JPH05345771A - サッカリン誘導体タンパク質分解酵素阻害剤 - Google Patents
サッカリン誘導体タンパク質分解酵素阻害剤Info
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- JPH05345771A JPH05345771A JP4337034A JP33703492A JPH05345771A JP H05345771 A JPH05345771 A JP H05345771A JP 4337034 A JP4337034 A JP 4337034A JP 33703492 A JP33703492 A JP 33703492A JP H05345771 A JPH05345771 A JP H05345771A
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D471/00—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00
- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D471/04—Ortho-condensed systems
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 タンパク質分解酵素の酵素活性を阻害する下
記式Ｉ で示される化合物、それらの製造方法、変性疾患の治療
におけるそれらの使用方法及びそれらの薬用組成物。
〔式中、Ｒ１は水素、ハロ、低級アルキルなど、Ｒ２は
水素、低級アルキル、シクロアルキルなど、Ｒ３は水
素、低級アルキル又はフェニル、Ｘは水素、ニトロ、ハ
ロ、低級アルキルなど、−Ｙ−は単環式もしくは二環
式、置換もしくは未置換の炭素環系又は複素環系の残り
の原子を示す〕 【効果】 タンパク質分解酵素阻害剤として有用であ
る。
記式Ｉ で示される化合物、それらの製造方法、変性疾患の治療
におけるそれらの使用方法及びそれらの薬用組成物。
〔式中、Ｒ１は水素、ハロ、低級アルキルなど、Ｒ２は
水素、低級アルキル、シクロアルキルなど、Ｒ３は水
素、低級アルキル又はフェニル、Ｘは水素、ニトロ、ハ
ロ、低級アルキルなど、−Ｙ−は単環式もしくは二環
式、置換もしくは未置換の炭素環系又は複素環系の残り
の原子を示す〕 【効果】 タンパク質分解酵素阻害剤として有用であ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、タンパク質分解酵素の
酵素活性を阻害するサッカリン誘導体類、それらの製造
方法、変性疾患の治療におけるそれらの使用方法及びそ
れらの薬用組成物に関する。
酵素活性を阻害するサッカリン誘導体類、それらの製造
方法、変性疾患の治療におけるそれらの使用方法及びそ
れらの薬用組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】タンパク質分解酵素の阻害剤類は、タン
パク質分解が実質的な要因である変性疾患、例えば、気
腫、リウマチ様関節炎及び膵炎の治療に有用である。セ
リンプロテアーゼ類が、タンパク質分解酵素の最も広範
に分類されたクラスである。或るセリンプロテアーゼ類
は、それらの基質特異性に基づいてキモトリプシン様も
しくはエラスターゼ様として特徴づけられる。通常、キ
モトリプシン及びキモトリプシン様酵素は、カルボニル
側のアミノ酸がＴｒｐ，Ｔｙｒ，Ｐｈｅ，Ｍｅｔ，Ｌｅ
ｕ又は芳香族もしくは巨大アルキル側鎖を含有する別の
アミノ酸である側で、タンパク質におけるペプチド結合
を開裂する。通常エラスターゼ及びエラスターゼ様酵素
は、結合のカルボニル側のアミノ酸残基がＡｌａ，Ｖａ
ｌ，Ｓｅｒ，Ｌｅｕ又は別の小さなアミノ酸である側
で、ペプチド結合を開裂する。キモトリプシン様及びエ
ラスターゼ様の両酵素が、高等生物中の白血球、肥満細
胞及び膵液に見い出され、そして多種多様な細菌、酵母
及び寄生体により分泌される。
パク質分解が実質的な要因である変性疾患、例えば、気
腫、リウマチ様関節炎及び膵炎の治療に有用である。セ
リンプロテアーゼ類が、タンパク質分解酵素の最も広範
に分類されたクラスである。或るセリンプロテアーゼ類
は、それらの基質特異性に基づいてキモトリプシン様も
しくはエラスターゼ様として特徴づけられる。通常、キ
モトリプシン及びキモトリプシン様酵素は、カルボニル
側のアミノ酸がＴｒｐ，Ｔｙｒ，Ｐｈｅ，Ｍｅｔ，Ｌｅ
ｕ又は芳香族もしくは巨大アルキル側鎖を含有する別の
アミノ酸である側で、タンパク質におけるペプチド結合
を開裂する。通常エラスターゼ及びエラスターゼ様酵素
は、結合のカルボニル側のアミノ酸残基がＡｌａ，Ｖａ
ｌ，Ｓｅｒ，Ｌｅｕ又は別の小さなアミノ酸である側
で、ペプチド結合を開裂する。キモトリプシン様及びエ
ラスターゼ様の両酵素が、高等生物中の白血球、肥満細
胞及び膵液に見い出され、そして多種多様な細菌、酵母
及び寄生体により分泌される。
【０００３】１９９０年１１月１５日に発行されたＤｕ
ｎｌａｐ他、ＰＣＴ出願ＷＯ９０／１３５４９は、タン
パク質分解酵素阻害剤として有用な一連の２−置換サッ
カリン誘導体類を記載する。
ｎｌａｐ他、ＰＣＴ出願ＷＯ９０／１３５４９は、タン
パク質分解酵素阻害剤として有用な一連の２−置換サッ
カリン誘導体類を記載する。
【０００４】
【具体的な態様】物質態様の第一組成物における本発明
は、次式で示される化合物又は化合物が塩基性官能基を
有する場合には薬用条件に合ったそれらの酸付加塩もし
くは化合物が酸性官能基を有する場合には薬用条件に合
ったそれらの塩基付加塩である。
は、次式で示される化合物又は化合物が塩基性官能基を
有する場合には薬用条件に合ったそれらの酸付加塩もし
くは化合物が酸性官能基を有する場合には薬用条件に合
ったそれらの塩基付加塩である。
【０００５】
【化７】
【０００６】上式中、Ｒ1 は、水素、ハロ、低級アルキ
ル、ペルフルオロ低級アルキル、ペルクロロ低級アルキ
ル、低級アルケニル、低級アルキニル、シアノ、アミ
ノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級
アルコキシ、ベンジルオキシ、低級アルコキシカルボニ
ルもしくはフェニルであり、Ｒ2 は、５−、６−及び７
−位のいずれかもしくはすべての１〜３個の置換基であ
り、かつ水素、低級アルキル、シクロアルキル、アミノ
低級アルキル、低級アルキルアミノ低級アルキル、ジ低
級アルキルアミノ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキ
ル、低級アルコキシ低級アルキル、ペルフルオロ低級ア
ルキル、ペルクロロ低級アルキル、ホルミル、シアノ、
カルボキシ、アミノカルボニル、Ｒ−オキシカルボニ
ル、Ｂ＝Ｎ、１−低級アルキル−２−ピロリル、低級ア
ルキルスルホニルアミノ、ペルフルオロ低級アルキルス
ルホニルアミノ、ペルクロロ低級アルキルスルホニルア
ミノ、ニトロ、ヒドロキシ、Ｒ−カルボニルオキシ、低
級アルコキシ、シクロアルコキシ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコ
キシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、ポリヒドロキシ低級
アルコキシもしくはそれらのアセタール又はケタール、
低級アルコキシ低級アルコキシ、ポリ低級アルコキシ低
級アルコキシ、ヒドロキシポリ低級アルキレンオキシ、
低級アルコキシポリ低級アルキレンオキシ、Ｂ＝Ｎ−カ
ルボニルオキシ、カルボキシ低級アルコキシ、Ｒ−オキ
シカルボニル低級アルコキシ、メチレンジオキシ、Ｒ−
チオ、Ｒ−スルフィニル、Ｒ−スルホニル、ペルフルオ
ロ低級アルキルスルホニル、ペルクロロ低級アルキルス
ルホニル、アミノスルホニル、低級アルキルアミノスル
ホニル、ジ低級アルキルアミノスルホニル並びにハロ
（ここで、Ｒは、低級アルキル、フェニルもしくはフェ
ニル低級アルキルであり、フェニルは、低級アルキル、
Ｂ＝Ｎ−カルボニル、Ｂ＝Ｎ、低級アルコキシ、Ｂ＝Ｎ
−低級アルコキシ及びハロから成る群より選ばれる１〜
３個の置換基を担持でき、そしてＢ＝Ｎは、アミノ、低
級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、カルボキシ
低級アルキルアミノ、１−ピロリジニル、１−ピペリジ
ニル、１−アゼチジニル、４−モルホリニル、１−ピペ
ラジニル、４−低級アルキル−１−ピペラジニル、４−
ベンジル−１−ピペラジニルもしくは１−イミダゾリル
である）から成る群より選ばれ、Ｒ3 は、水素、低級ア
ルキルもしくはフェニルであり、Ｘは、水素、ニトロ、
ハロ、低級アルキル、ペルフルオロ低級アルキル、ペル
クロロ低級アルキル、フェニル、フェニル低級アルキ
ル、フェニルカルボニル、ピリジル低級アルキル、ホル
ミル、低級アルカノイル、カルボキシ、低級アルコキシ
カルボニル、アミノカルボニル、低級アルキルアミノカ
ルボニル、ジ低級アルキルアミノカルボニル、シアノ、
Ｂ＝Ｎ、Ｂ＝Ｎ−低級アルキル、Ｂ＝Ｎ−低級アルカノ
イル、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシカルボニル、ヒドロキ
シ、低級アルコキシ、フェニルオキシ、Ｂ＝Ｎ−低級ア
ルコキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、低級アル
キルスルホニル、フェニルスルホニルもしくはＢ＝Ｎ−
スルホニル（ここで、フェニルは、未置換であるか又は
低級アルキル、低級アルコキシ及びハロから成る群より
選ばれる１〜３個の置換基を担持でき、そしてＢ＝Ｎ
は、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミ
ノ、カルボキシ低級アルキルアミノ、１−ピロリジニ
ル、１−ピペリジニル、１−アゼチジニル、４−モルホ
リニル、１−ピペラジニル、４−低級アルキル−１−ピ
ペラジニル、４−ベンジル−１−ピペラジニルもしくは
１−イミダゾリルである）であり、そして−Ｙ−は、単
環式もしくは二環式、置換もしくは未置換の炭素環系又
は複素環系の残りの原子である。
ル、ペルフルオロ低級アルキル、ペルクロロ低級アルキ
ル、低級アルケニル、低級アルキニル、シアノ、アミ
ノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級
アルコキシ、ベンジルオキシ、低級アルコキシカルボニ
ルもしくはフェニルであり、Ｒ2 は、５−、６−及び７
−位のいずれかもしくはすべての１〜３個の置換基であ
り、かつ水素、低級アルキル、シクロアルキル、アミノ
低級アルキル、低級アルキルアミノ低級アルキル、ジ低
級アルキルアミノ低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキ
ル、低級アルコキシ低級アルキル、ペルフルオロ低級ア
ルキル、ペルクロロ低級アルキル、ホルミル、シアノ、
カルボキシ、アミノカルボニル、Ｒ−オキシカルボニ
ル、Ｂ＝Ｎ、１−低級アルキル−２−ピロリル、低級ア
ルキルスルホニルアミノ、ペルフルオロ低級アルキルス
ルホニルアミノ、ペルクロロ低級アルキルスルホニルア
ミノ、ニトロ、ヒドロキシ、Ｒ−カルボニルオキシ、低
級アルコキシ、シクロアルコキシ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコ
キシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、ポリヒドロキシ低級
アルコキシもしくはそれらのアセタール又はケタール、
低級アルコキシ低級アルコキシ、ポリ低級アルコキシ低
級アルコキシ、ヒドロキシポリ低級アルキレンオキシ、
低級アルコキシポリ低級アルキレンオキシ、Ｂ＝Ｎ−カ
ルボニルオキシ、カルボキシ低級アルコキシ、Ｒ−オキ
シカルボニル低級アルコキシ、メチレンジオキシ、Ｒ−
チオ、Ｒ−スルフィニル、Ｒ−スルホニル、ペルフルオ
ロ低級アルキルスルホニル、ペルクロロ低級アルキルス
ルホニル、アミノスルホニル、低級アルキルアミノスル
ホニル、ジ低級アルキルアミノスルホニル並びにハロ
（ここで、Ｒは、低級アルキル、フェニルもしくはフェ
ニル低級アルキルであり、フェニルは、低級アルキル、
Ｂ＝Ｎ−カルボニル、Ｂ＝Ｎ、低級アルコキシ、Ｂ＝Ｎ
−低級アルコキシ及びハロから成る群より選ばれる１〜
３個の置換基を担持でき、そしてＢ＝Ｎは、アミノ、低
級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、カルボキシ
低級アルキルアミノ、１−ピロリジニル、１−ピペリジ
ニル、１−アゼチジニル、４−モルホリニル、１−ピペ
ラジニル、４−低級アルキル−１−ピペラジニル、４−
ベンジル−１−ピペラジニルもしくは１−イミダゾリル
である）から成る群より選ばれ、Ｒ3 は、水素、低級ア
ルキルもしくはフェニルであり、Ｘは、水素、ニトロ、
ハロ、低級アルキル、ペルフルオロ低級アルキル、ペル
クロロ低級アルキル、フェニル、フェニル低級アルキ
ル、フェニルカルボニル、ピリジル低級アルキル、ホル
ミル、低級アルカノイル、カルボキシ、低級アルコキシ
カルボニル、アミノカルボニル、低級アルキルアミノカ
ルボニル、ジ低級アルキルアミノカルボニル、シアノ、
Ｂ＝Ｎ、Ｂ＝Ｎ−低級アルキル、Ｂ＝Ｎ−低級アルカノ
イル、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシカルボニル、ヒドロキ
シ、低級アルコキシ、フェニルオキシ、Ｂ＝Ｎ−低級ア
ルコキシ、低級アルキルチオ、フェニルチオ、低級アル
キルスルホニル、フェニルスルホニルもしくはＢ＝Ｎ−
スルホニル（ここで、フェニルは、未置換であるか又は
低級アルキル、低級アルコキシ及びハロから成る群より
選ばれる１〜３個の置換基を担持でき、そしてＢ＝Ｎ
は、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミ
ノ、カルボキシ低級アルキルアミノ、１−ピロリジニ
ル、１−ピペリジニル、１−アゼチジニル、４−モルホ
リニル、１−ピペラジニル、４−低級アルキル−１−ピ
ペラジニル、４−ベンジル−１−ピペラジニルもしくは
１−イミダゾリルである）であり、そして−Ｙ−は、単
環式もしくは二環式、置換もしくは未置換の炭素環系又
は複素環系の残りの原子である。
【０００７】式Ｉの化合物類は、タンパク質分解酵素の
酵素活性を阻害し、そして変性疾患の治療に有用であ
る。
酵素活性を阻害し、そして変性疾患の治療に有用であ
る。
【０００８】物質態様の好ましい組成物における本発明
は、−Ｙ−が、−（ＣＨ2 ）m −，−Ｃ（＝Ｏ）−，−
（ＣＨ2 ）m −Ｏ−，−ＣＨＲ−Ｏ−，−ＣＲ2 −Ｏ
−，−Ｃ〔（ＣＨ2 ）n 〕−Ｏ−，−Ｃ〔ＣＨ2 ＣＨ2
Ｎ（Ｒ）ＣＨ2 ＣＨ2 〕−Ｏ−，−（ＣＨ2 ）m −Ｎ
（Ｒ′）−，−ＣＨＲ−Ｎ（Ｒ′）−，−ＣＲ2 −Ｎ
（Ｒ′）−，−Ｃ（Ｒ′）＝Ｃ（Ｒ′）−Ｏ−，−Ｃ
（Ｒ′）＝Ｃ（Ｒ′）−Ｎ（Ｒ′）−，−Ｃ（＝Ｏ）−
Ｃ（Ｒ″）＝Ｃ（Ｒ″）−，−Ｃ（Ｚ′）＝Ｃ（Ｚ′）
−，−Ｃ（Ｚ′）＝Ｃ（Ｚ′）−Ｏ−，−Ｃ（Ｚ′）＝
Ｃ（Ｚ′）−Ｎ（Ｒ′）−，−Ｎ（Ｚ″）−Ｃ（Ｚ″）
＝Ｎ−もしくは−Ｎ＝Ｃ（Ｚ″）−Ｎ（Ｚ″）−（式
中、ｍは１，２，３もしくは４であり、ｎは３，４もし
くは５であり、Ｒは同一もしくは異なる低級アルキル、
フェニルもしくはフェニル低級アルキルであり、Ｒ′は
ＨもしくはＲであり、Ｒ″はＨもしくはＲであるか又は
これらのＲ″基が結合している炭素原子と合わさった
Ｒ″基はフラノであり、これらのＺ′基が結合している
炭素原子と合わさったＺ′基はベンゾ、フラノ、ピリ
ド、ピリミジノもしくはピリダジノであり、そしてこれ
らのＺ″基が結合している炭素原子もしくは窒素原子と
合わさったＺ″基はピリド、ピリミジノもしくはピリダ
ジノであり、ここでフェニル、ベンゾ、フラノ、ピリ
ド、ピリミジノもしくはピリダジノは、低級アルキル、
Ｂ＝Ｎ−カルボニル、Ｂ＝Ｎ、低級アルコキシ、Ｂ＝Ｎ
−低級アルコキシ及びハロから成る群より選ばれる１〜
３個の置換基を担持でき、ここでＢ＝Ｎは、アミノ、低
級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、（カルボキ
シ低級アルキル）アミノ、１−ピロリジニル、１−ピペ
リジニル、１−アゼチジニル、４−モルホリニル、１−
ピペラジニル、４−低級アルキル−１−ピペラジニル、
４−ベンジル−１−ピペラジニルもしくは１−イミダゾ
リルである）である式Ｉの化合物である。
は、−Ｙ−が、−（ＣＨ2 ）m −，−Ｃ（＝Ｏ）−，−
（ＣＨ2 ）m −Ｏ−，−ＣＨＲ−Ｏ−，−ＣＲ2 −Ｏ
−，−Ｃ〔（ＣＨ2 ）n 〕−Ｏ−，−Ｃ〔ＣＨ2 ＣＨ2
Ｎ（Ｒ）ＣＨ2 ＣＨ2 〕−Ｏ−，−（ＣＨ2 ）m −Ｎ
（Ｒ′）−，−ＣＨＲ−Ｎ（Ｒ′）−，−ＣＲ2 −Ｎ
（Ｒ′）−，−Ｃ（Ｒ′）＝Ｃ（Ｒ′）−Ｏ−，−Ｃ
（Ｒ′）＝Ｃ（Ｒ′）−Ｎ（Ｒ′）−，−Ｃ（＝Ｏ）−
Ｃ（Ｒ″）＝Ｃ（Ｒ″）−，−Ｃ（Ｚ′）＝Ｃ（Ｚ′）
−，−Ｃ（Ｚ′）＝Ｃ（Ｚ′）−Ｏ−，−Ｃ（Ｚ′）＝
Ｃ（Ｚ′）−Ｎ（Ｒ′）−，−Ｎ（Ｚ″）−Ｃ（Ｚ″）
＝Ｎ−もしくは−Ｎ＝Ｃ（Ｚ″）−Ｎ（Ｚ″）−（式
中、ｍは１，２，３もしくは４であり、ｎは３，４もし
くは５であり、Ｒは同一もしくは異なる低級アルキル、
フェニルもしくはフェニル低級アルキルであり、Ｒ′は
ＨもしくはＲであり、Ｒ″はＨもしくはＲであるか又は
これらのＲ″基が結合している炭素原子と合わさった
Ｒ″基はフラノであり、これらのＺ′基が結合している
炭素原子と合わさったＺ′基はベンゾ、フラノ、ピリ
ド、ピリミジノもしくはピリダジノであり、そしてこれ
らのＺ″基が結合している炭素原子もしくは窒素原子と
合わさったＺ″基はピリド、ピリミジノもしくはピリダ
ジノであり、ここでフェニル、ベンゾ、フラノ、ピリ
ド、ピリミジノもしくはピリダジノは、低級アルキル、
Ｂ＝Ｎ−カルボニル、Ｂ＝Ｎ、低級アルコキシ、Ｂ＝Ｎ
−低級アルコキシ及びハロから成る群より選ばれる１〜
３個の置換基を担持でき、ここでＢ＝Ｎは、アミノ、低
級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、（カルボキ
シ低級アルキル）アミノ、１−ピロリジニル、１−ピペ
リジニル、１−アゼチジニル、４−モルホリニル、１−
ピペラジニル、４−低級アルキル−１−ピペラジニル、
４−ベンジル−１−ピペラジニルもしくは１−イミダゾ
リルである）である式Ｉの化合物である。
【０００９】第一の方法態様における本発明は、次式
【００１０】
【化８】
【００１１】（上式中、Ｑはクロロもしくはブロモであ
る）で示される対応する化合物を、塩基の存在下次式
る）で示される対応する化合物を、塩基の存在下次式
【００１２】
【化９】
【００１３】で示される対応する化合物と、又は式III
の化合物の対応する塩基性塩と縮合せしめる工程を含ん
で成る式Ｉの化合物の製造方法である。
の化合物の対応する塩基性塩と縮合せしめる工程を含ん
で成る式Ｉの化合物の製造方法である。
【００１４】第二の方法態様における本発明は、患者に
タンパク質分解酵素阻害量の式Ｉの化合物を投与するこ
とを含んで成る変性疾患を有する患者の治療方法であ
る。物質態様の第二の組成物における本発明は、薬用キ
ャリアー中にタンパク質分解酵素阻害濃度の式Ｉの化合
物を含んで成る変性疾患の治療用薬用組成物である。
タンパク質分解酵素阻害量の式Ｉの化合物を投与するこ
とを含んで成る変性疾患を有する患者の治療方法であ
る。物質態様の第二の組成物における本発明は、薬用キ
ャリアー中にタンパク質分解酵素阻害濃度の式Ｉの化合
物を含んで成る変性疾患の治療用薬用組成物である。
【００１５】また、次式で示される式Ｉの化合物の一部
は、式−Ｚで示されることが以下に記載される。
は、式−Ｚで示されることが以下に記載される。
【００１６】
【化１０】
【００１７】またそれに応じて式III の化合物が、式Ｈ
−Ｏ−Ｚで示されることが以下に記載される。
−Ｏ−Ｚで示されることが以下に記載される。
【００１８】サッカリンは１，２−ベンゾイソチアゾー
ル−（１Ｈ）−３−オン−１，１−ジオキシドであり、
従って２−〔Ｚ−Ｏ−ＣＨ（Ｒ3 ）〕−４−Ｒ1 −
（５，６及び／又は７）−Ｒ2 −１，２−ベンゾイソチ
アゾール−（１Ｈ）−３−オン−１，１−ジオキシドで
ある式Ｉの化合物類は、２−〔Ｚ−Ｏ−ＣＨ（Ｒ3 ）〕
−４−Ｒ1 −（５，６及び／又は７）−Ｒ2 −サッカリ
ン類である。式Ｉ〜III の化合物において「対応する」
の語は、或る式中で定義された可変記号が別の式におけ
る定義と同様の定義を有することを意味する。
ル−（１Ｈ）−３−オン−１，１−ジオキシドであり、
従って２−〔Ｚ−Ｏ−ＣＨ（Ｒ3 ）〕−４−Ｒ1 −
（５，６及び／又は７）−Ｒ2 −１，２−ベンゾイソチ
アゾール−（１Ｈ）−３−オン−１，１−ジオキシドで
ある式Ｉの化合物類は、２−〔Ｚ−Ｏ−ＣＨ（Ｒ3 ）〕
−４−Ｒ1 −（５，６及び／又は７）−Ｒ2 −サッカリ
ン類である。式Ｉ〜III の化合物において「対応する」
の語は、或る式中で定義された可変記号が別の式におけ
る定義と同様の定義を有することを意味する。
【００１９】低級アルキル、ペルフルオロ低級アルキ
ル、ペルクロロ低級アルキル、低級アルコキシカルボニ
ル、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級
アルコキシ、低級アルキルアミノ低級アルキルの低級ア
ルキルアミノ部分、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル
の低級アルキルアミノ部分、低級アルコキシ低級アルキ
ルの低級アルコキシ部分、カルボキシ低級アルキルアミ
ノ、４−低級アルキル−１−ピペラジニル、１−低級ア
ルキル−２−ピロリル、低級アルキルスルホニルアミ
ノ、ペルフルオロ低級アルキルスルホニルアミノ、ペル
クロロ低級アルキルスルホニルアミノ、低級アルコキシ
低級アルコキシの第一低級アルコキシ部分、ポリ低級ア
ルコキシ低級アルコキシの第一低級アルコキシ部分、低
級アルコキシポリ低級アルキレンオキシの低級アルコキ
シ部分、Ｒ−オキシカルボニル低級アルコキシ、ペルフ
ルオロ低級アルキルスルホニル、ペルクロロ低級アルキ
ルスルホニル、低級アルキルアミノスルホニル、ジ低級
アルキルアミノスルホニル、４−低級アルキル−１−ピ
ペラジニル、フェニル低級アルキル、ピリジル低級アル
キル、低級アルキルアミノカルボニル、ジ低級アルキル
アミノカルボニル、低級アルキルチオ及びカルボキシ低
級アルキルアミノでは、それらの炭素鎖部分が１〜１０
個の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有し、
かつ有枝鎖又は非有枝鎖である。低級アルケニル、低級
アルキニル、アミノ低級アルキル、低級アルキルアミノ
低級アルキルの低級アルキル部分、ジ低級アルキルアミ
ノ低級アルキルの低級アルキル部分、ヒドロキシ低級ア
ルキル、低級アルコキシ低級アルキルの低級アルキル部
分、Ｎ＝Ｂ−低級アルコキシの低級アルコキシ部分、ヒ
ドロキシ低級アルコキシ、ポリヒドロキシ低級アルコキ
シ、低級アルコキシ低級アルコキシの第二低級アルコキ
シ部分、ポリ低級アルコキシ低級アルコキシの第二低級
アルコキシ部分、ヒドロキシポリ低級アルキレンオキシ
のアルキレンオキシ部分、低級アルコキシポリ低級アル
キレンオキシのアルキレンオキシ部分、低級アルカノイ
ル、Ｂ＝Ｎ−低級アルキル、Ｂ＝Ｎ−低級アルカノイル
及びＢ＝Ｎ−低級アルコキシカルボニルでは、それらの
炭素鎖部分は２〜１０個の炭素原子、好ましくは２〜４
個の炭素原子を有し、かつ有枝鎖もしくは非有枝鎖であ
る。好ましくはアルキレンは１，２−アルキレンであ
る。シクロアルキル及びシクロアルコキシは、３〜６個
の環炭素原子を有し、そして１つ以上の低級アルキルで
置換できる。ハロは、フルオロ、クロロ、ブロモもしく
はヨードである。
ル、ペルクロロ低級アルキル、低級アルコキシカルボニ
ル、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、低級
アルコキシ、低級アルキルアミノ低級アルキルの低級ア
ルキルアミノ部分、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル
の低級アルキルアミノ部分、低級アルコキシ低級アルキ
ルの低級アルコキシ部分、カルボキシ低級アルキルアミ
ノ、４−低級アルキル−１−ピペラジニル、１−低級ア
ルキル−２−ピロリル、低級アルキルスルホニルアミ
ノ、ペルフルオロ低級アルキルスルホニルアミノ、ペル
クロロ低級アルキルスルホニルアミノ、低級アルコキシ
低級アルコキシの第一低級アルコキシ部分、ポリ低級ア
ルコキシ低級アルコキシの第一低級アルコキシ部分、低
級アルコキシポリ低級アルキレンオキシの低級アルコキ
シ部分、Ｒ−オキシカルボニル低級アルコキシ、ペルフ
ルオロ低級アルキルスルホニル、ペルクロロ低級アルキ
ルスルホニル、低級アルキルアミノスルホニル、ジ低級
アルキルアミノスルホニル、４−低級アルキル−１−ピ
ペラジニル、フェニル低級アルキル、ピリジル低級アル
キル、低級アルキルアミノカルボニル、ジ低級アルキル
アミノカルボニル、低級アルキルチオ及びカルボキシ低
級アルキルアミノでは、それらの炭素鎖部分が１〜１０
個の炭素原子、好ましくは１〜４個の炭素原子を有し、
かつ有枝鎖又は非有枝鎖である。低級アルケニル、低級
アルキニル、アミノ低級アルキル、低級アルキルアミノ
低級アルキルの低級アルキル部分、ジ低級アルキルアミ
ノ低級アルキルの低級アルキル部分、ヒドロキシ低級ア
ルキル、低級アルコキシ低級アルキルの低級アルキル部
分、Ｎ＝Ｂ−低級アルコキシの低級アルコキシ部分、ヒ
ドロキシ低級アルコキシ、ポリヒドロキシ低級アルコキ
シ、低級アルコキシ低級アルコキシの第二低級アルコキ
シ部分、ポリ低級アルコキシ低級アルコキシの第二低級
アルコキシ部分、ヒドロキシポリ低級アルキレンオキシ
のアルキレンオキシ部分、低級アルコキシポリ低級アル
キレンオキシのアルキレンオキシ部分、低級アルカノイ
ル、Ｂ＝Ｎ−低級アルキル、Ｂ＝Ｎ−低級アルカノイル
及びＢ＝Ｎ−低級アルコキシカルボニルでは、それらの
炭素鎖部分は２〜１０個の炭素原子、好ましくは２〜４
個の炭素原子を有し、かつ有枝鎖もしくは非有枝鎖であ
る。好ましくはアルキレンは１，２−アルキレンであ
る。シクロアルキル及びシクロアルコキシは、３〜６個
の環炭素原子を有し、そして１つ以上の低級アルキルで
置換できる。ハロは、フルオロ、クロロ、ブロモもしく
はヨードである。
【００２０】好ましくはＲ1 が、炭素原子数２〜４個の
第一級もしくは第二級アルキル又は低級アルコキシであ
る。好ましくはＲ2 が、ヒドロキシ、低級アルコキシ、
シクロアルコキシ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシ、ヒドロキ
シ低級アルコキシ、ポリヒドロキシ低級アルコキシもし
くはそれらのアセタール又はケタール、低級アルコキシ
低級アルコキシ、ポリ低級アルコキシ低級アルコキシ、
ヒドロキシポリ低級アルキレンオキシ、低級アルコキシ
ポリ低級アルキレンオキシ、Ｂ＝Ｎ−カルボニルオキ
シ、カルボキシ低級アルコキシ、Ｒ−オキシカルボニル
低級アルコキシ、メチレンジオキシもしくはジ低級アル
キルホスホニルオキシであり、そしてメチレンジオキシ
を除いて、好ましくは６位に配置される。メチレンジオ
キシは、５及び６もしくは６及び７位に配置できる。
第一級もしくは第二級アルキル又は低級アルコキシであ
る。好ましくはＲ2 が、ヒドロキシ、低級アルコキシ、
シクロアルコキシ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシ、ヒドロキ
シ低級アルコキシ、ポリヒドロキシ低級アルコキシもし
くはそれらのアセタール又はケタール、低級アルコキシ
低級アルコキシ、ポリ低級アルコキシ低級アルコキシ、
ヒドロキシポリ低級アルキレンオキシ、低級アルコキシ
ポリ低級アルキレンオキシ、Ｂ＝Ｎ−カルボニルオキ
シ、カルボキシ低級アルコキシ、Ｒ−オキシカルボニル
低級アルコキシ、メチレンジオキシもしくはジ低級アル
キルホスホニルオキシであり、そしてメチレンジオキシ
を除いて、好ましくは６位に配置される。メチレンジオ
キシは、５及び６もしくは６及び７位に配置できる。
【００２１】塩基の存在下に、対応する式IIの化合物及
び対応する式III の化合物からの式Ｉの化合物の製造の
実施に際して、塩基は、反応条件下、それ自身が反応体
ではなく、そして好ましくはアルカリ金属炭酸塩、アル
カリ金属アルコキシド、トリ低級アルキルアミン、タリ
ウム低級アルコキシド、１，８−ジアザビシクロ〔５．
４．０〕ウンデカ−７−エンもしくは７−メチル−１，
５，７−トリアザビシクロ〔４．４．０〕デカ−５−エ
ンである。反応条件下、塩基は、式III の化合物の塩基
性塩の形状であってもよく、次いでそれは式IIの化合物
と反応する。また、式III の化合物の塩基性塩は、別個
に製造され次いで式IIの化合物と縮合でき、そして好ま
しくはそれらのアルカリ金属、特にセシウムもしくはタ
リウム塩である。縮合は、反応条件下で不活性な有機溶
剤もしくは有機溶剤の混合物、例えば、アセトン、メチ
ルエチルケトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン、ジクロロメタン、キシレン、トルエン
もしくは低級アルカノール又はそれらの混合物中、周囲
温度から溶剤もしくは溶剤混合物の沸点までの範囲内の
温度で実施される。
び対応する式III の化合物からの式Ｉの化合物の製造の
実施に際して、塩基は、反応条件下、それ自身が反応体
ではなく、そして好ましくはアルカリ金属炭酸塩、アル
カリ金属アルコキシド、トリ低級アルキルアミン、タリ
ウム低級アルコキシド、１，８−ジアザビシクロ〔５．
４．０〕ウンデカ−７−エンもしくは７−メチル−１，
５，７−トリアザビシクロ〔４．４．０〕デカ−５−エ
ンである。反応条件下、塩基は、式III の化合物の塩基
性塩の形状であってもよく、次いでそれは式IIの化合物
と反応する。また、式III の化合物の塩基性塩は、別個
に製造され次いで式IIの化合物と縮合でき、そして好ま
しくはそれらのアルカリ金属、特にセシウムもしくはタ
リウム塩である。縮合は、反応条件下で不活性な有機溶
剤もしくは有機溶剤の混合物、例えば、アセトン、メチ
ルエチルケトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メ
チルピロリドン、ジクロロメタン、キシレン、トルエン
もしくは低級アルカノール又はそれらの混合物中、周囲
温度から溶剤もしくは溶剤混合物の沸点までの範囲内の
温度で実施される。
【００２２】式II及びIII の化合物は既知であり、又は
既知方法もしくは下記方法によって製造される。Ｒ3 が
水素である式IIの化合物は、下記工程によって製造でき
る。対応する低級アルキル２−アミノ−３，４−もしく
は５−Ｒ2 −６−Ｒ1 −ベンゾエートエステルをジアゾ
化し、得られた低級アルキル３，４もしくは５−Ｒ2 −
６−Ｒ1−ベンゾエートエステル２−ジアゾニウム塩を
二酸化硫黄及び塩化銅（Ｉ）でクロロスルホニル化し、
そして得られた低級アルキル２−クロロスルホニル−
３，４もしくは５−Ｒ2 −６−Ｒ1 −ベンゾエートエス
テルをアンモニアで環化して、次式
既知方法もしくは下記方法によって製造される。Ｒ3 が
水素である式IIの化合物は、下記工程によって製造でき
る。対応する低級アルキル２−アミノ−３，４−もしく
は５−Ｒ2 −６−Ｒ1 −ベンゾエートエステルをジアゾ
化し、得られた低級アルキル３，４もしくは５−Ｒ2 −
６−Ｒ1−ベンゾエートエステル２−ジアゾニウム塩を
二酸化硫黄及び塩化銅（Ｉ）でクロロスルホニル化し、
そして得られた低級アルキル２−クロロスルホニル−
３，４もしくは５−Ｒ2 −６−Ｒ1 −ベンゾエートエス
テルをアンモニアで環化して、次式
【００２３】
【化１１】
【００２４】で示される対応する化合物を生成させ、そ
れをホルムアルデヒドでヒドロキシメチル化すると、対
応する２−ヒドロキシメチル−４−Ｒ1 −（５，６もし
くは７）−Ｒ2 −サッカリンが得られ、例えば、塩化チ
オニル、臭化チオニル、三塩化リン又は三臭化リンを用
いて、それらのヒドロキシルを塩化物もしくは臭化物で
置換すると、対応する式IIの化合物が得られる。
れをホルムアルデヒドでヒドロキシメチル化すると、対
応する２−ヒドロキシメチル−４−Ｒ1 −（５，６もし
くは７）−Ｒ2 −サッカリンが得られ、例えば、塩化チ
オニル、臭化チオニル、三塩化リン又は三臭化リンを用
いて、それらのヒドロキシルを塩化物もしくは臭化物で
置換すると、対応する式IIの化合物が得られる。
【００２５】また、Ｒ3 が水素でありかつＱがクロロで
ある式IIの化合物は、ルイス酸、例えば、塩化スズ（I
V）の存在下におけるホルムアルデヒド及びクロロトリ
メチルシランでのクロロメチル化により、対応する式IV
の化合物より単一工程で製造できる。
ある式IIの化合物は、ルイス酸、例えば、塩化スズ（I
V）の存在下におけるホルムアルデヒド及びクロロトリ
メチルシランでのクロロメチル化により、対応する式IV
の化合物より単一工程で製造できる。
【００２６】Ｒ3 が低級アルキルである式IIの化合物
は、四塩化二ナトリウムパラジウムの存在下、対応する
式IVの化合物を対応する低級アルカン酸の置換もしくは
未置換ビニルエステルでビニル化し、次いで得られた２
−（置換もしくは未置換ビニル）−４−Ｒ1 −（５，６
もしくは７）−Ｒ2 −サッカリンを塩化水素で処理する
ことにより製造できる。例えば、未置換ビニルアセテー
トを使用すると、Ｒ3 がメチルである対応する式IIの化
合物が得られる。
は、四塩化二ナトリウムパラジウムの存在下、対応する
式IVの化合物を対応する低級アルカン酸の置換もしくは
未置換ビニルエステルでビニル化し、次いで得られた２
−（置換もしくは未置換ビニル）−４−Ｒ1 −（５，６
もしくは７）−Ｒ2 −サッカリンを塩化水素で処理する
ことにより製造できる。例えば、未置換ビニルアセテー
トを使用すると、Ｒ3 がメチルである対応する式IIの化
合物が得られる。
【００２７】Ｒ3 が水素もしくはフェニルである式IIの
化合物は、対応する式IVの化合物もしくはそれらの塩基
性塩を、対応するフェニルＲ3 −クロロメチルスルフィ
ドでフェニルチオ−Ｒ3 −メチル化して対応する２−
（フェニルチオ−Ｒ3 −メチル）−４−Ｒ1 −（５，６
もしくは７）−Ｒ2 −サッカリンを生成せしめ、例え
ば、塩化スルフリルもしくは臭化スルフリルを用いてそ
こからフェニルチオをクロロもしくはブロモで置換する
ことにより製造できる。
化合物は、対応する式IVの化合物もしくはそれらの塩基
性塩を、対応するフェニルＲ3 −クロロメチルスルフィ
ドでフェニルチオ−Ｒ3 −メチル化して対応する２−
（フェニルチオ−Ｒ3 −メチル）−４−Ｒ1 −（５，６
もしくは７）−Ｒ2 −サッカリンを生成せしめ、例え
ば、塩化スルフリルもしくは臭化スルフリルを用いてそ
こからフェニルチオをクロロもしくはブロモで置換する
ことにより製造できる。
【００２８】また、式IVの化合物は、対応する２−Ｒ1
−３，４もしくは５−Ｒ2 −Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベ
ンズアミドを低級アルキルリチウムでリチウム化し、得
られた２−Ｒ1 −３，４もしくは５−Ｒ2 −６−リチオ
−Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベンズアミドを、二酸化硫
黄、続いてヒドロキシルアミンＯ−スルホン酸もしくは
塩化スルフリル続いてアンモニアでアミノスルホニル化
し、そして得られた２−Ｒ1 −３，４もしくは５−Ｒ2
−６−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベン
ズアミドを還流性酢酸中で環化することにより製造でき
る。
−３，４もしくは５−Ｒ2 −Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベ
ンズアミドを低級アルキルリチウムでリチウム化し、得
られた２−Ｒ1 −３，４もしくは５−Ｒ2 −６−リチオ
−Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベンズアミドを、二酸化硫
黄、続いてヒドロキシルアミンＯ−スルホン酸もしくは
塩化スルフリル続いてアンモニアでアミノスルホニル化
し、そして得られた２−Ｒ1 −３，４もしくは５−Ｒ2
−６−アミノスルホニル−Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベン
ズアミドを還流性酢酸中で環化することにより製造でき
る。
【００２９】Ｒ1 が炭素原子数２〜４個の第一級もしく
は第二級アルキルである式IVの化合物は、対応するＲ1
がメチルである式IVの化合物を、不活性溶剤、例えば、
テトラヒドロフラン中２モル当量の低級アルキルリチウ
ムでリチウム化し、そして得られた４−リチオメチル−
５，６もしくは７−Ｒ2 −サッカリンを適当なアルキル
ハロゲン化物でアルキル化することにより製造できる。
両反応は、−８０℃〜−５０℃の範囲内の温度で実施さ
れる。Ｒ1 が炭素原子数２〜４個の第一級もしくは第二
級アルキルである上記２−Ｒ1 −３，４もしくは５−Ｒ
2 −Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベンズアミドは、対応する
２−メチル、エチルもしくはプロピル−３，４もしくは
５−Ｒ2 −Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベンズアミドを用い
て出発する同様のリチウム化−アルキル化連続反応によ
り製造できる。
は第二級アルキルである式IVの化合物は、対応するＲ1
がメチルである式IVの化合物を、不活性溶剤、例えば、
テトラヒドロフラン中２モル当量の低級アルキルリチウ
ムでリチウム化し、そして得られた４−リチオメチル−
５，６もしくは７−Ｒ2 −サッカリンを適当なアルキル
ハロゲン化物でアルキル化することにより製造できる。
両反応は、−８０℃〜−５０℃の範囲内の温度で実施さ
れる。Ｒ1 が炭素原子数２〜４個の第一級もしくは第二
級アルキルである上記２−Ｒ1 −３，４もしくは５−Ｒ
2 −Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベンズアミドは、対応する
２−メチル、エチルもしくはプロピル−３，４もしくは
５−Ｒ2 −Ｎ，Ｎ−ジ低級アルキルベンズアミドを用い
て出発する同様のリチウム化−アルキル化連続反応によ
り製造できる。
【００３０】また、Ｒ1 が炭素原子数２〜４個の第一級
もしくは第二級アルキルである式IVの化合物は、合成工
程中初期にＲ1 を導入することにより製造できる。Ｗｉ
ｎｋｌｅｒ他の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ，１０５ページ、１９８７；Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．
５４、４４９１ページ、１９８９）による適当なＲ1 −
カプレートの２−シクロヘキセノンへの共役付加及び得
られた銅エノレートのシアノギ酸メチルでのメトキシカ
ルボニル化は、対応する２−メトキシカルボニル−３−
Ｒ1 −シクロヘキサノンを与え、ベンジルチオール及び
酸性粘土（ａｃｉｄｉｃ ｃｌａｙ）でのそれのエノー
ルエーテル化は、対応する６−Ｒ1 −２−ベンジルチオ
−１−シクロヘキセンカルボン酸メチルエステル及び６
−Ｒ1 −２−ベンジルチオ−３−シクロヘキセンカルボ
ン酸メチルエステルの混合物を与え、ジクロロジシアノ
ベンゾキノンでのそれの芳香化は、対応する２−Ｒ1 −
６−ベンジルチオ安息香酸メチルエステルを与え、水性
酢酸中塩素でのそれの酸化−塩素化−脱ベンジル化は、
２−Ｒ1 −６−クロロスルホニル安息香酸メチルエステ
ルを与え、アンモニアでのそれの環化は、対応する式IV
の４−Ｒ1 −サッカリンを与える。
もしくは第二級アルキルである式IVの化合物は、合成工
程中初期にＲ1 を導入することにより製造できる。Ｗｉ
ｎｋｌｅｒ他の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔ
ｔｅｒｓ，１０５ページ、１９８７；Ｊｏｕｒｎａｌ
ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，ｖｏｌ．
５４、４４９１ページ、１９８９）による適当なＲ1 −
カプレートの２−シクロヘキセノンへの共役付加及び得
られた銅エノレートのシアノギ酸メチルでのメトキシカ
ルボニル化は、対応する２−メトキシカルボニル−３−
Ｒ1 −シクロヘキサノンを与え、ベンジルチオール及び
酸性粘土（ａｃｉｄｉｃ ｃｌａｙ）でのそれのエノー
ルエーテル化は、対応する６−Ｒ1 −２−ベンジルチオ
−１−シクロヘキセンカルボン酸メチルエステル及び６
−Ｒ1 −２−ベンジルチオ−３−シクロヘキセンカルボ
ン酸メチルエステルの混合物を与え、ジクロロジシアノ
ベンゾキノンでのそれの芳香化は、対応する２−Ｒ1 −
６−ベンジルチオ安息香酸メチルエステルを与え、水性
酢酸中塩素でのそれの酸化−塩素化−脱ベンジル化は、
２−Ｒ1 −６−クロロスルホニル安息香酸メチルエステ
ルを与え、アンモニアでのそれの環化は、対応する式IV
の４−Ｒ1 −サッカリンを与える。
【００３１】式IVの特定の化合物の製造は、それらの両
方の環を製造することを必要とする。例えば、Ｒ1 が低
級アルコキシでありかつＲ2 がヒドロキシである式IVの
化合物を製造するために、３，３−チオビスプロピオン
酸を塩化チオニルでビス酸塩化物に転化し、それをベン
ジルアミンでビスベンジルアミドに転化し、それを塩化
スルフリルで環化すると５−クロロ−２−ベンジル−２
Ｈ−イソチアゾール−３−オンが得られ、それを１モル
当量の過酸で酸化すると５−クロロ−２−ベンジル−２
Ｈ−イソチアゾール−３−オン−１−オキシドが得ら
れ、それを加圧下２−低級アルコキシフランと加熱する
と４−低級アルコキシ−７−ヒドロキシ−２−ベンジル
−１，２−ベンゾイソチアゾール−２Ｈ−３−オン−１
−オキシドが得られ、それを１モル当量の過酸で酸化す
ると対応する４−低級アルコキシ−７−ヒドロキシ−２
−ベンジル−１，２−ベンゾイソチアゾール−２Ｈ−３
−オン−１，１−ジオキシドが得られ、それを触媒的水
素化により脱ベンジル化すると対応する式IVの４−低級
アルコキシ−７−ヒドロキシサッカリンが得られる。こ
のように製造された４−低級アルコキシ−７−ヒドロキ
シ−２−ベンジル−１，２−ベンゾイソチアゾール−２
Ｈ−３−オン−１−オキシドの低級アルキルハロゲン化
物もしくは適当な置換低級アルキルハロゲン化物でのア
ルキル化に続いて同様に酸化及び脱ベンジル化すると、
Ｒ2 が低級アルコキシ、シクロアルコキシ、Ｂ＝Ｎ−低
級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、ポリヒドロ
キシ低級アルコキシもしくはそれらのアセタール又はケ
タール、低級アルコキシ低級アルコキシ、ポリ低級アル
コキシ低級アルコキシ、ヒドロキシポリ低級アルキレン
オキシ又は低級アルコキシポリ低級アルキレンオキシで
ある対応する式III の４−低級アルコキシ−７−Ｒ2 −
サッカリンが得られる。
方の環を製造することを必要とする。例えば、Ｒ1 が低
級アルコキシでありかつＲ2 がヒドロキシである式IVの
化合物を製造するために、３，３−チオビスプロピオン
酸を塩化チオニルでビス酸塩化物に転化し、それをベン
ジルアミンでビスベンジルアミドに転化し、それを塩化
スルフリルで環化すると５−クロロ−２−ベンジル−２
Ｈ−イソチアゾール−３−オンが得られ、それを１モル
当量の過酸で酸化すると５−クロロ−２−ベンジル−２
Ｈ−イソチアゾール−３−オン−１−オキシドが得ら
れ、それを加圧下２−低級アルコキシフランと加熱する
と４−低級アルコキシ−７−ヒドロキシ−２−ベンジル
−１，２−ベンゾイソチアゾール−２Ｈ−３−オン−１
−オキシドが得られ、それを１モル当量の過酸で酸化す
ると対応する４−低級アルコキシ−７−ヒドロキシ−２
−ベンジル−１，２−ベンゾイソチアゾール−２Ｈ−３
−オン−１，１−ジオキシドが得られ、それを触媒的水
素化により脱ベンジル化すると対応する式IVの４−低級
アルコキシ−７−ヒドロキシサッカリンが得られる。こ
のように製造された４−低級アルコキシ−７−ヒドロキ
シ−２−ベンジル−１，２−ベンゾイソチアゾール−２
Ｈ−３−オン−１−オキシドの低級アルキルハロゲン化
物もしくは適当な置換低級アルキルハロゲン化物でのア
ルキル化に続いて同様に酸化及び脱ベンジル化すると、
Ｒ2 が低級アルコキシ、シクロアルコキシ、Ｂ＝Ｎ−低
級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコキシ、ポリヒドロ
キシ低級アルコキシもしくはそれらのアセタール又はケ
タール、低級アルコキシ低級アルコキシ、ポリ低級アル
コキシ低級アルコキシ、ヒドロキシポリ低級アルキレン
オキシ又は低級アルコキシポリ低級アルキレンオキシで
ある対応する式III の４−低級アルコキシ−７−Ｒ2 −
サッカリンが得られる。
【００３２】薬用条件に合った酸付加塩は、いずれかの
薬用条件に合った酸付加塩であることができるが、好ま
しくは一般的なアニオンを有する薬用条件に合った酸付
加塩、例えば塩酸塩である。一般的なアニオンを有する
塩が結晶性ではなく又は不十分な溶解性もしくは吸湿性
であるために受け入れられない場合には、あまり一般的
ではないアニオンを有する塩、例えばメタンスルホン酸
塩が使用できる。哺乳動物での使用に際していかなる場
合においても、酸付加塩は非毒性でなければならず、か
つ式Ｉの化合物の遊離塩基型のエラスターゼ阻害効果を
妨害してはならない。
薬用条件に合った酸付加塩であることができるが、好ま
しくは一般的なアニオンを有する薬用条件に合った酸付
加塩、例えば塩酸塩である。一般的なアニオンを有する
塩が結晶性ではなく又は不十分な溶解性もしくは吸湿性
であるために受け入れられない場合には、あまり一般的
ではないアニオンを有する塩、例えばメタンスルホン酸
塩が使用できる。哺乳動物での使用に際していかなる場
合においても、酸付加塩は非毒性でなければならず、か
つ式Ｉの化合物の遊離塩基型のエラスターゼ阻害効果を
妨害してはならない。
【００３３】薬用条件に合った塩基付加塩は、いずれか
の薬用条件に合った塩基付加塩であることができるが、
好ましくは一般的なカチオンを有する薬用条件に合った
塩基付加塩、例えばナトリウムもしくはカリウム塩であ
る。一般的なカチオンを有する塩が結晶性ではなく又は
不十分な溶解性もしくは吸湿性であるために受け入れら
れない場合には、あまり一般的ではないカチオンを有す
る塩、例えばジエチルアンモニウム塩が使用できる。哺
乳動物での使用に際していかなる場合においても、塩基
付加塩は非毒性でなければならず、かつ式Ｉの化合物の
遊離酸型のエラスターゼ阻害効果を妨害してはならな
い。
の薬用条件に合った塩基付加塩であることができるが、
好ましくは一般的なカチオンを有する薬用条件に合った
塩基付加塩、例えばナトリウムもしくはカリウム塩であ
る。一般的なカチオンを有する塩が結晶性ではなく又は
不十分な溶解性もしくは吸湿性であるために受け入れら
れない場合には、あまり一般的ではないカチオンを有す
る塩、例えばジエチルアンモニウム塩が使用できる。哺
乳動物での使用に際していかなる場合においても、塩基
付加塩は非毒性でなければならず、かつ式Ｉの化合物の
遊離酸型のエラスターゼ阻害効果を妨害してはならな
い。
【００３４】製造方法及び下記具体例における生成物の
構造は、出発物質の既知構造より推定され、そして製造
反応経路が予想される。出発物質及び生成物の精製又は
純度及び構造確認は、融解温度範囲、旋光性、元素分
析、赤外分光法、紫外分光法、質量分光法、核磁気共鳴
分光法、ガスクロマトグラフィー、カラムクロマトグラ
フィー、高速流体クロマトグラフィー、中速流体クロマ
トグラフィー及び／又は薄層クロマトグラフィーにより
実施又は測定した。
構造は、出発物質の既知構造より推定され、そして製造
反応経路が予想される。出発物質及び生成物の精製又は
純度及び構造確認は、融解温度範囲、旋光性、元素分
析、赤外分光法、紫外分光法、質量分光法、核磁気共鳴
分光法、ガスクロマトグラフィー、カラムクロマトグラ
フィー、高速流体クロマトグラフィー、中速流体クロマ
トグラフィー及び／又は薄層クロマトグラフィーにより
実施又は測定した。
【００３５】
【実施例】２−クロロメチル−４−イソプロピルサッカリンの製造 ｎ−ブチルリチウム（２．５モル（Ｍ）、１００mL）
を、窒素下０〜５℃で撹拌しながら１０分間かけて無水
エーテル（５００mL）中２−イソプロピルブロモベンゼ
ンの溶液に添加した。その混合物を室温まで温め、室温
で６時間撹拌し、そして−６０℃まで冷却した。無水エ
ーテル（５０mL）中ジエチルカルバミルクロリド（３４
ｇ）の溶液を２０分間かけて添加すると同時に温度を−
５０℃より下に維持した。温度を１時間かけて室温まで
上昇させた。水（１００mL）を添加した。エーテル層を
飽和水性塩化ナトリウム（２００mL）で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、そしてエーテルを除去した。残渣
を蒸留したところ（８０〜９０℃／０．１mmHg）、２−
イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（４４
ｇ、収率８０％）が得られた。無水エーテル（６００m
L）中Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジア
ミン（２５．５ｇ）の溶液に、ｓ−ブチルリチウム
（１．３モル（Ｍ）、１７０mL）を添加し、そして混合
物を窒素下、−７０℃まで冷却した。無水エーテル（３
００mL）中２−イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズ
アミド（４４ｇ）の溶液を、２０分間に亘って滴下し
た。添加中、温度を−６０℃以下に維持させた。添加
後、混合物を−７０℃で３０分間撹拌し、−５０℃まで
３０分間かけて加温し、−５０℃で１０分間維持し、次
いで−７０℃まで再び冷却した。カニューレ挿入管によ
り、あらかじめ−６０℃に冷却した無水エーテル（５０
mL）中二酸化硫黄（５０ｇ）の溶液を、正の窒素圧下、
１０分間に亘って添加した。添加中反応混合物の温度を
−５０℃より下に維持した。スルフィン酸アリールリチ
ウムの白色粉末状沈殿をほぼ直後に分離した。１時間か
けて温度を室温まで上昇させた。撹拌を続けながら、塩
化スルフリル（５４ｇ）を１５分間かけて滴下した。更
に３０分間０〜５℃で撹拌後、白色沈殿を濾取し、そし
て無水エーテル（２Ｌ）で洗浄した。減圧下溶剤を除去
して得られた微黄色油状物をテトラヒドロフラン（１５
０mL）に溶解した。溶液を０℃まで冷却し、そして濃水
性アンモニア（２８％、６０mL）を１５分間に亘って少
しずつ添加した。添加中温度を１０℃以下に維持した。
１５分間周囲温度で撹拌後、テトラヒドロフラン及び過
剰のアンモニアを除去し、そして残渣を塩酸（２Ｎ）で
pH１まで酸性化した。得られた白色固体を濾取し、水
（２００mL）及びヘキサン（２００mL）で洗浄し、そし
て乾燥したところ、２−アミノスルホニル−６−イソプ
ロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（５４ｇ、収率
９０％）が得られた。
を、窒素下０〜５℃で撹拌しながら１０分間かけて無水
エーテル（５００mL）中２−イソプロピルブロモベンゼ
ンの溶液に添加した。その混合物を室温まで温め、室温
で６時間撹拌し、そして−６０℃まで冷却した。無水エ
ーテル（５０mL）中ジエチルカルバミルクロリド（３４
ｇ）の溶液を２０分間かけて添加すると同時に温度を−
５０℃より下に維持した。温度を１時間かけて室温まで
上昇させた。水（１００mL）を添加した。エーテル層を
飽和水性塩化ナトリウム（２００mL）で洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥し、そしてエーテルを除去した。残渣
を蒸留したところ（８０〜９０℃／０．１mmHg）、２−
イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（４４
ｇ、収率８０％）が得られた。無水エーテル（６００m
L）中Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチルエチレンジア
ミン（２５．５ｇ）の溶液に、ｓ−ブチルリチウム
（１．３モル（Ｍ）、１７０mL）を添加し、そして混合
物を窒素下、−７０℃まで冷却した。無水エーテル（３
００mL）中２−イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズ
アミド（４４ｇ）の溶液を、２０分間に亘って滴下し
た。添加中、温度を−６０℃以下に維持させた。添加
後、混合物を−７０℃で３０分間撹拌し、−５０℃まで
３０分間かけて加温し、−５０℃で１０分間維持し、次
いで−７０℃まで再び冷却した。カニューレ挿入管によ
り、あらかじめ−６０℃に冷却した無水エーテル（５０
mL）中二酸化硫黄（５０ｇ）の溶液を、正の窒素圧下、
１０分間に亘って添加した。添加中反応混合物の温度を
−５０℃より下に維持した。スルフィン酸アリールリチ
ウムの白色粉末状沈殿をほぼ直後に分離した。１時間か
けて温度を室温まで上昇させた。撹拌を続けながら、塩
化スルフリル（５４ｇ）を１５分間かけて滴下した。更
に３０分間０〜５℃で撹拌後、白色沈殿を濾取し、そし
て無水エーテル（２Ｌ）で洗浄した。減圧下溶剤を除去
して得られた微黄色油状物をテトラヒドロフラン（１５
０mL）に溶解した。溶液を０℃まで冷却し、そして濃水
性アンモニア（２８％、６０mL）を１５分間に亘って少
しずつ添加した。添加中温度を１０℃以下に維持した。
１５分間周囲温度で撹拌後、テトラヒドロフラン及び過
剰のアンモニアを除去し、そして残渣を塩酸（２Ｎ）で
pH１まで酸性化した。得られた白色固体を濾取し、水
（２００mL）及びヘキサン（２００mL）で洗浄し、そし
て乾燥したところ、２−アミノスルホニル−６−イソプ
ロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（５４ｇ、収率
９０％）が得られた。
【００３６】酢酸（４００mL）中２−アミノスルホニル
−６−イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド
（６０ｇ）の溶液を２４時間還流し、次いで室温まで冷
却した。溶剤を減圧下除去した。油状残渣を水（５００
mL）に溶解し、そして塩酸（２Ｎ）でpHを１に調整し
た。粗生成物を濾取し、水（３００mL）で洗浄し、減圧
下６０℃で１８時間乾燥し、そしてエーテル／ヘキサン
より再結晶化したところ、４−イソプロピルサッカリン
（４０ｇ、収率９０％、ｍ．ｐ．１７７℃）が得られ
た。
−６−イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド
（６０ｇ）の溶液を２４時間還流し、次いで室温まで冷
却した。溶剤を減圧下除去した。油状残渣を水（５００
mL）に溶解し、そして塩酸（２Ｎ）でpHを１に調整し
た。粗生成物を濾取し、水（３００mL）で洗浄し、減圧
下６０℃で１８時間乾燥し、そしてエーテル／ヘキサン
より再結晶化したところ、４−イソプロピルサッカリン
（４０ｇ、収率９０％、ｍ．ｐ．１７７℃）が得られ
た。
【００３７】４−イソプロピルサッカリン（３７．９
ｇ）、フェニルクロロメチルスルフィド（３３．３
ｇ）、臭化テトラブチルアンモニウム（５．４ｇ）及び
トルエン（２００mL）の混合物を、還流下２４時間加熱
し、次いで揮発性物質を除去した。残渣をシリカゲル
（４８５ｇ）でのカラムクロマトグラフィーにかけ、最
初にヘキサンで、次いでヘキサン−ジクロロメタン
（１：１）で、次いでジクロロメタンで溶離させたとこ
ろ、ヘキサン−ジクロロメタン溶離液中に淡黄色油状物
として２−フェニルチオメチル−４−イソプロピルサッ
カリン（５３．５ｇ、収率９２％）が得られた。
ｇ）、フェニルクロロメチルスルフィド（３３．３
ｇ）、臭化テトラブチルアンモニウム（５．４ｇ）及び
トルエン（２００mL）の混合物を、還流下２４時間加熱
し、次いで揮発性物質を除去した。残渣をシリカゲル
（４８５ｇ）でのカラムクロマトグラフィーにかけ、最
初にヘキサンで、次いでヘキサン−ジクロロメタン
（１：１）で、次いでジクロロメタンで溶離させたとこ
ろ、ヘキサン−ジクロロメタン溶離液中に淡黄色油状物
として２−フェニルチオメチル−４−イソプロピルサッ
カリン（５３．５ｇ、収率９２％）が得られた。
【００３８】２−フェニルチオメチル−４−イソプロピ
ルサッカリン（５３．５ｇ）、塩化スルフリル（４０m
L、６７．２ｇ）及びジクロロメタン（２５０mL）を室
温で撹拌しながら混合した。その混合物はやや発熱反応
で行われ、そして室温で１７時間放置し、次いで揮発性
物質を除去した。残渣をヘキサンで３回結晶化した（３
３．６５ｇ、ｍ．ｒ．１０１〜１０２℃；３．４５ｇ、
ｍ．ｒ．１００〜１０１℃；０．４５ｇ、ｍ．ｒ．９９
〜１００℃；総量３８．５５ｇ、収率９１％）。３回分
の収穫物を合わせて、そしてイソプロピルアルコール
（３０mL）−シクロヘキサン（２７０mL）より２回再結
晶化したところ、２−クロロメチル−４−イソプロピル
サッカリン（３３．５ｇ、ｍ．ｒ．１０１〜１０２．５
℃；２．６５ｇ、ｍ．ｒ．１００〜１０１℃）が得られ
た。
ルサッカリン（５３．５ｇ）、塩化スルフリル（４０m
L、６７．２ｇ）及びジクロロメタン（２５０mL）を室
温で撹拌しながら混合した。その混合物はやや発熱反応
で行われ、そして室温で１７時間放置し、次いで揮発性
物質を除去した。残渣をヘキサンで３回結晶化した（３
３．６５ｇ、ｍ．ｒ．１０１〜１０２℃；３．４５ｇ、
ｍ．ｒ．１００〜１０１℃；０．４５ｇ、ｍ．ｒ．９９
〜１００℃；総量３８．５５ｇ、収率９１％）。３回分
の収穫物を合わせて、そしてイソプロピルアルコール
（３０mL）−シクロヘキサン（２７０mL）より２回再結
晶化したところ、２−クロロメチル−４−イソプロピル
サッカリン（３３．５ｇ、ｍ．ｒ．１０１〜１０２．５
℃；２．６５ｇ、ｍ．ｒ．１００〜１０１℃）が得られ
た。
【００３９】２−クロロメチル−４−イソプロピル−６
−メトキシサッカリンの製造 無水エーテル（４Ｌ）中Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメ
チルエチレンジアミン（３００mL）の溶液に、ｓ−ブチ
ルリチウム（１．３モル（Ｍ）、４Ｌ）を添加し、そし
て混合物を窒素下、−７０℃まで冷却した。無水エーテ
ル（３００mL）中２−イソプロピル−４−メトキシ−
Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（４５４．２ｇ）の溶液
を、３０分間に亘って滴下した。添加中、温度を−６０
℃以下に維持させた。添加後、混合物を−７０℃で１時
間撹拌し、−５０℃まで加温し、−５０℃で３０分間維
持し、次いで−７０℃まで再び冷却した。カニューレ挿
入管により、あらかじめ−４０℃に冷却した無水エーテ
ル（２００mL）中二酸化硫黄（２００ｇ）の溶液を、正
の窒素圧下、２０分間に亘って添加した。添加中反応混
合物の温度を−４０℃より下に維持した。スルフィン酸
アリールリチウムの白色粉末状沈殿をほぼ直後に分離し
た。添加後、冷却浴を取り除き、そして混合物を周囲温
度で２時間撹拌し、次いで−５℃まで冷却した。撹拌を
続けながら、塩化スルフリル（１９０mL）を１５分間に
亘って滴下し、同時に温度を１０℃より下に維持した。
更に３０分間０〜５℃で撹拌後、白色不溶性沈殿を濾取
し、そして無水エーテル（２Ｌ）で洗浄した。大気圧で
溶剤を除去して得られた暗色油状物をテトラヒドロフラ
ン（１．４Ｌ）に溶解した。溶液を−１０℃まで冷却
し、そして濃水性アンモニア（２８％、５４０mL）を１
５分間に亘って少しずつ添加した。添加中温度を１５℃
以下に維持した。１５分間周囲温度で撹拌後、テトラヒ
ドロフラン及び過剰のアンモニアを減圧下除去したとこ
ろ、暗色油状物が得られ、それを水（６．０Ｌ）で希釈
し、そして塩酸（３Ｎ）でpH１まで酸性化した。得られ
た明黄色固体を濾取し、水（８００mL）で洗浄し、減圧
下６０℃で１８時間乾燥し、そして酢酸エチル−ヘキサ
ン（８００mL−３Ｌ）の混合物より再結晶化したとこ
ろ、２−アミノスルホニル−６−イソプロピル−４−メ
トキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（４２９ｇ、収
率７２％、ｍ．ｒ．１２２〜１２５℃）が得られた。
−メトキシサッカリンの製造 無水エーテル（４Ｌ）中Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメ
チルエチレンジアミン（３００mL）の溶液に、ｓ−ブチ
ルリチウム（１．３モル（Ｍ）、４Ｌ）を添加し、そし
て混合物を窒素下、−７０℃まで冷却した。無水エーテ
ル（３００mL）中２−イソプロピル−４−メトキシ−
Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（４５４．２ｇ）の溶液
を、３０分間に亘って滴下した。添加中、温度を−６０
℃以下に維持させた。添加後、混合物を−７０℃で１時
間撹拌し、−５０℃まで加温し、−５０℃で３０分間維
持し、次いで−７０℃まで再び冷却した。カニューレ挿
入管により、あらかじめ−４０℃に冷却した無水エーテ
ル（２００mL）中二酸化硫黄（２００ｇ）の溶液を、正
の窒素圧下、２０分間に亘って添加した。添加中反応混
合物の温度を−４０℃より下に維持した。スルフィン酸
アリールリチウムの白色粉末状沈殿をほぼ直後に分離し
た。添加後、冷却浴を取り除き、そして混合物を周囲温
度で２時間撹拌し、次いで−５℃まで冷却した。撹拌を
続けながら、塩化スルフリル（１９０mL）を１５分間に
亘って滴下し、同時に温度を１０℃より下に維持した。
更に３０分間０〜５℃で撹拌後、白色不溶性沈殿を濾取
し、そして無水エーテル（２Ｌ）で洗浄した。大気圧で
溶剤を除去して得られた暗色油状物をテトラヒドロフラ
ン（１．４Ｌ）に溶解した。溶液を−１０℃まで冷却
し、そして濃水性アンモニア（２８％、５４０mL）を１
５分間に亘って少しずつ添加した。添加中温度を１５℃
以下に維持した。１５分間周囲温度で撹拌後、テトラヒ
ドロフラン及び過剰のアンモニアを減圧下除去したとこ
ろ、暗色油状物が得られ、それを水（６．０Ｌ）で希釈
し、そして塩酸（３Ｎ）でpH１まで酸性化した。得られ
た明黄色固体を濾取し、水（８００mL）で洗浄し、減圧
下６０℃で１８時間乾燥し、そして酢酸エチル−ヘキサ
ン（８００mL−３Ｌ）の混合物より再結晶化したとこ
ろ、２−アミノスルホニル−６−イソプロピル−４−メ
トキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンズアミド（４２９ｇ、収
率７２％、ｍ．ｒ．１２２〜１２５℃）が得られた。
【００４０】酢酸（１．５Ｌ）中２−アミノスルホニル
−６−イソプロピル−４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチル
ベンズアミド（４２９．６ｇ）の溶液を２０時間還流
し、次いで室温まで冷却した。溶剤を減圧下除去した。
油状残渣を水（６Ｌ）に溶解し、そして塩酸（６Ｎ）で
pHを１に調整した。粗生成物を濾取し、水（２Ｌ）で洗
浄し、減圧下６０℃で１８時間乾燥し、そして酢酸エチ
ル−ヘキサンより再結晶化したところ、４−イソプロピ
ル−６−メトキシサッカリン（３０３ｇ、収率９１％、
ｍ．ｐ．１８８℃）が得られた。
−６−イソプロピル−４−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジエチル
ベンズアミド（４２９．６ｇ）の溶液を２０時間還流
し、次いで室温まで冷却した。溶剤を減圧下除去した。
油状残渣を水（６Ｌ）に溶解し、そして塩酸（６Ｎ）で
pHを１に調整した。粗生成物を濾取し、水（２Ｌ）で洗
浄し、減圧下６０℃で１８時間乾燥し、そして酢酸エチ
ル−ヘキサンより再結晶化したところ、４−イソプロピ
ル−６−メトキシサッカリン（３０３ｇ、収率９１％、
ｍ．ｐ．１８８℃）が得られた。
【００４１】１，２−ジクロロエタン（２００mL）中、
パラホルムアルデヒド（２４ｇ）及びクロロトリメチル
シラン（８６．４ｇ）の懸濁液に、乾燥塩化スズ（IV)
(０．８mL）を添加し、そして得られた溶液を蒸気浴上
で１時間撹拌した。４−イソプロピル−６−メトキシサ
ッカリン（５１．４ｇ）を透明な溶液に添加し、そして
混合物を１８時間還流し、室温まで冷却し、そして水へ
注ぎ入れた。有機層を分離し、水性水酸化ナトリウム溶
液（２Ｎ、５０mL）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、そして減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶化したところ、２−クロロメチル−４−イ
ソプロピル−６−メトキシサッカリン（５７ｇ、収率８
７％、ｍ．ｐ．１５１℃）が得られた。
パラホルムアルデヒド（２４ｇ）及びクロロトリメチル
シラン（８６．４ｇ）の懸濁液に、乾燥塩化スズ（IV)
(０．８mL）を添加し、そして得られた溶液を蒸気浴上
で１時間撹拌した。４−イソプロピル−６−メトキシサ
ッカリン（５１．４ｇ）を透明な溶液に添加し、そして
混合物を１８時間還流し、室温まで冷却し、そして水へ
注ぎ入れた。有機層を分離し、水性水酸化ナトリウム溶
液（２Ｎ、５０mL）で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、そして減圧下濃縮した。残渣を酢酸エチル−ヘキサ
ンから再結晶化したところ、２−クロロメチル−４−イ
ソプロピル−６−メトキシサッカリン（５７ｇ、収率８
７％、ｍ．ｐ．１５１℃）が得られた。
【００４２】以下の式Ｉの化合物の具体例を製造した。例１Ａ
【００４３】
【化１２】
【００４４】ジメチルホルムアミド（５mL）中テトロン
酸（０．２２ｇ）の溶液を、窒素下撹拌しかつ氷浴で冷
却しながらジメチルホルムアミド（４mL）中水素化ナト
リウム（鉱油への６０％分散体、０．１０ｇ）の懸濁液
に添加した。氷浴を取り除き、１５分間撹拌を続け、ジ
メチルホルムアミド（１０mL）中２−クロロメチル−４
−イソプロピルサッカリン（０．５４７ｇ）の溶液を滴
下し、２．５日間撹拌を続け、そして混合物を水へ注ぎ
入れた。得られた混合物を酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして酢酸エチ
ルを除去した。得られた無色固体（０．６０ｇ）を酢酸
エチルより再結晶化したところ、２−〔（２，５−ジヒ
ドロ−５−オキソ−３−フラニル）オキシメチル〕−４
−イソプロピルサッカリン（０．３４ｇ、収率５１％、
ｍ．ｒ．１７４〜１７５℃）が得られた。
酸（０．２２ｇ）の溶液を、窒素下撹拌しかつ氷浴で冷
却しながらジメチルホルムアミド（４mL）中水素化ナト
リウム（鉱油への６０％分散体、０．１０ｇ）の懸濁液
に添加した。氷浴を取り除き、１５分間撹拌を続け、ジ
メチルホルムアミド（１０mL）中２−クロロメチル−４
−イソプロピルサッカリン（０．５４７ｇ）の溶液を滴
下し、２．５日間撹拌を続け、そして混合物を水へ注ぎ
入れた。得られた混合物を酢酸エチルで抽出した。酢酸
エチル層を硫酸マグネシウムで乾燥し、そして酢酸エチ
ルを除去した。得られた無色固体（０．６０ｇ）を酢酸
エチルより再結晶化したところ、２−〔（２，５−ジヒ
ドロ−５−オキソ−３−フラニル）オキシメチル〕−４
−イソプロピルサッカリン（０．３４ｇ、収率５１％、
ｍ．ｒ．１７４〜１７５℃）が得られた。
【００４５】例１Ｂ〜１Ｒ 上記例１Ａの方法と同様の方法に従って、下記第Ｉ表に
示される化合物を、２−クロロメチル−４−イソプロピ
ルサッカリンもしくは２−クロロメチル−４−イソプロ
ピル−６−メトキシサッカリン及び対応する式III(Ｈ−
Ｏ−Ｚ）の化合物より製造した。
示される化合物を、２−クロロメチル−４−イソプロピ
ルサッカリンもしくは２−クロロメチル−４−イソプロ
ピル−６−メトキシサッカリン及び対応する式III(Ｈ−
Ｏ−Ｚ）の化合物より製造した。
【００４６】
【表１】
【００４７】
【表２】
【００４８】
【表３】
【００４９】
【表４】
【００５０】
【表５】
【００５１】例１Ｍの式Ｉの化合物に加えて、２−（１
−メチル−２，６−ジオキソシクロヘキシル）メチル−
４−イソプロピル−６−メトキシサッカリン（ｍ．ｒ．
１５９．５〜１６１．５℃、酢酸エチルより）が収率３
８％で単離された。
−メチル−２，６−ジオキソシクロヘキシル）メチル−
４−イソプロピル−６−メトキシサッカリン（ｍ．ｒ．
１５９．５〜１６１．５℃、酢酸エチルより）が収率３
８％で単離された。
【００５２】例２
【化１３】
【００５３】４−ヒドロキシ−１−メチルカルボスチリ
ル（１．４４ｇ）を撹拌しながらジメチルホルムアミド
中水素化ナトリウム（鉱油への６０％分散体、０．３６
ｇ）の懸濁液に添加した。その混合物を、１００℃で撹
拌を続けながら３／４時間加熱し、次いで室温で１／２
時間超音波処理した。２−クロロメチル−４−イソプロ
ピル−６−メトキシサッカリン（１．８３ｇ）を添加し
た。得られた混合物を１００℃で撹拌を続けながら２時
間加熱し、次いで水（３００mL）中へ注ぎ入れた。塩酸
（１Ｎ、２５mL）を添加し、そして混合物をクロロホル
ムで抽出した。クロロホルム抽出物を硫酸ナトリウムで
乾燥し、そしてクロロホルムを除去した。得られた固体
（３．３ｇ）を、溶離液として酢酸エチル−ヘキサン
（１：１）を用いてシリカゲルでのフラッシュクロマト
グラフィーにかけ、そして得られた固体（０．７ｇ、収
率２８％）をエタノール（９０％）より再結晶化したと
ころ、黄色固体として２−（１−メチルカルボスチリル
−４−イル）オキシメチル−４−イソプロピル−６−メ
トキシサッカリン（０．３９ｇ、収率１５％、ｍ．ｒ．
１９８〜２００℃）が得られた。
ル（１．４４ｇ）を撹拌しながらジメチルホルムアミド
中水素化ナトリウム（鉱油への６０％分散体、０．３６
ｇ）の懸濁液に添加した。その混合物を、１００℃で撹
拌を続けながら３／４時間加熱し、次いで室温で１／２
時間超音波処理した。２−クロロメチル−４−イソプロ
ピル−６−メトキシサッカリン（１．８３ｇ）を添加し
た。得られた混合物を１００℃で撹拌を続けながら２時
間加熱し、次いで水（３００mL）中へ注ぎ入れた。塩酸
（１Ｎ、２５mL）を添加し、そして混合物をクロロホル
ムで抽出した。クロロホルム抽出物を硫酸ナトリウムで
乾燥し、そしてクロロホルムを除去した。得られた固体
（３．３ｇ）を、溶離液として酢酸エチル−ヘキサン
（１：１）を用いてシリカゲルでのフラッシュクロマト
グラフィーにかけ、そして得られた固体（０．７ｇ、収
率２８％）をエタノール（９０％）より再結晶化したと
ころ、黄色固体として２−（１−メチルカルボスチリル
−４−イル）オキシメチル−４−イソプロピル−６−メ
トキシサッカリン（０．３９ｇ、収率１５％、ｍ．ｒ．
１９８〜２００℃）が得られた。
【００５４】例３Ａ
【化１４】
【００５５】３−アセチル−４−ヒドロキシ−１−フェ
ニルカルボスチリル（０．５２ｇ）、炭酸カリウム
（０．２８ｇ）及びジメチルホルムアミド（７mL）の混
合物を室温で１／２時間撹拌した。２−クロロメチル−
４−イソプロピル−６−メトキシサッカリン（０．７１
ｇ）を添加し、そして混合物を１時間４０℃で超音波処
理し、そして室温で１６時間撹拌した。更なる超音波処
理は薄層クロマトグラフィーにより示されるように反応
の程度を変化しなかった。その反応混合物を水中へ注ぎ
入れ、そして混合物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル抽出物を乾燥し、そして酢酸エチルを除去した。残渣
（０．５ｇ）を、溶離液として酢酸エチル−ヘキサン
（３：７）を用いてシリカゲルでの中速液体クロマトグ
ラフィーにかけ、そして生成物をメタノールより再結晶
化したところ、２−（１−フェニル−３−アセチルカル
ボスチリル−４−イル）オキシメチル−４−イソプロピ
ル−６−メトキシサッカリン（０．２４ｇ、収率２４
％、ｍ．ｒ．２１０〜２１２℃）が得られた。
ニルカルボスチリル（０．５２ｇ）、炭酸カリウム
（０．２８ｇ）及びジメチルホルムアミド（７mL）の混
合物を室温で１／２時間撹拌した。２−クロロメチル−
４−イソプロピル−６−メトキシサッカリン（０．７１
ｇ）を添加し、そして混合物を１時間４０℃で超音波処
理し、そして室温で１６時間撹拌した。更なる超音波処
理は薄層クロマトグラフィーにより示されるように反応
の程度を変化しなかった。その反応混合物を水中へ注ぎ
入れ、そして混合物を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル抽出物を乾燥し、そして酢酸エチルを除去した。残渣
（０．５ｇ）を、溶離液として酢酸エチル−ヘキサン
（３：７）を用いてシリカゲルでの中速液体クロマトグ
ラフィーにかけ、そして生成物をメタノールより再結晶
化したところ、２−（１−フェニル−３−アセチルカル
ボスチリル−４−イル）オキシメチル−４−イソプロピ
ル−６−メトキシサッカリン（０．２４ｇ、収率２４
％、ｍ．ｒ．２１０〜２１２℃）が得られた。
【００５６】例３Ｂ
【化１５】
【００５７】上記例３Ａの方法と同様の方法により、３
−アセチル−４−ヒドロキシ−１−メチルカルボスチリ
ル（０．６３ｇ）を、２−クロロメチル−４−イソプロ
ピル−６−メトキシサッカリン（１．１０ｇ）と縮合さ
せ、そして生成物をメタノール−エーテルからの結晶化
により精製したところ、オフホワイトの粉末として２−
（１−メチル−３−アセチルカルボスチリル−４−イ
ル）オキシメチル−４−イソプロピル−６−メトキシサ
ッカリン（０．２８ｇ、収率２０％、ｍ．ｒ．１９４〜
１９６℃）が得られた。
−アセチル−４−ヒドロキシ−１−メチルカルボスチリ
ル（０．６３ｇ）を、２−クロロメチル−４−イソプロ
ピル−６−メトキシサッカリン（１．１０ｇ）と縮合さ
せ、そして生成物をメタノール−エーテルからの結晶化
により精製したところ、オフホワイトの粉末として２−
（１−メチル−３−アセチルカルボスチリル−４−イ
ル）オキシメチル−４−イソプロピル−６−メトキシサ
ッカリン（０．２８ｇ、収率２０％、ｍ．ｒ．１９４〜
１９６℃）が得られた。
【００５８】例４Ａ
【化１６】
【００５９】炭酸セシウム（０．８２ｇ）をメタノール
（１５mL）中３−フェニル−２（５Ｈ）−フラノン
（０．８８ｇ）の溶液に添加し、そして混合物を室温で
１時間撹拌し、そしてメタノールを除去した。２−クロ
ロメチル−４−イソプロピル−６−メトキシサッカリン
（１．５２ｇ）をジメチルホルムアミド（１５mL）中残
渣の溶液に添加し、そして混合物を室温で２日間撹拌し
た。シリカゲル（４．４ｇ）を添加し、揮発性物質を減
圧下除去し、そして固体を溶離剤として酢酸エチル−ヘ
キサン（３：７）を用いてシリカゲルでのフラッシュク
ロマトグラフィーにかけた。生成物をエタノール−エー
テルより再結晶化したところ、無色固体として２−
（２，５−ジヒドロ−２−オキソ−３−フェニルフラン
−４−イル）オキシメチル−４−イソプロピル−６−メ
トキシサッカリン（０．４５ｇ、収率２０％、ｍ．ｒ．
１８０〜１８２℃）が得られた。
（１５mL）中３−フェニル−２（５Ｈ）−フラノン
（０．８８ｇ）の溶液に添加し、そして混合物を室温で
１時間撹拌し、そしてメタノールを除去した。２−クロ
ロメチル−４−イソプロピル−６−メトキシサッカリン
（１．５２ｇ）をジメチルホルムアミド（１５mL）中残
渣の溶液に添加し、そして混合物を室温で２日間撹拌し
た。シリカゲル（４．４ｇ）を添加し、揮発性物質を減
圧下除去し、そして固体を溶離剤として酢酸エチル−ヘ
キサン（３：７）を用いてシリカゲルでのフラッシュク
ロマトグラフィーにかけた。生成物をエタノール−エー
テルより再結晶化したところ、無色固体として２−
（２，５−ジヒドロ−２−オキソ−３−フェニルフラン
−４−イル）オキシメチル−４−イソプロピル−６−メ
トキシサッカリン（０．４５ｇ、収率２０％、ｍ．ｒ．
１８０〜１８２℃）が得られた。
【００６０】例４Ｂ〜４Ｇ 上記例４Ａの方法と同様の方法に従って、下記第II表に
示される化合物を、２−クロロメチル−４−イソプロピ
ル−６−メトキシサッカリン及び対応する式III(Ｈ−Ｏ
−Ｚ）の化合物より製造した。
示される化合物を、２−クロロメチル−４−イソプロピ
ル−６−メトキシサッカリン及び対応する式III(Ｈ−Ｏ
−Ｚ）の化合物より製造した。
【００６１】
【表６】
【００６２】
【表７】
【００６３】
【表８】
【００６４】例５
【化１７】
【００６５】ジメチルホルムアミド（２０mL）中３−
（４−モルホリニルメチル）ピリド〔１，２−ａ〕ピリ
ミジン−２，４−ジオン塩酸塩（０．６ｇ）及びカリウ
ムｔ−ブトキシド（０．４９ｇ）の混合物を、室温で５
分間撹拌した。２−クロロメチル−４−イソプロピル−
６−メトキシサッカリン（０．６１ｇ）を添加し、そし
て室温で１時間撹拌を続けた。反応混合物を水（５０m
L）で希釈し、そしてジクロロメタン（２００mL×３）
で抽出した。ジクロロメタン抽出物を硫酸ナトリウムで
乾燥し、そして揮発性物質を除去し、最終的に高度減圧
下においた。粗生成物（７８０mg）を、カリウムｔ−ブ
トキシドの代わりに水素化ナトリウム（鉱油への６０％
分散体、０．１９ｇ）を用いて同様の規模での別の操作
由来のもの（０．６５ｇ）と合わせ、そして溶離液とし
てジクロロメタン−メタノール（９５：５）を用いてシ
リカゲルでのカラムクロマトグラフィーにより精製した
ところ、２−〔３−（４−モルホリニルメチル）−４−
オキソ−４Ｈ−ピリド〔１，２−ａ〕ピリミジン−２−
イル〕オキシメチル−４−イソプロピル−６−メトキシ
サッカリン（５００mg、収率２３％）が得られ、その一
部をエタノールより再結晶化した（ｍ．ｒ．１７７〜１
８０℃）。
（４−モルホリニルメチル）ピリド〔１，２−ａ〕ピリ
ミジン−２，４−ジオン塩酸塩（０．６ｇ）及びカリウ
ムｔ−ブトキシド（０．４９ｇ）の混合物を、室温で５
分間撹拌した。２−クロロメチル−４−イソプロピル−
６−メトキシサッカリン（０．６１ｇ）を添加し、そし
て室温で１時間撹拌を続けた。反応混合物を水（５０m
L）で希釈し、そしてジクロロメタン（２００mL×３）
で抽出した。ジクロロメタン抽出物を硫酸ナトリウムで
乾燥し、そして揮発性物質を除去し、最終的に高度減圧
下においた。粗生成物（７８０mg）を、カリウムｔ−ブ
トキシドの代わりに水素化ナトリウム（鉱油への６０％
分散体、０．１９ｇ）を用いて同様の規模での別の操作
由来のもの（０．６５ｇ）と合わせ、そして溶離液とし
てジクロロメタン−メタノール（９５：５）を用いてシ
リカゲルでのカラムクロマトグラフィーにより精製した
ところ、２−〔３−（４−モルホリニルメチル）−４−
オキソ−４Ｈ−ピリド〔１，２−ａ〕ピリミジン−２−
イル〕オキシメチル−４−イソプロピル−６−メトキシ
サッカリン（５００mg、収率２３％）が得られ、その一
部をエタノールより再結晶化した（ｍ．ｒ．１７７〜１
８０℃）。
【００６６】例６
【化１８】
【００６７】２−クロロメチル−４−イソプロピル−６
−メトキシサッカリン（０．３４ｇ）を、室温で撹拌し
ながらアセトニトリル（２０mL）中２−ヒドロキシ−
３，５，６−トリメチル−１，４−キノン（０．１８２
ｇ）及びメチルトリアザビシクロデセン（０．１８ｇ）
の溶液に添加した。室温で２４時間撹拌を続け、そして
暗色溶液を数滴の塩酸を含有する氷水中へ注ぎ入れた。
得られた褐色固体を最初にシリカゲルでのカラムクロマ
トグラフィーにかけ、次いで熱エタノールから再結晶化
することにより精製したところ、２−（３，５，６−ト
リメチル−１，４−ジオキソ−２，５−シクロヘキサジ
エン−２−イル）オキシメチル−４−イソプロピル−６
−メトキシサッカリン（６０mg、収率１２．７％、ｍ．
ｒ．１６４〜１６６℃）が得られた。
−メトキシサッカリン（０．３４ｇ）を、室温で撹拌し
ながらアセトニトリル（２０mL）中２−ヒドロキシ−
３，５，６−トリメチル−１，４−キノン（０．１８２
ｇ）及びメチルトリアザビシクロデセン（０．１８ｇ）
の溶液に添加した。室温で２４時間撹拌を続け、そして
暗色溶液を数滴の塩酸を含有する氷水中へ注ぎ入れた。
得られた褐色固体を最初にシリカゲルでのカラムクロマ
トグラフィーにかけ、次いで熱エタノールから再結晶化
することにより精製したところ、２−（３，５，６−ト
リメチル−１，４−ジオキソ−２，５−シクロヘキサジ
エン−２−イル）オキシメチル−４−イソプロピル−６
−メトキシサッカリン（６０mg、収率１２．７％、ｍ．
ｒ．１６４〜１６６℃）が得られた。
【００６８】例７
【化１９】
【００６９】２−クロロメチル−４−イソプロピル−６
−メトキシサッカリン（０．５ｇ）を室温で撹拌しなが
らアセトニトリル（２０mL）中４，７−ジメトキシ−５
−アセチル−６−ヒドロキシベンゾフラン（０．３９
ｇ）及びメチルトリアザビシクロデセン（０．２８ｇ）
の溶液に添加した。混合物を室温で一晩撹拌した。薄層
クロマトグラフィーが未反応の４，７−ジメトキシ−５
−アセチル−６−ヒドロキシベンゾフランを示したの
で、更なる２−クロロメチル−４−イソプロピル−６−
メトキシサッカリン及び塩基１滴を添加し、総計２４時
間撹拌を続け、そして反応混合物を、塩酸を含有する氷
水中に注ぎ入れた。得られた金色の固体を溶離液として
ジクロロメタンを用いて一部分精製した。室温の代わり
に３５〜４０℃で一晩撹拌することで反応を繰り返し
た。生成物及び一部分精製した初めの反応の生成物を合
わせて、シリカゲルでのカラムクロマトグラフィーによ
り精製したところ、２−（４，７−ジメトキシ−５−ア
セチルベンゾフラン−６−イル）オキシメチル−４−イ
ソプロピル−６−メトキシサッカリン（０．４ｇ、収率
２４％）が得られた。
−メトキシサッカリン（０．５ｇ）を室温で撹拌しなが
らアセトニトリル（２０mL）中４，７−ジメトキシ−５
−アセチル−６−ヒドロキシベンゾフラン（０．３９
ｇ）及びメチルトリアザビシクロデセン（０．２８ｇ）
の溶液に添加した。混合物を室温で一晩撹拌した。薄層
クロマトグラフィーが未反応の４，７−ジメトキシ−５
−アセチル−６−ヒドロキシベンゾフランを示したの
で、更なる２−クロロメチル−４−イソプロピル−６−
メトキシサッカリン及び塩基１滴を添加し、総計２４時
間撹拌を続け、そして反応混合物を、塩酸を含有する氷
水中に注ぎ入れた。得られた金色の固体を溶離液として
ジクロロメタンを用いて一部分精製した。室温の代わり
に３５〜４０℃で一晩撹拌することで反応を繰り返し
た。生成物及び一部分精製した初めの反応の生成物を合
わせて、シリカゲルでのカラムクロマトグラフィーによ
り精製したところ、２−（４，７−ジメトキシ−５−ア
セチルベンゾフラン−６−イル）オキシメチル−４−イ
ソプロピル−６−メトキシサッカリン（０．４ｇ、収率
２４％）が得られた。
【００７０】水（３mL）中トリセリックテトラアンモニ
ウムヘキサニトレート（０．９８ｇ）の溶液を、アセト
ニトリル（５mL）中２−（４，７−ジメトキシ−５−ア
セチルベンゾフラン−６−イル）オキシメチル−４−イ
ソプロピル−６−メトキシサッカリン（０．３ｇ）の溶
液に滴下した。混合物を室温で１５分間撹拌し、そして
氷水中へ注ぎ入れた。得られた金色の固体を、溶離液と
してジクロロメタン−エーテル（９５：５）を用いたシ
リカゲルでの迅速なクロマトグラフィー及び超音波処理
を伴うエタノールからの結晶化により精製したところ、
２−（５−アセチル−４，７−ジヒドロ−４，７−ジオ
キソベンゾフラン−６−イル）オキシメチル−４−イソ
プロピル−６−メトキシサッカリン（０．１３ｇ、収率
４６．６％、ｍ．ｒ．１９３〜１９５℃ 分解を伴う）
が得られた。
ウムヘキサニトレート（０．９８ｇ）の溶液を、アセト
ニトリル（５mL）中２−（４，７−ジメトキシ−５−ア
セチルベンゾフラン−６−イル）オキシメチル−４−イ
ソプロピル−６−メトキシサッカリン（０．３ｇ）の溶
液に滴下した。混合物を室温で１５分間撹拌し、そして
氷水中へ注ぎ入れた。得られた金色の固体を、溶離液と
してジクロロメタン−エーテル（９５：５）を用いたシ
リカゲルでの迅速なクロマトグラフィー及び超音波処理
を伴うエタノールからの結晶化により精製したところ、
２−（５−アセチル−４，７−ジヒドロ−４，７−ジオ
キソベンゾフラン−６−イル）オキシメチル−４−イソ
プロピル−６−メトキシサッカリン（０．１３ｇ、収率
４６．６％、ｍ．ｒ．１９３〜１９５℃ 分解を伴う）
が得られた。
【００７１】Ｚが例１〜７に先に記載された部分のいず
れかであり、かつＲ1 が水素、メチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、２−ブチル、ジメチルアミノ、メトキシ、エト
キシもしくはイソプロポキシであり、かつＲ2 が水素、
７−メチル、６−（４−メチル−１−ピペラジニル）、
６−（１−メチル−２−ピロリル）、６−ジメチルアミ
ノ、５−ニトロ、６−ニトロ、６−ヒドロキシ、７−ヒ
ドロキシ、５−メトキシ、７−メトキシ、５，６−ジメ
トキシ、５，７−ジメトキシ、６，７−ジメトキシ、６
−エトキシ、６−イソプロポキシ、６−シクロブチルオ
キシ、６−〔２−（４−モルホリニル）エトキシ〕、６
−〔（２，３−ジヒドロキシ）プロポキシ〕、６−
〔（２，３−プロピレンジオキシ）プロポキシ〕、６−
〔２，３−ジメトキシプロポキシ〕、６−〔２−（２−
メトキシエトキシ）エトキシ）、７−〔２−（２−メト
キシエトキシ）エトキシ〕、７−カルボキシメトキシ、
６−メトキシカルボニルメトキシ、６−（ｔ−ブトキシ
カルボニル）メトキシ、６−ベンジルオキシカルボニル
メトキシ、７−（ｔ−ブトキシカルボニル）メトキシ、
７−ジメチルアミノカルボニルオキシ、６，７−メチレ
ンジオキシ、６−フルオロ、７−クロロ、６−（ｎ−プ
ロピル）−７−メトキシ、６−メチル−５，７−ジメト
キシ、５−ヒドロキシ−６−メトキシもしくは６−ジメ
チルアミノ−７−クロロである式Ｉの化合物の更なる具
体例が製造できる。
れかであり、かつＲ1 が水素、メチル、エチル、ｎ−プ
ロピル、２−ブチル、ジメチルアミノ、メトキシ、エト
キシもしくはイソプロポキシであり、かつＲ2 が水素、
７−メチル、６−（４−メチル−１−ピペラジニル）、
６−（１−メチル−２−ピロリル）、６−ジメチルアミ
ノ、５−ニトロ、６−ニトロ、６−ヒドロキシ、７−ヒ
ドロキシ、５−メトキシ、７−メトキシ、５，６−ジメ
トキシ、５，７−ジメトキシ、６，７−ジメトキシ、６
−エトキシ、６−イソプロポキシ、６−シクロブチルオ
キシ、６−〔２−（４−モルホリニル）エトキシ〕、６
−〔（２，３−ジヒドロキシ）プロポキシ〕、６−
〔（２，３−プロピレンジオキシ）プロポキシ〕、６−
〔２，３−ジメトキシプロポキシ〕、６−〔２−（２−
メトキシエトキシ）エトキシ）、７−〔２−（２−メト
キシエトキシ）エトキシ〕、７−カルボキシメトキシ、
６−メトキシカルボニルメトキシ、６−（ｔ−ブトキシ
カルボニル）メトキシ、６−ベンジルオキシカルボニル
メトキシ、７−（ｔ−ブトキシカルボニル）メトキシ、
７−ジメチルアミノカルボニルオキシ、６，７−メチレ
ンジオキシ、６−フルオロ、７−クロロ、６−（ｎ−プ
ロピル）−７−メトキシ、６−メチル−５，７−ジメト
キシ、５−ヒドロキシ−６−メトキシもしくは６−ジメ
チルアミノ−７−クロロである式Ｉの化合物の更なる具
体例が製造できる。
【００７２】上記式Ｉの化合物は、タンパク質分解酵素
類の酵素活性を阻害し、そして変性疾患の治療に有用で
ある。より詳細には、それらはヒト白血球エラスターゼ
及びキモトリプシン様酵素を阻害し、そして気腫、リウ
マチ様関節炎、膵炎、嚢胞性線維症、慢性気管支炎、成
人呼吸困難症候群、炎症性腸疾患、乾癬、水疱性類疱瘡
及びアルファ−１−抗トリプシン欠乏症の治療に有用で
ある。この有用性は、ヒト白血球エラスターゼに対する
式Ｉの化合物の試験管内阻害試験により具体的に示され
る。
類の酵素活性を阻害し、そして変性疾患の治療に有用で
ある。より詳細には、それらはヒト白血球エラスターゼ
及びキモトリプシン様酵素を阻害し、そして気腫、リウ
マチ様関節炎、膵炎、嚢胞性線維症、慢性気管支炎、成
人呼吸困難症候群、炎症性腸疾患、乾癬、水疱性類疱瘡
及びアルファ−１−抗トリプシン欠乏症の治療に有用で
ある。この有用性は、ヒト白血球エラスターゼに対する
式Ｉの化合物の試験管内阻害試験により具体的に示され
る。
【００７３】ヒト白血球エラスターゼ阻害剤複合体の阻
害定数（Ｋi ）の測定方法は、一般的には競合的阻害剤
に関する「真に可逆的な阻害定数」について記載されて
いる（Ｃｈａ，Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈａｒｍａ
ｃｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ ２４，２１７７〜２１８５ペー
ジ、１９７５）。式Ｉの化合物は、真に可逆的な阻害剤
複合体ではなく、むしろある程度酵素によって消費され
る。従って、代わりに、酵素の回復速度割る酵素の不活
性化速度（Ｋoff ／Ｋon）として定義されるＫ i * を求
めた。Ｋoff 及びＫonの値を測定し、次いでＫi * を計
算した。
害定数（Ｋi ）の測定方法は、一般的には競合的阻害剤
に関する「真に可逆的な阻害定数」について記載されて
いる（Ｃｈａ，Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈａｒｍａ
ｃｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ ２４，２１７７〜２１８５ペー
ジ、１９７５）。式Ｉの化合物は、真に可逆的な阻害剤
複合体ではなく、むしろある程度酵素によって消費され
る。従って、代わりに、酵素の回復速度割る酵素の不活
性化速度（Ｋoff ／Ｋon）として定義されるＫ i * を求
めた。Ｋoff 及びＫonの値を測定し、次いでＫi * を計
算した。
【００７４】Ｋonの値を、試験化合物（阻害剤）の添加
後の時間の関数として酵素の一部分の酵素活性を測定す
ることにより求めた。時間に対する酵素活性の対数をプ
ロットすることで、認められた不活性化速度（Ｋobs ）
が、等式Ｋobs ＝１ｎ２／ｔ 1/2 （式中ｔ1/2 は、酵素
活性が５０％まで低減するのに必要とされる時間であ
る）により得られた。次いでＫon値が、等式Ｋon＝Ｋ
obs ／〔Ｉ〕（式中、〔Ｉ〕は、阻害剤の濃度である）
により得られた。同様にＫoff が測定され、次いでＫi
* が等式Ｋi * ＝Ｋoff ／Ｋonにより得られた。第III
表に示される結果は、これらの例の式Ｉの化合物につい
て得られた。
後の時間の関数として酵素の一部分の酵素活性を測定す
ることにより求めた。時間に対する酵素活性の対数をプ
ロットすることで、認められた不活性化速度（Ｋobs ）
が、等式Ｋobs ＝１ｎ２／ｔ 1/2 （式中ｔ1/2 は、酵素
活性が５０％まで低減するのに必要とされる時間であ
る）により得られた。次いでＫon値が、等式Ｋon＝Ｋ
obs ／〔Ｉ〕（式中、〔Ｉ〕は、阻害剤の濃度である）
により得られた。同様にＫoff が測定され、次いでＫi
* が等式Ｋi * ＝Ｋoff ／Ｋonにより得られた。第III
表に示される結果は、これらの例の式Ｉの化合物につい
て得られた。
【００７５】
【表９】
【００７６】タンパク質分解酵素阻害量の式Ｉの化合物
は、ヒト白血球エラスターゼ阻害についての試験結果よ
り算出でき、そして更に、特定の患者について、患者の
健康状態、適用経路、治療期間及び患者の反応に依存し
て変更できる。従って、式Ｉの化合物の有効薬用量は、
すべての適切な基準を考慮した後に、患者に代わって臨
床医の最良の判断によってのみ決定できる。
は、ヒト白血球エラスターゼ阻害についての試験結果よ
り算出でき、そして更に、特定の患者について、患者の
健康状態、適用経路、治療期間及び患者の反応に依存し
て変更できる。従って、式Ｉの化合物の有効薬用量は、
すべての適切な基準を考慮した後に、患者に代わって臨
床医の最良の判断によってのみ決定できる。
【００７７】式Ｉの化合物は、錠剤類、カプセル剤類、
水剤類、懸濁剤類及び乳剤類を包含する固形状又は液状
剤形であることができ、かつ１つ以上の適する添加剤を
包含できる、経口、非経口もしくはエアロゾル吸入投与
用の薬用組成物にそれを組入れることにより薬用の用途
用に製造できる。経口投与用の錠剤もしくはカプセル剤
の剤形での固形単位の薬用量が好ましい。この用途用の
添加剤は、例えば、１つ以上の炭酸カルシウム、澱粉、
乳糖、タルク、ステアリン酸マグネシウム及びアラビア
ゴムである。これらの組成物は、伝統的な薬用技術によ
り製造される。
水剤類、懸濁剤類及び乳剤類を包含する固形状又は液状
剤形であることができ、かつ１つ以上の適する添加剤を
包含できる、経口、非経口もしくはエアロゾル吸入投与
用の薬用組成物にそれを組入れることにより薬用の用途
用に製造できる。経口投与用の錠剤もしくはカプセル剤
の剤形での固形単位の薬用量が好ましい。この用途用の
添加剤は、例えば、１つ以上の炭酸カルシウム、澱粉、
乳糖、タルク、ステアリン酸マグネシウム及びアラビア
ゴムである。これらの組成物は、伝統的な薬用技術によ
り製造される。
【００７８】
【発明の効果】本発明の化合物は、タンパク質分解酵素
阻害剤として有用である。
阻害剤として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 417/12 9051−4Ｃ 471/04 １１７ Ａ 8829−4Ｃ // Ｃ１２Ｎ 9/99 (72)発明者 アルバート ジョセフ ミューラ アメリカ合衆国，ニューヨーク 14626, ロチェスター，バーラド アベニュ 334
Claims (11)
- 【請求項１】 次式 【化１】 （上式中、 Ｒ1 は、水素、ハロ、低級アルキル、ペルフルオロ低級
アルキル、ペルクロロ低級アルキル、低級アルケニル、
低級アルキニル、シアノ、アミノ、低級アルキルアミ
ノ、ジ低級アルキルアミノ、低級アルコキシ、ベンジル
オキシ、低級アルコキシカルボニルもしくはフェニルで
あり、 Ｒ2 は、５−、６−及び７−位のいずれかもしくはすべ
ての１〜３個の置換基であり、かつ水素、低級アルキ
ル、シクロアルキル、アミノ低級アルキル、低級アルキ
ルアミノ低級アルキル、ジ低級アルキルアミノ低級アル
キル、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ低級ア
ルキル、ペルフルオロ低級アルキル、ペルクロロ低級ア
ルキル、ホルミル、シアノ、カルボキシ、アミノカルボ
ニル、Ｒ−オキシカルボニル、Ｂ＝Ｎ、１−低級アルキ
ル−２−ピロリル、低級アルキルスルホニルアミノ、ペ
ルフルオロ低級アルキルスルホニルアミノ、ペルクロロ
低級アルキルスルホニルアミノ、ニトロ、ヒドロキシ、
Ｒ−カルボニルオキシ、低級アルコキシ、シクロアルコ
キシ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシ、ヒドロキシ低級アルコ
キシ、ポリヒドロキシ低級アルコキシもしくはそれらの
アセタール又はケタール、低級アルコキシ低級アルコキ
シ、ポリ低級アルコキシ低級アルコキシ、ヒドロキシポ
リ低級アルキレンオキシ、低級アルコキシポリ低級アル
キレンオキシ、Ｂ＝Ｎ−カルボニルオキシ、カルボキシ
低級アルコキシ、Ｒ−オキシカルボニル低級アルコキ
シ、メチレンジオキシ、Ｒ−チオ、Ｒ−スルフィニル、
Ｒ−スルホニル、ペルフルオロ低級アルキルスルホニ
ル、ペルクロロ低級アルキルスルホニル、アミノスルホ
ニル、低級アルキルアミノスルホニル、ジ低級アルキル
アミノスルホニル並びにハロ（ここで、Ｒは、低級アル
キル、フェニルもしくはフェニル低級アルキルであり、
フェニルは、低級アルキル、Ｂ＝Ｎ−カルボニル、Ｂ＝
Ｎ、低級アルコキシ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシ及びハロ
から成る群より選ばれる１〜３個の置換基を担持でき、
そしてＢ＝Ｎは、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級
アルキルアミノ、カルボキシ低級アルキルアミノ、１−
ピロリジニル、１−ピペリジニル、１−アゼチジニル、
４−モルホリニル、１−ピペラジニル、４−低級アルキ
ル−１−ピペラジニル、４−ベンジル−１−ピペラジニ
ルもしくは１−イミダゾリルである）から成る群より選
ばれ、 Ｒ3 は、水素、低級アルキルもしくはフェニルであり、 Ｘは、水素、ニトロ、ハロ、低級アルキル、ペルフルオ
ロ低級アルキル、ペルクロロ低級アルキル、フェニル、
フェニル低級アルキル、フェニルカルボニル、ピリジル
低級アルキル、ホルミル、低級アルカノイル、カルボキ
シ、低級アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、低
級アルキルアミノカルボニル、ジ低級アルキルアミノカ
ルボニル、シアノ、Ｂ＝Ｎ、Ｂ＝Ｎ−低級アルキル、Ｂ
＝Ｎ−低級アルカノイル、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシカル
ボニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、フェニルオキ
シ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシ、低級アルキルチオ、フェ
ニルチオ、低級アルキルスルホニル、フェニルスルホニ
ルもしくはＢ＝Ｎ−スルホニル（ここで、フェニルは、
未置換であるか又は低級アルキル、低級アルコキシ及び
ハロから成る群より選ばれる１〜３個の置換基を担持で
き、そしてＢ＝Ｎは、アミノ、低級アルキルアミノ、ジ
低級アルキルアミノ、カルボキシ低級アルキルアミノ、
１−ピロリジニル、１−ピペリジニル、１−アゼチジニ
ル、４−モルホリニル、１−ピペラジニル、４−低級ア
ルキル−１−ピペラジニル、４−ベンジル−１−ピペラ
ジニルもしくは１−イミダゾリルである）であり、そし
て−Ｙ−は、単環式もしくは二環式、置換もしくは未置
換の炭素環系又は複素環系の残りの原子である）で示さ
れる化合物又は化合物が塩基性官能基を有する場合には
薬用条件に合ったそれらの酸付加塩もしくは化合物が酸
性官能基を有する場合には薬用条件に合ったそれらの塩
基付加塩。 - 【請求項２】 −Ｙ−が、−（ＣＨ2 ）m −，−Ｃ（＝
Ｏ）−，−（ＣＨ2）m −Ｏ−，−ＣＨＲ−Ｏ−，−Ｃ
Ｒ2 −Ｏ−，−Ｃ〔（ＣＨ2 ）n 〕−Ｏ−，−Ｃ〔ＣＨ
2 ＣＨ2 Ｎ（Ｒ）ＣＨ2 ＣＨ2 〕−Ｏ−，−（ＣＨ2 ）
m −Ｎ（Ｒ′）−，−ＣＨＲ−Ｎ（Ｒ′）−，−ＣＲ2
−Ｎ（Ｒ′）−，−Ｃ（Ｒ′）＝Ｃ（Ｒ′）−Ｏ−，−
Ｃ（Ｒ′）＝Ｃ（Ｒ′）−Ｎ（Ｒ′）−，−Ｃ（＝Ｏ）
−Ｃ（Ｒ″）＝Ｃ（Ｒ″）−，−Ｃ（Ｚ′）＝Ｃ
（Ｚ′）−，−Ｃ（Ｚ′）＝Ｃ（Ｚ′）−Ｏ−，−Ｃ
（Ｚ′）＝Ｃ（Ｚ′）−Ｎ（Ｒ′）−，−Ｎ（Ｚ″）−
Ｃ（Ｚ″）＝Ｎ−もしくは−Ｎ＝Ｃ（Ｚ″）−Ｎ
（Ｚ″）−（式中、ｍは１，２，３もしくは４であり、
ｎは３，４もしくは５であり、Ｒは同一もしくは異なる
低級アルキル、フェニルもしくはフェニル低級アルキル
であり、Ｒ′はＨもしくはＲであり、Ｒ″はＨもしくは
Ｒであるか又はこれらのＲ″基が結合している炭素原子
と合わさったＲ″基はフラノであり、これらのＺ′基が
結合している炭素原子と合わさったＺ′基はベンゾ、フ
ラノ、ピリド、ピリミジノもしくはピリダジノであり、
そしてこれらのＺ″基が結合している炭素原子もしくは
窒素原子と合わさったＺ″基はピリド、ピリミジノもし
くはピリダジノであり、ここでフェニル、ベンゾ、フラ
ノ、ピリド、ピリミジノもしくはピリダジノは、低級ア
ルキル、Ｂ＝Ｎ−カルボニル、Ｂ＝Ｎ、低級アルコキ
シ、Ｂ＝Ｎ−低級アルコキシ及びハロから成る群より選
ばれる１〜３個の置換基を担持でき、ここでＢ＝Ｎは、
アミノ、低級アルキルアミノ、ジ低級アルキルアミノ、
（カルボキシ低級アルキル）アミノ、１−ピロリジニ
ル、１−ピペリジニル、１−アゼチジニル、４−モルホ
リニル、１−ピペラジニル、４−低級アルキル−１−ピ
ペラジニル、４−ベンジル−１−ピペラジニルもしくは
１−イミダゾリルである）である請求項１に記載の化合
物。 - 【請求項３】 Ｒ1 が低級アルキルであり、Ｒ2 が水素
もしくは低級アルコキシであり、Ｒ3 が水素でありかつ
Ｘが水素、ハロ、低級アルキル、フェニル、フェニル低
級アルキル、フェニルカルボニル、低級アルカノイル、
Ｂ＝Ｎ、Ｂ＝Ｎ−低級アルキルもしくはフェニルオキシ
である請求項２に記載の化合物。 - 【請求項４】 Ｒ1 がイソプロピルであり、Ｒ2 が水素
もしくは６−メトキシでありかつＸが水素、クロロ、メ
チル、フェニル、フェニルメチル、フェニルカルボニ
ル、アセチル、１−ピペリジニル、４−モルホリニルメ
チルもしくはフェノキシである請求項３に記載の化合
物。 - 【請求項５】 次式 【化２】 （上式中、Ｒ2 は水素もしくはメトキシであり、そして
−Ｚは下記構造式 【化３】 【化４】 の１つで示される）で示される請求項４に記載の化合
物。 - 【請求項６】 次式 【化５】 （上式中、Ｑはクロロもしくはブロモである）で示され
る対応する化合物を、塩基の存在下次式 【化６】 で示される対応する化合物と、又は対応する式III の化
合物の塩基性塩と縮合せしめる工程を含んで成る請求項
１に記載の式Ｉの化合物の製造方法。 - 【請求項７】 −Ｙ−が−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（Ｒ″）＝Ｃ
（Ｒ″）−であり、これらのＲ″基が結合している炭素
原子と合わさったＲ″基がフラノでありかつＸが低級ア
ルカノイルである請求項２に記載の式Ｉの化合物の製造
方法であって、対応する２−（４，７−ジメトキシ−５
−低級アルカノイルイルベンゾフラン−６−イル）オキ
シ−Ｒ3 −メチル−４−Ｒ1 −５，６もしくは７−Ｒ2
−サッカリンをセリウム（IV）塩で酸化せしめる工程を
含んで成る製造方法。 - 【請求項８】 タンパク質分解酵素阻害濃度の請求項１
に記載の式Ｉの化合物及び薬用キャリアーを含んで成る
薬用組成物。 - 【請求項９】 タンパク質分解酵素阻害濃度の請求項２
〜５のいずれかに記載の化合物及び薬用キャリアーを含
んで成る薬用組成物。 - 【請求項１０】 請求項１に記載の式Ｉの化合物を用い
た変性疾患の治療を必要とする患者への変性疾患の治療
用の医薬品製剤。 - 【請求項１１】 請求項２〜５のいずれかに記載の化合
物を用いた変性疾患の治療を必要とする患者への変性疾
患の治療用の医薬品製剤。
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