JPH0530012B2 - - Google Patents
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- JPH0530012B2 JPH0530012B2 JP58238244A JP23824483A JPH0530012B2 JP H0530012 B2 JPH0530012 B2 JP H0530012B2 JP 58238244 A JP58238244 A JP 58238244A JP 23824483 A JP23824483 A JP 23824483A JP H0530012 B2 JPH0530012 B2 JP H0530012B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resistor
- resistor layer
- built
- terminal
- potential difference
- Prior art date
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/22—Elongated resistive element being bent or curved, e.g. sinusoidal, helical
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
- H01J29/485—Construction of the gun or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/46—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the ray or beam, e.g. electron-optical arrangement
- H01J29/48—Electron guns
- H01J29/50—Electron guns two or more guns in a single vacuum space, e.g. for plural-ray tube
- H01J29/503—Three or more guns, the axes of which lay in a common plane
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
- Details Of Resistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、カラー陰極線管等の管体内に、電子
銃と共に組込まれる内蔵抵抗器に関する。
銃と共に組込まれる内蔵抵抗器に関する。
背景技術とその問題点
従来、カラーテレビジヨン受像機に用いられる
カラー陰極線管等において、陰極電圧以外に、例
えば、コンバージエンス電極やフオーカス電極等
に供給される高電圧が必要とさるものがある。斯
かる場合、管体内に電子銃と共に分圧用の抵抗器
を内蔵抵抗器として組込み、これによつて陽極電
圧を分圧して夫々の高電圧を得るようにすること
が提案されており、このように使用される従来の
内蔵抵抗器の一例として、第1図に及び第2図示
される如くのものが知られている。
カラー陰極線管等において、陰極電圧以外に、例
えば、コンバージエンス電極やフオーカス電極等
に供給される高電圧が必要とさるものがある。斯
かる場合、管体内に電子銃と共に分圧用の抵抗器
を内蔵抵抗器として組込み、これによつて陽極電
圧を分圧して夫々の高電圧を得るようにすること
が提案されており、このように使用される従来の
内蔵抵抗器の一例として、第1図に及び第2図示
される如くのものが知られている。
第1図は外表部を形成する絶縁被膜上から透視
した状態の従来の内蔵抵抗器7を示し、第2図は
この従来の内蔵抵抗器7の全体の側面を示す。こ
の第1図及び第2図に示される内蔵抵抗器7にお
いては、セラミツク板等の絶縁基板1上に、導電
層が被着されて形成された端子部、即ち、高電圧
が供給される高圧電極端子2、コンバージエンス
電極用の高電圧、即ち、コンバージエンス電圧が
得られるコンバージエンス電極端子(以下、CV
電極端子という)3及びアース電極端子4が設け
られ、また、CV電極端子3とアース電極端子4
との間には所要の抵抗値を有するジグザグ状パタ
ーンとされた抵抗体層5aが、高圧電極端子2と
CV電極端子3との間には同じく所要の抵抗値を
有する抵抗体層5bが、さらに、抵抗体層5a及
び5bとCV電極端子3の間に微調整用抵抗体層
5cが、夫々被着されて、分圧抵抗体層5が形成
されている。そして、第1図の斜視部分には、分
圧抵抗体層5を覆つて、鉛ガラス等からなる絶縁
被膜6が施されている。尚、微調整用抵抗体層5
cは、内蔵抵抗器7の製造工程においてその一部
を削除することにより、各端子間の抵抗体層5a
及び5bの抵抗値を調整することができるように
設けられている。
した状態の従来の内蔵抵抗器7を示し、第2図は
この従来の内蔵抵抗器7の全体の側面を示す。こ
の第1図及び第2図に示される内蔵抵抗器7にお
いては、セラミツク板等の絶縁基板1上に、導電
層が被着されて形成された端子部、即ち、高電圧
が供給される高圧電極端子2、コンバージエンス
電極用の高電圧、即ち、コンバージエンス電圧が
得られるコンバージエンス電極端子(以下、CV
電極端子という)3及びアース電極端子4が設け
られ、また、CV電極端子3とアース電極端子4
との間には所要の抵抗値を有するジグザグ状パタ
ーンとされた抵抗体層5aが、高圧電極端子2と
CV電極端子3との間には同じく所要の抵抗値を
有する抵抗体層5bが、さらに、抵抗体層5a及
び5bとCV電極端子3の間に微調整用抵抗体層
5cが、夫々被着されて、分圧抵抗体層5が形成
されている。そして、第1図の斜視部分には、分
圧抵抗体層5を覆つて、鉛ガラス等からなる絶縁
被膜6が施されている。尚、微調整用抵抗体層5
cは、内蔵抵抗器7の製造工程においてその一部
を削除することにより、各端子間の抵抗体層5a
及び5bの抵抗値を調整することができるように
設けられている。
斯かる構成を有する内蔵抵抗器7がカラー陰極
線管に組込まれた状態を第3図に示す。ここで、
管体8のネツク部8a内に電子銃構体9が配置さ
れており、この電子銃構体9は、3個のカソード
Kに対して共通に第1グリツド電極G1、第2グ
リツド電極G2、第3グリツド電極G3、第4グ
リツド電極G4及び第5グリツド電極G5が順次
同軸上に配列されて形成されている。そして、第
5グリツド電極G5の後段には、コンバージエン
ス手段10が配置されている。各電極G1,G
2,G3,G4,G5、及びコンバージエンス手
段10は、相互に所定の位置関係を保持して、ビ
ーデイングガラス11によつて機械的に連結され
ており、第3グリツド電極G3と第5グリツド電
極G5とは、導線13によつて、電気的に接続さ
れている。また、コンバージエンス手段10は、
導電板14を介して第5グリツド電極G5に電気
的に接続されて、相対向する内側偏向電極板10
a及び10bと、その外側にこれら電極板10a
及び10bと対向して配置される外側偏向電極板
10c及び10dとを有して形成されている。
線管に組込まれた状態を第3図に示す。ここで、
管体8のネツク部8a内に電子銃構体9が配置さ
れており、この電子銃構体9は、3個のカソード
Kに対して共通に第1グリツド電極G1、第2グ
リツド電極G2、第3グリツド電極G3、第4グ
リツド電極G4及び第5グリツド電極G5が順次
同軸上に配列されて形成されている。そして、第
5グリツド電極G5の後段には、コンバージエン
ス手段10が配置されている。各電極G1,G
2,G3,G4,G5、及びコンバージエンス手
段10は、相互に所定の位置関係を保持して、ビ
ーデイングガラス11によつて機械的に連結され
ており、第3グリツド電極G3と第5グリツド電
極G5とは、導線13によつて、電気的に接続さ
れている。また、コンバージエンス手段10は、
導電板14を介して第5グリツド電極G5に電気
的に接続されて、相対向する内側偏向電極板10
a及び10bと、その外側にこれら電極板10a
及び10bと対向して配置される外側偏向電極板
10c及び10dとを有して形成されている。
このような電子銃構体9に対して、第1図及び
第2図に示される如くの内蔵抵抗器7が取り付け
られており、この内蔵抵抗器7の高圧電極端子2
が第5グリツド電極G5に導電性取付け片12を
介して連結されている。管体8のフアンネル部8
bの内壁には、ネツク部8aの内壁にまで伸びる
グラフアイト導電膜15が被着されており、フア
ンネル部8bに設けられた高圧供給ボタン、即
ち、陽極ボタン(図示しない)を通して陽極電圧
が供給される。そして、導電板14には、導電ス
プリング16が設けられていて、このスプリング
16がグラフアイト導電膜15に接触することに
より、第5グリツド電極G5、第3グリツド電極
G3、コンバージエンス手段10の内側偏向電極
板10a及び10b、及び、内蔵抵抗器7の高圧
電極端子2に陽極電圧が供給される。
第2図に示される如くの内蔵抵抗器7が取り付け
られており、この内蔵抵抗器7の高圧電極端子2
が第5グリツド電極G5に導電性取付け片12を
介して連結されている。管体8のフアンネル部8
bの内壁には、ネツク部8aの内壁にまで伸びる
グラフアイト導電膜15が被着されており、フア
ンネル部8bに設けられた高圧供給ボタン、即
ち、陽極ボタン(図示しない)を通して陽極電圧
が供給される。そして、導電板14には、導電ス
プリング16が設けられていて、このスプリング
16がグラフアイト導電膜15に接触することに
より、第5グリツド電極G5、第3グリツド電極
G3、コンバージエンス手段10の内側偏向電極
板10a及び10b、及び、内蔵抵抗器7の高圧
電極端子2に陽極電圧が供給される。
内蔵抵抗器7のCV電極端子3は、導電性取付
け片17を介してコンバージエンス手段10の外
側偏向電極板10c及び10dに連結され、CV
電極端子3に、陽極電圧が抵抗体層5a及び5b
により分圧されて得られるコンバージエンス電圧
が、外側偏向電極板10c及び10dに供給され
る。また、内蔵抵抗器7のアース電極端子4が、
管体8のネツク部8aの基部におけるシステム1
8に貫通埋設されたアース電極端子ピン19に連
結され、直接もしくは調整用外付け抵抗を介して
接地される。
け片17を介してコンバージエンス手段10の外
側偏向電極板10c及び10dに連結され、CV
電極端子3に、陽極電圧が抵抗体層5a及び5b
により分圧されて得られるコンバージエンス電圧
が、外側偏向電極板10c及び10dに供給され
る。また、内蔵抵抗器7のアース電極端子4が、
管体8のネツク部8aの基部におけるシステム1
8に貫通埋設されたアース電極端子ピン19に連
結され、直接もしくは調整用外付け抵抗を介して
接地される。
斯かる陰極線管にあつて、例えば、電子銃構体
9の各部に尖鋭な突起部分等があると、実際の使
用にあたつて不所望な放電を生じることになる。
そこで、陽極線管の製造過程において、電子銃構
体9における尖鋭突起部分等の放電を生じ易い部
分については、予め放電を生じさせて溶解成型す
ること等により、完成品とされた後の実際の使用
時の動作を安定化することを目的としたノツキン
グ処理が行われる。このようなノツキング処理工
程においては、例えば、陰極線管の実働時に比し
て2〜3倍とされた高電圧(ノツキング電圧)
が、第3グリツド電極G3、第5グリツド電極G
5及び内蔵抵抗器7の高圧電極端子2に印加さ
れ、また、第1、第2及び第4の各グリツド電極
G1,G2及びG4は接地状態とされる。このノ
ツキング処理時には、内蔵抵抗器7の絶縁被膜6
の表面は、一部を除いて、比較的高い電位に帯電
せしめられ、この絶縁被膜6には、特に、分圧抵
抗体層5を形成する抵抗体層5aの低圧側で、実
働時に比して大なる電位差がかかることになる。
第4図は、横軸に内蔵抵抗器7の絶縁基板1上に
おける、低圧側とされるアース電極端子4からの
高圧側とされるCV電極端子3側への距離Lをと
り、縦軸に電位Vをとつて、ノツキング処理時に
おける内蔵抵抗器7の絶縁被膜6の表面電位(曲
線a)、アース電極端子4とCV電極端子3との間
に配された抵抗体層5aの各部の電位(曲線b)
及び両電位の差(曲線c)を示す。これから明ら
かなようの、絶縁基板1上に、高電圧が印加され
る第3グリツド電極G3に近接した位置Pにおけ
る、比較的低電位とされる抵抗体層5aの部分で
の、抵抗体層5aと絶縁被膜6の表面との間の電
位差が最大となり、従つて、この位置(最大電位
差位置)Pで絶縁被膜6に最大の電位差がかかる
ことになる。このため、第3グリツド電極G3付
近で、絶縁被膜6の耐圧を越える電位がかかつて
絶縁被膜6の絶縁劣化もしくは破壊を生じ、その
結果、抵抗体層5aが被害を受けてその抵抗値が
著しく変化してしまう虞れがある。
9の各部に尖鋭な突起部分等があると、実際の使
用にあたつて不所望な放電を生じることになる。
そこで、陽極線管の製造過程において、電子銃構
体9における尖鋭突起部分等の放電を生じ易い部
分については、予め放電を生じさせて溶解成型す
ること等により、完成品とされた後の実際の使用
時の動作を安定化することを目的としたノツキン
グ処理が行われる。このようなノツキング処理工
程においては、例えば、陰極線管の実働時に比し
て2〜3倍とされた高電圧(ノツキング電圧)
が、第3グリツド電極G3、第5グリツド電極G
5及び内蔵抵抗器7の高圧電極端子2に印加さ
れ、また、第1、第2及び第4の各グリツド電極
G1,G2及びG4は接地状態とされる。このノ
ツキング処理時には、内蔵抵抗器7の絶縁被膜6
の表面は、一部を除いて、比較的高い電位に帯電
せしめられ、この絶縁被膜6には、特に、分圧抵
抗体層5を形成する抵抗体層5aの低圧側で、実
働時に比して大なる電位差がかかることになる。
第4図は、横軸に内蔵抵抗器7の絶縁基板1上に
おける、低圧側とされるアース電極端子4からの
高圧側とされるCV電極端子3側への距離Lをと
り、縦軸に電位Vをとつて、ノツキング処理時に
おける内蔵抵抗器7の絶縁被膜6の表面電位(曲
線a)、アース電極端子4とCV電極端子3との間
に配された抵抗体層5aの各部の電位(曲線b)
及び両電位の差(曲線c)を示す。これから明ら
かなようの、絶縁基板1上に、高電圧が印加され
る第3グリツド電極G3に近接した位置Pにおけ
る、比較的低電位とされる抵抗体層5aの部分で
の、抵抗体層5aと絶縁被膜6の表面との間の電
位差が最大となり、従つて、この位置(最大電位
差位置)Pで絶縁被膜6に最大の電位差がかかる
ことになる。このため、第3グリツド電極G3付
近で、絶縁被膜6の耐圧を越える電位がかかつて
絶縁被膜6の絶縁劣化もしくは破壊を生じ、その
結果、抵抗体層5aが被害を受けてその抵抗値が
著しく変化してしまう虞れがある。
斯かる絶縁劣化もしくは破壊による抵抗体層5
aの抵抗値変化に関しては、絶縁被膜6の厚さを
大として、耐圧を高めることが有利となる。即
ち、絶縁被膜6の膜厚を大に形成することで、絶
縁被膜6の絶縁劣化もしくは破壊を阻止し、抵抗
体層5aの抵抗値の変化を抑えることが可能とな
るが、内蔵抵抗器7にとつて絶縁被膜6の膜厚が
無闇に大とされることはコストの面で不利とな
り、また、絶縁基板1と絶縁被膜6との膨張係数
の差に起因する内蔵抵抗器7の全体の反りを生
じ、使用時の昇温及び不使用時の降温のの熱サイ
クルによつて絶縁被膜6が絶縁基板1から剥離す
る、あるいは亀裂を生じる等の信頼性の低下につ
ながる問題を伴うことになる。
aの抵抗値変化に関しては、絶縁被膜6の厚さを
大として、耐圧を高めることが有利となる。即
ち、絶縁被膜6の膜厚を大に形成することで、絶
縁被膜6の絶縁劣化もしくは破壊を阻止し、抵抗
体層5aの抵抗値の変化を抑えることが可能とな
るが、内蔵抵抗器7にとつて絶縁被膜6の膜厚が
無闇に大とされることはコストの面で不利とな
り、また、絶縁基板1と絶縁被膜6との膨張係数
の差に起因する内蔵抵抗器7の全体の反りを生
じ、使用時の昇温及び不使用時の降温のの熱サイ
クルによつて絶縁被膜6が絶縁基板1から剥離す
る、あるいは亀裂を生じる等の信頼性の低下につ
ながる問題を伴うことになる。
発明の目的
斯かる点に鑑み本発明は、絶縁基板上に所定の
パターンを有した抵抗体層が形成され、この抵抗
体層が絶縁被膜で覆われた構成を有し、陰極線管
のノツキング処理時等においても、絶縁被膜の絶
縁劣化もしくは破壊を効果的に回避でき、その結
果、ノツキング処理前後等での抵抗体層の抵抗値
の変化を最小限に抑えることができ、しかも、製
造コスト面や信頼性の面での不利をまねかないよ
うにされた陰極線管の内蔵抵抗器を提供すること
を目的とする。
パターンを有した抵抗体層が形成され、この抵抗
体層が絶縁被膜で覆われた構成を有し、陰極線管
のノツキング処理時等においても、絶縁被膜の絶
縁劣化もしくは破壊を効果的に回避でき、その結
果、ノツキング処理前後等での抵抗体層の抵抗値
の変化を最小限に抑えることができ、しかも、製
造コスト面や信頼性の面での不利をまねかないよ
うにされた陰極線管の内蔵抵抗器を提供すること
を目的とする。
発明の概要
本発明に係る陰極線管の内蔵抵抗器は、絶縁基
板上に複数の電極端子と、これら電極端子のうち
の低圧側とされる第1の端子と高圧側とされる第
2の端子との間おいて所定のパターンを有して配
される抵抗体層とが形成され、さらに、抵抗体層
を被覆する絶縁被膜が設けられて成り、絶縁基板
上における上述の第1の端子と第2の端子の端子
とを結ぶ方向の単位長当りの抵抗体層の抵抗値
が、絶縁基板上の絶縁被膜の表面電位と抵抗体層
の電位との間の電位差が大とされる高電位差部位
と第2の端子の部位との間におけるより、高電位
差部位と第1の端子の部位との間における方が大
となるようにされる。
板上に複数の電極端子と、これら電極端子のうち
の低圧側とされる第1の端子と高圧側とされる第
2の端子との間おいて所定のパターンを有して配
される抵抗体層とが形成され、さらに、抵抗体層
を被覆する絶縁被膜が設けられて成り、絶縁基板
上における上述の第1の端子と第2の端子の端子
とを結ぶ方向の単位長当りの抵抗体層の抵抗値
が、絶縁基板上の絶縁被膜の表面電位と抵抗体層
の電位との間の電位差が大とされる高電位差部位
と第2の端子の部位との間におけるより、高電位
差部位と第1の端子の部位との間における方が大
となるようにされる。
このように構成されることにより、絶縁基板上
の低圧側とされる第1の端子の部位から高電位差
部位へかけての抵抗体層の電位上昇勾配が急峻な
ものとされて、抵抗体層の電位が高電位差部位を
中心にし、その両端部を除いて、全体的に高めら
れ、その結果、絶縁被膜の表面と抵抗体層との間
の電位差、即ち、絶縁被膜にかかる電位差が低減
されることになる。これにより、陰極線管のノツ
キング処理時等に特に大なる電位差がかかる部分
においても、絶縁被膜が絶縁劣化もしくは破壊を
生ずることがないようにでき、抵抗体層の抵抗値
の大幅な変化を防止することができる。
の低圧側とされる第1の端子の部位から高電位差
部位へかけての抵抗体層の電位上昇勾配が急峻な
ものとされて、抵抗体層の電位が高電位差部位を
中心にし、その両端部を除いて、全体的に高めら
れ、その結果、絶縁被膜の表面と抵抗体層との間
の電位差、即ち、絶縁被膜にかかる電位差が低減
されることになる。これにより、陰極線管のノツ
キング処理時等に特に大なる電位差がかかる部分
においても、絶縁被膜が絶縁劣化もしくは破壊を
生ずることがないようにでき、抵抗体層の抵抗値
の大幅な変化を防止することができる。
そして、上述の如くに、第1の端子と第2の端
子とを結ぶ方向の単位長当りの抵抗体層の抵抗値
が、高電位差部位と第2の端子の部位との間にお
けるより、高電位差差部位と第1の端子の部位と
の間における方が大となるよにされることは、例
えば、抵抗体層が均質抵抗材料により均一断面積
を有して、所定のパターンに形成される場合にそ
のパターンを工夫して、第1の端子と第2の端子
とを結ぶ方向の単位長内における抵抗体層の実効
長が、高電位差部位と第2の端子の部位との間に
おけるより、高電位差部位と第1の端子の部位と
の間における方が大となるようにする手法によつ
て、また、抵抗体層の断面積あるいはそれを形成
する抵抗材料を部分的にことならしめて、抵抗体
層自体の単位長当りの抵抗値が、高電位差部位と
第2の端子の部位との間におけるより、高電位差
部位と第1の端子の部位との間における方が大と
なるようにする手法によつて、さらには、これら
各手法の組合せにより達成される。
子とを結ぶ方向の単位長当りの抵抗体層の抵抗値
が、高電位差部位と第2の端子の部位との間にお
けるより、高電位差差部位と第1の端子の部位と
の間における方が大となるよにされることは、例
えば、抵抗体層が均質抵抗材料により均一断面積
を有して、所定のパターンに形成される場合にそ
のパターンを工夫して、第1の端子と第2の端子
とを結ぶ方向の単位長内における抵抗体層の実効
長が、高電位差部位と第2の端子の部位との間に
おけるより、高電位差部位と第1の端子の部位と
の間における方が大となるようにする手法によつ
て、また、抵抗体層の断面積あるいはそれを形成
する抵抗材料を部分的にことならしめて、抵抗体
層自体の単位長当りの抵抗値が、高電位差部位と
第2の端子の部位との間におけるより、高電位差
部位と第1の端子の部位との間における方が大と
なるようにする手法によつて、さらには、これら
各手法の組合せにより達成される。
実施例
以下、本発明の実施例について図面を参照して
詳述する。
詳述する。
第5図は本発明に係る陰極線管の内蔵抵抗器の
一例を示す。この例の内蔵抵抗器は、第1図及び
第2図に示される内蔵抵抗器7と同様に、絶縁基
板1上に分圧抵抗体層とをこれを被覆する絶縁被
膜が設けられて形成され、第5図においては、外
表部を形成する絶縁基板被膜上から透視した状態
が示されている。なお、第5図において、第1図
及び第2図に示される各部に対応する部分には、
第1図及び第2図と共通の符号を付して示し、そ
れらについての詳細な重複説明を省略する。
一例を示す。この例の内蔵抵抗器は、第1図及び
第2図に示される内蔵抵抗器7と同様に、絶縁基
板1上に分圧抵抗体層とをこれを被覆する絶縁被
膜が設けられて形成され、第5図においては、外
表部を形成する絶縁基板被膜上から透視した状態
が示されている。なお、第5図において、第1図
及び第2図に示される各部に対応する部分には、
第1図及び第2図と共通の符号を付して示し、そ
れらについての詳細な重複説明を省略する。
第5図に示される本発明に係る内蔵抵抗器の一
例においては、絶縁基板1上に設けられ、かつ、
例えば、鉛ガラスからなる絶縁被膜(図示省略)
によつて被覆された分圧抵抗体層5が、CV電極
端子3とアース電極端子4との間にジグザグ状パ
ターンを有して配された抵抗体層5′aと、高圧
電極端子2とCV電極端子3との間に配された、
第1図及び第2図に示されるものと同様の、抵抗
体層5b及び微調整抵抗体層5cで形成されてい
る。
例においては、絶縁基板1上に設けられ、かつ、
例えば、鉛ガラスからなる絶縁被膜(図示省略)
によつて被覆された分圧抵抗体層5が、CV電極
端子3とアース電極端子4との間にジグザグ状パ
ターンを有して配された抵抗体層5′aと、高圧
電極端子2とCV電極端子3との間に配された、
第1図及び第2図に示されるものと同様の、抵抗
体層5b及び微調整抵抗体層5cで形成されてい
る。
ここで、分圧抵抗体層5は、一様な断面積を有
して、均一な抵抗材料で形成されたものとなされ
ている。そして、抵抗体層5′aは、全体的に、
一定の蛇行幅を有したジグザグ状パターンをもつ
ものとされ、低圧側であるアース電極端子4と第
1図、第2図及び第4図に示される内蔵抵抗器7
における最大電位差位置Pに対応する、例えば、
第3図に示される如くの陰極線管内に電子銃構体
9とともに組まれて電圧が印加されたとき、絶縁
被膜の表面電位と抵抗体層5′aの電位との間の
差が最大となる位置である最大電位差位置P′との
間に配された、ジグザグ状パターンの蛇行ピツチ
を小ピツチp1とする部分5alと、これに続き、
最大電位差位置P′と高圧側であるCV電極端子3
との間に配された、ジグザグ状パターンの蛇行ピ
ツチを大ピツチp2(p2>p1)とする部分
5′ahとで構成されている。
して、均一な抵抗材料で形成されたものとなされ
ている。そして、抵抗体層5′aは、全体的に、
一定の蛇行幅を有したジグザグ状パターンをもつ
ものとされ、低圧側であるアース電極端子4と第
1図、第2図及び第4図に示される内蔵抵抗器7
における最大電位差位置Pに対応する、例えば、
第3図に示される如くの陰極線管内に電子銃構体
9とともに組まれて電圧が印加されたとき、絶縁
被膜の表面電位と抵抗体層5′aの電位との間の
差が最大となる位置である最大電位差位置P′との
間に配された、ジグザグ状パターンの蛇行ピツチ
を小ピツチp1とする部分5alと、これに続き、
最大電位差位置P′と高圧側であるCV電極端子3
との間に配された、ジグザグ状パターンの蛇行ピ
ツチを大ピツチp2(p2>p1)とする部分
5′ahとで構成されている。
ここで、絶縁基板1上のアース電極端子4と最
大電位差位置P′との間の単位長内における小ピツ
チp1を有する部分5′alは実効長は、絶縁基板
1上の最大電位差位置P′とCV電極端子3との間
の単位長内における大ピツチp2を有する部分
5′ahの実効長よりも大となり、従つて、アース
電極端子4と最大電位差位置P′との間に単位長当
りの抵抗体層5′aの抵抗値は、最大電位差位置
P′とCV電極端子3との間の単位長当りの抵抗体
層5′aの抵抗値より大となる。
大電位差位置P′との間の単位長内における小ピツ
チp1を有する部分5′alは実効長は、絶縁基板
1上の最大電位差位置P′とCV電極端子3との間
の単位長内における大ピツチp2を有する部分
5′ahの実効長よりも大となり、従つて、アース
電極端子4と最大電位差位置P′との間に単位長当
りの抵抗体層5′aの抵抗値は、最大電位差位置
P′とCV電極端子3との間の単位長当りの抵抗体
層5′aの抵抗値より大となる。
このため、斯かる第5図に示される内蔵抵抗器
が、第3図に示される如くの陰極線管の電子銃構
体9に、従来の内蔵抵抗器7と同様にして取り付
けられ、陰極線管のノツキング処理時において、
高圧電極端子2にノツキング電圧が印加される場
合には、横軸を絶縁基板1上におけるアース電極
端子4からのCV電極端子3への距離Lとし、縦
軸を電位Vとして表される第6図のグラフにおい
て曲線b′で示される如く、抵抗体層5′aのアー
ス電極端子4と最大電位差位置P′との間の部分
5′alにおけるアース電極端子4から最大電位差
位置P′へかけての電位上昇勾配が急峻になり、ま
た、最大電位差位置P′とCV電極端子3との間の
部分5′ahにおける最大電位差位置P′からCV電
極端子3へかけての電位上昇勾配が緩やかにな
る。従つて、抵抗体層5′aの各部の電位は、第
6図において破線bで示される従来の内蔵抵抗器
7の場合の電位に比して、最大電位差位置P′を中
心にして全体的に高められることになる。この結
果、第6図において曲線a′で示される第5図の内
蔵抵抗器の絶縁被膜の表面電位と抵抗体層5′a
の電位との差、即ち、絶縁被膜にかかる電位差
が、従来の内蔵抵抗器7の場合に比して低減され
る。
が、第3図に示される如くの陰極線管の電子銃構
体9に、従来の内蔵抵抗器7と同様にして取り付
けられ、陰極線管のノツキング処理時において、
高圧電極端子2にノツキング電圧が印加される場
合には、横軸を絶縁基板1上におけるアース電極
端子4からのCV電極端子3への距離Lとし、縦
軸を電位Vとして表される第6図のグラフにおい
て曲線b′で示される如く、抵抗体層5′aのアー
ス電極端子4と最大電位差位置P′との間の部分
5′alにおけるアース電極端子4から最大電位差
位置P′へかけての電位上昇勾配が急峻になり、ま
た、最大電位差位置P′とCV電極端子3との間の
部分5′ahにおける最大電位差位置P′からCV電
極端子3へかけての電位上昇勾配が緩やかにな
る。従つて、抵抗体層5′aの各部の電位は、第
6図において破線bで示される従来の内蔵抵抗器
7の場合の電位に比して、最大電位差位置P′を中
心にして全体的に高められることになる。この結
果、第6図において曲線a′で示される第5図の内
蔵抵抗器の絶縁被膜の表面電位と抵抗体層5′a
の電位との差、即ち、絶縁被膜にかかる電位差
が、従来の内蔵抵抗器7の場合に比して低減され
る。
この場合、抵抗体層5′aの部分5′al及び部分
5′ahの実効長を夫々Xl及びXh、CV電極端子3
の電位をVc及びアース電極端子4の電位をVeと
すると、最大電位差位置P′における抵抗体層5′
aの電位V′pは、 V′p=Ve+(Vc−Ve)・Xl/Xl+Xhとなり、 また、最大電位差位置P′における絶縁被膜の表
面電位をVsとすると、最大電位差位置P′におい
て絶縁被膜にかかる電位は、Vs−V′p=Vs−Ve
−(Vc−Ve)・Xl/Xl+Xhとなる。従つて、斯かる 電位差Vs−V′pが絶縁被膜の耐圧限界より小とな
るようにXl及びXhが設定される。
5′ahの実効長を夫々Xl及びXh、CV電極端子3
の電位をVc及びアース電極端子4の電位をVeと
すると、最大電位差位置P′における抵抗体層5′
aの電位V′pは、 V′p=Ve+(Vc−Ve)・Xl/Xl+Xhとなり、 また、最大電位差位置P′における絶縁被膜の表
面電位をVsとすると、最大電位差位置P′におい
て絶縁被膜にかかる電位は、Vs−V′p=Vs−Ve
−(Vc−Ve)・Xl/Xl+Xhとなる。従つて、斯かる 電位差Vs−V′pが絶縁被膜の耐圧限界より小とな
るようにXl及びXhが設定される。
第7図は、本発明に係る内蔵抵抗器の低の例を
示す。この例においても、第5図の例と同様に、
絶縁基板1上のCV電極端子3とアース電極端子
4との間において、部分5′alと部分5′ahとで構
成される抵抗体層5aが、均一な抵抗材料によ
り、一様な断面積を有し、ジグザグ状パターンを
もつものてして設けられているが、この例の場合
には、部分5′al5′ahも互いに等しい一定のジグ
ザグ状パターンの蛇行ピツチを有すものとされる
とともに、部分5′alのジグザグ状パターンの蛇
行幅h1が部分5′ahのジグザグ状パターンの蛇
行幅h2より大(h1>h2)とされている。
示す。この例においても、第5図の例と同様に、
絶縁基板1上のCV電極端子3とアース電極端子
4との間において、部分5′alと部分5′ahとで構
成される抵抗体層5aが、均一な抵抗材料によ
り、一様な断面積を有し、ジグザグ状パターンを
もつものてして設けられているが、この例の場合
には、部分5′al5′ahも互いに等しい一定のジグ
ザグ状パターンの蛇行ピツチを有すものとされる
とともに、部分5′alのジグザグ状パターンの蛇
行幅h1が部分5′ahのジグザグ状パターンの蛇
行幅h2より大(h1>h2)とされている。
このため、この例においても、絶縁基板1上の
アース電極端子4と最大電位差位置P′との間の単
位長内における部分5′alの実効長が、絶縁基板
1上の最大電位差位置P′とCV電極端子3との間
の単位長内における5′ahの実効長よりも大とな
り、第5図の例と同様の作用効果が得られる。
アース電極端子4と最大電位差位置P′との間の単
位長内における部分5′alの実効長が、絶縁基板
1上の最大電位差位置P′とCV電極端子3との間
の単位長内における5′ahの実効長よりも大とな
り、第5図の例と同様の作用効果が得られる。
第8図から第11図は、本発明に係る内蔵抵抗
器のさらに他の例を示す。これらの例は、いずれ
も、第5図の例と同様に、絶縁基板1上のCV電
極端子3とアース電極端子4との間において、部
分5′alと部分5′ahとで構成される抵抗体層5′
aがジグザグ状パターンをもつて設けられ、部分
5′alと部分5′ahとは、ジグザグ状パターンの蛇
行ピツチ及び蛇行幅が、夫々、互いに等しい一定
のものとされるとともに、部分5′al自体の単位
長当りの抵抗値が部分5′ah自体の単位長当りの
抵抗値より大となるようにされたものとなされて
いる。これにより、第8図から第11図に示され
るいずれの例も、絶縁基板1上のアース電極端子
4と最大電位差位置P′との間の単位長当りの抵抗
体層5′aの抵抗値が、絶縁基板1上の最大電位
差位置P′とCV電極端子3との間の単位長当りの
抵抗体層5′aの抵抗値より大となり、第5図に
示される例と同等の作用効果が得られるものとな
る。
器のさらに他の例を示す。これらの例は、いずれ
も、第5図の例と同様に、絶縁基板1上のCV電
極端子3とアース電極端子4との間において、部
分5′alと部分5′ahとで構成される抵抗体層5′
aがジグザグ状パターンをもつて設けられ、部分
5′alと部分5′ahとは、ジグザグ状パターンの蛇
行ピツチ及び蛇行幅が、夫々、互いに等しい一定
のものとされるとともに、部分5′al自体の単位
長当りの抵抗値が部分5′ah自体の単位長当りの
抵抗値より大となるようにされたものとなされて
いる。これにより、第8図から第11図に示され
るいずれの例も、絶縁基板1上のアース電極端子
4と最大電位差位置P′との間の単位長当りの抵抗
体層5′aの抵抗値が、絶縁基板1上の最大電位
差位置P′とCV電極端子3との間の単位長当りの
抵抗体層5′aの抵抗値より大となり、第5図に
示される例と同等の作用効果が得られるものとな
る。
第8図に示される例においては、抵抗体層5′
aが均質な抵抗材料で形成され、その部分5′al
における抵抗体幅w1が部分5′ahにおける抵抗
体幅w2より小とされて、部分5′alにおける抵
抗体断面積が部分5′ahにおける抵抗体断面積に
比して小とされている。
aが均質な抵抗材料で形成され、その部分5′al
における抵抗体幅w1が部分5′ahにおける抵抗
体幅w2より小とされて、部分5′alにおける抵
抗体断面積が部分5′ahにおける抵抗体断面積に
比して小とされている。
第9図に示される例においては、抵抗体層5′
aの部分5′alと部分5′ahとが異なる抵抗材料で
形成され、部分5′alを形成する抵抗材料の比抵
抗m1が部分5′ahを形成する抵抗材料の比抵抗
m2より大とされている。
aの部分5′alと部分5′ahとが異なる抵抗材料で
形成され、部分5′alを形成する抵抗材料の比抵
抗m1が部分5′ahを形成する抵抗材料の比抵抗
m2より大とされている。
さらに、第10図及び第10図におけるXI−XI
線にそう断面をあらわす第11図に示される例に
おいては、抵抗体層5′aが均質な抵抗材料で形
成され、その部分5′alにおける抵抗体厚t1が
部分5′ahにおける抵抗体厚t2より小とされ
て、部分5′alにおける抵抗体断面積が部分5′ah
における抵抗体断面積に比して小とされている。
線にそう断面をあらわす第11図に示される例に
おいては、抵抗体層5′aが均質な抵抗材料で形
成され、その部分5′alにおける抵抗体厚t1が
部分5′ahにおける抵抗体厚t2より小とされ
て、部分5′alにおける抵抗体断面積が部分5′ah
における抵抗体断面積に比して小とされている。
このように、第8図から第11図に示される例
においては、アース電極端子4と最大電位差位置
P′との間に単位長当りの抵抗体層5′aの抵抗値
が、最大電位差位置P′とCV電極端子3との間の
単位長当りの抵抗体層5′aの抵抗値より大とさ
れ、これらが、第3図に示される如く陰極線管の
電子銃構体9に、従来の内蔵抵抗器7と同様にし
て取り付けられ、陰極線管のノツキング処理時に
おいて、高圧電極端子2にノツキング電圧が印加
される場合には、抵抗体層5′aの各部の電位は、
従来の内蔵抵抗器7の場合の電位に比して、最大
電位差位置P′を中心にして全体的に高められるこ
とになる。この結果、これらの内蔵抵抗器の絶縁
被膜の表面電位と抵抗体層5′aの電位との差、
即ち、絶縁被膜にかかる電位差が、従来の内蔵抵
抗器7の場合に比して低減される。
においては、アース電極端子4と最大電位差位置
P′との間に単位長当りの抵抗体層5′aの抵抗値
が、最大電位差位置P′とCV電極端子3との間の
単位長当りの抵抗体層5′aの抵抗値より大とさ
れ、これらが、第3図に示される如く陰極線管の
電子銃構体9に、従来の内蔵抵抗器7と同様にし
て取り付けられ、陰極線管のノツキング処理時に
おいて、高圧電極端子2にノツキング電圧が印加
される場合には、抵抗体層5′aの各部の電位は、
従来の内蔵抵抗器7の場合の電位に比して、最大
電位差位置P′を中心にして全体的に高められるこ
とになる。この結果、これらの内蔵抵抗器の絶縁
被膜の表面電位と抵抗体層5′aの電位との差、
即ち、絶縁被膜にかかる電位差が、従来の内蔵抵
抗器7の場合に比して低減される。
この場合、抵抗体層5′aの部分5′al及び部分
5′alの抵抗値を夫々Rl及びRh、CV電極端子3
の電位をVc及びアース電極端子4の電位をVeと
すると、最大電位差位置P′における抵抗体層5′
aの電位V′pは、V′p=Ve+(Vc−Ve)・
Rl/Rl+Rhとなり、また、最大電位差位置P′におけ る絶縁被膜の表面電位をVsとすると、最大電位
差位置P′において絶縁被膜にかかる電位は、Vs
−V′p=Vs−Ve(Vc−Ve)・Rl/Rl+Rhとなる。従 つて、この電位差Vs−V′pが絶縁被膜の耐圧限界
より小となるようにRl及びRhが設定される。
5′alの抵抗値を夫々Rl及びRh、CV電極端子3
の電位をVc及びアース電極端子4の電位をVeと
すると、最大電位差位置P′における抵抗体層5′
aの電位V′pは、V′p=Ve+(Vc−Ve)・
Rl/Rl+Rhとなり、また、最大電位差位置P′におけ る絶縁被膜の表面電位をVsとすると、最大電位
差位置P′において絶縁被膜にかかる電位は、Vs
−V′p=Vs−Ve(Vc−Ve)・Rl/Rl+Rhとなる。従 つて、この電位差Vs−V′pが絶縁被膜の耐圧限界
より小となるようにRl及びRhが設定される。
第12図は、実験により得られた、陰極線管の
ノツキング処理時におけるノツキング電圧Vnと、
斯かるノツキング電圧のもとにおける陰極線管に
組込まれた従来の内蔵抵抗器7の抵抗体層5a及
び本発明に係る内蔵抵抗器の抵抗体層5′aの抵
抗値変化率ΔRとの関係の具体的一例を示す。こ
こで、曲線cが従来の内蔵抵抗器7の場合を表
し、曲線dが本発明に係る内蔵抵抗器7の場合を
表し、これよりして、本発明に係る内蔵抵抗器が
用いられる場合には、従来の内蔵抵抗器7が用い
られる場合と同等の実用的ノツキング電圧条件の
もとでは、内蔵抵抗器の抵抗体層5′aの抵抗値
変化が認められず、また、従来の内蔵抵抗器7が
用いられる場合に比して、著しく高いノツキング
電圧のもとでのノツキング処理が行われても、内
蔵抵抗器の抵抗体層5′aの抵抗値変化が極めて
小なる範囲に抑えられることがわかる。
ノツキング処理時におけるノツキング電圧Vnと、
斯かるノツキング電圧のもとにおける陰極線管に
組込まれた従来の内蔵抵抗器7の抵抗体層5a及
び本発明に係る内蔵抵抗器の抵抗体層5′aの抵
抗値変化率ΔRとの関係の具体的一例を示す。こ
こで、曲線cが従来の内蔵抵抗器7の場合を表
し、曲線dが本発明に係る内蔵抵抗器7の場合を
表し、これよりして、本発明に係る内蔵抵抗器が
用いられる場合には、従来の内蔵抵抗器7が用い
られる場合と同等の実用的ノツキング電圧条件の
もとでは、内蔵抵抗器の抵抗体層5′aの抵抗値
変化が認められず、また、従来の内蔵抵抗器7が
用いられる場合に比して、著しく高いノツキング
電圧のもとでのノツキング処理が行われても、内
蔵抵抗器の抵抗体層5′aの抵抗値変化が極めて
小なる範囲に抑えられることがわかる。
なお、本発明に係る内蔵抵抗器は、上述の各例
にみられる抵抗体層5′aに関しての工夫が、い
くつか組合わされて得られる抵抗体層5′aを備
えるものとして構成されてもよい。
にみられる抵抗体層5′aに関しての工夫が、い
くつか組合わされて得られる抵抗体層5′aを備
えるものとして構成されてもよい。
また、上述の本発明にかかる内蔵抵抗器の例に
おいては、抵抗体層5′aを構成する部分5′alと
部分5′ahとの境界が、絶縁基板1上の最大電位
差位置P′に一致するようにされているが、この部
分5′alと部分5′ahとの境界は、必ずしも最大電
位差位置P′に一致せしめられる必要はなく、絶縁
基板1上における最大電位差位置P′の近傍の、絶
縁被膜の表面電位と抵抗体層の電位との間の差が
比較的大とされる位置におかれるようにされるこ
ともできる。
おいては、抵抗体層5′aを構成する部分5′alと
部分5′ahとの境界が、絶縁基板1上の最大電位
差位置P′に一致するようにされているが、この部
分5′alと部分5′ahとの境界は、必ずしも最大電
位差位置P′に一致せしめられる必要はなく、絶縁
基板1上における最大電位差位置P′の近傍の、絶
縁被膜の表面電位と抵抗体層の電位との間の差が
比較的大とされる位置におかれるようにされるこ
ともできる。
発明の効果
以上の説明から明らかな如く、本発明に係る陰
極線管の内蔵抵抗器は、陰極線管内に電子銃と共
に組込まれて電圧印加状態とされるとき、その絶
縁基板上に配された抵抗体層を被覆する絶縁被膜
の表面電位と抵抗体層の電位との間の電位差が、
特に、それが大とされる部位において顕著に、低
減せしめられるので、陰極線管のノツキング処理
に際して高電圧が印加される状況下においても、
絶縁被膜の絶縁劣化もしくは破壊が生じることが
なく、また、抵抗体層の抵抗値の変化を最小限に
抑制することができる優れた特性を示すものとな
る。しかも、絶縁被膜の絶縁劣化もしくは破壊を
防ぐべく、その膜厚を増大するという手法がとら
れるものではないので、絶縁基板と絶縁被膜との
熱膨張係数の差に起因する全体の反りや絶縁被膜
の絶縁基板からの剥離等が生じる欠点を伴わず、
さらに、安価に製造することができるものとなる
利点を有している。
極線管の内蔵抵抗器は、陰極線管内に電子銃と共
に組込まれて電圧印加状態とされるとき、その絶
縁基板上に配された抵抗体層を被覆する絶縁被膜
の表面電位と抵抗体層の電位との間の電位差が、
特に、それが大とされる部位において顕著に、低
減せしめられるので、陰極線管のノツキング処理
に際して高電圧が印加される状況下においても、
絶縁被膜の絶縁劣化もしくは破壊が生じることが
なく、また、抵抗体層の抵抗値の変化を最小限に
抑制することができる優れた特性を示すものとな
る。しかも、絶縁被膜の絶縁劣化もしくは破壊を
防ぐべく、その膜厚を増大するという手法がとら
れるものではないので、絶縁基板と絶縁被膜との
熱膨張係数の差に起因する全体の反りや絶縁被膜
の絶縁基板からの剥離等が生じる欠点を伴わず、
さらに、安価に製造することができるものとなる
利点を有している。
第1図及び第2図は従来の陰極線管の内蔵抵抗
器を示す平面図及び側面図、第3図は第1図及び
第2図に示される内蔵抵抗器が組込まれた陰極線
管の要部を示す概略構成図、第4図は第3図に示
される陰極線管内における内蔵抵抗器の各部にお
ける電位関係の説明に供される特性図、第5図は
本発明に係る陰極線管の内蔵抵抗器の一例を示す
平面図、第6図は第5図に示される例が陰極線管
に組込まれた場合の各部における電位関係の説明
に供される特性図、第7図、第8図、第9図、第
10図及び第11図は、本発明に係る陰極線管の
内蔵抵抗器の他の例を示す平面図及び断面図、第
12図は従来の、及び、本発明に係る陰極線管の
内蔵抵抗器における抵抗値変化の説明に供される
特性図である。 図中、1は絶縁基板、2は高圧電極端子、3は
コンバージエンス電極端子、4はアース電極端
子、5は分圧抵抗体層、5′aは分圧抵抗体層5
を構成する抵抗体層、5′al及び5′ahは夫々抵抗
体層5′aの部分、9は電子銃構体である。
器を示す平面図及び側面図、第3図は第1図及び
第2図に示される内蔵抵抗器が組込まれた陰極線
管の要部を示す概略構成図、第4図は第3図に示
される陰極線管内における内蔵抵抗器の各部にお
ける電位関係の説明に供される特性図、第5図は
本発明に係る陰極線管の内蔵抵抗器の一例を示す
平面図、第6図は第5図に示される例が陰極線管
に組込まれた場合の各部における電位関係の説明
に供される特性図、第7図、第8図、第9図、第
10図及び第11図は、本発明に係る陰極線管の
内蔵抵抗器の他の例を示す平面図及び断面図、第
12図は従来の、及び、本発明に係る陰極線管の
内蔵抵抗器における抵抗値変化の説明に供される
特性図である。 図中、1は絶縁基板、2は高圧電極端子、3は
コンバージエンス電極端子、4はアース電極端
子、5は分圧抵抗体層、5′aは分圧抵抗体層5
を構成する抵抗体層、5′al及び5′ahは夫々抵抗
体層5′aの部分、9は電子銃構体である。
Claims (1)
- 1 絶縁基板上に、複数の電極端子と、該電極端
子のうちの低圧側とされる第1の端子と高圧側と
される第2の端子との間において所定のパターン
を有して配される抵抗体層とが形成されるととも
に、上記抵抗体層を被膜する絶縁被膜が設けら
れ、上記絶縁基板上における上記第1の端子と上
記第2の端子とを結ぶ方向の単位長当りの上記抵
抗体層の抵抗値が、上記絶縁基板上の上記絶縁被
膜の表面電位と上記抵抗体層の電位との間の差が
大とされる高電位差部位と上記第2の端子の部位
との間におけるより、上記高電位差部位と上記第
1の端子の部位との間における方が大となるよう
にされた陰極線管の内蔵抵抗器。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238244A JPS60130033A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 陰極線管の内蔵抵抗器 |
| CA000469773A CA1232042A (en) | 1983-12-16 | 1984-12-11 | Resistors for use in cathode ray tubes |
| GB08431377A GB2152744B (en) | 1983-12-16 | 1984-12-12 | Resistors for use in cathode ray tubes |
| FR8419223A FR2556878B1 (fr) | 1983-12-16 | 1984-12-14 | Resistance pour un cathoscope |
| DE3445706A DE3445706C2 (de) | 1983-12-16 | 1984-12-14 | Widerstand für das Elektronenstrahlerzeugungssytem einer Kathodenstrahlröhre |
| KR1019840008012A KR910009245B1 (ko) | 1983-12-16 | 1984-12-15 | 음극선관의 내장저항기 |
| US06/682,247 US4639640A (en) | 1983-12-16 | 1984-12-17 | Resistors for use in cathode ray tubes |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58238244A JPS60130033A (ja) | 1983-12-16 | 1983-12-16 | 陰極線管の内蔵抵抗器 |
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Family
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Family Applications (1)
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