JPH0328731B2 - - Google Patents
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- JPH0328731B2 JPH0328731B2 JP57140629A JP14062982A JPH0328731B2 JP H0328731 B2 JPH0328731 B2 JP H0328731B2 JP 57140629 A JP57140629 A JP 57140629A JP 14062982 A JP14062982 A JP 14062982A JP H0328731 B2 JPH0328731 B2 JP H0328731B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は磁気テープ、磁気デイスク等の磁気記
録媒体に関する。 従来例の構成とその問題点 鉄、コバルト、ニツケル、またはそれらを主成
分とする合金、あるいは、それらの酸化物薄膜
を、真空蒸着、スパツタリング、イオンブレーテ
イング等の真空中製膜法でポリエステルフイル
ム、ポリイミドフイルム等の高分子フイルムや、
非磁性金属薄板等より成る基板上に形成した強磁
性薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気記録
媒体に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能であるが、この高密度化のためには、磁
気ヘツドのギヤツプを小さくし、併せて磁気記録
媒体の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを
極力減少せしめる必要がある。しかし、あまり表
面を平担化しすぎると、ヘツドタツチ、走行性で
支障をきたすため表面の微細形状を制御すること
によりこれを解決する必要がある。強磁性薄膜型
磁気記録媒体の表面性は磁性層厚さが0.01〜0.5μ
ｍ程度と非常に小さいため、基板であるプラスチ
ツクフイルムの表面形状に依存する度合いが大き
い。したがつて従来、フイルムの表面性に関して
多くの提案がなされてきた。その例は、特開昭52
−18770号公報、特開昭52−84264号公報、特開昭
54−40883号公報、特開昭53−116115号公報、特
開昭53−128685号公報、特開昭54−94574号公報、
特開昭56−10455号公報、特開昭56−16937号公
報、等に記載されている。これらの例において
は、いずれも表面形状を比較的微細に均一に粗面
化せしめる、たとえば、しわ状突起を形成せしめ
たり、ミミズ状、あるいは粒状突起を形成せしめ
ることにより、ヘツドタツチ、走行性を一挙に改
善しようとするものである。前述の例にみられる
表面状態のものは、常温常湿でのヘツドタツチ、
ヘツド走行性に関しては非常に有効である。しか
し、30℃80〜90％Ｒ・Ｈといつた高湿中で回転ヘ
ツドのシリンダー部分で鳴きを発生しやすいとい
う欠点を有している。これを解決する一手段とし
て基板にポリエステルフイルムを使用し、その中
に含まれているポリエステルオリゴマーを、真空
中で強磁性層を形成せしめる際基板表面に微細結
晶として析出せしめ、その上に強磁性金属薄膜層
を形成せしめるといつた提案が本発明者らによつ
てすでになされているが、この場合、オリゴマー
結晶の析出頻度の場所依存性が大きくオリゴマー
結晶を表面全域にわたつて均等に析出せしめるこ
とが困難であり、場所による分布むらを生じやす
い。そのために得られる磁気記録媒体のエンベロ
ープ特性に乱れを生じやすいといつた欠点があつ
た。 また、特開昭53−107314号公報に記載のごとき
表面に熱可塑性の微粒子の突出したポリエステル
フイルム上に強磁性薄膜を形成せしめたものは常
温常湿で走行性良好で画質も良好であることが知
られている。ただし、この場合においては、記録
密度を高くとるために磁気記録媒体の表面性を改
善しようとしても、表面あらさが0.03μｍ以下に
なると、ステイツクスリツプを生じ走行性が劣つ
てくる。 発明の目的 本発明は、高湿度中での鳴きを改善し、併せて
再生画質を改善した高密度記録に適した金属薄膜
形磁気記録媒体に関するものである。 発明の構成 本発明は、熱可塑性樹脂の微粒子を核とする粒
子状樹脂突起高さ30〜500Åで粒子状樹脂突起の
広がりが高さの１〜20倍である粒子状樹脂突起を
1000個／mm2以上表面に存在せしめたプラスチツク
のフイルム面上に強磁性金属薄膜を形成しその上
に滑剤を存在せしめるものである。 実施例の説明 第１〜２図は、本発明による磁気記録媒体を示
したもので、図において１，１′はプラスチツク
フイルム、２，２′は熱可塑性樹脂の微粒子の核、
３′は核２′をプラスチツクフイルム１′上に固着
せしめるための結合樹脂、４，４′は強磁性金属
薄膜、５，５′は滑剤である。第１図においては、
核２自体が粒子状樹脂突起を形成してこれ自体で
プラスチツクフイルム１に固着しており、第２図
においては、核２′と結合樹脂３′とから粒子状突
起が形成されている。また、滑剤５は強磁性金属
薄膜４の全表面に存在しているが、滑剤５′は強
磁性金属薄膜４′上の特定部分にのみ存在してい
る。 粒子状樹脂突起の高さは高精度の触針式表面粗
さ測定装置（TALYSTEP−１，TAYLOR−
HOBSON社製）にて実測されるもので、JIS
B0601に規定されている表面粗さ最大値、Rmax
に準じて凹凸の山頂から谷底までの距離にて表わ
すものとすると、本発明に適した高さは30〜500
Åの範囲であり、さらに好ましくは50〜300Åで
ある。30Å以下では高湿中での鳴き防止効果が得
られ難く、500Å以上ではエンベロープの乱れが
生じやすくなる。 粒子状樹脂突起の平面的な広がりとしては、そ
れらの高さの１〜20倍さらに好ましくは、２〜10
倍が適当である。20倍以上では高湿中での鳴き防
止効果が低減する。 粒子状樹脂突起の密度としては、表面１mm2当り
1000ケ以上、さらに好ましくは2500ケ以上が適当
であり、1000ケ以下では高湿中での盟き防止効果
が低減する。この密度は、倍率400の微分干付光
学顕微鏡で最小10視野の観察か、または、走査型
電子顕微鏡で倍率3000で最小10視野の観察を行な
い、それらの視野内に存在する粒子状樹脂突起の
数を求め１mm2当りに換算したものである。 たとえば、濃度１％以下、さらに好ましくは
0.1％以下の熱可塑性樹脂溶液にその樹脂を溶解
し難い溶剤（非溶媒）を加えてフイルム面上に塗
布乾燥する方法、（この場合熱可塑性樹脂から成
る核の形成は、非溶媒を加えた時点で懸濁状態に
析出せしめることにより行なつてもよいし、フイ
ルム面上に塗布したのち乾燥する時点ではじめて
懸濁析出するようにしてもよい。これらは、熱可
塑性樹脂、それを溶解せしめる溶剤、添加する非
溶媒等の選定および配合により決定できる）、あ
るいは、上記の配合液にさらに熱可塑性樹脂の核
の周囲を固着せしめ得る、すなわち、第２図の状
態を形成し得る他の樹脂を添加したのちフイルム
面上に塗布乾燥する方法等がある。熱可塑性樹脂
としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
トあるいはそれらを中心とする共重合物等の各種
ポリエステル、ナイロン６、ナイロン66、ナイロ
ン610、ナイロン11、ナイロン12、あるいはそれ
らの共重合物から成る各種ポリアミド、ポリカー
ボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリ
エーテルスルホン、ポリフエニレンオキサイド、
フエノキシ樹脂、等が最も適しているがその他の
樹脂、たとえば、ポリスチレン、ポリアクリレー
ト、ポリビニールクロライド等も使用可能であ
る。 第２図に例示したような構成に使用する結合樹
脂としては、各種の熱可塑性樹脂以外に、エポキ
シ、フエノール、シリコーン等の架橋性樹脂を用
いることもできる。 強磁性薄膜としてはたとえば斜め蒸着、あるい
は、垂直蒸着法にて形成されるCo，Ni，Fe等を
主体とする金属薄膜、それらの合金を主体とする
金属薄膜（たとえばCo−Cr垂直磁化膜）が使用
できるが、プラスチツクフイルムとの付着強度改
善、あるいは、強磁性金属薄膜自体の耐食性、耐
摩耗性改善の目的で、蒸着時の雰囲気を酸素ガス
が支配的となる雰囲気中で得られる、酸素を含む
強磁性金属薄膜を使用することが望ましい。酸素
の含有量としては、基板フイルム表面近傍の強磁
性金属、あるいは非磁性金属に対する原子数比で
少くとも３％以上、好ましくは５％以上が適当で
ある。また、必要に応じて強磁性金属薄膜形成に
先立ち機械的補強効果のある薄膜、たとえばTi，
Cr，Ni等の酸素含有金属薄膜、Al2O3，SiO2等
の酸化物薄膜等を形成せしめることも可能であ
る。 上記のような、酸素を含む強磁性金属薄膜、ま
たは、その下に必要に応じて形成される上記の非
磁性金属層と、粒子状樹脂突起との組合せによ
り、スチル寿命においても大巾の改善が可能とな
る。なお、スチル寿命は強磁性金属薄膜の厚さと
も関係し厚さが400Å以下となると急激に低下す
るため厚さは400Å以上であることが望ましい。 強磁性薄膜層表面に滑剤を存在せしめることに
より、粒子状樹脂突起の形状に基づく走行性改善
効果をさらに高めることが可能である。これによ
り、高湿度中での鳴きの防止が、さらに完全なも
のとなる。 強磁性金属薄膜上の滑剤は第１図に示すように
全表面に存在せしめてもよいが、第２図のように
局所に存在せしめてもよい。その手段としては、
強磁性金属薄膜表面に直接塗布、あるいは蒸着す
る方法以外に磁気記録媒体の裏面に塗布、あるい
は蒸着せしめておき磁気記録媒体の積層（巻回）
時に強磁性金属薄膜表面へ転写せしめる方法も可
能である。滑剤を強固に固着せしめるために樹脂
結合剤を使用することも可能である。 滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪
酸アミド、金属石ケン、脂肪族アルコール、パラ
フイン、シリコーン、フツ素系界面活性剤、無機
滑剤等が使用できる。滑剤の存在量としては、表
面１m2当り0.5〜500mg、さらに好ましくは５〜
200mgが適当である。 脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイ
ン酸、リノール酸、リノレン酸等の炭素数が12個
以上のものが使用できる。 脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸エチ
ル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸アミル、
ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノ
グリセリド、オレイン酸モノグリセリド、ベンタ
エリスリトールテトラステアレート、等が使用で
きる。 脂肪酸アミドとしては、カプロン酸アミド、カ
プリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン
酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミ
ド、オレイン酸アミド、リノール酸アミド、メチ
レンビヒステアリン酸アミド、エチレンビスステ
アリン酸アミド等が使用できる。 金属石ケンとしては、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オ
レイン酸、リノール酸、リノレン酸等の亜鉛、
鉛、ニツケル、コバルト、鉄、アルミニウム、マ
グネシウム、ストロンチウム、銅、等との塩、ラ
ウリル、パルミチル、ミリスチル、ステアリル、
ベヘニル、オレイル、リノール、リノレン等のス
ルホン酸と上記各種金属との塩等が使用できる。
脂肪族アルコールとしては、セチルアルコール、
ステアリルアルコール等が使用できる。 パラフインとしては、ｎ−オクタデセン、ｎ−
ノデカン、ｎ−トリデカン、ｎ−ドコサン、ｎ−
ドトリアコンタン等の飽和炭化水素が使用でき
る。 シリコーンとしては、水素がアルキル基または
フエニール基で部分置換されたポリシロキサンお
よびそれらを、脂肪酸、脂肪族アルコール、酸ア
ミド等で変性したもの等が使用できる。 フツ素系界面活性剤としては、パーフロロアル
キルカルボン酸およびパーフロロアルキルスルホ
ン酸とナトリウム、カリウム、マグネシウム、亜
鉛、アルミニウム、鉄、コバルト、ニツケル等と
の塩、パーフロロアルキリン酸エステル、パーフ
ロロアルキルベタイン、パーフロロアルキルトリ
メチルアンモニウム塩、パーフロロエチレンオキ
サイド、パーフロロアルキル脂肪族エステル等が
使用できる。 無機滑剤としては、グラフアイト粉末、二硫化
モリブデン粉末、二硫化タングステン粉末、セレ
ン化モリブデン粉末、セレン化タングステン粉
末、フツ化カルシウム粉末等がある。 本発明による磁気記録媒体の表面、裏面、また
は、それらの近傍、あるいは、強磁性金属薄膜内
の空隙、強磁性金属薄膜とプラスチツクフイルム
との界面、プラスチツクフイルム内等に公知の手
段で防錆剤、帯電防止剤、防黴剤、等の各種添加
剤を存在せしめることは、必要に応じて行なうこ
とができる。 次により具体的な実施例を説明する。 実施例 １ 重合触媒残査に起因する突起を大幅に抑制して
表面粗さを30Å以下にした平滑ポリエチレンテレ
フタレート二軸延伸フイルム上に下記組成液を塗
布厚約10μｍとなるように連続塗布乾燥し、表面
にポリカーボネートから成る粒子高さ約50Åの粒
子状突起を約100万個／mm2有するフイルム長尺試
料を得た。この試料をＡとする。 液組成 ポリカーボネート ……0.05phr （商品名 ユーピロンE2000U 三菱瓦斯化学(株)製） 塩化メチレン ……100phr ベンゼン ……100phr ｎ−ブタノール ……800phr 実施例 ２ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリエステルから成る粒子高さ約200Å
の粒子状突起を約10万個／mm2有する試料を得た。
この試料をＢとする。 液組成 ポリエステル ……0.1phr （商品名 バイロン＃200 東洋紡績(株)製） 酢酸エチル ……100phr ベンゼン ……100phr ｎ−ブタノール ……800phr 実施例 ３ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ナイロン66から成る粒子高さ約500Åの
粒子状突起を約2500個／mm2有する試料を得た。こ
の試料をＣとする。 液組成 ナイロン66 ……0.1phr （商品名 UBE2020B 宇部興産(株)製） フエノール ……300phr 酢酸セロソルブ ……700phr 比較例 １ 実施例３においてナイロン66添加量のみを
0.02phrに変更した場合、ナイロン66から成る粒
子高さ500Åの粒子状突起を約500個／mm2有する試
料を得た。この試料をＤとする。 実施例 ４ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリアリレートから成る高さ約300Åの
粒子状突起を約10万個／mm2有する試料を得た。こ
の試料をＥとする。 液組成 ポリアリレート ……0.1phr （商品名 Ｕ−2030 ユニチカ(株)製） 塩化メチレン ……100phr メタノール ……900phr 水 ……10phr 実施例 ５ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリスルホンから成る粒子高さ約400Å
の粒子状突起を約１万個／mm2有する試料を得た。
この試料をＦとする。 液組成 ポリスルホン ……0.1phr （商品名 ユーデル Ｐ−1800 日産化学工業(株)製） 塩化メチレン ……100phr ベンゼン ……100phr 酢酸エチル ……800phr 実施例 ６ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリエーテルスルホンから成る高さ約
200Åの粒子状突起を約50万個／mm2有する試料を
得た。この試料をＧとする。 液組成 ポリエーテルスルホン ……0.1phr （商品名 PES 200P ICIジヤパン(株)製） 塩化メチレン ……100phr メタノール 900phr 水 10phr 実施例 ７ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリフエニレンオキサイド粒子を核とし
ポリエステル樹脂を結合樹脂とする高さ約100Å
の粒子状突起を約50万個／mm2有する試料を得た。
この試料をＨとする。 液組成 ポリフエニレンオキサイド ……0.02phr （エンジニアリングプラスチツク(株)製） ポリエステル（バイロン＃200） …0.1phr ジメチルホルムアミド ……50phr ジメチルスルホオキシド ……50phr トルエン ……200phr 酢酸エチル ……500phr 酢酸セロソルブ ……300phr 実施例 ８ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、フエノキシ樹脂から成る粒子高さ約200
Åの粒子状突起を約20万個有する試料を得た。こ
の試料をＩとする。 フエノキシ樹脂 ……0.05phr （巴工業(株)製） 酢酸エチル ……200phr エタノール ……800phr 水 ……50phr 実施例 ９ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ナイロン66から成る微粒子を核としフエ
ノキシ樹脂を結合樹脂とする粒子高さ約200Åの
粒子状突起を約20万個／mm2有する試料を得た。こ
の試料をＪとする。 液組成 ナイロン66（UBE 2020B） …0.01phr フエノキシ樹脂 ……0.05phr フエノール ……100 酢酸セロソルブ ……900 実施例 10 重合触媒残査に起因する微粒子をほとんど含ま
ないポリエチレンテレフタレートから成り、表面
に製膜延伸途上で増粘剤を含む変性シリコーンエ
マルジヨンを主体とする液を塗布硬化させること
により表面粗さ100Åの微細な波状凹凸から成る
異種高分子薄層を形成させたポリエチレンテレフ
タレート二軸延伸フイルムをプラスチツクフイル
ムに用いてその上に実施例１〜８と同様の塗布処
理を行なつて得られた試料をそれぞれ、Ｋ，Ｌ，
Ｍ，Ｎ，Ｏ，Ｐ，Ｑ，Ｒとする。これらの試料の
表面に形成された粒子状樹脂突起はそれぞれ対応
するＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉのもの
とほぼ同じ状態であつた。 比較例 ２ 実施例１〜９、および実施例９で使用したプラ
スチツクフイルム自体をそれぞれ試料S.T.とす
る。 実施例 11 上記のＡ〜Ｔの各試料を順次連結して、連続真
空斜め蒸着法により各表面にCo，Ni強磁性金属
薄膜（Ni＝20wt％膜厚1000Å）を微量の酸素の
存在下に形成させた。磁性層の酸素含有量は金属
に対する原子数比で５％であつた。そののち、各
試料毎に表面に各種の滑剤溶液を塗布し所定幅に
スリツトして磁気テープとし、これらを30℃90％
RHの環境下で試作ビデオレコーダーに掛けて回
転ヘツドシリンダー部での鳴きの状態と、エンベ
ロープと、スチル寿命を測定した。また、比較例
として試料Ｔについて、蒸着前に加熱処理を行な
つてポリエステルオリゴマー結晶を表面に析出せ
しめたのち前記同様の蒸着を行なうことによりオ
リゴマー結晶から成る微小突起（高さ約300Å、
密度約10万個／mm2）を形成せしめたものに滑剤溶
液を塗布したのち磁気テープとしたもの、およ
び、上記Ａ〜Ｔのうちの特定の試料につき蒸着後
滑剤溶液を塗布せずに磁気テープとしたものにつ
いても上記の測定を行なつた。これらの結果を次
の表に示す。
録媒体に関する。 従来例の構成とその問題点 鉄、コバルト、ニツケル、またはそれらを主成
分とする合金、あるいは、それらの酸化物薄膜
を、真空蒸着、スパツタリング、イオンブレーテ
イング等の真空中製膜法でポリエステルフイル
ム、ポリイミドフイルム等の高分子フイルムや、
非磁性金属薄板等より成る基板上に形成した強磁
性薄膜型磁気記録媒体は、従来の塗布型磁気記録
媒体に比べて記録密度を飛躍的に向上せしめるこ
とが可能であるが、この高密度化のためには、磁
気ヘツドのギヤツプを小さくし、併せて磁気記録
媒体の表面を平滑化せしめてスペーシングロスを
極力減少せしめる必要がある。しかし、あまり表
面を平担化しすぎると、ヘツドタツチ、走行性で
支障をきたすため表面の微細形状を制御すること
によりこれを解決する必要がある。強磁性薄膜型
磁気記録媒体の表面性は磁性層厚さが0.01〜0.5μ
ｍ程度と非常に小さいため、基板であるプラスチ
ツクフイルムの表面形状に依存する度合いが大き
い。したがつて従来、フイルムの表面性に関して
多くの提案がなされてきた。その例は、特開昭52
−18770号公報、特開昭52−84264号公報、特開昭
54−40883号公報、特開昭53−116115号公報、特
開昭53−128685号公報、特開昭54−94574号公報、
特開昭56−10455号公報、特開昭56−16937号公
報、等に記載されている。これらの例において
は、いずれも表面形状を比較的微細に均一に粗面
化せしめる、たとえば、しわ状突起を形成せしめ
たり、ミミズ状、あるいは粒状突起を形成せしめ
ることにより、ヘツドタツチ、走行性を一挙に改
善しようとするものである。前述の例にみられる
表面状態のものは、常温常湿でのヘツドタツチ、
ヘツド走行性に関しては非常に有効である。しか
し、30℃80〜90％Ｒ・Ｈといつた高湿中で回転ヘ
ツドのシリンダー部分で鳴きを発生しやすいとい
う欠点を有している。これを解決する一手段とし
て基板にポリエステルフイルムを使用し、その中
に含まれているポリエステルオリゴマーを、真空
中で強磁性層を形成せしめる際基板表面に微細結
晶として析出せしめ、その上に強磁性金属薄膜層
を形成せしめるといつた提案が本発明者らによつ
てすでになされているが、この場合、オリゴマー
結晶の析出頻度の場所依存性が大きくオリゴマー
結晶を表面全域にわたつて均等に析出せしめるこ
とが困難であり、場所による分布むらを生じやす
い。そのために得られる磁気記録媒体のエンベロ
ープ特性に乱れを生じやすいといつた欠点があつ
た。 また、特開昭53−107314号公報に記載のごとき
表面に熱可塑性の微粒子の突出したポリエステル
フイルム上に強磁性薄膜を形成せしめたものは常
温常湿で走行性良好で画質も良好であることが知
られている。ただし、この場合においては、記録
密度を高くとるために磁気記録媒体の表面性を改
善しようとしても、表面あらさが0.03μｍ以下に
なると、ステイツクスリツプを生じ走行性が劣つ
てくる。 発明の目的 本発明は、高湿度中での鳴きを改善し、併せて
再生画質を改善した高密度記録に適した金属薄膜
形磁気記録媒体に関するものである。 発明の構成 本発明は、熱可塑性樹脂の微粒子を核とする粒
子状樹脂突起高さ30〜500Åで粒子状樹脂突起の
広がりが高さの１〜20倍である粒子状樹脂突起を
1000個／mm2以上表面に存在せしめたプラスチツク
のフイルム面上に強磁性金属薄膜を形成しその上
に滑剤を存在せしめるものである。 実施例の説明 第１〜２図は、本発明による磁気記録媒体を示
したもので、図において１，１′はプラスチツク
フイルム、２，２′は熱可塑性樹脂の微粒子の核、
３′は核２′をプラスチツクフイルム１′上に固着
せしめるための結合樹脂、４，４′は強磁性金属
薄膜、５，５′は滑剤である。第１図においては、
核２自体が粒子状樹脂突起を形成してこれ自体で
プラスチツクフイルム１に固着しており、第２図
においては、核２′と結合樹脂３′とから粒子状突
起が形成されている。また、滑剤５は強磁性金属
薄膜４の全表面に存在しているが、滑剤５′は強
磁性金属薄膜４′上の特定部分にのみ存在してい
る。 粒子状樹脂突起の高さは高精度の触針式表面粗
さ測定装置（TALYSTEP−１，TAYLOR−
HOBSON社製）にて実測されるもので、JIS
B0601に規定されている表面粗さ最大値、Rmax
に準じて凹凸の山頂から谷底までの距離にて表わ
すものとすると、本発明に適した高さは30〜500
Åの範囲であり、さらに好ましくは50〜300Åで
ある。30Å以下では高湿中での鳴き防止効果が得
られ難く、500Å以上ではエンベロープの乱れが
生じやすくなる。 粒子状樹脂突起の平面的な広がりとしては、そ
れらの高さの１〜20倍さらに好ましくは、２〜10
倍が適当である。20倍以上では高湿中での鳴き防
止効果が低減する。 粒子状樹脂突起の密度としては、表面１mm2当り
1000ケ以上、さらに好ましくは2500ケ以上が適当
であり、1000ケ以下では高湿中での盟き防止効果
が低減する。この密度は、倍率400の微分干付光
学顕微鏡で最小10視野の観察か、または、走査型
電子顕微鏡で倍率3000で最小10視野の観察を行な
い、それらの視野内に存在する粒子状樹脂突起の
数を求め１mm2当りに換算したものである。 たとえば、濃度１％以下、さらに好ましくは
0.1％以下の熱可塑性樹脂溶液にその樹脂を溶解
し難い溶剤（非溶媒）を加えてフイルム面上に塗
布乾燥する方法、（この場合熱可塑性樹脂から成
る核の形成は、非溶媒を加えた時点で懸濁状態に
析出せしめることにより行なつてもよいし、フイ
ルム面上に塗布したのち乾燥する時点ではじめて
懸濁析出するようにしてもよい。これらは、熱可
塑性樹脂、それを溶解せしめる溶剤、添加する非
溶媒等の選定および配合により決定できる）、あ
るいは、上記の配合液にさらに熱可塑性樹脂の核
の周囲を固着せしめ得る、すなわち、第２図の状
態を形成し得る他の樹脂を添加したのちフイルム
面上に塗布乾燥する方法等がある。熱可塑性樹脂
としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
トあるいはそれらを中心とする共重合物等の各種
ポリエステル、ナイロン６、ナイロン66、ナイロ
ン610、ナイロン11、ナイロン12、あるいはそれ
らの共重合物から成る各種ポリアミド、ポリカー
ボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリ
エーテルスルホン、ポリフエニレンオキサイド、
フエノキシ樹脂、等が最も適しているがその他の
樹脂、たとえば、ポリスチレン、ポリアクリレー
ト、ポリビニールクロライド等も使用可能であ
る。 第２図に例示したような構成に使用する結合樹
脂としては、各種の熱可塑性樹脂以外に、エポキ
シ、フエノール、シリコーン等の架橋性樹脂を用
いることもできる。 強磁性薄膜としてはたとえば斜め蒸着、あるい
は、垂直蒸着法にて形成されるCo，Ni，Fe等を
主体とする金属薄膜、それらの合金を主体とする
金属薄膜（たとえばCo−Cr垂直磁化膜）が使用
できるが、プラスチツクフイルムとの付着強度改
善、あるいは、強磁性金属薄膜自体の耐食性、耐
摩耗性改善の目的で、蒸着時の雰囲気を酸素ガス
が支配的となる雰囲気中で得られる、酸素を含む
強磁性金属薄膜を使用することが望ましい。酸素
の含有量としては、基板フイルム表面近傍の強磁
性金属、あるいは非磁性金属に対する原子数比で
少くとも３％以上、好ましくは５％以上が適当で
ある。また、必要に応じて強磁性金属薄膜形成に
先立ち機械的補強効果のある薄膜、たとえばTi，
Cr，Ni等の酸素含有金属薄膜、Al2O3，SiO2等
の酸化物薄膜等を形成せしめることも可能であ
る。 上記のような、酸素を含む強磁性金属薄膜、ま
たは、その下に必要に応じて形成される上記の非
磁性金属層と、粒子状樹脂突起との組合せによ
り、スチル寿命においても大巾の改善が可能とな
る。なお、スチル寿命は強磁性金属薄膜の厚さと
も関係し厚さが400Å以下となると急激に低下す
るため厚さは400Å以上であることが望ましい。 強磁性薄膜層表面に滑剤を存在せしめることに
より、粒子状樹脂突起の形状に基づく走行性改善
効果をさらに高めることが可能である。これによ
り、高湿度中での鳴きの防止が、さらに完全なも
のとなる。 強磁性金属薄膜上の滑剤は第１図に示すように
全表面に存在せしめてもよいが、第２図のように
局所に存在せしめてもよい。その手段としては、
強磁性金属薄膜表面に直接塗布、あるいは蒸着す
る方法以外に磁気記録媒体の裏面に塗布、あるい
は蒸着せしめておき磁気記録媒体の積層（巻回）
時に強磁性金属薄膜表面へ転写せしめる方法も可
能である。滑剤を強固に固着せしめるために樹脂
結合剤を使用することも可能である。 滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪
酸アミド、金属石ケン、脂肪族アルコール、パラ
フイン、シリコーン、フツ素系界面活性剤、無機
滑剤等が使用できる。滑剤の存在量としては、表
面１m2当り0.5〜500mg、さらに好ましくは５〜
200mgが適当である。 脂肪酸としては、ラウリン酸、ミリスチン酸、
パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイ
ン酸、リノール酸、リノレン酸等の炭素数が12個
以上のものが使用できる。 脂肪酸エステルとしては、ステアリン酸エチ
ル、ステアリン酸ブチル、ステアリン酸アミル、
ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノ
グリセリド、オレイン酸モノグリセリド、ベンタ
エリスリトールテトラステアレート、等が使用で
きる。 脂肪酸アミドとしては、カプロン酸アミド、カ
プリン酸アミド、ラウリン酸アミド、パルミチン
酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミ
ド、オレイン酸アミド、リノール酸アミド、メチ
レンビヒステアリン酸アミド、エチレンビスステ
アリン酸アミド等が使用できる。 金属石ケンとしては、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オ
レイン酸、リノール酸、リノレン酸等の亜鉛、
鉛、ニツケル、コバルト、鉄、アルミニウム、マ
グネシウム、ストロンチウム、銅、等との塩、ラ
ウリル、パルミチル、ミリスチル、ステアリル、
ベヘニル、オレイル、リノール、リノレン等のス
ルホン酸と上記各種金属との塩等が使用できる。
脂肪族アルコールとしては、セチルアルコール、
ステアリルアルコール等が使用できる。 パラフインとしては、ｎ−オクタデセン、ｎ−
ノデカン、ｎ−トリデカン、ｎ−ドコサン、ｎ−
ドトリアコンタン等の飽和炭化水素が使用でき
る。 シリコーンとしては、水素がアルキル基または
フエニール基で部分置換されたポリシロキサンお
よびそれらを、脂肪酸、脂肪族アルコール、酸ア
ミド等で変性したもの等が使用できる。 フツ素系界面活性剤としては、パーフロロアル
キルカルボン酸およびパーフロロアルキルスルホ
ン酸とナトリウム、カリウム、マグネシウム、亜
鉛、アルミニウム、鉄、コバルト、ニツケル等と
の塩、パーフロロアルキリン酸エステル、パーフ
ロロアルキルベタイン、パーフロロアルキルトリ
メチルアンモニウム塩、パーフロロエチレンオキ
サイド、パーフロロアルキル脂肪族エステル等が
使用できる。 無機滑剤としては、グラフアイト粉末、二硫化
モリブデン粉末、二硫化タングステン粉末、セレ
ン化モリブデン粉末、セレン化タングステン粉
末、フツ化カルシウム粉末等がある。 本発明による磁気記録媒体の表面、裏面、また
は、それらの近傍、あるいは、強磁性金属薄膜内
の空隙、強磁性金属薄膜とプラスチツクフイルム
との界面、プラスチツクフイルム内等に公知の手
段で防錆剤、帯電防止剤、防黴剤、等の各種添加
剤を存在せしめることは、必要に応じて行なうこ
とができる。 次により具体的な実施例を説明する。 実施例 １ 重合触媒残査に起因する突起を大幅に抑制して
表面粗さを30Å以下にした平滑ポリエチレンテレ
フタレート二軸延伸フイルム上に下記組成液を塗
布厚約10μｍとなるように連続塗布乾燥し、表面
にポリカーボネートから成る粒子高さ約50Åの粒
子状突起を約100万個／mm2有するフイルム長尺試
料を得た。この試料をＡとする。 液組成 ポリカーボネート ……0.05phr （商品名 ユーピロンE2000U 三菱瓦斯化学(株)製） 塩化メチレン ……100phr ベンゼン ……100phr ｎ−ブタノール ……800phr 実施例 ２ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリエステルから成る粒子高さ約200Å
の粒子状突起を約10万個／mm2有する試料を得た。
この試料をＢとする。 液組成 ポリエステル ……0.1phr （商品名 バイロン＃200 東洋紡績(株)製） 酢酸エチル ……100phr ベンゼン ……100phr ｎ−ブタノール ……800phr 実施例 ３ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ナイロン66から成る粒子高さ約500Åの
粒子状突起を約2500個／mm2有する試料を得た。こ
の試料をＣとする。 液組成 ナイロン66 ……0.1phr （商品名 UBE2020B 宇部興産(株)製） フエノール ……300phr 酢酸セロソルブ ……700phr 比較例 １ 実施例３においてナイロン66添加量のみを
0.02phrに変更した場合、ナイロン66から成る粒
子高さ500Åの粒子状突起を約500個／mm2有する試
料を得た。この試料をＤとする。 実施例 ４ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリアリレートから成る高さ約300Åの
粒子状突起を約10万個／mm2有する試料を得た。こ
の試料をＥとする。 液組成 ポリアリレート ……0.1phr （商品名 Ｕ−2030 ユニチカ(株)製） 塩化メチレン ……100phr メタノール ……900phr 水 ……10phr 実施例 ５ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリスルホンから成る粒子高さ約400Å
の粒子状突起を約１万個／mm2有する試料を得た。
この試料をＦとする。 液組成 ポリスルホン ……0.1phr （商品名 ユーデル Ｐ−1800 日産化学工業(株)製） 塩化メチレン ……100phr ベンゼン ……100phr 酢酸エチル ……800phr 実施例 ６ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリエーテルスルホンから成る高さ約
200Åの粒子状突起を約50万個／mm2有する試料を
得た。この試料をＧとする。 液組成 ポリエーテルスルホン ……0.1phr （商品名 PES 200P ICIジヤパン(株)製） 塩化メチレン ……100phr メタノール 900phr 水 10phr 実施例 ７ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ポリフエニレンオキサイド粒子を核とし
ポリエステル樹脂を結合樹脂とする高さ約100Å
の粒子状突起を約50万個／mm2有する試料を得た。
この試料をＨとする。 液組成 ポリフエニレンオキサイド ……0.02phr （エンジニアリングプラスチツク(株)製） ポリエステル（バイロン＃200） …0.1phr ジメチルホルムアミド ……50phr ジメチルスルホオキシド ……50phr トルエン ……200phr 酢酸エチル ……500phr 酢酸セロソルブ ……300phr 実施例 ８ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、フエノキシ樹脂から成る粒子高さ約200
Åの粒子状突起を約20万個有する試料を得た。こ
の試料をＩとする。 フエノキシ樹脂 ……0.05phr （巴工業(株)製） 酢酸エチル ……200phr エタノール ……800phr 水 ……50phr 実施例 ９ 実施例１において液組成を下記のものに変更し
た場合、ナイロン66から成る微粒子を核としフエ
ノキシ樹脂を結合樹脂とする粒子高さ約200Åの
粒子状突起を約20万個／mm2有する試料を得た。こ
の試料をＪとする。 液組成 ナイロン66（UBE 2020B） …0.01phr フエノキシ樹脂 ……0.05phr フエノール ……100 酢酸セロソルブ ……900 実施例 10 重合触媒残査に起因する微粒子をほとんど含ま
ないポリエチレンテレフタレートから成り、表面
に製膜延伸途上で増粘剤を含む変性シリコーンエ
マルジヨンを主体とする液を塗布硬化させること
により表面粗さ100Åの微細な波状凹凸から成る
異種高分子薄層を形成させたポリエチレンテレフ
タレート二軸延伸フイルムをプラスチツクフイル
ムに用いてその上に実施例１〜８と同様の塗布処
理を行なつて得られた試料をそれぞれ、Ｋ，Ｌ，
Ｍ，Ｎ，Ｏ，Ｐ，Ｑ，Ｒとする。これらの試料の
表面に形成された粒子状樹脂突起はそれぞれ対応
するＡ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉのもの
とほぼ同じ状態であつた。 比較例 ２ 実施例１〜９、および実施例９で使用したプラ
スチツクフイルム自体をそれぞれ試料S.T.とす
る。 実施例 11 上記のＡ〜Ｔの各試料を順次連結して、連続真
空斜め蒸着法により各表面にCo，Ni強磁性金属
薄膜（Ni＝20wt％膜厚1000Å）を微量の酸素の
存在下に形成させた。磁性層の酸素含有量は金属
に対する原子数比で５％であつた。そののち、各
試料毎に表面に各種の滑剤溶液を塗布し所定幅に
スリツトして磁気テープとし、これらを30℃90％
RHの環境下で試作ビデオレコーダーに掛けて回
転ヘツドシリンダー部での鳴きの状態と、エンベ
ロープと、スチル寿命を測定した。また、比較例
として試料Ｔについて、蒸着前に加熱処理を行な
つてポリエステルオリゴマー結晶を表面に析出せ
しめたのち前記同様の蒸着を行なうことによりオ
リゴマー結晶から成る微小突起（高さ約300Å、
密度約10万個／mm2）を形成せしめたものに滑剤溶
液を塗布したのち磁気テープとしたもの、およ
び、上記Ａ〜Ｔのうちの特定の試料につき蒸着後
滑剤溶液を塗布せずに磁気テープとしたものにつ
いても上記の測定を行なつた。これらの結果を次
の表に示す。
【表】
【表】
表において、No.１〜３および５〜10は前述の実
施例１〜９に示す各種粒子状樹脂突起を有する平
滑ポリエステルフイルムを用いた場合であり、ま
たNo.11〜18は、同じく前述の実施例１〜８に示す
各種粒子状樹脂突起とほぼ同様の粒子状樹脂突起
を実施例10に示すように微細な破状凹凸を有する
ポリエステルフイルム状に形成させた場合であ
り、この場合はゆるかな破状凹凸の上に急竣な粒
子状突起が存在する複合形となるが、いずれも本
発明の効果すなわち、高温度中で鳴きがなくエン
ベロープ良好でかつスチル寿命が30分以上という
効果が得られている。 これに対し、実施例３と同じ材料および同じ構
成でありながら粒状突起密度が500個／mm2と少な
い試料Ｄを用いた場合には、比較例(4)に示すよう
に鳴きが発生し、エンベロープも不良であつた。 また、粒状突起を有せず、波状凹凸のみを有す
るフイルムを用いた場合には、比較例（20）のよ
うに鳴きが発生し、エンベロープ不良でスチル寿
命も10分と短い効果とになつている。 波状凹凸の表面にオリゴマーを析出させ、これ
を粒状突起とした場合には、比較例（21）の通
り、粒状突起があるにもかかわらず、エンベロー
プがやや不安となつている。これは、オリゴマー
析出、頻度の場合依存性が大きいこと、すなわ
ち、場所によつて、その密度が1000個／mm2未満と
なつていることによるものである。 さらに、滑剤を存在せしめた場合には、比較例
（23）（24）（25）のように、鳴きが発生し、エン
ベロープも不良気味となり、スチル寿命も短い。 発明の効果 以上の実施例からも明らかなように、本発明の
磁気記録媒体は、高湿中においても鳴きを発生せ
ず、エンベロープも良好であつて、安定した走行
性を示す。さらに高湿中でのスチル寿命も良好で
あり、その実用的価値の非常に高いものである。
施例１〜９に示す各種粒子状樹脂突起を有する平
滑ポリエステルフイルムを用いた場合であり、ま
たNo.11〜18は、同じく前述の実施例１〜８に示す
各種粒子状樹脂突起とほぼ同様の粒子状樹脂突起
を実施例10に示すように微細な破状凹凸を有する
ポリエステルフイルム状に形成させた場合であ
り、この場合はゆるかな破状凹凸の上に急竣な粒
子状突起が存在する複合形となるが、いずれも本
発明の効果すなわち、高温度中で鳴きがなくエン
ベロープ良好でかつスチル寿命が30分以上という
効果が得られている。 これに対し、実施例３と同じ材料および同じ構
成でありながら粒状突起密度が500個／mm2と少な
い試料Ｄを用いた場合には、比較例(4)に示すよう
に鳴きが発生し、エンベロープも不良であつた。 また、粒状突起を有せず、波状凹凸のみを有す
るフイルムを用いた場合には、比較例（20）のよ
うに鳴きが発生し、エンベロープ不良でスチル寿
命も10分と短い効果とになつている。 波状凹凸の表面にオリゴマーを析出させ、これ
を粒状突起とした場合には、比較例（21）の通
り、粒状突起があるにもかかわらず、エンベロー
プがやや不安となつている。これは、オリゴマー
析出、頻度の場合依存性が大きいこと、すなわ
ち、場所によつて、その密度が1000個／mm2未満と
なつていることによるものである。 さらに、滑剤を存在せしめた場合には、比較例
（23）（24）（25）のように、鳴きが発生し、エン
ベロープも不良気味となり、スチル寿命も短い。 発明の効果 以上の実施例からも明らかなように、本発明の
磁気記録媒体は、高湿中においても鳴きを発生せ
ず、エンベロープも良好であつて、安定した走行
性を示す。さらに高湿中でのスチル寿命も良好で
あり、その実用的価値の非常に高いものである。
第１図、第２図はそれぞれ本発明による磁気記
録媒体の断面図である。 １，１′……フイルム、２，２′……核、４，
４′……強磁性金属薄膜、５，５′……滑剤。
録媒体の断面図である。 １，１′……フイルム、２，２′……核、４，
４′……強磁性金属薄膜、５，５′……滑剤。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 固体の熱可塑性樹脂の微粒子を核とする高さ
50〜500Åで広がりが高さの１〜20倍である粒子
状固体樹脂突起を磁性面となるべき表面全域にわ
たり2500個／mm2以上有する下塗り層を設けたプラ
スチツクフイルム基板面上に、厚さ400Å以上の
強磁性金属薄膜を形成し、その上に滑剤を存在せ
しめたことを特徴とする磁気記録媒体。 ２ 熱可塑性樹脂が、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエー
テルスルホン、ポリフエニレンオキサイド、フエ
ノキシ樹脂の中から選択された一種であることを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の磁気記
録媒体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57140629A JPS5930231A (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | 磁気記録媒体 |
| US06/521,075 US4540618A (en) | 1982-08-12 | 1983-08-08 | Magnetic recording medium |
| EP83107984A EP0101080B2 (en) | 1982-08-12 | 1983-08-11 | Magnetic recording medium |
| DE8383107984T DE3371260D1 (en) | 1982-08-12 | 1983-08-11 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57140629A JPS5930231A (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5930231A JPS5930231A (ja) | 1984-02-17 |
| JPH0328731B2 true JPH0328731B2 (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=15273135
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57140629A Granted JPS5930231A (ja) | 1982-08-12 | 1982-08-12 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5930231A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60219621A (ja) * | 1984-04-13 | 1985-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS619822A (ja) * | 1984-06-22 | 1986-01-17 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| JPH0687289B2 (ja) * | 1984-09-03 | 1994-11-02 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録方法 |
| JPH0687290B2 (ja) * | 1984-09-04 | 1994-11-02 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録方法 |
| JPS62102416A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-12 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| JP2777003B2 (ja) * | 1991-06-28 | 1998-07-16 | 帝人株式会社 | 磁気記録媒体用ポリエステルフイルム及びその製造方法 |
| JPH05314454A (ja) * | 1992-05-08 | 1993-11-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5613515A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5613516A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS5613517A (en) * | 1979-07-16 | 1981-02-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
-
1982
- 1982-08-12 JP JP57140629A patent/JPS5930231A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5930231A (ja) | 1984-02-17 |
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