JPH05345768A - 新規トリアゾール化合物及び該化合物を有効成分とする抗真菌剤 - Google Patents

新規トリアゾール化合物及び該化合物を有効成分とする抗真菌剤

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JPH05345768A
JPH05345768A JP17936492A JP17936492A JPH05345768A JP H05345768 A JPH05345768 A JP H05345768A JP 17936492 A JP17936492 A JP 17936492A JP 17936492 A JP17936492 A JP 17936492A JP H05345768 A JPH05345768 A JP H05345768A
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JP
Japan
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lower alkyl
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alkyl group
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JP17936492A
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Naoya Yamamoto
直也 山本
Hiroyoshi Kodama
浩宜 児玉
Yoshimi Niwano
吉巳 庭野
Masanori Yoshida
正徳 吉田
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Nihon Nohyaku Co Ltd
Original Assignee
Nihon Nohyaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 新規トリアゾール化合物及び抗真菌剤を提供
する。 【構成】 次式(I) で表される示されるトリアゾール化
合物及び該化合物を有効成分とする抗真菌剤。 【化1】 (式中、R1は1〜3のハロゲンで置換されていてもよい
フェニル基、R2は低級アルキル基、R3とR4はH、低級ア
ルキル基、R5はハロアルキル基、低級アルキニル基、O
H、低級アルコキシ基、ニトリル基、置換されていても
よいフェニル基、−NR6R7(R6とR7は特定の基を示
す。)、Aは低級アルケニレン基、-C(O)-、-NHC(O)-、
-C(R8)=N- (R8はH、低級アルキル基)又は単結合) 【効果】 式(I) の化合物はヒトや動物の真菌感染を治
療するのに有効な抗真菌剤である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I):
【化17】 〔式中、R1 はハロゲン原子1乃至3個で置換されてい
てもよいフェニル基を示し、R2 は低級アルキル基を示
し、R3 及びR4 は同一又は異なって水素原子又は低級
アルキル基を示し、R5 はハロアルキル基、低級アルキ
ニル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトリル
基、置換されていてもよいフェニル基又は式−NR6
7 (式中、R6 及びR7 は同一又は異なって水素原子、
低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、低
級アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾ
イル基を示すか、又はR6 とR7 は互いに一緒になって
酸素原子又は窒素原子で遮断されていてもよいアルキレ
ン基を示す。)で表される基を示し、Aは低級アルケニ
レン基、
【化18】 (式中、R8 は水素原子又は低級アルキル基を示す。)
で表される基又は単結合を示し、mは0,1乃至2の整
数を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕で表されるト
リアゾール化合物及びその製造方法並びに該化合物又は
該化合物の薬学的に受容される塩を有効成分とする抗真
菌剤に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明化合物と構造類似の化合物が抗真
菌活性を有することは、特開昭61−143368号、
特開昭61−85369号、欧州特許出願公開第421
210A2号(1990.9.22)公報に記載されて
いる。しかしながら、これら従来公知の化合物はすべて
において完全には満足できるものではない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、このよ
うな実状において、抗真菌剤を提供すべく鋭意検討を行
った結果、低用量で抗真菌作用を示す一般式(I)で表
される化合物を見出し本発明を完成させるに到った。更
に、本発明化合物は農業用殺菌剤としても有用である。
【0004】前記一般式(I)の置換基の定義におい
て、アルキル基とはメチル基、エチル基、イソプロピル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、s
−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等が、ア
ルコキシ基とはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキ
シ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、s−ブトキシ
基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基等が
含まれる。
【0005】一般式(I)で表される化合物は、R3
4 が同一のものを示す場合、一般式(I)で表される
化合物は不斉中心を2つ含むため1対のジアステレオマ
ーとして存在し、さらに各ジアステロマーは1対のエナ
ンチオマーから構成される。従って4種の立体異性体と
して存在することになる。R3 とR4 が異なる場合不斉
中心を3つ含むため、8種の立体異性体が可能となる。
本発明の一般式(I)で表される化合物は、これらジア
ステロオマー及びエナンチオマーの分離されたもの及び
これらの混合物を包含するものである。
【0006】本発明の一般式(I)で表される化合物は
そのままで、あるいはその酸付加塩の形状で抗真菌剤と
して使用することができ、用いられる酸としては、塩
酸、硫酸、硝酸等の無機酸、シュウ酸、メタンスルホン
酸等の有機酸が挙げられる。
【0007】一般式(I)で表される化合物は、例えば
下記に示す方法により合成することができる。 A法
【化19】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、m及びn
は前記に同じ。)
【0008】即ち、一般式(II)で表される化合物と一般
式(III) で表される化合物を塩基の存在下に不活性溶媒
中で反応させて得ることができる。本反応で使用できる
有機溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであ
ればよく、例えばメタノール、エタノール、アセトニト
リル、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフラン、水及びこれらから選択される
溶媒を組み合わせた混合溶媒を用いることができる。使
用できる塩基としては、水酸化ナトリウム、水素化ナト
リウム、炭酸カルシウム、ナトリウムメトキサイド、ナ
トリウムエトキサイド、カリウムtert−ブトキサイド、
テトラブチルアンモニウムフルオリド等を挙げることが
でき、これらは固体のまま使用することもまた溶媒に溶
解させて使用することもできる。塩基の使用量は一般式
(III) で表される化合物に対して1モル以上使用すれば
よい。反応温度は−20℃乃至溶媒の沸点域から適宜選
択すればよい。反応時間は、反応温度、反応スケールに
よって変動するが0.5乃至48時間の範囲から適宜選
択すればよい。本反応を行うに当たっての反応試剤のモ
ル比は、等モル反応であるので等モル使用すればよい
が、どちらか一方を過剰に用いてもよい。
【0009】B法
【化20】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、m及びn
は前記に同じ、Xはハロゲン原子、メタンスルホニルオ
キシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基等を示す。)
【0010】即ち、一般式(IV)で表される化合物と一般
式(V)で表される化合物を塩基の存在下に不活性溶媒
中で反応させて得ることができる。本反応で使用できる
有機溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであ
ればよく、例えばメタノール、エタノール、アセトニト
リル、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフラン、水及びこれらから選択される
溶媒を組み合わせた混合溶媒を用いることができる。使
用できる塩基としては、水酸化ナトリウム、水素化ナト
リウム、炭酸カルシウム、ナトリウムメトキサイド、ナ
トリウムエトキサイド、カリウムtert−ブトキサイド、
テトラブチルアンモニウムフルオリド等を挙げることが
でき、これらは固体のまま使用することもまた溶媒に溶
解させて使用することもできる。塩基の使用量は一般式
(IV)で表される化合物に対して1モル以上使用すればよ
い。反応温度は−20℃乃至溶媒の沸点域から適宜選択
すればよい。反応時間は、反応温度、反応スケールによ
って変動するが0.5乃至48時間の範囲から適宜選択
すればよい。本反応を行うに当たっての反応試剤のモル
比は、等モル反応であるので等モル使用すればよいが、
どちらか一方を過剰に用いてもよい。
【0011】C法
【化21】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、X、m及
びnは前記に同じ。)
【0012】即ち、一般式(VI)で表される化合物と一般
式(III) で表される化合物を塩基の存在下に不活性溶媒
中で反応させて得ることができる。本反応で使用できる
有機溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであ
ればよく、例えばメタノール、エタノール、アセトニト
リル、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフラン、水及びこれらから選択される
溶媒を組み合わせた混合溶媒を用いることができる。使
用できる塩基としては、水酸化ナトリウム、水素化ナト
リウム、炭酸カルシウム、ナトリウムメトキサイド、ナ
トリウムエトキサイド、カリウムtert−ブトキサイド、
テトラブチルアンモニウムフルオリド等を挙げることが
でき、これらは固体のまま使用することもまた溶媒に溶
解させて使用することもできる。塩基の使用量は一般式
(III) で表される化合物に対して1モル以上使用すれば
よい。反応温度は−20℃乃至溶媒の沸点域から適宜選
択すればよい。反応時間は、反応温度、反応スケールに
よって変動するが0.5乃至48時間の範囲から適宜選
択すればよい。本反応を行うに当たっての反応試剤のモ
ル比は、等モル反応であるので等モル使用すればよい
が、どちらか一方を過剰に用いてもよい。
【0013】D法
【化22】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、m及びn
は前記に同じ。)
【0014】即ち、一般式(VII) で表される化合物と
1,2,4−トリアゾールを塩基の存在下に不活性溶媒
中で反応させて得ることができる。本反応で使用できる
有機溶媒としては、本反応の進行を阻害しないものであ
ればよく、例えばメタノール、エタノール、アセトニト
リル、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、テトラヒドロフラン、水及びこれらから選択される
溶媒を組み合わせた混合溶媒を用いることができる。使
用できる塩基としては、水酸化ナトリウム、水素化ナト
リウム、炭酸カルシウム、ナトリウムメトキサイド、ナ
トリウムエトキサイド、カリウムtert−ブトキサイド、
テトラブチルアンモニウムフルオリド等を挙げることが
でき、これらは固体のまま使用することもまた溶媒に溶
解させて使用することもできる。塩基の使用量は一般式
(VII) で表される化合物に対して1モル以上使用すれば
よい。反応温度は−20℃乃至溶媒の沸点域から適宜選
択すればよい。反応時間は、反応温度、反応スケールに
よって変動するが0.5乃至48時間の範囲から適宜選
択すればよい。本反応を行うに当たっての反応試剤のモ
ル比は、等モル反応であるので等モル使用すればよい
が、どちらか一方を過剰に用いてもよい。
【0015】E法
【化23】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、m及びn
は前記に同じ)
【0016】A法及びD法において一般式(I)でm=
0の場合、得られる生成物を適当な酸化剤と反応させて
m=1,2の化合物が得られる。この反応において用い
られる酸化剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の過
酸類が挙げられる。反応促進のためにタングステン酸ナ
トリウム等を触媒として用いてもよい。本反応で使用で
きる有機溶媒としては、本反応の進行を阻害しないもの
であればよく、例えばメタノール、エタノール、アセト
ニトリル、ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、テトラヒドロフラン、水及びこれらから選択され
る溶媒を組み合わせた混合溶媒を用いることができる。
使用できる塩基としては、水酸化ナトリウム、水素化ナ
トリウム、炭酸カルシウム、ナトリウムメトキサイド、
ナトリウムエトキサイド、カリウムtert−ブトキサイ
ド、テトラブチルアンモニウムフルオリド等を挙げるこ
とができ、これらは固体のまま使用することもまた溶媒
に溶解させて使用することもできる。反応温度は−20
℃乃至溶媒の沸点域から適宜選択すればよい。反応時間
は、反応温度、反応スケールによって変動するが0.5
乃至48時間の範囲から適宜選択すればよい。
【0017】反応終了後、目的物は通常の方法で精製さ
れるが、ジアステレオマーは分別再結晶又はカラムクロ
マトグラフィーなどの通常の方法によって分離される。
エナンチオマーは、例えば光学異性分離用カラムなどの
通常の方法によって分離される。一般式(II)、(IV)、(V
I)及び(VII) で表される化合物は欧州特許出願公開第4
21210A2号公報、Chem. Pharm. Bull.(1990),3
8,2476〜2486、Chem. Pharm. Bull.(1990),39,2241
〜2246、特開平03−128338号に記載の方法によ
って合成できる。
【0018】一般式(I)で表される化合物の代表例を
表1に示すが、本発明はこれらのみに限定されるもので
はない。
【表1】
【0019】
【表2】
【0020】
【表3】
【0021】
【表4】
【0022】
【実施例】次に本発明の実施例を示すが、本発明はこれ
らのみに限定されるものではない。
【0023】実施例1 S−〔(1RS,2RS)−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕メルカ
プトアセティックアシッド エチル エステル(化合物
番号6)の製造 (2RS,3RS)−2−(2,4−ジフルオロフェニ
ル)−3−(メチルスルホニルオキシ)−1−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−ブタン−2−オー
ル0.7gをエタノール20mlに溶解し、次にナトリ
ウムエトキサイド0.8g及びチオグリコール酸エチル
1.1gを加え3時間還流した。室温まで冷却した後、
氷水中に注ぎ込み、希塩酸で中和した。この水溶液を酢
酸エチルで抽出し、有機層を水洗し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し目的物を
油状物として0.5g得た。
【0024】実施例2 S−〔(1RS,2RS)−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕メルカ
プトアセティックアシッド(化合物番号5)の製造 S−〔(1RS,2RS)−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕メルカ
プトアセティックアシッド エチル エステル 1.5
gを水20ml、エタノール10mlの混合溶媒に溶解
し、水酸化ナトリウム0.5gを加え、室温で1時間攪
拌した。反応液を希塩酸で中和し、ジクロロメタンで抽
出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した後、減圧下で溶媒を留去した。残渣をジエチルエー
テルで結晶化し、目的物1.0gを得た。融点146〜
148℃。
【0025】実施例3 4−〔S−(1RS,2RS)−2−(2,4−ジフル
オロフェニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−
(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕
メルカプトアセチル〕モルホリン(化合物番号5)の製
造 S−〔(1RS,2RS)−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕メルカ
プトアセティックアシッド 0.3gをジオキサン10
mlに溶解し、N−ヒドロキシコハク酸イミド0.15
gとジシクロヘキシルカルボジイミド0.27gを加え
室温で19時間攪拌した。次にモルホリン0.15gを
室温で滴下し、その後室温で1時間攪拌した。不溶物を
ロ過し、ロ液を減圧で留去した。残渣を酢酸エチルに溶
解し、水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
減圧下で溶媒を留去した、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーにて精製し、目的物0.2gを油状物と
して得た。
【0026】実施例4 S−((1RS,2RS)−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕メルカ
プトアセトニトリル(化合物番号20)の製造 (2RS,3RS)−2−(2,4−ジフルオロフェニ
ル)−3−メルカプト−1−(1,2,4−トリアゾー
ル−1−イル)−ブタン−2−オール0.2gに、ナト
リウム0.85gにメタノール85mlを加え溶解する
まで攪拌して調製したナトリウム メトキサイド溶液
3.2mlとクロロアセトニトリル0.11gを加え2
時間攪拌した。反応終了後、減圧濃縮し1N塩酸で中和
し、酢酸エチルで抽出、水洗後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーにて精製し、目的物0.16
gを油状物として得た。
【0027】実施例5 〔(1RS,2RS)−2−(2,4−ジフルオロフェ
ニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−(1,2,
4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕スルホニル
アセトニトリル (化合物番号17) S−((1RS,2RS)−2−(2,4−ジフルオロ
フェニル)−2−ヒドロキシ−1−メチル−3−(1,
2,4−トリアゾール−1−イル)−プロピル〕メルカ
プトアセトニトリル 0.32gをメタノール10ml
と水1mlの混合溶媒に溶解し、ナトリウム タングス
テート0.10gを加え、31%過酸化水素0.33g
を滴下し、55℃で5時間攪拌した。室温まで冷却後5
%ナトリウム チオスルフェート0.10gを加えた。
メタノールを減圧留去し、酢酸エチルで抽出、水洗後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去
し、得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製し、目的物0.2gを油状物として得られ
た。
【0028】実施例6 N−2,4−ジフルオロフェニル S−〔(1RS,2
RS)−2−(2,4−ジフルオロフェニル)−2−ヒ
ドロキシ−1−メチル−3−(1,2,4−トリアゾー
ル−1−イル)−プロピル〕メルカプトアセトアミド
(化合物番号8) (2RS,3RS)−2−(2,4
−ジフルオロフェニル)−3−メチルスルホニルオキシ
−1−(1,2,4−トリアゾール−1−イル)−ブタ
ン−2−オール0.4gをエタノール30mlに溶解
し、次にナトリウム エトキサイド0.55gとチオグ
リコール酸2,4−ジフルオロアニリド 0.93gを
室温で加え、5時間還流した。室温まで冷却後氷水中に
注ぎ込み、6N塩酸水で中和した。ジクロロメタンで抽
出、水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下
で溶媒を留去し、得られた油状物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーにて精製し、目的物0.4gを得た。
融点126〜128℃。
【0029】本発明化合物は、人間や動物の真菌感染を
治療するのに有用な抗真菌剤である。たとえば、これら
は白癬菌属(Trichophyton)、カンジダ属(Candida) 、ア
スペルギルス属(Aspergillus) 等によってひきおこされ
る局所性真菌感染、粘膜感染、全身性真菌感染の治療に
用いることができる。本発明化合物は、単独で、もしく
は医薬上許容される不活性な担体または希釈剤からなる
組成物を経口もしくは非経口投与に適した投与剤型、例
えば液剤、錠剤、座剤、乳化剤、軟膏、クリーム、ロー
ション、パップ剤等に調整して使用される。投与量は症
状、年齢、体重、投与形態等によって異なるが、全身的
治療の場合には、通常成人1日当たり体重1kg当たり
0.05〜100mg、好ましくは0.5〜50mgを
1回または数回に分けて投与することができる。局所的
治療における有効成分の濃度は0.001%〜5%、好
ましくは0.1〜2%が最適である。
【0030】次に処方例を示すが、本発明はこれらのみ
に限定されるものではない。尚、部は重量部を表す。 処方例1 本発明化合物 0.01部を 0.5%カルボキシメチルセルロース水溶液 99.9部 に懸濁させて懸濁液とした。 処方例2 本発明化合物 1部 ポリエチレングリコール400 99部 を混合溶解して塗布用液剤とした。
【0031】処方例3 本発明化合物 2部 ポリエチレングリコール400 49部 ポリエチレングリコール4000 49部 を加温下混合溶解した後、冷却して軟膏とした。 処方例4 本発明化合物 3部 1,2プロパンジオール 5部 グリセロールステアレート 5部 鯨ロウ 5部 イソプロピルミリステート 10部 ポリソルベート 4部 の混合物を加温し、冷却し、次いで攪拌しながら水68
部を加えクリームとした。
【0032】処方例5 本発明化合物 0.1部 ステアリルアルコール 5.0部 セタノール 5.0部 中鎖脂肪酸トリグリセリド 10.0部 ミリスチン酸イソプロピル 5.0部 ポリソルベート60 4.0部 モノステアリン酸ソルビタン 1.0部 パラオキシ安息香酸メチル 0.14部 パラオキシ安息香酸プロピル 0.06部 ジブチルヒドロキシトルエン 0.02部 精製水 残部 を常法に従って調整した。
【0033】試験例1 6週齢の雄ddY系マウスを対照群は1群10匹、薬剤
投与群は1群5匹と供試した。カンジダGE培地(日水
製薬(株)製)で37℃で24時間前培養した。C. alb
icans IFO 1270を生理的食塩水に懸濁し、1×108 c
ells/kgの用量で尾静脈内投与した。供試薬剤は0.5
%カルボキシメチルセルロース水溶液に所定濃度となる
ように懸濁し、菌接種30分前に5ml/kgの割合で経
口投与した。さらにその後1日1回3日間連日経口投与
した。生存数の調査は菌接種日より10日目に行った。
結果を表2に示した。
【0034】
【表5】 表2 ──────────────────────── 化合物番号 生存率(%) (用量1mg/kg) ──────────────────────── 7 80 9 100 10 80 11 100 12 80 13 100 18 100 20 100 21 100 23 100 ──────────────────────── 対照群(無投与) 0 ────────────────────────
【0035】試験例2 Aspergillus fumigatus TIMM 0063 の分生子溶液0.1
ml(106 cells/ml、0.1% Tween 80 添加の
生理的食塩水)をB−YNG培地9.8mlを入れたL
型試験管に加えた。次に、所定濃度に希釈した試験化合
物のDMSO溶液0.1mlを加え、37℃で48時間
振とう培養した。培養液を沸騰滅菌し、glass fiber fi
lter上に菌体を集めた。菌体の乾燥重量を測定し、コン
トロールに対する生育阻害率を求めた。結果を表3に示
す。
【0036】
【表6】 表3 ──────────────────────── 化合物番号 生存率(%) (用量1mg/kg) ──────────────────────── 7 100 9 100 10 100 11 100 12 100 13 100 18 100 20 100 21 100 23 100 24 100 ────────────────────────
【0037】
【発明の効果】本発明のトリアゾール誘導体は、人間や
動物の真菌感染を治療するのに有用な抗真菌剤である。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I): 【化1】 〔式中、R1 はハロゲン原子1乃至3個で置換されてい
    てもよいフェニル基を示し、R2 は低級アルキル基を示
    し、R3 とR4 は同一又は異なって水素原子又は低級ア
    ルキル基を示し、R5 はハロアルキル基、低級アルキニ
    ル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトリル基、
    置換されていてもよいフェニル基又は式−NR67
    (式中、R6 及びR7 は同一又は異なって水素原子、低
    級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、低級
    アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾイ
    ル基を示すか、又はR6 とR7 は互いに一緒になって酸
    素原子又は窒素原子で遮断されていてもよいアルキレン
    基を示す。)で表される基を示し、Aは低級アルケニレ
    ン基、 【化2】 (式中、R8 は水素原子又は低級アルキル基を示す。)
    で表される基又は単結合を示し、mは0,1乃至2の整
    数を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕で表されるト
    リアゾール化合物。
  2. 【請求項2】一般式(II): 【化3】 (式中、R1 はハロゲン原子1乃至3個で置換されてい
    てもよいフェニル基を示し、R2 は低級アルキル基を示
    す。)で表される化合物と一般式(III) : 【化4】 〔式中、R3 及びR4 は同一又は異なって水素原子又は
    低級アルキル基を示し、R5 はハロアルキル基、低級ア
    ルキニル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトリ
    ル基、置換されていてもよいフェニル基又は式−NR6
    7 (式中、R6及びR7 は同一又は異なって水素原
    子、低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル
    基、低級アルキルカルボニル基、置換されていてもよい
    ベンゾイル基を示すか、又はR6 とR7 は互いに一緒に
    なって酸素原子又は窒素原子で遮断されていてもよいア
    ルキレン基を示す。)で表される基を示し、Aは低級ア
    ルケニレン基、 【化5】 (式中、R8 は水素原子又は低級アルキル基を示す。)
    で表される基又は単結合を示し、mは0,1乃至2の整
    数を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕で表される化
    合物を反応させることを特徴とする一般式(I): 【化6】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、m及びn
    は前記に同じ。)で表されるトリアゾール化合物の製造
    方法。
  3. 【請求項3】一般式(IV): 【化7】 (式中、R1 はハロゲン原子1乃至3個で置換されてい
    てもよいフェニル基を示し、R2 は低級アルキル基を示
    す。)で表される化合物と一般式(V): 【化8】 〔式中、R3 及びR4 は同一又は異なって水素原子又は
    低級アルキル基を示し、R5 はハロアルキル基、低級ア
    ルキニル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトリ
    ル基、置換されていてもよいフェニル基又は式−NR6
    7 (式中、R6及びR7 は同一又は異なって水素原
    子、低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル
    基、低級アルキルカルボニル基、置換されていてもよい
    ベンゾイル基を示すか、又はR6 とR7 は互いに一緒に
    なって酸素原子又は窒素原子で遮断されていてもよいア
    ルキレン基を示す。)で表される基を示し、Aは低級ア
    ルケニレン基、 【化9】 (式中、R8 は水素原子又は低級アルキル基を示す。)
    で表される基又は単結合を示し、mは0,1乃至2の整
    数を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕で表される化
    合物を反応させることを特徴とする一般式(I): 【化10】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、m及びn
    は前記に同じ。)で表されるトリアゾール化合物の製造
    方法。
  4. 【請求項4】一般式(VI): 【化11】 (式中、R1 はハロゲン原子1乃至3個で置換されてい
    てもよいフェニル基を示し、R2 は低級アルキル基を示
    し、Xはハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、p
    −トルエンスルホニルオキシ基等を示す。)で表される
    化合物と一般式(III) : 【化12】 〔式中、R3 及びR4 は同一又は異なって水素原子又は
    低級アルキル基を示し、R5 はハロアルキル基、低級ア
    ルキニル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトリ
    ル基、置換されていてもよいフェニル基又は式−NR6
    7 (式中、R6及びR7 は同一又は異なって水素原
    子、低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル
    基、低級アルキルカルボニル基、置換されていてもよい
    ベンゾイル基を示すか、又はR6 とR7 は互いに一緒に
    なって酸素原子又は窒素原子で遮断されていてもよいア
    ルキレン基を示す。)で表される基を示し、Aは低級ア
    ルケニレン基、 【化13】 (式中、R8 は水素原子又は低級アルキル基を示す。)
    で表される基又は単結合を示し、mは0,1乃至2の整
    数を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕で表される化
    合物を反応させることを特徴とする一般式(I): 【化14】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、A、m及びn
    は前記に同じ。)で表されるトリアゾール化合物の製造
    方法。
  5. 【請求項5】一般式(I): 【化15】 (式中、R1 はハロゲン原子1乃至3個で置換されてい
    てもよいフェニル基を示し、R2 は低級アルキル基を示
    し、R3 及びR4 は同一又は異なって水素原子又は低級
    アルキル基を示し、R5 はハロアルキル基、低級アルキ
    ニル基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、ニトリル
    基、置換されていてもよいフェニル基又は式−NR6
    7 (式中、R6 及びR7 は同一又は異なって水素原子、
    低級アルキル基、置換されていてもよいフェニル基、低
    級アルキルカルボニル基、置換されていてもよいベンゾ
    イル基を示すか又はR6 とR7 は互いに一緒になって酸
    素原子又は窒素原子で遮断されていてもよいアルキレン
    基を示す。)で表される基を示し、Aは低級アルケニレ
    ン基、 【化16】 (式中、R8 は水素原子又は低級アルキル基を示す。)
    で表される基又は単結合を示し、mは0,1乃至2の整
    数を示し、nは1乃至3の整数を示す。〕で表される化
    合物を有効成分として含有することを特徴とする抗真菌
    剤。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1995026343A1 (en) * 1994-03-29 1995-10-05 Tokyo Tanabe Company Limited Novel triazole derivative and antimycotic agent containing the same as active ingredient
US7230023B2 (en) 2001-02-22 2007-06-12 Sankyo Company, Limited Water-soluble triazole fungicide
CN117050028A (zh) * 2023-08-15 2023-11-14 云南中医药大学 一种抗真菌唑类衍生物及其合成方法与应用

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WO1995026343A1 (en) * 1994-03-29 1995-10-05 Tokyo Tanabe Company Limited Novel triazole derivative and antimycotic agent containing the same as active ingredient
US7230023B2 (en) 2001-02-22 2007-06-12 Sankyo Company, Limited Water-soluble triazole fungicide
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