に向上せしめるものとな
り、さらには特定膜厚のCrの窒化物または窒素酸化物薄
膜を熱線遮蔽性能膜の下地層としてアンダーコート被覆
することで、可視光透過率等を特定範囲、例えば５〜60
％で任意に調整せしめることを可能とし、またそれらの
膜を巧みに組み合わせることにより透過色調をグレー系
色調とすることができ、しかも電波反射率をTV電波帯、
ことに周波数150MHz付近において約３％以下程度とフロ
ートガラス並に低くすることができ、断熱性能を保持し
つつ、単板で充分使用することができる電波低反射性能
を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラスを提供することが
できるものである。
【００１７】すなわち、本発明は、透明なガラス基板の
ー方の表面に、Crを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群か
ら選ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物または混
合物の窒化物または窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜と
して被覆したことを特徴とする電波透過特性を有する電
波透過型の熱線遮蔽ガラス。
ー方の表面に、Crを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群か
ら選ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物または混
合物の窒化物または窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜と
して被覆したことを特徴とする電波透過特性を有する電
波透過型の熱線遮蔽ガラス。
【００１８】ならびに、透明なガラス基板のー方の表面
に、膜厚が５〜100nm のCrを主成分とし、Ta、Zr、Si、
Alの群から選ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物
または混合物の窒化物または窒素酸化物薄膜を第１層の
熱線遮蔽性能膜として被覆し、該第１層の上に、膜厚が
５〜50nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、Si、TiSix の酸化物薄
膜を第２層として被覆積層したことを特徴とする電波透
過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
に、膜厚が５〜100nm のCrを主成分とし、Ta、Zr、Si、
Alの群から選ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物
または混合物の窒化物または窒素酸化物薄膜を第１層の
熱線遮蔽性能膜として被覆し、該第１層の上に、膜厚が
５〜50nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、Si、TiSix の酸化物薄
膜を第２層として被覆積層したことを特徴とする電波透
過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
【００１９】さらに、前記熱線遮蔽性能膜の下地層とし
て、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間に、
膜厚が１〜30nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、Si、TiSix の酸
化物薄膜をアンダーコート被覆したことを特徴とする上
述した電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラ
ス。
て、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間に、
膜厚が１〜30nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、Si、TiSix の酸
化物薄膜をアンダーコート被覆したことを特徴とする上
述した電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラ
ス。
【００２０】さらにまた、前記熱線遮蔽性能膜の下地層
として、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間
に、膜厚が１〜30nmのCrの窒化物薄膜または窒素酸化物
薄膜をアンダーコート被覆したことを特徴とする上述し
た電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
として、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間
に、膜厚が１〜30nmのCrの窒化物薄膜または窒素酸化物
薄膜をアンダーコート被覆したことを特徴とする上述し
た電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
【００２１】また、前記電波透過型の熱線遮蔽ガラスに
おいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗率が１
ｋΩ／口以上であることを特徴とする上述した電波透過
特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
おいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗率が１
ｋΩ／口以上であることを特徴とする上述した電波透過
特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
【００２２】またさらに、前記電波透過型の熱線遮蔽ガ
ラスにおいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗
率が100 ｋΩ／口以上であることを特徴とする上述した
電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
ラスにおいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗
率が100 ｋΩ／口以上であることを特徴とする上述した
電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
【００２３】またさらに、前記電波透過型の熱線遮蔽ガ
ラスにおいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗
率が100 ｋΩ／口以上で、その透過色調がグレー系色調
であることを特徴とする上述した電波透過特性を有する
電波透過型の熱線遮蔽ガラスをそれぞれ提供するもので
ある ここで、前記Crを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から
選ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物または混合
物の窒化物または窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜とし
て被覆したのは、Crの窒化物または窒素酸化物薄膜は一
般的によく知られ、熱線遮蔽性能膜としてよく利用され
ている薄膜であり、この膜に高抵抗あるいは絶縁材料で
あるTa、Zr、Si、Alの窒化物または窒素酸化物薄膜を含
有あるいはドーピングしたCrの窒化物または窒素酸化物
薄膜を主成分とするCrTaxNy 、CrTaxNyOz 、CrZrxNy 、
CrZrxNyOz 、CrSixNy 、CrSixNyOz 、CrAlxNy 、CrAlxN
yOz 等の薄膜は、１ｋΩ／口以上、100 ｋΩ／口以上、
ときには１ＭΩ／口以上の表面抵抗率であり、電波の透
過性がよく、断熱性能に優れた膜であるからである。
ラスにおいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗
率が100 ｋΩ／口以上で、その透過色調がグレー系色調
であることを特徴とする上述した電波透過特性を有する
電波透過型の熱線遮蔽ガラスをそれぞれ提供するもので
ある ここで、前記Crを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から
選ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物または混合
物の窒化物または窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜とし
て被覆したのは、Crの窒化物または窒素酸化物薄膜は一
般的によく知られ、熱線遮蔽性能膜としてよく利用され
ている薄膜であり、この膜に高抵抗あるいは絶縁材料で
あるTa、Zr、Si、Alの窒化物または窒素酸化物薄膜を含
有あるいはドーピングしたCrの窒化物または窒素酸化物
薄膜を主成分とするCrTaxNy 、CrTaxNyOz 、CrZrxNy 、
CrZrxNyOz 、CrSixNy 、CrSixNyOz 、CrAlxNy 、CrAlxN
yOz 等の薄膜は、１ｋΩ／口以上、100 ｋΩ／口以上、
ときには１ＭΩ／口以上の表面抵抗率であり、電波の透
過性がよく、断熱性能に優れた膜であるからである。
【００２４】また、前記熱線遮蔽性能膜の膜厚が５〜10
0nm であるとしたのは、膜厚が５nm未満と薄くなると、
膜表面のモホロジーが島状構造となり易くなり、熱線遮
蔽性能が低下するからであり、膜厚が100nm を超えより
厚くなると、例えばガラス面側反射色調は種々の色調を
発現することができるものの、膜面あるいはガラス面が
ギラギラとした反射となり、しかも生産性の観点から好
ましくない。好ましい膜厚としては、熱線遮蔽性能と断
熱性から10〜50nm程度であって、より安定かつ確実に上
記作用効果を発現するものとなる。
0nm であるとしたのは、膜厚が５nm未満と薄くなると、
膜表面のモホロジーが島状構造となり易くなり、熱線遮
蔽性能が低下するからであり、膜厚が100nm を超えより
厚くなると、例えばガラス面側反射色調は種々の色調を
発現することができるものの、膜面あるいはガラス面が
ギラギラとした反射となり、しかも生産性の観点から好
ましくない。好ましい膜厚としては、熱線遮蔽性能と断
熱性から10〜50nm程度であって、より安定かつ確実に上
記作用効果を発現するものとなる。
【００２５】また、前記膜厚が５〜100nm のCrを主成分
とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少なくとも１種
の元素とCrの化合物または混合物の窒化物または窒素酸
化物薄膜を第１層の熱線遮蔽性能膜として被覆し、該第
１層の上に、膜厚が５〜50nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、S
i、TiSix の酸化物薄膜を第２層として被覆積層したの
は、上述した熱線遮蔽性能膜の上に第２層として無色透
明な誘電体膜を積層被覆してやることで、耐久性に格段
に優れた膜構成となり、単板でも充分に使用できるよう
にするためであり、また光の干渉作用を巧みに利用する
ことによって種々の色調を発現させ、色調を微妙にコン
トロールすることができるものであって、前記第２層の
膜厚を５〜50nmとしたのは、膜厚が５nm未満と薄くなる
と、膜厚が不均一状となり耐久性を強固に向上させるこ
とが難しくなるからであり、膜厚が50nmを超えより厚く
なると、酸化物薄膜は比較的成膜速度が遅く、生産性の
観点から好ましくない。耐久性や生産性から好ましくは
10〜30nm程度であって、より安定かつ確実に上記作用効
果を発現するものとなる。
とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少なくとも１種
の元素とCrの化合物または混合物の窒化物または窒素酸
化物薄膜を第１層の熱線遮蔽性能膜として被覆し、該第
１層の上に、膜厚が５〜50nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、S
i、TiSix の酸化物薄膜を第２層として被覆積層したの
は、上述した熱線遮蔽性能膜の上に第２層として無色透
明な誘電体膜を積層被覆してやることで、耐久性に格段
に優れた膜構成となり、単板でも充分に使用できるよう
にするためであり、また光の干渉作用を巧みに利用する
ことによって種々の色調を発現させ、色調を微妙にコン
トロールすることができるものであって、前記第２層の
膜厚を５〜50nmとしたのは、膜厚が５nm未満と薄くなる
と、膜厚が不均一状となり耐久性を強固に向上させるこ
とが難しくなるからであり、膜厚が50nmを超えより厚く
なると、酸化物薄膜は比較的成膜速度が遅く、生産性の
観点から好ましくない。耐久性や生産性から好ましくは
10〜30nm程度であって、より安定かつ確実に上記作用効
果を発現するものとなる。
【００２６】さらに、前記熱線遮蔽性能膜の下地層とし
て、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間に、
膜厚が１〜30nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、Si、TiSix の酸
化物薄膜をアンダーコート被覆したのは、熱線遮蔽性能
膜がガラスに対して付着性のよい膜であるものの、さら
により強固に熱線遮蔽性能膜を付着させるためであり、
前記膜厚が１〜30nmであるとしたのは、膜厚が１nm未満
と薄くなると、膜とガラスとの密着性の向上に寄与しな
いためであり、30nmを超えより厚くなると、膜面の反射
色調がギラギラとしたものとなり、室内の居住性の観点
からも好ましくないものとなり、生産性の観点からも好
ましくない。好ましい膜厚としては、約５〜20nm程度で
あって、より安定かつ確実に上記作用効果を発現するも
のとなる。
て、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間に、
膜厚が１〜30nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、Si、TiSix の酸
化物薄膜をアンダーコート被覆したのは、熱線遮蔽性能
膜がガラスに対して付着性のよい膜であるものの、さら
により強固に熱線遮蔽性能膜を付着させるためであり、
前記膜厚が１〜30nmであるとしたのは、膜厚が１nm未満
と薄くなると、膜とガラスとの密着性の向上に寄与しな
いためであり、30nmを超えより厚くなると、膜面の反射
色調がギラギラとしたものとなり、室内の居住性の観点
からも好ましくないものとなり、生産性の観点からも好
ましくない。好ましい膜厚としては、約５〜20nm程度で
あって、より安定かつ確実に上記作用効果を発現するも
のとなる。
【００２７】さらに、前記熱線遮蔽性能膜の下地層とし
て、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間に、
膜厚が１〜30nmのCrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜
をアンダーコート被覆したのは、ことに可視光透過率を
例えば10〜60％の範囲内で任意に調整せしめることを可
能とするためであって、膜の密着性を高めかつ電波障害
を起こさない膜厚の範囲内で室内の居住性を考え、膜面
の電波反射率を低減し、膜面の色調をニュートラル化す
るためであり、好ましくは膜厚が１〜20nm程度であっ
て、より安定かつ確実に上記作用効果を発現するものと
なる。
て、前記ガラス基板表面と前記熱線遮蔽性能膜の間に、
膜厚が１〜30nmのCrの窒化物薄膜または窒素酸化物薄膜
をアンダーコート被覆したのは、ことに可視光透過率を
例えば10〜60％の範囲内で任意に調整せしめることを可
能とするためであって、膜の密着性を高めかつ電波障害
を起こさない膜厚の範囲内で室内の居住性を考え、膜面
の電波反射率を低減し、膜面の色調をニュートラル化す
るためであり、好ましくは膜厚が１〜20nm程度であっ
て、より安定かつ確実に上記作用効果を発現するものと
なる。
【００２８】また、前記電波透過型の熱線遮蔽ガラスに
おいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗率が１
ｋΩ／口以上であることとしたのは、前記電波透過特性
を有する熱線遮蔽ガラスを建築用窓ガラスとして特に、
高層建築のビル等に利用した際に充分な電波低反射性能
を有し、TV映像でのゴースト現象等の電波障害をより確
実に発現しないようにするためである。
おいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗率が１
ｋΩ／口以上であることとしたのは、前記電波透過特性
を有する熱線遮蔽ガラスを建築用窓ガラスとして特に、
高層建築のビル等に利用した際に充分な電波低反射性能
を有し、TV映像でのゴースト現象等の電波障害をより確
実に発現しないようにするためである。
【００２９】またさらに、前記電波透過型の熱線遮蔽ガ
ラスにおいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗
率が100 ｋΩ／口以上であることとしたのは、建築用は
もちろんのこと、車輌用窓ガラスに利用した際に、とく
にリヤあるいはフロントなどのガラスアンテナ付単板断
熱ガラスとしての電波の透過性を充分にし、電波の受信
性能を劣化させないためであり、さらに前記被覆した熱
線遮蔽性能膜の表面抵抗率が100 ｋΩ／口以上で、その
透過色調がグレー系色調であるとしたのは、グレー系の
透過色調を呈することにより、自動車の内装品との調
和、デザイン性はもちろん、全体としての意匠性に優れ
るとともに、太陽光の直射のギラギラ感が抑えられ、居
住性や環境に優しいものとなるためである。
ラスにおいて、前記被覆した熱線遮蔽性能膜の表面抵抗
率が100 ｋΩ／口以上であることとしたのは、建築用は
もちろんのこと、車輌用窓ガラスに利用した際に、とく
にリヤあるいはフロントなどのガラスアンテナ付単板断
熱ガラスとしての電波の透過性を充分にし、電波の受信
性能を劣化させないためであり、さらに前記被覆した熱
線遮蔽性能膜の表面抵抗率が100 ｋΩ／口以上で、その
透過色調がグレー系色調であるとしたのは、グレー系の
透過色調を呈することにより、自動車の内装品との調
和、デザイン性はもちろん、全体としての意匠性に優れ
るとともに、太陽光の直射のギラギラ感が抑えられ、居
住性や環境に優しいものとなるためである。
【００３０】つぎに、ガラス基板としては、無機質はも
ちろん有機質でも透明ガラスであればよく、無色あるい
は着色等でも電波透過特性を損なわないものであればよ
く、ことに可視光の透過色調がグレー系色調を得やすい
ものであればより好ましいものである。また単板で使用
できることはもとより、複層ガラスあるいは合せガラ
ス、強化ガラス等各種形状、大きさ、厚みの板ガラス製
品として使用できることは言うまでもない。
ちろん有機質でも透明ガラスであればよく、無色あるい
は着色等でも電波透過特性を損なわないものであればよ
く、ことに可視光の透過色調がグレー系色調を得やすい
ものであればより好ましいものである。また単板で使用
できることはもとより、複層ガラスあるいは合せガラ
ス、強化ガラス等各種形状、大きさ、厚みの板ガラス製
品として使用できることは言うまでもない。
【００３１】
【作用】前述したとおり、本発明の電波透過型の熱線遮
蔽ガラスは、特定膜厚でガラス基板の一方の表面にCrを
主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少なくと
も１種の元素とCrの化合物または混合物の窒化物または
窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜として利用することに
よって、建築用熱線遮蔽ガラスとしては、１ｋΩ／口以
上で電波反射率をTV電波帯、ことに周波数150MHz付近に
おいて約３％以下程度とフロートガラス並に低くするこ
とができ、従ってビル周囲の住宅等においてTV画像での
ゴースト現象等の電波の障害を低減でき、また車輌用熱
線反射ガラスにおいては、熱線遮蔽性能膜の表面抵抗率
を100 ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高抵抗
を利用することによって、例えばフロントウインド、リ
ヤウインドのガラスアンテナ付き単板断熱ガラス等に極
めて有用である。
蔽ガラスは、特定膜厚でガラス基板の一方の表面にCrを
主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少なくと
も１種の元素とCrの化合物または混合物の窒化物または
窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜として利用することに
よって、建築用熱線遮蔽ガラスとしては、１ｋΩ／口以
上で電波反射率をTV電波帯、ことに周波数150MHz付近に
おいて約３％以下程度とフロートガラス並に低くするこ
とができ、従ってビル周囲の住宅等においてTV画像での
ゴースト現象等の電波の障害を低減でき、また車輌用熱
線反射ガラスにおいては、熱線遮蔽性能膜の表面抵抗率
を100 ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高抵抗
を利用することによって、例えばフロントウインド、リ
ヤウインドのガラスアンテナ付き単板断熱ガラス等に極
めて有用である。
【００３２】また、前記熱線遮蔽性能膜の上に無色透明
な誘電体薄膜を積層すること、あるいは前記熱線遮蔽性
能膜の下地層に無色透明な誘電体薄膜をアンダーコート
として用いる積層構成とすることで、光の干渉作用を巧
みに利用することによって種々の色調を発現させ、色調
を微妙にコントロールすることができるものであって、
耐摩耗性や耐久性をより格段に向上せしめるものとな
り、さらには特定膜厚のCrの窒化物または窒素酸化物薄
膜を熱線遮蔽性能膜の下地層としてアンダーコート被覆
することで、可視光透過率等を特定範囲、例えば５〜60
％で任意に調整せしめることを可能とし、またそれらの
膜を巧みに組み合わせることにより透過色調をグレー系
色調とすることができ、しかも電波反射率をTV電波帯、
ことに周波数150MHz付近において約３％以下程度とフロ
ートガラス並に低くすることができ、断熱性能を保持し
つつ、単板で充分使用することができる電波低反射性能
を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラスを提供することが
できるものである。
な誘電体薄膜を積層すること、あるいは前記熱線遮蔽性
能膜の下地層に無色透明な誘電体薄膜をアンダーコート
として用いる積層構成とすることで、光の干渉作用を巧
みに利用することによって種々の色調を発現させ、色調
を微妙にコントロールすることができるものであって、
耐摩耗性や耐久性をより格段に向上せしめるものとな
り、さらには特定膜厚のCrの窒化物または窒素酸化物薄
膜を熱線遮蔽性能膜の下地層としてアンダーコート被覆
することで、可視光透過率等を特定範囲、例えば５〜60
％で任意に調整せしめることを可能とし、またそれらの
膜を巧みに組み合わせることにより透過色調をグレー系
色調とすることができ、しかも電波反射率をTV電波帯、
ことに周波数150MHz付近において約３％以下程度とフロ
ートガラス並に低くすることができ、断熱性能を保持し
つつ、単板で充分使用することができる電波低反射性能
を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラスを提供することが
できるものである。
【００３３】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
る。ただし本発明は係る実施例に限定されるものではな
い。
【００３４】実施例１ 大きさ約600mmx600mm 、厚さ約6mm のクリアガラス(FL
6) を中性洗剤、水すすぎ、純水、イソプロピルアルコ
ールで順次洗浄し、乾燥した後、DCマグネトロンスパツ
タリング装置の真空槽内にセットしてあるCrのターゲツ
ト上のエロージョン領域に約50mm程度の等間隔で約10mm
角程度（厚さ、約２mm）のZrチップを載せた複合ターゲ
ット〔CrとZrを合金化したターゲットあるいは、CrとZr
を混合した焼結体ターゲットの方が好ましい。ただしCr
とZrのターゲット組成比は、重量比でZr／（Cr＋Zr）の
値が0.06から0.57の間にあるのがより好ましい。〕を用
い、ガラス基板を前記ターゲットに対向して上方を往復
できるようセットし、つぎに前記槽内を真空ポンプで約
５x10 -6Torr以下までに脱気した後、該真空槽内にN2ガ
ス〔但し、必要に応じて膜厚100nm で１ｋΩ／口以上の
表面抵抗率が得られれば、成膜速度を高くするためにAr
ガスを導入してもよい。常識的にはArとN2のガス流量比
は１：１から０：１の範囲にあればよい。〕を導入して
真空度を約２x10 -3Torrに保持し、前記CrとZrの複合タ
ーゲットに約1.2 kwの電力を印加し、前記N2ガスによる
DCマグネトロン反応スパツタの中を、前記CrとZrの複合
ターゲット上方においてスピード約218mm ／min で前記
板ガラスを搬送することによって約10nm厚さのCrZrxNy
薄膜を熱線遮蔽性能膜として成膜した。成膜が完了した
後、前記複合ターゲツトへの印加を停止した。
6) を中性洗剤、水すすぎ、純水、イソプロピルアルコ
ールで順次洗浄し、乾燥した後、DCマグネトロンスパツ
タリング装置の真空槽内にセットしてあるCrのターゲツ
ト上のエロージョン領域に約50mm程度の等間隔で約10mm
角程度（厚さ、約２mm）のZrチップを載せた複合ターゲ
ット〔CrとZrを合金化したターゲットあるいは、CrとZr
を混合した焼結体ターゲットの方が好ましい。ただしCr
とZrのターゲット組成比は、重量比でZr／（Cr＋Zr）の
値が0.06から0.57の間にあるのがより好ましい。〕を用
い、ガラス基板を前記ターゲットに対向して上方を往復
できるようセットし、つぎに前記槽内を真空ポンプで約
５x10 -6Torr以下までに脱気した後、該真空槽内にN2ガ
ス〔但し、必要に応じて膜厚100nm で１ｋΩ／口以上の
表面抵抗率が得られれば、成膜速度を高くするためにAr
ガスを導入してもよい。常識的にはArとN2のガス流量比
は１：１から０：１の範囲にあればよい。〕を導入して
真空度を約２x10 -3Torrに保持し、前記CrとZrの複合タ
ーゲットに約1.2 kwの電力を印加し、前記N2ガスによる
DCマグネトロン反応スパツタの中を、前記CrとZrの複合
ターゲット上方においてスピード約218mm ／min で前記
板ガラスを搬送することによって約10nm厚さのCrZrxNy
薄膜を熱線遮蔽性能膜として成膜した。成膜が完了した
後、前記複合ターゲツトへの印加を停止した。
【００３５】得られた単層膜を有する電波透過特性を有
する電波透過型の熱線遮蔽ガラスについて、可視光透過
率(380nm〜780nm)、可視光反射率(380nm〜780nm)ならび
に日射透過率(340nm〜1800nm) については340 型自記分
光光度計（日立製作所製）を用いてJISZ8722、JISR3106
によってそれぞれの光学的特性を求めた。さらにテ−バ
−試験によるヘ−ズ（曇り具合）値の変化量（△Ｈ％）
と透過率の変化量（△Ｔ％）については、テ−バ−試験
機（MODEL 503 、TABER 社製）に膜面を上にした10cm角
試験片をセットし、膜面に荷重500gのかかった摩耗輪(C
S-10F)が２箇所で当たるようになっているもので、300
回回転した後、ヘーズメーター（日本電色工業製、NDH-
20D ）によって測定し、試験前の測定値と対比し、その
変化量（△Ｈ％）および透過率の変化量（△Ｔ％）をも
って表した数値である。
する電波透過型の熱線遮蔽ガラスについて、可視光透過
率(380nm〜780nm)、可視光反射率(380nm〜780nm)ならび
に日射透過率(340nm〜1800nm) については340 型自記分
光光度計（日立製作所製）を用いてJISZ8722、JISR3106
によってそれぞれの光学的特性を求めた。さらにテ−バ
−試験によるヘ−ズ（曇り具合）値の変化量（△Ｈ％）
と透過率の変化量（△Ｔ％）については、テ−バ−試験
機（MODEL 503 、TABER 社製）に膜面を上にした10cm角
試験片をセットし、膜面に荷重500gのかかった摩耗輪(C
S-10F)が２箇所で当たるようになっているもので、300
回回転した後、ヘーズメーター（日本電色工業製、NDH-
20D ）によって測定し、試験前の測定値と対比し、その
変化量（△Ｈ％）および透過率の変化量（△Ｔ％）をも
って表した数値である。
【００３６】次に、耐薬品性のうち耐酸試験について
は、常温で１規定のHCl 溶液中に前記試験片を約６時間
浸漬した後、膜の劣化状態を、耐アルカリ試験については、
常温で１規定のNaOH溶液中に試験片を約６時間浸漬した
後、膜の劣化状態を見てそれぞれJISR3221により判断し
たものであり、それぞれ○印はほとんど劣化が見られな
かったもの、×印は劣化が明らかに目立ったものであ
る。
は、常温で１規定のHCl 溶液中に前記試験片を約６時間
浸漬した後、膜の劣化状態を、耐アルカリ試験については、
常温で１規定のNaOH溶液中に試験片を約６時間浸漬した
後、膜の劣化状態を見てそれぞれJISR3221により判断し
たものであり、それぞれ○印はほとんど劣化が見られな
かったもの、×印は劣化が明らかに目立ったものであ
る。
【００３７】さらに、表面抵抗率については、105 Ω／
口以下のものは四探針抵抗測定装置RTー８（NAPSON社
製）によって、105 Ω／口〜105 ＭΩ／口のものは三菱
油化製表面高抵抗計（HIRESTA HT-210）によって測定し
たものである。
口以下のものは四探針抵抗測定装置RTー８（NAPSON社
製）によって、105 Ω／口〜105 ＭΩ／口のものは三菱
油化製表面高抵抗計（HIRESTA HT-210）によって測定し
たものである。
【００３８】またさらに、電波反射率については、大型
導波管法によって測定することで得た。その結果、表１
に示すことから明らかなように、従来の熱線反射ガラス
とほぼ同等の断熱性能を示し、優れた居住性をもって、
耐摩耗性、耐食性、耐候性、耐久性を有し、電波を充分
透過するものであって、電波低反射特性を有する熱線遮
蔽性ガラスとして高層建築物等の窓ガラスに有用なもの
となり、ことに表面抵抗率が2.9 ＭΩ／口程度と高抵抗
であり、しかも透過色調がグレー系であり、車輌用の電
波透過型単板断熱ガラスとしても有用であって、所期の
めざす電波透過型の熱線遮蔽ガラスを得た。
導波管法によって測定することで得た。その結果、表１
に示すことから明らかなように、従来の熱線反射ガラス
とほぼ同等の断熱性能を示し、優れた居住性をもって、
耐摩耗性、耐食性、耐候性、耐久性を有し、電波を充分
透過するものであって、電波低反射特性を有する熱線遮
蔽性ガラスとして高層建築物等の窓ガラスに有用なもの
となり、ことに表面抵抗率が2.9 ＭΩ／口程度と高抵抗
であり、しかも透過色調がグレー系であり、車輌用の電
波透過型単板断熱ガラスとしても有用であって、所期の
めざす電波透過型の熱線遮蔽ガラスを得た。
【００３９】実施例２〜13 前記実施例１と同様の方法で、実施例１と以下に示す搬
送スピードと膜厚のデータから所望の膜厚となるよう搬
送スピードを調節し、表１に示す１〜３層膜とその各膜
厚を得て、その膜構成において実施例１で示した測定法
等によって同様の評価を行った。その結果を表１に示
す。
送スピードと膜厚のデータから所望の膜厚となるよう搬
送スピードを調節し、表１に示す１〜３層膜とその各膜
厚を得て、その膜構成において実施例１で示した測定法
等によって同様の評価を行った。その結果を表１に示
す。
【００４０】得られた単層膜、２層膜あるいはアンダー
コート層を含めた３層膜の電波透過特性を有する電波透
過型の熱線遮蔽ガラスは、実施例１と同様に優れた所期
の光学特性等の各物性を示すものであった。
コート層を含めた３層膜の電波透過特性を有する電波透
過型の熱線遮蔽ガラスは、実施例１と同様に優れた所期
の光学特性等の各物性を示すものであった。
【００４１】ここで、アンダーコート層を含め、各層の
構成膜について、その製造方法を以下に示す。 （実施例10のCrNx薄膜、CrSixNyOz 薄膜およびSnOx薄膜
の例）大きさ約600mmx600mm 、厚さ約6mm のクリアガラ
ス(FL6) を中性洗剤、水すすぎ、純水、イソプロピルア
ルコールで順次洗浄し、乾燥した後、DCマグネトロンス
パツタリング装置の真空槽内にセットしてある１本のCr
のターゲツトともう１本のCrのターゲツト上のエロージ
ョン領域に約80mm程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、
約２mm）のSiチップを載せた複合ターゲット〔CrとSiを
合金化したターゲットあるいは、CrとSiを混合した焼結
体ターゲットの方が好ましい。ただしCrとSiのターゲッ
ト組成比は、重量比でSi／（Cr＋Si）の値が0.03から0.
32の間にあるのがより好ましい。〕とSnターゲットを設
置し、ガラス基板を前記ターゲットに対向して上方を往
復できるようセットし、つぎに前記槽内を真空ポンプで
約５x10 -6Torr以下までに脱気した後、該真空槽内にAr
とN2のガス流量比がN2／（Ar＋N2）＝0.8 であるArとN2
の混合ガス〔但し、ArとN2のガス流量比N2／（Ar＋N2）
の値は0.5 〜1.0 （Arガス流量＝０）の間にあればよ
い。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保持し、前
記Crターゲットに約1.2 kwの電力を印加し、前記混合ガ
スによるDCマグネトロン反応スパツタの中を、前記Crタ
ーゲット上方においてスピード約182mm ／min で前記板
ガラスを搬送することによって約25nm厚さのCrNx薄膜を
アンダーコート層として成膜した。成膜が完了した後、
前記Crターゲツトへの印加を停止した。
構成膜について、その製造方法を以下に示す。 （実施例10のCrNx薄膜、CrSixNyOz 薄膜およびSnOx薄膜
の例）大きさ約600mmx600mm 、厚さ約6mm のクリアガラ
ス(FL6) を中性洗剤、水すすぎ、純水、イソプロピルア
ルコールで順次洗浄し、乾燥した後、DCマグネトロンス
パツタリング装置の真空槽内にセットしてある１本のCr
のターゲツトともう１本のCrのターゲツト上のエロージ
ョン領域に約80mm程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、
約２mm）のSiチップを載せた複合ターゲット〔CrとSiを
合金化したターゲットあるいは、CrとSiを混合した焼結
体ターゲットの方が好ましい。ただしCrとSiのターゲッ
ト組成比は、重量比でSi／（Cr＋Si）の値が0.03から0.
32の間にあるのがより好ましい。〕とSnターゲットを設
置し、ガラス基板を前記ターゲットに対向して上方を往
復できるようセットし、つぎに前記槽内を真空ポンプで
約５x10 -6Torr以下までに脱気した後、該真空槽内にAr
とN2のガス流量比がN2／（Ar＋N2）＝0.8 であるArとN2
の混合ガス〔但し、ArとN2のガス流量比N2／（Ar＋N2）
の値は0.5 〜1.0 （Arガス流量＝０）の間にあればよ
い。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保持し、前
記Crターゲットに約1.2 kwの電力を印加し、前記混合ガ
スによるDCマグネトロン反応スパツタの中を、前記Crタ
ーゲット上方においてスピード約182mm ／min で前記板
ガラスを搬送することによって約25nm厚さのCrNx薄膜を
アンダーコート層として成膜した。成膜が完了した後、
前記Crターゲツトへの印加を停止した。
【００４２】次に、前記板ガラスを前記真空槽中に置い
たまま、前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下ま
でに脱気した後、該真空槽内にN2とO2のガス流量比がO2
／(N 2+O2)=0.015 であるN2とO2の混合ガス〔但し、N2と
O2のガス流量比O2／(N2+O2)の値は、0.003 〜0.05の間
にあればよく、また必要に応じてCrSixNyOz 薄膜の表面
抵抗率が膜厚100nm 程度で１ｋΩ／口以上であれば成膜
速度を高くするため、あるいはCrSixNyOz 薄膜の光学定
数（ｎ＝屈折率、ｋ＝消衰係数）を制御することを目的
にArガスを導入してもよい〕を導入して真空度を約２x1
0 -3Torrに保持し、前記CrとSiの複合ターゲツトに約1.
2 kwの電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロ
ン反応スパツタの中を、前記複合ターゲット上方におい
てスピード約335mm ／min で前記板ガラスを搬送するこ
とによって、前記板ガラスのCrNx薄膜表面上に約10nm厚
さのCrSixNyOz 薄膜を第１層として積層成膜した。成膜
が完了した後、複合ターゲツトへの印加を停止した。
たまま、前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下ま
でに脱気した後、該真空槽内にN2とO2のガス流量比がO2
／(N 2+O2)=0.015 であるN2とO2の混合ガス〔但し、N2と
O2のガス流量比O2／(N2+O2)の値は、0.003 〜0.05の間
にあればよく、また必要に応じてCrSixNyOz 薄膜の表面
抵抗率が膜厚100nm 程度で１ｋΩ／口以上であれば成膜
速度を高くするため、あるいはCrSixNyOz 薄膜の光学定
数（ｎ＝屈折率、ｋ＝消衰係数）を制御することを目的
にArガスを導入してもよい〕を導入して真空度を約２x1
0 -3Torrに保持し、前記CrとSiの複合ターゲツトに約1.
2 kwの電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロ
ン反応スパツタの中を、前記複合ターゲット上方におい
てスピード約335mm ／min で前記板ガラスを搬送するこ
とによって、前記板ガラスのCrNx薄膜表面上に約10nm厚
さのCrSixNyOz 薄膜を第１層として積層成膜した。成膜
が完了した後、複合ターゲツトへの印加を停止した。
【００４３】次いで、前記板ガラスを前記真空槽中に置
いたまま、前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下
までに脱気した後、該真空槽内にArとO2のガス流量比が
O2／(Ar+O2)=0.8 であるArとO2の混合ガス〔但し、Arと
O2のガス流量比O2／(Ar+O2)の値は、0.5 〜1.0 （Arガ
ス流量＝０）の間にあればよい。〕を導入して真空度を
約２x10 -3Torrに保持し、前記Snのターゲツトに約0.4
kwの電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン
反応スパツタの中を、前記Snターゲット上方においてス
ピード約93mm／min で前記板ガラスを搬送することによ
って約40nm厚さのSnOx薄膜を第２層として成膜した。成
膜が完了した後、Snターゲツトへの印加を停止した。
いたまま、前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下
までに脱気した後、該真空槽内にArとO2のガス流量比が
O2／(Ar+O2)=0.8 であるArとO2の混合ガス〔但し、Arと
O2のガス流量比O2／(Ar+O2)の値は、0.5 〜1.0 （Arガ
ス流量＝０）の間にあればよい。〕を導入して真空度を
約２x10 -3Torrに保持し、前記Snのターゲツトに約0.4
kwの電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン
反応スパツタの中を、前記Snターゲット上方においてス
ピード約93mm／min で前記板ガラスを搬送することによ
って約40nm厚さのSnOx薄膜を第２層として成膜した。成
膜が完了した後、Snターゲツトへの印加を停止した。
【００４４】（実施例３に示したCrZrxNyOz 薄膜の例）
DCマグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセッ
トしてあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約50
mm程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のZrチ
ップを載せた複合ターゲット〔CrとZrを合金化したター
ゲットあるいは、CrとZrを混合した焼結体ターゲットの
方が好ましい。ただしCrとZrのターゲット組成比は、重
量比でZr／（Cr＋Zr）の値が0.06から0.57の間にあるの
がより好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ター
ゲットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎ
に前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱
気した後、該真空槽内にN2とO2のガス流量比がO2／（N2
＋O2）＝0.012 であるN2とO2の混合ガス〔但し、N2とO2
のガス流量比O2／（N2＋O2）の値は0.003 〜0.05の間に
あればよく、また必要に応じてCrZrxNyOz 薄膜の表面抵
抗率が膜厚100nm で１ｋΩ／口以上であれば成膜速度を
高くするため、あるいはCrZrxNyOz 薄膜の光学定数（ｎ
＝屈折率、ｋ＝消衰係数）を制御することを目的にArガ
スを導入してもよい〕を導入して真空度を約２x10 -3To
rrに保持し、前記CrとZrの複合ターゲットに約1.2 kwの
電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応
スパツタの中を、前記CrとZrの複合ターゲット上方にお
いてスピード約42mm／min で前記板ガラスを搬送するこ
とによって約50nm厚さのCrZrxNyOz 薄膜を得た。
DCマグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセッ
トしてあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約50
mm程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のZrチ
ップを載せた複合ターゲット〔CrとZrを合金化したター
ゲットあるいは、CrとZrを混合した焼結体ターゲットの
方が好ましい。ただしCrとZrのターゲット組成比は、重
量比でZr／（Cr＋Zr）の値が0.06から0.57の間にあるの
がより好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ター
ゲットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎ
に前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱
気した後、該真空槽内にN2とO2のガス流量比がO2／（N2
＋O2）＝0.012 であるN2とO2の混合ガス〔但し、N2とO2
のガス流量比O2／（N2＋O2）の値は0.003 〜0.05の間に
あればよく、また必要に応じてCrZrxNyOz 薄膜の表面抵
抗率が膜厚100nm で１ｋΩ／口以上であれば成膜速度を
高くするため、あるいはCrZrxNyOz 薄膜の光学定数（ｎ
＝屈折率、ｋ＝消衰係数）を制御することを目的にArガ
スを導入してもよい〕を導入して真空度を約２x10 -3To
rrに保持し、前記CrとZrの複合ターゲットに約1.2 kwの
電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応
スパツタの中を、前記CrとZrの複合ターゲット上方にお
いてスピード約42mm／min で前記板ガラスを搬送するこ
とによって約50nm厚さのCrZrxNyOz 薄膜を得た。
【００４５】（実施例６に示したCrSixNy 薄膜の例）DC
マグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセット
してあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約80mm
程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のSiチッ
プを載せた複合ターゲット〔CrとSiを合金化したターゲ
ットあるいは、CrとSiを混合した焼結体ターゲットの方
が好ましい。ただしCrとSiのターゲット組成比は、重量
比でSi／（Cr＋Si）の値が0.03から0.32の間にあるのが
より好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ターゲ
ットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎに
前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱気
した後、該真空槽内にN2ガス〔但し、必要に応じて膜厚
100nm で１ｋΩ／口以上の表面抵抗率が得られれば、成
膜速度を高くするためにArガスを導入してもよい。常識
的にはArとN2のガス流量比は１：１から０：１の範囲に
あればよい。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保
持し、前記CrとSiの複合ターゲットに約1.2 kwの電力を
印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパツ
タの中を、前記CrとSiの複合ターゲット上方においてス
ピード約100mm ／min で前記板ガラスを搬送することに
よって約30nm厚さのCrSixNy 薄膜を得た。
マグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセット
してあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約80mm
程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のSiチッ
プを載せた複合ターゲット〔CrとSiを合金化したターゲ
ットあるいは、CrとSiを混合した焼結体ターゲットの方
が好ましい。ただしCrとSiのターゲット組成比は、重量
比でSi／（Cr＋Si）の値が0.03から0.32の間にあるのが
より好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ターゲ
ットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎに
前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱気
した後、該真空槽内にN2ガス〔但し、必要に応じて膜厚
100nm で１ｋΩ／口以上の表面抵抗率が得られれば、成
膜速度を高くするためにArガスを導入してもよい。常識
的にはArとN2のガス流量比は１：１から０：１の範囲に
あればよい。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保
持し、前記CrとSiの複合ターゲットに約1.2 kwの電力を
印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパツ
タの中を、前記CrとSiの複合ターゲット上方においてス
ピード約100mm ／min で前記板ガラスを搬送することに
よって約30nm厚さのCrSixNy 薄膜を得た。
【００４６】（実施例11に示したCrTaxNy 薄膜の例）DC
マグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセット
してあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約60mm
程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のTaチッ
プを載せた複合ターゲット〔CrとTaを合金化したターゲ
ットあるいは、CrとTaを混合した焼結体ターゲットの方
が好ましい。ただしCrとTaのターゲット組成比は、重量
比でTa／（Cr＋Ta）の値が0.07から0.70の間にあるのが
より好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ターゲ
ットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎに
前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱気
した後、該真空槽内にN2ガス〔但し、必要に応じて膜厚
100nm で１ｋΩ／口以上の表面抵抗率が得られれば、成
膜速度を高くするためにArガスを導入してもよい。常識
的にはArとN2のガス流量比は１：１から０：１の範囲に
あればよい。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保
持し、前記CrとTaの複合ターゲットに約1.2 kwの電力を
印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパツ
タの中を、前記CrとTaの複合ターゲット上方においてス
ピード約63mm／min で前記板ガラスを搬送することによ
って約30nm厚さのCrTaxNy 薄膜を得た。
マグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセット
してあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約60mm
程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のTaチッ
プを載せた複合ターゲット〔CrとTaを合金化したターゲ
ットあるいは、CrとTaを混合した焼結体ターゲットの方
が好ましい。ただしCrとTaのターゲット組成比は、重量
比でTa／（Cr＋Ta）の値が0.07から0.70の間にあるのが
より好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ターゲ
ットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎに
前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱気
した後、該真空槽内にN2ガス〔但し、必要に応じて膜厚
100nm で１ｋΩ／口以上の表面抵抗率が得られれば、成
膜速度を高くするためにArガスを導入してもよい。常識
的にはArとN2のガス流量比は１：１から０：１の範囲に
あればよい。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保
持し、前記CrとTaの複合ターゲットに約1.2 kwの電力を
印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパツ
タの中を、前記CrとTaの複合ターゲット上方においてス
ピード約63mm／min で前記板ガラスを搬送することによ
って約30nm厚さのCrTaxNy 薄膜を得た。
【００４７】（実施例12に示したCrTaxNyOz 薄膜の例）
上記実施例11と同様の複合ターゲットを用い、ガラス基
板を前記複合ターゲットに対向して上方を往復できるよ
うセットし、つぎに前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6
Torr以下までに脱気した後、該真空槽内にN2とO2のガス
流量比がO2／（N2＋O2）＝0.012 であるN2とO2の混合ガ
ス〔但し、N2とO2のガス流量比O2／（N2＋O2）の値は0.
003 〜0.05の間にあればよく、また必要に応じてCrTaxN
yOz 薄膜の表面抵抗率が膜厚100nm で１ｋΩ／口以上で
あれば成膜速度を高くするため、あるいはCrTaxNyOz 薄
膜の光学定数（ｎ＝屈折率、ｋ＝消衰係数）を制御する
ことを目的にArガスを導入してもよい〕を導入して真空
度を約２x10 -3Torrに保持し、前記CrとTaの複合ターゲ
ットに約1.2 kwの電力を印加し、前記混合ガスによるDC
マグネトロン反応スパツタの中を、前記CrとTaの複合タ
ーゲット上方においてスピード約36mm／min で前記板ガ
ラスを搬送することによって約50nm厚さのCrTaxNyOz 薄
膜を得た。
上記実施例11と同様の複合ターゲットを用い、ガラス基
板を前記複合ターゲットに対向して上方を往復できるよ
うセットし、つぎに前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6
Torr以下までに脱気した後、該真空槽内にN2とO2のガス
流量比がO2／（N2＋O2）＝0.012 であるN2とO2の混合ガ
ス〔但し、N2とO2のガス流量比O2／（N2＋O2）の値は0.
003 〜0.05の間にあればよく、また必要に応じてCrTaxN
yOz 薄膜の表面抵抗率が膜厚100nm で１ｋΩ／口以上で
あれば成膜速度を高くするため、あるいはCrTaxNyOz 薄
膜の光学定数（ｎ＝屈折率、ｋ＝消衰係数）を制御する
ことを目的にArガスを導入してもよい〕を導入して真空
度を約２x10 -3Torrに保持し、前記CrとTaの複合ターゲ
ットに約1.2 kwの電力を印加し、前記混合ガスによるDC
マグネトロン反応スパツタの中を、前記CrとTaの複合タ
ーゲット上方においてスピード約36mm／min で前記板ガ
ラスを搬送することによって約50nm厚さのCrTaxNyOz 薄
膜を得た。
【００４８】（実施例13に示したCrAlxNy 薄膜の例）DC
マグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセット
してあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約70mm
程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のAlチッ
プを載せた複合ターゲット〔CrとAlを合金化したターゲ
ットあるいは、CrとAlを混合した焼結体ターゲットの方
が好ましい。ただしCrとAlのターゲット組成比は、重量
比でAl／（Cr＋Al）の値が0.03から0.31の間にあるのが
より好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ターゲ
ットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎに
前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱気
した後、該真空槽内にN2ガス〔但し、必要に応じて膜厚
100nm で１ｋΩ／口以上の表面抵抗率が得られれば、成
膜速度を高くするためにArガスを導入してもよい。常識
的にはArとN2のガス流量比は１：１から０：１の範囲に
あればよい。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保
持し、前記CrとAlの複合ターゲットに約1.2 kwの電力を
印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパツ
タの中を、前記CrとAlの複合ターゲット上方においてス
ピード約56mm／min で前記板ガラスを搬送することによ
って約50nm厚さのCrAlxNy 薄膜を得た。
マグネトロンスパツタリング装置で、真空槽内にセット
してあるCrのターゲツト上のエロージョン領域に約70mm
程度の等間隔で約10mm角程度（厚さ、約２mm）のAlチッ
プを載せた複合ターゲット〔CrとAlを合金化したターゲ
ットあるいは、CrとAlを混合した焼結体ターゲットの方
が好ましい。ただしCrとAlのターゲット組成比は、重量
比でAl／（Cr＋Al）の値が0.03から0.31の間にあるのが
より好ましい。〕を用い、ガラス基板を前記複合ターゲ
ットに対向して上方を往復できるようセットし、つぎに
前記槽内を真空ポンプで約５x10 -6Torr以下までに脱気
した後、該真空槽内にN2ガス〔但し、必要に応じて膜厚
100nm で１ｋΩ／口以上の表面抵抗率が得られれば、成
膜速度を高くするためにArガスを導入してもよい。常識
的にはArとN2のガス流量比は１：１から０：１の範囲に
あればよい。〕を導入して真空度を約２x10 -3Torrに保
持し、前記CrとAlの複合ターゲットに約1.2 kwの電力を
印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパツ
タの中を、前記CrとAlの複合ターゲット上方においてス
ピード約56mm／min で前記板ガラスを搬送することによ
って約50nm厚さのCrAlxNy 薄膜を得た。
【００４９】（実施例４に示したTiOx薄膜の例）Tiター
ゲットを用いて、該真空槽内にO2とArのガス流量比がO2
／（O2＋Ar）＝0.9 であるO2とArの混合ガス〔但し、Ar
とO2のガス流量比O2／（O2＋Ar）の値は0.5 〜1.0 （Ar
ガス流量＝０）の間にあればよい〕を導入して真空度を
約２x10 -3Torrに保持し、前記Tiターゲットに約1.9 kw
の電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反
応スパツタの中を、前記Tiターゲット上方においてスピ
ード約22mm／min で前記板ガラスを搬送することによっ
て約50nm厚さのTiOx薄膜を得た。
ゲットを用いて、該真空槽内にO2とArのガス流量比がO2
／（O2＋Ar）＝0.9 であるO2とArの混合ガス〔但し、Ar
とO2のガス流量比O2／（O2＋Ar）の値は0.5 〜1.0 （Ar
ガス流量＝０）の間にあればよい〕を導入して真空度を
約２x10 -3Torrに保持し、前記Tiターゲットに約1.9 kw
の電力を印加し、前記混合ガスによるDCマグネトロン反
応スパツタの中を、前記Tiターゲット上方においてスピ
ード約22mm／min で前記板ガラスを搬送することによっ
て約50nm厚さのTiOx薄膜を得た。
【００５０】（実施例２に示したTaOx薄膜の例）同装置
でTaターゲットを用い、同真空度、前記O2ガス条件、印
加電力約2.0 kwにおいて、例えば板ガラスを搬送スピー
ド約454mm ／min で約5nm 厚さのTaOx薄膜を得た。
でTaターゲットを用い、同真空度、前記O2ガス条件、印
加電力約2.0 kwにおいて、例えば板ガラスを搬送スピー
ド約454mm ／min で約5nm 厚さのTaOx薄膜を得た。
【００５１】（実施例６に示したTiAlxOy 薄膜の例）同
装置でTiAlターゲット（Ti：Al＝７：３、重量比）を用
い、同真空度、前記O2ガス条件、印加電力約2.0 kwにお
いて、例えば板ガラスを搬送スピード約32mm／min で約
30nm厚さのTiAlxOy 薄膜を得た。
装置でTiAlターゲット（Ti：Al＝７：３、重量比）を用
い、同真空度、前記O2ガス条件、印加電力約2.0 kwにお
いて、例えば板ガラスを搬送スピード約32mm／min で約
30nm厚さのTiAlxOy 薄膜を得た。
【００５２】（実施例11に示したTiSixOy 薄膜の例）同
装置でTiSiターゲット（Ti：Si＝65：35、重量比）を用
い、同真空度、前記O2ガス条件、印加電力約1.8 kwにお
いて、例えば板ガラスを搬送スピード約276mm ／min で
約5nm 厚さのTiSixOy 薄膜を得た。
装置でTiSiターゲット（Ti：Si＝65：35、重量比）を用
い、同真空度、前記O2ガス条件、印加電力約1.8 kwにお
いて、例えば板ガラスを搬送スピード約276mm ／min で
約5nm 厚さのTiSixOy 薄膜を得た。
【００５３】比較例１〜５ 実施例１と同様に処理したガラスを用い、同装置にSUS
のターゲツトを２本セットし、真空槽内を約５x10 -6To
rr以下までに脱気した後、該真空槽内にO2ガスを導入
し、真空度を約２x10 -3Torrに保持し、前記SUS のター
ゲツトに約1.5kwの電力を印加し、板ガラス搬送スピー
ド約300mm ／min で膜厚約10nmのSUSOx 薄膜を第１層と
して成膜した。
のターゲツトを２本セットし、真空槽内を約５x10 -6To
rr以下までに脱気した後、該真空槽内にO2ガスを導入
し、真空度を約２x10 -3Torrに保持し、前記SUS のター
ゲツトに約1.5kwの電力を印加し、板ガラス搬送スピー
ド約300mm ／min で膜厚約10nmのSUSOx 薄膜を第１層と
して成膜した。
【００５４】次いで、もう一方のSUS ターゲットを使用
し、Arガス圧約約２x10 -3Torrで印加電力約1.0kw にお
いて、板ガラス搬送スピード約500mm ／min で膜厚約６
nmのSUS 薄膜を第２層として得た。さらに第１層と同様
にして板ガラス搬送スピード約100mm ／min で膜厚約30
nmのSUSOx 薄膜を第３層として成膜積層した〔比較例
１〕。
し、Arガス圧約約２x10 -3Torrで印加電力約1.0kw にお
いて、板ガラス搬送スピード約500mm ／min で膜厚約６
nmのSUS 薄膜を第２層として得た。さらに第１層と同様
にして板ガラス搬送スピード約100mm ／min で膜厚約30
nmのSUSOx 薄膜を第３層として成膜積層した〔比較例
１〕。
【００５５】また、SnOx薄膜については、前記実施例10
と同様の方法で板ガラス搬送スピードを所望の膜厚とな
るよう調整して得た。またさらにTiNx薄膜については、
同装置でTiターゲットを用い、同真空度、N2ガス、印加
電力約1.5kw において、例えば板ガラス搬送スピード約
200mm ／min で膜厚約15nmのTiNx薄膜を得た。さらにま
たCrNx薄膜については、前記実施例10と同様の方法で板
ガラス搬送スピードを所望の膜厚となるよう調整し、例
えば前記Crのターゲットに約1.2kw の電力を印加し、前
記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパッタの中を、
前記Crのターゲット上方においてスピード約91mm／min
で前記板ガラス搬送することによって膜厚約50nmのCrNx
薄膜を得た。
と同様の方法で板ガラス搬送スピードを所望の膜厚とな
るよう調整して得た。またさらにTiNx薄膜については、
同装置でTiターゲットを用い、同真空度、N2ガス、印加
電力約1.5kw において、例えば板ガラス搬送スピード約
200mm ／min で膜厚約15nmのTiNx薄膜を得た。さらにま
たCrNx薄膜については、前記実施例10と同様の方法で板
ガラス搬送スピードを所望の膜厚となるよう調整し、例
えば前記Crのターゲットに約1.2kw の電力を印加し、前
記混合ガスによるDCマグネトロン反応スパッタの中を、
前記Crのターゲット上方においてスピード約91mm／min
で前記板ガラス搬送することによって膜厚約50nmのCrNx
薄膜を得た。
【００５６】このような方法によって、表１に示すよう
な１〜３層の膜を得、その膜構成において、実施例１と
同様の測定法、同様の評価を行った。その結果を表１に
それぞれ示す。
な１〜３層の膜を得、その膜構成において、実施例１と
同様の測定法、同様の評価を行った。その結果を表１に
それぞれ示す。
【００５７】それぞれ、比較例１〜５は、各実施例に比
して、従来の熱線反射ガラスであるこれらにおいては、
例えば表面抵抗率が低く、330 Ω／口以下であって、電
波反射率も14％程度以上となり、従来のフロートガラス
の電波反射率より悪く、建築物の周辺に電波障害を発現
し易いものまたはするものであった。
して、従来の熱線反射ガラスであるこれらにおいては、
例えば表面抵抗率が低く、330 Ω／口以下であって、電
波反射率も14％程度以上となり、従来のフロートガラス
の電波反射率より悪く、建築物の周辺に電波障害を発現
し易いものまたはするものであった。
【００５８】
【表１】
【００５９】
【発明の効果】以上前述したように、本発明の電波透過
型の熱線遮蔽ガラスは、特定膜厚でガラス基板の片面に
Crを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少な
くとも１種の元素とCrの化合物または混合物の窒化物ま
たは窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜として利用するこ
とによって、建築用熱線遮蔽ガラスとしては、１ｋΩ／
口以上で電波反射率をTV電波帯、ことに周波数150MHz付
近において約３％以下程度とフロートガラス並に低くす
ることができ、従ってビル周囲の住宅等においてTV画像
でのゴースト現象等の電波の障害を低減でき、また車輌
用熱線反射ガラスにおいては、熱線遮蔽性能膜の表面抵
抗率を100 ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高
抵抗、しかも透過色調がグレー系色調である特定の熱線
遮蔽性能膜を利用することによって、例えばフロントウ
インド、リヤウインド等の電波の透過性が必要なガラス
アンテナ付き単板断熱ガラス等に極めて有用である。
型の熱線遮蔽ガラスは、特定膜厚でガラス基板の片面に
Crを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少な
くとも１種の元素とCrの化合物または混合物の窒化物ま
たは窒素酸化物薄膜を熱線遮蔽性能膜として利用するこ
とによって、建築用熱線遮蔽ガラスとしては、１ｋΩ／
口以上で電波反射率をTV電波帯、ことに周波数150MHz付
近において約３％以下程度とフロートガラス並に低くす
ることができ、従ってビル周囲の住宅等においてTV画像
でのゴースト現象等の電波の障害を低減でき、また車輌
用熱線反射ガラスにおいては、熱線遮蔽性能膜の表面抵
抗率を100 ｋΩ／口以上、ときには１ＭΩ／口以上の高
抵抗、しかも透過色調がグレー系色調である特定の熱線
遮蔽性能膜を利用することによって、例えばフロントウ
インド、リヤウインド等の電波の透過性が必要なガラス
アンテナ付き単板断熱ガラス等に極めて有用である。
【００６０】また、前記熱線遮蔽性能膜の上層あるいは
下層として無色透明な誘電体薄膜を積層、あるいはCrの
窒化物または窒素酸化物薄膜を積層成膜することで、光
の干渉作用を巧みに利用することによって種々の色調を
発現させ、色調を微妙にコントロールすることができ、
あるいは可視光透過率をも調整できるものであって、耐
摩耗性や耐久性をより強固に向上せしめるものとなり、
断熱性能を保持しつつ、単板ガラスはもちろん合せガラ
スあるいは複層ガラス等として使用することができる、
有用な電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラ
スを効率よく提供することができるものである。
下層として無色透明な誘電体薄膜を積層、あるいはCrの
窒化物または窒素酸化物薄膜を積層成膜することで、光
の干渉作用を巧みに利用することによって種々の色調を
発現させ、色調を微妙にコントロールすることができ、
あるいは可視光透過率をも調整できるものであって、耐
摩耗性や耐久性をより強固に向上せしめるものとなり、
断熱性能を保持しつつ、単板ガラスはもちろん合せガラ
スあるいは複層ガラス等として使用することができる、
有用な電波透過特性を有する電波透過型の熱線遮蔽ガラ
スを効率よく提供することができるものである。
Claims (7)
- 【請求項１】 透明なガラス基板のー方の表面に、Crを
主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群から選ばれた少なくと
も１種の元素とCrの化合物または混合物の窒化物または
窒素酸化物薄膜を被覆したことを特徴とする電波透過型
の熱線遮蔽ガラス。 - 【請求項２】 透明なガラス基板のー方の表面に、膜厚
が５〜100nm のCrを主成分とし、Ta、Zr、Si、Alの群か
ら選ばれた少なくとも１種の元素とCrの化合物または混
合物の窒化物または窒素酸化物薄膜を第１層として被覆
し、該第１層の上に、膜厚が５〜50nmのTi、Ta、Sn、Z
r、Al、Si、TiSix の酸化物薄膜を第２層として被覆積
層したことを特徴とする電波透過型の熱線遮蔽ガラス。 - 【請求項３】 前記電波透過型の熱線遮蔽性能膜の下地
層として、膜厚が１〜30nmのTi、Ta、Sn、Zr、Al、Si、
TiSix の酸化物薄膜をアンダーコート被覆したことを特
徴とする請求項１乃至２記載の電波透過型の熱線遮蔽ガ
ラス。 - 【請求項４】 前記電波透過型の熱線遮蔽性能膜の下地
層として、膜厚が１〜30nmのCrの窒化物薄膜または窒素
酸化物薄膜をアンダーコート被覆したことを特徴とする
請求項１乃至２記載の電波透過型の熱線遮蔽ガラス。 - 【請求項５】 前記電波透過型の熱線遮蔽ガラスにおい
て、前記被覆した薄膜の表面抵抗率が１ｋΩ／口以上で
あることを特徴とする請求項１乃至４記載の電波透過型
の熱線遮蔽ガラス。 - 【請求項６】 前記電波透過型の熱線遮蔽ガラスにおい
て、前記被覆した薄膜の表面抵抗率が100 ｋΩ／口以上
であることを特徴とする請求項１乃至４記載の電波透過
型の熱線遮蔽ガラス。 - 【請求項７】 前記電波透過型の熱線遮蔽ガラスにおい
て、前記被覆した薄膜の表面抵抗率が100 ｋΩ／口以上
で、その透過色調がグレー系色調であることを特徴とす
る請求項１乃至４記載の電波透過型の熱線遮蔽ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222994A JPH07291671A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 電波透過型の熱線遮蔽ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9222994A JPH07291671A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 電波透過型の熱線遮蔽ガラス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07291671A true JPH07291671A (ja) | 1995-11-07 |
Family
ID=14048616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9222994A Pending JPH07291671A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 電波透過型の熱線遮蔽ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07291671A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0822107A1 (en) * | 1996-07-29 | 1998-02-04 | Central Glass Company, Limited | Vehicular colored glass pane with light transmittance and reflectance adjustment |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP9222994A patent/JPH07291671A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0822107A1 (en) * | 1996-07-29 | 1998-02-04 | Central Glass Company, Limited | Vehicular colored glass pane with light transmittance and reflectance adjustment |
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