JPH05314454A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ブロッキングおよび強磁性金属薄膜のヒビ割
れを防止し、走行性、耐久性に優れた磁気記録媒体を提
供すること。 【構成】 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりなる磁
性層を有する磁気記録媒体において、該非磁性支持体と
該強磁性金属薄膜との間に平均粒径が１００〜３５０Å
である非磁性微粒子と結合剤を主体とする下塗り層があ
り、該結合剤はガラス転移温度（Ｔｇ）が、４０℃以下
のポリエステル系樹脂であり、かつ下塗り層の膜厚が３
０〜２５０Åであることを特徴とする磁気記録媒体であ
って、好ましくは、前記強磁性金属薄膜上にパーフルオ
ロポリエーテルもしくは分子の少なくとも片末端がパー
フルオロアルキル基であって、分子内に極性基を有する
弗素系化合物を含有する磁気記録媒体である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、強磁性金属薄膜型の磁
気記録媒体の改良に関し、特に走行耐久性に優れた磁気
記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】金属薄膜型の磁気記録テープは、塗布型
の磁気記録テープに比べ走行耐久性の確保が難しく、様
々な方向からその改善が試みられている。中でも磁気記
録媒体の表面形状は走行耐久性を考える上で非常に重要
であり、一般には支持体または支持体と支持体に形成さ
れた下塗り層の表面形状によって、制御される。下塗り
層は微粒子、バインダー、添加剤、溶剤等の混合溶液を
支持体に塗布して作製され、この素材や製造方法に関し
ては様々な提案がなされてきた。例えば、特開昭５９
−３０２３１、同６０−６９８１６、同６１−１６
８１２３、同６１−１３４２７、および同６１−１
３４２８号公報等がこれに相当する。

【０００３】〜は、下塗り層の非磁性粒子として高
分子粒子を使用する発明に関するものであり、また、
は、下塗り層の結合剤のガラス転移温度を室温以下に
することにより、カールを防止してヘッド当たりを良好
ならしめようとする発明である。これら提案のほどんど
が微粒子の素材、微粒子のよって形成される突起の高さ
や密度に関するものであるが、ステンレスガイドポール
に対する摩擦係数やスチル耐久性のみの評価にとどま
り、実際の走行試験では、目詰まり、ヘッド汚れ、ジッ
ターに対し、その効果が十分でない場合が多かった。ま
た、下塗り層に使用される結合剤の効果についての提案
は少なく、、でＴｇが室温以下の結合剤が使用され
ているが、走行耐久性への効果は触れられていない。ま
た、実際にはこのようなＴｇが室温以下の樹脂を通常の
表面粗さの媒体に使用する場合、下塗り層塗布後、巻き
取った時に下塗り面が支持体のバック面の影響を受け
て、下塗り面の表面に微細な形状変化がみられ、表面性
が低下することがあった。

【０００４】また、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、
その強磁性金属薄膜は、変形、特に、瞬間的変形に対し
弱い傾向があり、ひび割れ等が発生し易いという問題も
あり、走行耐久性との両立を計るための有効な手段が望
まれている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、ブロッキン
グおよび強磁性金属薄膜のひび割れを防止し、走行性、
耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とす
るものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上に強磁性金属薄膜よりなる磁性層を有する磁気記録媒
体において、該非磁性支持体と該強磁性金属薄膜との間
に平均粒径が１００〜３５０Åである非磁性微粒子と結
合剤を主体とする下塗り層があり、該結合剤はガラス転
移温度（Ｔｇ）が、４０℃以下のポリエステル系樹脂で
あり、かつ下塗り層の膜厚が３０〜３５０Åであること
を特徴とする磁気記録媒体であり、これにより上記課題
を解決できる。

【０００７】本発明は、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
の下塗り層の構成を規定したことを特徴とするものであ
る。即ち、下塗り層を構成する結合剤およびフィラーを
特定することにより磁気記録媒体の機械的特性を改善
し、そして走行耐久性を改善したものである。本発明
は、下塗り層結合剤としてＴｇが４０℃以下のポリエス
テル系樹脂を選択すると共にフィラーとして平均粒径が
１００〜３５０Åの非磁性微粒子を選択したことにより
磁性層との密着性を高め、ひいては磁性層の破断強度を
高めることにより、外力による特に短時間内の変形に対
しても磁性層の力学的負荷を緩和し、ひび割れ等が生じ
ないようにし、かつ強磁性金属薄膜（以下、磁性層とも
いう）の表面に適性な表面粗さを与えて走行耐久性を確
保するための表面を有する下塗り層を提供できるもので
ある。

【０００８】また、本発明は、下塗り層の厚さを低減し
て薄層化することにより、従来下塗り層が厚いことによ
る弊害、即ち、下塗り層を塗布した後に巻き取って保存
しているうちに下塗り層の表面がそれと接しているバッ
ク面の影響で表面の形状が微細に変化して、表面性の劣
化を招き、その上の蒸着される金属薄膜の表面性が劣化
するいわゆる下塗り層のブロッキングの問題を解消する
ことができる。

【０００９】本発明において、ポリエステル系樹脂のＴ
ｇは、４０℃以下、更に好ましくは２０〜−２０℃の範
囲から選択される。Ｔｇは４０℃より大きいと磁性層の
ひび割れが発生しやすくなり、スチル耐久性が悪化す
る。また、Ｔｇが、−２０℃より小さいとブロッキング
が発生しやすくなり、本発明の効果を得ることができな
い。

【００１０】本発明に使用されるポリエステル系樹脂の
構造は、従来公知のあらゆるものが使用可能であるが、
例示すれば東洋紡社製バイロナール１４００、バイロナ
ール１９３０、バイロン３００等が使用できる。本発明
で使用されるＴｇが、４０℃以下のポリエステル系樹脂
の分子量は、Ｔｇに大きな影響を与えないため特に限定
さでないが、重量平均分子量５０００〜２５０００程度
のものが好ましい。またポリエステル系樹脂を構成する
モノマーとしては、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、
トリエチレングリコール等およびフタル酸、アジピン酸
等から選択される一般的のものが使用できる。

【００１１】また、本発明で使用されるポリエステル系
樹脂の破断伸びは、５０％以上さらには、１００％以上
が好ましく、破断応力は０．２Ｋｇ／ｍ² 、さらには
０．５Ｋｇ／ｍ² 以上が好ましい。本発明に使用される
ポリエステル系樹脂を溶解する溶媒としては、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、トリエン等通常の結合
剤を溶解する有機溶剤が使用可能であるが、使用する樹
脂によって塗布性を考慮した溶剤選択が必要である。

【００１２】本発明に使用される非磁性微粒子は、平均
粒径が１００〜３５０Å、好ましくは１５０〜３５０
Å、更に好ましくは１５０〜２５０Åの範囲であるもの
から選択される。ここで、平均粒径は、ＳＥＭ（走査型
電子顕微鏡）もしくはＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）によ
る観察により測定した値である。ここで、平均粒径が１
００Åより小さいと走行耐久性が低下するために好まし
くなく、３５０Åより大きいと磁気ヘッドと磁性層間の
スペーシングロスによる出力低下のために好ましくな
い。

【００１３】この非磁性微粒子の素材、形状等は、基本
的には任意である。非磁性微粒子としては、好ましくは
球状無機質微粒子が挙げられるが、これに限定されるも
のではない。無機質微粒子としては、球状シリカ、球状
カーボン等が例示され、具体的には、触媒化成社製オル
ガノシリカゾル等が例される。

【００１４】本発明の下塗り層は、上記ポリエステル系
樹脂及び非磁性微粒子を有機溶媒で分散して塗布液を調
製し、これを非磁性支持体上に例えばバーコート塗布、
グラビアコート塗布等により塗布し、乾燥して設けるこ
とができる。ここで、下塗り層の膜厚は、３０〜２５０
Å、好ましくは３０〜１５０Åの範囲から選択される。
この膜厚とは、下塗り層において非磁性微粒子が結合剤
により埋め込まれる所は、その表面から非磁性支持体ま
での距離を意味し、その逆で非磁性微粒子が結合剤によ
り埋め込まれずに露出する所は、非磁性微粒子の麓表面
から非磁性支持体までの距離を意味する。本発明におい
ては、少なくとも後者のような状態が全非磁性微粒子の
５０％以上、好ましくは７０％以上を占めることが好ま
しい。また、露出部分の距離、即ち、非磁性微粒子の頂
上から該麓表面までの距離は、５０〜３００Å、好まし
くは５０〜２００Åの範囲が好ましい。

【００１５】また、下塗り層水平面に於ける非磁性微粒
子の存在密度は、１×１０⁶ 〜３０×１０⁶ 個／ｍ
ｍ² 、好ましくは、５×１０⁶ 〜２０×１０⁶ 個／ｍｍ
² の範囲である。そして、ポリエステル系樹脂と非磁性
微粒子の配合割合は、ポリエステル系樹脂１００重量部
に対し、非磁性微粒子を１〜５０重量部、好ましくは１
〜１０重量部配合することが挙げられる。

【００１６】本発明の磁性層は、上記のように非磁性支
持体上に設けられた下塗り層上に公知の方法により設け
ることができる。例えば、磁性層の形成手段としては、
電気メッキ法、無電解メッキ、気相メッキ、スパッタリ
ング、蒸着、イオンプレーティング等が例示される。本
発明は、下塗り層の表面構造を上記のように非磁性微粒
子、結合剤種類およびそのＴｇおよび結合剤厚さを規定
して構成したためにその上に設けられる強磁性金属薄膜
の表面の粗さが下塗り層の表面構造に応じて調整できる
ため走行耐久性を改善するうえで効果的である。

【００１７】上記の磁性層の表面形状は特に規定されな
いが、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍの高さの
突起を有している場合特に走行性・耐久性及び電磁変換
特性に優れる。突起部分を除く磁性層の厚さは、１００
〜３００ｎｍ、好ましくは１５０〜２５０ｎｍの範囲で
ある。本発明の磁気記録媒体は、磁性層上、即ち強磁性
金属薄膜上に保護・潤滑層を設けることが好ましい。こ
こで、保護・潤滑層は、保護層および潤滑層のいずれか
一つからなる層である。

【００１８】本発明においては、保護・潤滑層に任意の
潤滑剤が使用できるが、特に好ましくは、パーフルオロ
ポリエーテルであって、分子内に極性基を有する弗素系
化合物（以下、極性基含有パーフルオロポリエーテルと
言う）もしくは分子の少なくとも片末端がパーフルオロ
アルキル基であって、分子内に極性基を有する弗素系化
合物（以下、弗素系化合物と言う）が挙げられ、これら
は単独もしくは組み合わせて使用できる。極性基含有パ
ーフルオロポリエーテルと該弗素系化合物とは同じ化合
物を互いに包含する場合もあるが、前者では結合水素原
子基本骨格には存在しないが、後者では、Ｆ原子を少な
くとも有する必要があるが、炭素原子へのＨの結合が保
持された有機化合物をも包含するものである。

【００１９】本発明における極性基含有パーフルオロポ
リエーテルまたは弗素系化合物の極性基は、特に限定さ
れるものではなく、例えば、オキソ酸基、スルホン酸
基、スルホキシド基、ジフェニルエーテル基、エポキシ
基、アルコール水酸基、エステル基、シランカップリン
グ基、アルケン基、キレート基、ヘテロ環基等が挙げら
れる。

【００２０】そのうち好ましい極性基としては、オキソ
基、スルホン基、スルホキシド基及びジフェニルエーテ
ル基等である。中でも特に好ましいのは、オキソ基であ
る。オキソ基は、例えば理化学辞典（岩波書店発行）に
よれば、中心原子に結合している原子が全て酸素であっ
て酸素の一部または全部に水素が縮合して、水酸基とな
りその水素が水溶液中で水素イオンを生じて、酸の性質
を示すものを言う。但し、カルボン酸やスルホン酸など
の中心原子に炭素原子が結合したものもこの誘導体とす
る。

【００２１】本発明でいうオキソ酸基とは、カルボキシ
ル基等のオキソ酸誘導体や硫酸エステル等のオキソ酸エ
ステルまでも含めている。極性基含有パーフルオロポリ
エーテル分子または弗素系化合物中における極性基の位
置及び数は、特に限定されるものではない。また、極性
基含有パーフルオロポリエーテルまたは弗素系化合物に
おける極性基の結合方法は、アミド、ベンゼン、アルキ
レン等の他の分子鎖を介しても構わない。これら分子鎖
は前者および後者の化合物において弗素置換されていて
もいなくともかまわない。

【００２２】また、極性基含有パーフルオロポリエーテ
ルの主鎖のパーフルオロポリエーテルの大きさは、炭素
数が６〜１５０であることが望ましく、特に、９〜５０
であることが望ましい。炭素数が余り小さいと磁気記録
媒体の滑り性が充分でなく、走行性に問題を生じるよう
になり、逆に余り大きいと分子のモビリティが大きい為
塗布の際、分子同士が互いに阻害し合って、吸着しにく
くなる。従って、飽和吸着量が、４．０ｍｇ／ｍ² 以上
であっても、塗布の際には短時間で磁性層表面に付与す
る必要があるので、余計に前記モビリティの影響が大き
くなり易い。その結果、耐久性が充分に付与できない可
能性があるので、望ましくない。

【００２３】パーフルオロポリエーテルの分子鎖は、直
鎖であることが望ましいが、分岐があっても構わない。
分岐を有する場合、その大きさは、分岐の炭素数が２以
下であることが望ましい。分岐した分子鎖が余り大きい
と分子の空間に占める体積が大きくなるため緻密な保護
層ができないのと同時に分子の配向性も不規則になるの
で、耐蝕性も充分でなく、また滑り性も悪くなるので望
ましくない。

【００２４】極性基含有パーフルオロポリエーテルの具
体例としては、例えば、化１及び化２の化合物１〜８が
挙げられる。本発明で極性基含有パーフルオロポリエー
テルとして使用できる化合物がそれらに限定されないの
は言うまでもない。

【００２５】

【化１】

【００２６】

【化２】

【００２７】化合物１〜化合物３は、E.I. Du Pont de
Nemours & Company (Inc.)、ダイキン工業（株）及びモ
ンテカチーニ社から市販されている。本発明に使用され
る弗素系化合物の構造は分子の少なくとも片末端に結合
されるパーフルオロアルキル基が存在すれば、その構造
は任意である。弗素系化合物の基本骨格構造としては、
次式化３に示す構造等が例示される。

【００２８】

【化３】

【００２９】該パーフルオロアルキル基としては、−Ｃ
_n Ｆ_2n+1（ｎは、３〜１８）等が例示される。弗素系化
合物をしては、好ましくは下記が例示される。本発明の
磁気記録媒体の強磁性金属薄膜表面に付与する極性基含
有パーフルオロポリエーテルは、４．０〜４０ｍｇ／ｍ
² 、好ましくは１０〜３０であり、（塗布量／塗布吸着
量）の重量比率が１〜３が好ましい。

【００３０】ここでいう塗布量は、塗布後のサンプルを
蛍光Ｘ線分析装置（島津製作所製、ＳＸＦ−１０００）
で、磁気記録媒体の強磁性金属薄膜上の弗素を定量して
求めた値である。強磁性金属薄膜表面に付与される極性
基含有パーフルオロポリエーテルの量が少ないと、表面
に形成する保護・潤滑層の形成が強固で緻密なものとな
らず、耐蝕性、特に塩害に対処できずまた耐久性も不充
分である。

【００３１】また、多すぎると特に低速走行時の摩擦係
数が大きくなって貼付きなどを起こし易くなる。また、
弗素系化合物の塗布量は、単独で使用する場合は、１〜
４０ｍｇ／ｍ²、好ましくは５〜２０ｍｇ／ｍ² であ
り、極性基含有パーフルオロポリエーテルと併用する場
合は、上記範囲を考慮して適宜きめることができる。

【００３２】上記極性基含有パーフルオロポリエーテ
ル、弗素系化合物は、他の潤滑剤と混合して使用しても
良い。他の潤滑剤としては、脂肪酸、金属石鹸、脂肪酸
アミド、脂肪酸エステル、高級脂肪族アルコール、モノ
アルキルフォスフェート、ジアルキルフォスフェート、
トリアルキルフォスフェート、パラフィン類、シリコー
ンオイル、動植物油、鉱油、高級脂肪族アミン；グラフ
ァイト、シリカ、ニ硫化モリブデン、ニ硫化タングステ
ン等の無機微粉末；ポリエチレン、ポリプリピレン、ポ
リ塩化ビニル、エチエン−塩化ビニル共重合体、ポリテ
トラフルオロエチレン等の樹脂微粉末；αオレフィン重
合体；常温で液体の不飽和脂肪族炭化水素等が挙げられ
る。

【００３３】本発明において、保護・潤滑層は、１層で
もよいし複数の層からなっていても良い。保護・潤滑層
を形成する方法としては、樹脂からなる保護層を磁性層
上に形成した後潤滑層を形成する方法、樹脂及び潤滑剤
を混合して保護・潤滑層を形成する方法、潤滑層のみを
形成する方法等が挙げられる。具体的には、上記潤滑
剤、樹脂、等の材料を有機溶媒で溶解して層上に塗布あ
るいは噴霧した後乾燥する方法、材料を含浸した物体を
層上に摩擦して塗着させる方法、有機溶剤に材料を溶解
した溶液に磁気記録媒体を浸漬して材料を層表面に吸着
させる方法、ラングミュアーブロジェット法などにより
層表面に材料の単分子膜を形成する方法等が挙げられ
る。

【００３４】また、本発明において、保護・潤滑層の下
地金属薄膜との密着を向上させるために、ＵＶ照射グロ
ー、プラズマ等の方法で強磁性金属薄膜表面を改質して
おくこともできる。本発明における強磁性金属薄膜の材
料としては、鉄、コバルト、ニッケルその他の強磁性金
属あるいはFe-Co 、Fe-Ni 、Co-Ni 、Fe-Rh 、Co-P、Co
-B、Co-Y、Co-La 、Co-Ce 、Co-Pt 、Co-Sm 、Co-Mn 、
Co-Cr 、Fe-Co-Ni、Co-Ni-P 、Co-Ni-B 、Co-Ni-Ag、Co
-Ni-Nd、Co-Ni-Ce、Co-Ni-Zn、Co-Ni-Cu、Co-Ni-W 、Co
-Ni-Re等の強磁性合金が挙げられ、強磁性金属薄膜は好
ましくは、蒸着により形成せしめたもので、その膜厚は
０．０２〜２μｍの範囲であり、特に０．０５〜１．０
μｍの範囲が望ましい。

【００３５】上記の強磁性金属薄膜は、他にO 、N 、C
r、Ga、As、St、Zr、Nb、Mo、Rh、Pd、Sn、Sb、Te、P
m、Re、Os、Ir、Au、Hg、Pb、Mg、Bi等を含んでいても
よい。本発明の方法における磁気記録媒体の強磁性金属
薄膜は、好ましくは真空蒸着法、スパッタリング法など
の真空成膜法によって非磁性支持体上に成膜される。強
磁性金属薄膜中に酸素を所定量含有させるために、成膜
室内には、同時に酸素が導入される。

【００３６】本発明においては、強磁性金属薄膜中の酸
素含有量は１５ａｔ％以上、望ましくは２０ａｔ％以上
であると効果的である。即ち、１５ａｔ％であると極性
基含有パーフルオロポリエーテル、弗素系化合物等の潤
滑剤の飽和吸着量を大きくすることができず、また飽和
吸着量が大きくできたとしても吸着を強固にできないた
め耐蝕性の改良効果及び走行性の向上が充分でない。

【００３７】また、酸素含有量が３０ａｔ％を越えるよ
うになると非磁性成分が増大して強磁性金属薄膜の電磁
変換特性が低下するので好ましくない。更に、強磁性金
属薄膜中の酸素分布を、強磁性金属薄膜の厚さ方向でみ
た時、非磁性支持体近傍並びに磁性層表面近傍における
酸素含有量の方が、中央部近傍より多い方が望ましい。

【００３８】即ち、例えば、ＡＥＳ（オージェ電子分光
法）深さ分析で強磁性金属薄膜の厚さ方向に５等分した
とき、表面から非磁性支持体の方向に向けて全厚の５分
の１迄の領域を表面近傍、非磁性支持体と強磁性金属薄
膜との界面から上方に向けて全厚の５分の１迄の領域を
非磁性支持体近傍としたときに、強磁性金属薄膜中にお
ける酸素は前記表面近傍及び前記非磁性支持体近傍以外
の領域の中央部の酸素含有量は、前記表面近傍の酸素含
有量もしくは前記非磁性支持体近傍の酸素含有量のいず
れよりも少ないような酸素分布を有していることが望ま
しい。

【００３９】更に、強磁性金属薄膜の表面近傍の酸素含
有量及び非磁性支持体近傍の酸素含有量は５ａｔ％以
上、中央部の酸素含有量は３〜４ａｔ％であることが望
ましい。本発明の強磁性金属薄膜の結晶構造としては、
六方晶結晶、斜方柱状結晶等が挙げられる。

【００４０】この斜方柱状結晶とは、具体的に構造の特
徴を述べれば、まつかさ状に、結晶柱が鱗状に斜めに折
り重なって配列しているもの等が挙げられる。本発明の
磁性層は同一組成で互いに異なる結晶構造もしくは同一
結晶構造で互いに配向が異なるものおよび／または結晶
構造の如何を問わず互いに異なる組成からなる複層から
構成されていてもよい。例えば、磁性層を前記斜方柱状
結晶構造の傾きの方向を互いに逆向きに交差させた同一
組成・同一結晶構造の２層で構成すると、ヘッドの走行
方向による電磁変換特性及び耐久性の相違を軽減した
り、ノイズを低下させる上で好ましい。

【００４１】本発明において、真空成膜法により磁性層
を斜方柱状結晶より構成する場合、具体的な方法を示せ
ば、蒸発加熱源として、３０ＫｅＶの電子ビームを使用
し、成膜室の真空度を１×１０^-4Torr以下として酸素ガ
スを成膜室内の圧力を１×１０^-3Torr以下に保持しつつ
導入し、成膜室に置かれた非磁性支持体上に、強磁性金
属を入射角０〜５０度の範囲で、斜め蒸着させることが
挙げられる。

【００４２】また、本発明においては、強磁性金属薄膜
に所望の特性を与えるために強磁性金属薄膜中および強
磁性金属薄膜と非磁性支持体の間の何れかまたは両方に
本下塗り層とは別の機能を有する非磁性中間層を独立に
設けることもできる。例えば、この非磁性中間層に保護
・潤滑層に使用する前記潤滑剤等を含有させて潤滑性の
制御をより確実にする、磁性層の力学特性を更に改善す
る等が挙げられる。

【００４３】該非磁性中間層は、金属または金属酸化物
から成る層、樹脂および／または無機または有機のフィ
ラー等から成る層等が例示され、本下塗り層と同じ素材
を使用しても構わない。非磁性中間層の厚さは、２０〜
５００Å、好ましくは５０〜２００Åの範囲である。本
発明に用いられる非磁性支持体としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビ
ニル、三酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリエチ
レンナフタレート、ポリフェニレンサルファイドのよう
なプラスチックベース、またはAl、Ti、ステンレス鋼等
が用いられる。

【００４４】本発明においては、非磁性支持体として特
にポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を使用するこ
とによって、強磁性金属薄膜の磁性層の密着性が著しく
向上する。非磁性支持体の厚さは用途によって相違する
が、通常３〜５０μｍである。また、非磁性支持体の下
塗り層形成側の表面は、下塗り層を形成する前に非磁性
支持体表面にフィラーにより微小突起を設けておくこと
が、結果的に下塗り層の機能を更に高めることができ、
かつ磁性層表面に適度な凹凸を設けることになり効果的
である。微小突起の存在密度は２×１０⁶ 〜２×１０⁸
個／mm² で、一つの突起の高さは１〜５０ｎｍのものが
好ましい。又、フィラーの平均粒径は、５００〜３００
０Å、好ましくは５００〜１５００Åの範囲から選択さ
れる。

【００４５】磁気記録媒体の形状は、テープ、シート、
カード、ディスク等いずれでもよいが、特に好ましいの
はテープ状、ディスク状である。本発明の磁気記録媒体
の走行耐久性を更に高めるため磁性層がある面とは反対
側の面にカーボンブラック等の非磁性粒子と結合剤樹脂
とを主体とする塗膜より成るバックコート層を設けるこ
ともできる。

【００４６】本発明の好ましい態様としては以下が挙げ
られる。ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）支持体
上に無機微粒子を含有するガラス転移点（Ｔｇ）が４０
℃以下のポリエステル系樹脂よりなる下塗り層を形成
し、その上にＣｏ−Ｎｉ−ＯまたはＣｏ−Ｏよりなる強
磁性金属薄膜を蒸着法により形成し、さらにこの磁性膜
上に極性基を有するパーフルオロアルキルを含む潤滑層
を形成した磁気記録媒体である。

【００４７】この磁気記録媒体の一例の断面の拡大を模
式的に図１に示す。１は、本発明の磁気記録媒体、２
は、ＰＥＴ支持体、３はＴｇが４０℃以下のポリエステ
ル系樹脂、４は、平均粒径１００〜２５０Åの球状シリ
カ粒子、５はＣｏ−Ｎｉ−ＯまたはＣｏ−Ｏからなる強
磁性金属薄膜、６は、ＰＥＴ内に充填された平均粒径５
０ｎｍのフィラーであり、７は極性基含有パーフルオロ
ポリエーテルまたはパーフルオロアルキルを含む弗素系
化合物の潤滑層である。

【００４８】４のシリカ粒子の密度は５〜２０×１０⁶
個／ｍｍ² の範囲が好ましい。これ以上数を増加させる
とノイズが上昇し、減少させると走行性が悪化する。ま
たその平均粒径は１００〜２５０Åであることが好まし
い。これ以上平均粒径を大きくするとスペーシンクロス
による出力低下を招き、またこれ以上小さくすると走行
性が悪化する。

【００４９】３のポリエステル系樹脂は強磁性金属薄膜
とＰＥＴ支持体の密着を向上させると同時に、磁性層−
支持体間に発生する応力を分散するため、媒体を長手方
向に引き延ばした時の破断伸びを向上させ、ひび割れを
微細化する。このポリエステル系樹脂のＴｇは４０℃以
下であることが好ましい。Ｔｇが４０℃以上であると、
十分に応力が分散されず、破断伸びやひび割れ形状が改
善されない。また、この下塗り層の膜厚Ｔ₁ は３０〜１
５０Åであることが好ましい。これ以上厚いと下塗り層
塗布後、巻き取った時に支持体のバック面と下塗り層の
結合剤が貼り付き易くなる。またこれ以上すくないと先
に示したような特性を得られない。

【００５０】５の強磁性金属薄膜は連続巻き取り式蒸着
装置で蒸着されたＣｏ−Ｎｉ−ＯまたはＣｏ−Ｏ系の強
磁性金属薄膜である。強磁性金属薄膜の膜厚Ｔ₂ は、１
５０２５０ｎｍが好ましい。７の潤滑層は極性基を有す
るパーフルオロポリエーテルまたはパーフルオロアルキ
ルを含有する弗素系化合物である。極性基はカルボキシ
ル基、スルホニル基、ヒドロキシル基等が好ましい。

【００５１】

【実施例】以下、本発明に具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ 径５００Åのベース内フィラーを有する厚さ１０μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、平均粒径２
３０Åの球状シリカ微粒子（触媒化成社製オルガノシリ
カゾル）とガラス転移温度が４０℃のポリエステル系樹
脂（東洋紡社製バイロナール１４００）をシクロヘキサ
ノンに分散させた下塗り層を塗布し、粒子密度が９×１
０⁶ 個／ｍｍ² で下塗り層の膜厚Ｔ₁ （図１に対応）が
５０Åの下塗り層を形成した。この下塗り層上に連続巻
き取り式の蒸着装置を用いて酸素ガスを導入しながらＣ
ｏ−Ｎｉ（組成 ８０：２０）合金をＴ₂ （図１に対
応）２００ｎｍの膜厚で斜め蒸着した。次に極性基、カ
ルボキシル基を有するパーフルオロポリエーテル（ＫＲ
ＹＴＯＸ １５７ＦＳＬ：前記化合物１）を弗素系溶剤
（ＦＯＭＢＬＩＮ ＺＳ１００）に０．５重量％溶解し
た溶液を磁性膜上に塗布し、潤滑層を作製した。

【００５２】実施例２ 径５００Åのベース内フィラーとみみず状の突起を有す
る厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に、平均粒径２３０Åの球状シリカ微粒子とガラス転
移温度が２０℃のポリエステル系樹脂（富士写真フィル
ム製スタフィックス）をシクロヘキサノンに分散させた
下塗り層を塗布し、粒子密度が9 ×10⁶個／ｍｍ² で下
塗り層の膜厚が５０Åの下塗り層を形成した。以下実施
例１に従った。

【００５３】比較例１ 径５００Åのベース内フィラーとみみず状の突起を有す
る厚さ１０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
上に、平均粒径２３０Åの球状シリカ微粒子とガラス転
移温度が７０℃のポリエステル系樹脂（東洋紡社製バイ
ロン２００）をシクロヘキサノンに分散させた下塗り層
を塗布し、粒子密度が、９×１０⁶ 個／ｍｍ² で下塗り
層の膜厚が５０Åの下塗り層を形成した。以下実施例１
に従った。

【００５４】比較例２ 径５００Åのベース内フィラーを有する厚さ１０μｍの
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、平均粒径２
３０Åの球状シリカ微粒子とガラス転移温度が２０℃の
ポリエステル系樹脂（東洋紡社製バイロナール１４０
０）をシクロヘキサノンに分散させた下塗り層を塗布
し、粒子密度が、９×１０⁶ 個／ｍｍ² で下塗り層の膜
厚が３００Åの下塗り層を形成した。以下実施例１に従
った。

【００５５】比較例３ ミミズ状突起と平均粒径２５０Å、粒子密度９×１０⁶
個／ｍｍ² のシリカ粒子を有する厚さ１０μｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用いた。以下実施例１
に従った。以上の実施例および比較例のテープについて
表面観察（ブロッキング）、ステンレスＶＴＲガイドポ
ールおよびＰＯＭ（ポリオキシメチレン：ＶＴＲに使用
されるテープのガイド用部材）に対する摩擦係数、破断
荷重、ひび割れ、スチル耐久性を下記により評価した。
結果は表１に示す。 １．ブロッキング：ＳＥＭで下塗り層表面を観察して、
微細な表面形状の変化の有無を確認する。 ２．摩擦係数（対ＳＵＳ）：得られたテープを２３℃７
０％ＲＨの環境下でＳＵＳ棒に５０ｇの張力（Ｔ₁ ）、
巻きつけ角１８０°で接触させて、この条件下で、テー
プを１４ｍｍ／秒の速度で、走行させるのに必要な張力
（Ｔ₂ ）を測定した。この測定値をもとに、下記計算式
によりテープの摩擦係数μを求めた。

【００５６】μ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ₂ ／Ｔ₁ ） 評価値としては、４５ｍｍの振幅で１００往復走行させ
たときの値を採用した。 ３．摩擦係数（対ＰＯＭ）：得られたテープを２３℃１
０％ＲＨの環境下でＰＯＭ棒に２０ｇの張力（Ｔ₁ ）、
巻きつけ角１８０°で接触させて、この条件下で、テー
プを３ｍｍ／秒の速度で、走行させるのに必要な張力
（Ｔ₂ ）を測定した。この測定値をもとに、下記計算式
によりテープの摩擦係数μを求めた。

【００５７】μ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ₂ ／Ｔ₁ ） 評価値としては、１００ｍｍの振幅で走行させたときの
１パス目の値を採用した。 ４．破断荷重：８ｍｍ幅に裁断した磁気記録媒体の表面
を顕微鏡観察しながら長手方向に徐々に伸長し、最初に
ひび割れが発生した時の張力を測定した。 ５．ひび割れ：最初のクラックが発生した後、更にテー
プを０．３％伸長したときのクラックの長さで評価し
た。クラックの長さが５０μｍ以下で微細なものは○、
１００μｍ以上もあって粗大なものは×、その間にある
ものは△と評価した。 ６．スチル耐久性：８ｍｍ幅に裁断した５ｍ長さのテー
プを２３℃、１０％ＲＨの環境下スチル再生時間を制限
する機能を取り去った８ミリ型ＶＴＲ（富士写真フィル
ム（株）；ＦＵＪＩＸ Ｍ６型）で２０ｇの走行張力を
印加して画像再生時にポーズボタンを押し、画像が出な
くなるまでの時間を測定して評価した。

【００５８】以下、８ｍｍＶＴＲを用いて２３℃、１０
％ＲＨの環境下、１２０分長を５０回走行させて以下の
評価をおこなった。 ７．ジッター：カラーバーを録画し、その再生画像をモ
ニターで観察して、画面揺れが常時目視で確認できるも
のを×、ほとんど確認できないものを○、ときどき確認
できるものを△と評価した。 ８．走行停止：ソニー社製８ｍｍＶＴＲ、ＥＶ−Ｃ１０
を使用して、１２０分長のテープを５０回走行させるま
での走行停止の有無で評価した。 ９．完全目詰まり：：ソニー社製８ｍｍＶＴＲ、ＥＶ−
Ｃ１０を使用して、１２０分長のテープを５０回走行さ
せたときに、−６ｄＢの出力が低下する状態が１分以上
継続する場合を完全目詰まりとして、それまでのパス回
数をもって評価した。 １０．瞬間目詰まり：ソニー社製８ｍｍＶＴＲ、ＥＶ−
Ｃ１０を使用して、１２０分長のテープを５０回走行さ
せたときに、−６ｄＢの出力低下が５ｍｓｅｃあった回
数をもって評価した。 １１．ヘッド汚れ：走行後、磁気ヘッドをＶＴＲからは
ずして、その表面を光学顕微鏡で観察した。○：ヘッド
汚れが観察されない。×ヘッド汚れが観察される。

【００５９】以上の表から明らかなように、本発明を適
用した実施例においては、全ての評価で優れた特性を示
し、ブロッキング、ひび割れのない、スチル耐久性、走
行耐久性の改善された磁気記録媒体が得られることが分
かる。一方、比較例１は、下塗り層の結合剤のＴｇが７
０℃と高いためにひび割れ、走行耐久性が劣る。また、
比較例２は、下塗り層の結合剤膜厚が厚いためにブロッ
キングが見られ、かつ破断強度が劣り、走行耐久性が劣
る。また、下塗り層を設けない比較例３は、ひび割れが
見られる。

【００６０】

【発明の効果】上述の実施例からも明らかなように、本
発明においてはガラス転移点が４０℃以下のポリエステ
ル系樹脂と非磁性微粒子を用いて適切な表面粗度の強磁
性金属薄膜を有する磁気記録媒体を作製することによ
り、走行性、耐久性が極めて優れた磁気記録媒体を提供
することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明磁気記録媒体の一具体例の断面を拡大し
て模式的に描いた図である。 １ 本発明に磁気記録媒体 ２ ＰＥＴ支持体 ３ ポリエステル系樹脂 ４ 球状シリカ微粒子 ５ 強磁性金属薄膜 ６ フィラー ７ 潤滑層

【表１】

【手続補正書】

【提出日】平成５年５月１９日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５５】比較例３ ミミズ状突起と平均粒径２５０Å、粒子密度９×１０⁶
個／ｍｍ² のシリカ粒子を有する厚さ１０μｍのポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用いた。以下実施例１
に従った。以上の実施例および比較例のテープについて
表面観察（ブロッキング）、ステンレスＶＴＲガイドポ
ールおよびＰＯＭ（ポリオキシメチレン：ＶＴＲに使用
されるテープのガイド用部材）に対する摩擦係数、破断
荷重、ひび割れ、スチル耐久性を下記により評価した。
結果は表１に示す。 １．ブロッキング：ＳＥＭで下塗り層表面を観察して、
微細な表面形状の変化の有無を確認する。 ２．摩擦係数（対ＳＵＳ）：８ｍｍ幅に裁断されて得ら
れたテープを２３℃７０％ＲＨの環境下でＳＵＳ棒に２
０ｇの張力（Ｔ₁ ）、巻きつけ角１８０°で接触させ
て、この条件下で、テープを１４ｍｍ／秒の速度で、走
行させるのに必要な張力（Ｔ₂ ）を測定した。この測定
値をもとに、下記計算式によりテープの摩擦係数μを求
めた。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００５６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００５６】μ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ₂ ／Ｔ₁ ） 評価値としては、４５ｍｍの振幅で１００往復走行させ
たときの値を採用した。 ３．摩擦係数（対ＰＯＭ）：８ｍｍ幅に裁断されて得ら
れたテープを２３℃１０％ＲＨの環境下でＰＯＭ棒に２
０ｇの張力（Ｔ₁ ）、巻きつけ角１８０°で接触させ
て、この条件下で、テープを３ｍｍ／秒の速度で、走行
させるのに必要な張力（Ｔ₂ ）を測定した。この測定値
をもとに、下記計算式によりテープの摩擦係数μを求め
た。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に強磁性金属薄膜よりな
   る磁性層を有する磁気記録媒体において、該非磁性支持
   体と該強磁性金属薄膜との間に平均粒径が１００〜３５
   ０Åである非磁性微粒子と結合剤を主体とする下塗り層
   があり、該結合剤はガラス転移温度（Ｔｇ）が、４０℃
   以下のポリエステル系樹脂であり、かつ下塗り層の膜厚
   が３０〜２５０Åであることを特徴とする磁気記録媒
   体。
2. 【請求項２】 前記強磁性金属薄膜上にパーフルオロポ
   リエーテルもしくは分子の少なくとも片末端がパーフル
   オロアルキル基であって、分子内に極性基を有する弗素
   系化合物を含有する請求項１記載の磁気記録媒体。