JPH053480Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、シリコンウエハー、薄膜、その他の
物品を吸着固定したり、吸着搬送するために使用
する吸引チヤツクプレートに関する。

〔従来の技術〕

従来、シリコンウエハー、薄膜、その他の物品
に適当な加工を施す際に該物品を固定する手段と
して、或いは該物品を搬送するための手段とし
て、該物品（以下、被吸着物という）を吸引保持
する吸引チヤツクプレートが使用されており、こ
の吸引チヤツクプレートには金属焼結体、セラミ
ツク焼結体等が使用されている。これらの焼結体
は、第５図に断面を示し、第６図にその表面を示
すように、異形粉体１を焼結したものであり、焼
結後、その焼結体の表面２をフラツトに加工し、
被吸着物の吸着面としている。

〔考案が解決しようとする問題点〕

ところが、従来の吸引チヤツクプレートは異形
粉体の焼結体で構成されているため、次のような
問題点があつた。即ち、 (1) 第６図に示すように表面（吸着面）における
開口部（ハツチングで示す部分）が不規則であ
るため、均一な力で吸着できない。

(2) 表面（吸着面）における開口率は吸引力に大
きい影響を与えるが、この開口率が少ない。ま
た、この開口率は、フラツトに加工する位置に
よつて不規則に異なり、開口率の調節が難し
い。

(3) 異形粉体が大きい通気抵抗を与えるため、通
気性が悪く、従ってそのチヤツクプレートを吸
引源に接続されたホルダーに組み込んだ時、そ
のチヤツクプレートの下面の広い面積部分から
吸引する必要があり、チヤツクプレート下面に
対向するホルダー部分に特別な通気路を形成す
る必要がある。

(4) 空孔が複雑な構造であるため、ゴミ、ほこり
等による目ずまりを生じやすく、また、洗浄が
困難である。

本考案はかかる問題点を解決すべく為されたも
ので、均一な開口部を備え、開口率の調整が容易
で且つ通気性のよい、また目ずまりを生じにくく
洗浄の容易な吸引チヤツクプレートを提供するこ
とを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成すべくなされた本考案は、球体
粉を焼結し、その表面をフラツト加工してなる吸
引チヤツクプレートを要旨とする。ここで、球体
粉とは、球体状若しくは球体に近い形状の粉体を
意味するものであり、必ずしも正確な球体状の粉
体に限定するものではない。

〔実施例〕

以下、図面に示す本考案の実施例を参照して本
考案を更に詳細に説明する。

第１図は本考案の実施例による吸引チヤツクプ
レートを備えた吸引保持具を示す断面図であり、
３は吸引チヤツクプレート、３Ａは吸着面、４は
この吸引チヤツクプレート３を装着するホルダ
ー、５は吸引源（図示せず）に接続された吸引
穴、６はホルダー４の底面と吸引チヤツクプレー
ト３との間に通気路を形成するために配置された
金網である。吸引チヤツクプレート３は、第２図
に断面を示し、第３図に上面を示すように、ほぼ
同じ大きさの球体粉８を焼結して板状とし、その
表面３Ａを、研削、ラツプ加工等で空孔の回復を
計りながらフラツト加工して吸着面としたもので
ある。

ここで、吸引チヤツクプレート３には、ほぼ同
じ大きさの球体粉８を使用しているので、この球
体粉８は規則正しく配列されており、従ってこれ
をフラツト加工して成形した吸着面３Ａは、第４
図に示すように、球体粉８のフラツト加工面８Ａ
が均一に配列され、ハツチングで示す開口部８Ｂ
は均一となつている。かくして、真空ポンプ等で
第１図の吸引穴５を吸引し、この吸引チヤツクプ
レート３に真空を作用させた時、吸着面３Ａにお
いて均一な吸着が行われる。また、この吸着面３
Ａにおける開口率は、球体粉のフラツト加工位置
によつて大きく異なる。即ち、第２図において、
球体粉８をその頂点付近でフラツト加工した場合
には、フラツト加工面８Ａが小さく、開口率が大
きくなるが、球体粉８をその中央でフラツト加工
した場合には、フラツト加工面８Ａが大きく、開
口率が小さくなる。このため、球体粉８のフラツ
ト加工位置を調整することにより、吸着面の開口
率を約９〜70％の範囲内で任意に調節可能であ
り、所望の吸引力を得ることができる。更に、本
考案の吸引チヤツクプレート３は球体粉を使用し
ているので、通気抵抗が小さく、大きい吸引力を
作用させることができ、また、横方向にも空気が
通り易いので、第１図における金網６を省略し、
吸引チヤツクプレート３とホルダー４底面との間
の通気路をなくし、吸引穴５から直接吸引チヤツ
クプレート３に真空を作用させる構成としても吸
引保持が可能である。また、空孔が単純な形状で
あるので、ゴミ、ほこり等が詰まりにくく、詰ま
つたとしても洗浄が容易である。

本考案において使用する球体粉８は、第２図、
第３図に示すように真球状のものとすると、完全
に規則正しく配列することができ好適であるが、
必ずしもこのような真球状のものに限定されず、
多少いびつな球状のものであつてもよい。多少い
びつな球状の粉体でも、異形粉体に比べると、規
則正しく配列して焼結することが可能であり、そ
の表面をフラツト加工することにより、比較的均
一な開口部を得ることができ、且つその開口率を
調整可能である。球体粉８の材料としては、特に
限定されるものでなく、金属、セラミツク等焼結
可能なものを任意に使用可能である。球体粉８の
大きさとしては、50〜500μm程度が好適である。
50μmより小さいと、空隙が小さすぎて抵抗が大
きくなり、且つフラツト加工時に目詰まりを起こ
すことがある。また、500μmよりも大きいと、製
造コストが高くなり、また、ピツチ、目の荒さが
大きくなりすぎることがある。

〔考案の効果〕

以上の説明から明らかなように、本考案の吸引
チヤツクプレートは、球体粉を焼結し、その表面
をフラツト加工して吸着面としたものであるの
で、吸着面での均一な吸着が可能であり、且つ開
口率を容易に調整して吸着力をコントロールする
ことができ、しかも横方向にも通気性が良いの
で、その裏面に特別な通気路を形成しなくても良
好な吸着が可能であり、更に、ゴミ、ほこり等に
よる詰まりを生じにくく、洗浄が容易である等の
効果を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例による吸引チヤツク
プレートを備えた吸引保持具の断面図、第２図は
その吸引チヤツクプレートの拡大断面図、第３図
はその上面図、第４図は吸着面のみを示す平面
図、第５図は従来の吸引チヤツクプレートの拡大
断面図、第６図はその吸着面の平面図である。 １……異形粉体、３……吸引チヤツクプレー
ト、３Ａ……吸着面、４……ホルダー、５……吸
引穴、６……金網、８……球体粉、８Ａ……フラ
ツト加工面、８Ｂ……開口部。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 球体粉を焼結し、その表面をフラツト加工して
   なる吸引チヤツクプレート。