JPH0535157B2 - - Google Patents
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- JPH0535157B2 JPH0535157B2 JP60294977A JP29497785A JPH0535157B2 JP H0535157 B2 JPH0535157 B2 JP H0535157B2 JP 60294977 A JP60294977 A JP 60294977A JP 29497785 A JP29497785 A JP 29497785A JP H0535157 B2 JPH0535157 B2 JP H0535157B2
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- Japan
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- deoxy
- compound
- triphenylmethyl
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- trifluoromethyluridine
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
- C07H19/00—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof
- C07H19/02—Compounds containing a hetero ring sharing one ring hetero atom with a saccharide radical; Nucleosides; Mononucleotides; Anhydro-derivatives thereof sharing nitrogen
- C07H19/04—Heterocyclic radicals containing only nitrogen atoms as ring hetero atom
- C07H19/06—Pyrimidine radicals
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- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Biotechnology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Genetics & Genomics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、新規な2′−デオキシ−５−トリフル
オロメチルウリジン誘導体に関する。本発明の
2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン
誘導体は、優れた制癌作用を有する一般式 〔式中、Ｒは低級アルキル基又はベンジル基を、
Ｙは水素原子又はベンゾイル基を示す。〕 で表わされる2′−デオキシ−５−トリフルオロメ
チルウリジン誘導体を製造するための中間体とし
て有用である。 従来の技術及びその問題点 従来、上記一般式（）で表わされる2′−デオ
キシ−５−トリフルオロメチルウリジン誘導体
は、2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジンを出発原料とし、これに安息香酸ハライドを
反応させて式 で表わされる３−ベンゾイル−2′−デオキシ−５
−トリフルオロメチルウリジンを得、次いで得ら
れる一般式（）の化合物に酸化銀等の金属酸化
物触媒の存在下アルキルハライド又はベンジルハ
ライドを反応させて一般式 〔式中、Ｒは前記に同じ。〕 で表わされる３−ベンゾイル−2′−デオキシ−５
−トリフルオロメチルウリジンのモノエーテル誘
導体を得るか、或は更にこの一般式（′）の化
合物に酸又はアルカリを作用させて脱ベンゾイル
化反応を行なうことにより製造されている（特開
昭59−216899号公報参照）。 しかしながら、上記従来方法には化合物（′）
を得る工程において、一般式 〔式中、Ｒは前記に同じ。〕 で表わされる化合物等が副生するため化合物
（）から化合物（′）を得る収率が10％以下と
非常に低いという問題点がある。加えて、化合物
（′）と（）を分離するためにカラムクロマト
グラフイー等の使用が必要で操作が煩雑であるこ
と、触媒として用いる酸化銀等が高価であること
等の問題点もある。従つて、上記従来方法は、工
業的製造法としては不適当であつた。 解決手段 本発明者は、上記問題点が解消された化合物
（）の好適な工業的製造法を開発するべく鋭意
研究した。その結果、この目的を達成できる、化
合物（）製造のための新規中間体を見出し、本
発明を完成するに至つた。 発明の開示 本発明は、一般式 〔式中、Trはトリフエニルメチル基を、Ｒは低
級アルキル基又はベンジル基を示す。〕 で表わされる2′−デオキシ−５−トリフルオロメ
チルウリジン誘導体に係る。 上記一般式（）で表わされる本発明化合物
は、容易に且つ極めて高収率で化合物（）に導
くことができる。また、その際煩雑な分離操作は
不要で、高価な触媒を用いる必要もない。従つ
て、化合物（）の好適な工業的製造に極めて有
用である。 上記一般式（）中、Ｒで表わされる低級アル
キル基としては炭素数１〜６のアルキル基、例え
ばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル
基等を挙げることができる。 一般式（）で表わされる本発明化合物は、例
えば下記反応工程式Ａに従つて製造できる。 〔式中、Tr及びＲは前記に同じ。Ｘはヨウ素原
子又は臭素原子を示す。〕 即ち、一般式（）で表わされる2′−デオキシ
−５−ヨウドウリジン誘導体をハロゲノトリフル
オロメタンで金属銅の存在下にトリフルオロメチ
ル化反応に付することにより製造できる。ここで
用いる一般式（）で表わされる化合物は、新規
化合物であり、例えば後記参考例１及び２の如く
して製造できる。 上記トリフルオロメチル化反応は、通常、適当
な溶媒中或は無溶媒で、ハロゲノトリフルオロメ
タンと金属銅を用いて、適当な密閉容器中例えば
オートクレーブ中、封管中等で行なわれる。 ここで用いられる溶媒としては、反応に影響を
与えない限り限定されないが、具体的にはアセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、リン酸ヘキサメチルトリアミド
（HMPA）等の非プロトン性極性溶媒、トリエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチ
ルアミノピリジン等のアミン類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、３−ペンタノ
ン等のケトン類を挙げることができ、これらを単
独で或は複数混合して用いることができる。 ハロゲノトリフルオロメタンの使用量は、ハロ
ゲン原子の種類により変動し一概には言及できな
いが、通常、一般式（）で表わされる化合物に
対し１乃至100倍モル程度、好ましくは２乃至50
倍モルが望ましい。金属銅の使用量も、ハロゲノ
トリフルオロメタンの種類により一概に言及はで
きないが、一般式（）で表わされる化合物に対
し１乃至100倍モル程度、好ましくは２乃至80倍
モルが望ましい。反応温度は、ハロゲノトリフル
オロメタンの種類により異なるが、室温乃至200
℃程度、好ましくは50乃至160℃が望ましい。反
応時間は、ハロゲノトリフルオロメタンの種類と
反応温度により異なるが、通常は24時間以内で充
分である。 尚、上記トリフルオロメチル化反応に際して
は、予めハロゲノトリフルオロメタンと金属銅を
反応させて成績体を得た後、一般式（）で表わ
される化合物と反応させることも可能である。ハ
ロゲノトリフルオロメタンと金属銅の反応成績体
と、一般式（）で表わされる化合物との反応に
おいては、反応温度は室温乃至100℃程度が好ま
しい。反応時間は、反応温度により異なるが、通
常15時間以内で充分である。 斯くして得られる本発明化合物（）は、例え
ば下記反応工程式Ｂに従つて化合物（）に導く
ことができる。 〔式中、Tr及びＲは前記に同じ。〕 即ち、本発明化合物（）を後記参考例に示す
反応条件下に脱トリフエニルメチル化を行ない一
般式（″）で表わされる化合物を得るか、又は
本発明化合物（）を塩基の存在下ベンゾイル化
し、一般式（）で表わされる化合物を得、更に
脱トリフエニルメチル化を行なつて化合物（′）
を得ることができる。上記各工程は、いずれもほ
ぼ定量的に進行する。尚、上記反応工程式Ｂで用
いる本発明化合物（）としては、前記トリフル
オロメチル化反応の反応混合物から分離したもの
でも勿論良いが、該混合物をそのまま用いても良
い。 以上の各方法で製造される各化合物は、通常公
知の精製手段、例えば再結晶等により、単離精製
することができる。 実施例 本発明を詳細に説明するための実施例及び参考
例を掲げる。尚、参考例４は、本発明化合物を経
由するものの単離することなく脱トリフエニルメ
チル化反応を行ない、有用な化合物を導いた上で
簡単な操作で単離する方法の一例を示すものであ
る。 参考例 １ 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジンの製造 5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デオキシ−
５−ヨウドウリジン23.9ｇ（0.04モル）及び水素
化ナトリウム2.4ｇ（0.1モル）にテトラヒドロフ
ラン200mlを加え、室温下0.5時間攪拌後、ヨウ化
エチル9.4ｇ（0.06モル）を加え、50℃の温度下、
６時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、水を加え
て酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付し、クロロホルム溶出部より
3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−
2′−デオキシ−５−ヨウドウリジン20.5ｇ（収率
82％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（TMS内部標準、DMSO
−d6中） δppm；11.70（1H、ｓ、NH）、8.00（1H、ｓ、
H6）、7.5〜7.1（15H、ｍ、芳香族Ｈ）、6.00
（1H、ｔ、H1′）、4.1〜3.9（2H、ｍ、H3′及び
H4′）、3.38（2H、ｑ、−OCH2 CH3）、3.1〜3.4
（2H、ｍ、H5′）、2.28（1H、broad ｔ、H2′）、
1.07（3H、ｔ、−COH2CＨ 3）。 参考例 ２ 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジンの製造 5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デオキシ−
５−ヨウドウリジン29.8ｇ（0.05モル）及び水素
化ナトリウム３ｇ（0.125モル）にテトラヒドロ
フラン250mlを加え、室温下0.5時間攪拌後、臭化
ベンジル12.8ｇ（0.075モル）を加え、50℃の温
度下、４時間攪拌した。メタノールを加えて過剰
の水素化ナトリウムを分解し、溶媒を減圧下留去
した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、抽
出液を水洗後、減圧下溶媒を留去した。残渣をジ
クロルメタン−メタノールより再結晶して3′−Ｏ
−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−
デオキシ−５−ヨウドウリジン30.8ｇ（収率90
％）を得た。融点189〜191℃。 参考例 ３ 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−トリフ
ルオロメチルウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジン3.14ｇ（５ミリモル）に２％塩酸−メタノー
ル20mlを加え、室温下３時間攪拌した。反応物を
トリエチルアミンで中和後、溶媒を減圧下留去
し、水を加え、塩化メチレンで抽出した。抽出液
を水洗し、溶媒を減圧下に留去した。残渣にメタ
ノールを加え、析出する結晶を去した後、母液
を減圧濃縮し、クロロホルムを加えて析出する結
晶を取して融点157〜158℃を示す3′−Ｏ−ベン
ジル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウ
リジン1.78ｇ（収率92％）を得た。 参考例 ４ 3′−Ｏ−エチル−2′−デオキシ−５−トリフル
オロメチルウリジンの製造 銅末3.0ｇ（0.047モル）にジメチルホルムアミ
ド(3)／ピリジン(1)24mlを加え、臭化トリフルオロ
メタン10.8ｇ（0.072モル）を導入して、封管中、
140℃の温度下、５時間攪拌した。冷却後、3′−
Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−
デオキシ−５−ヨウドウリジン2.25ｇ（3.6ミリ
モル）を加え、60℃で５時間攪拌した。反応物よ
り減圧下溶媒を留去した後、塩化メチレンで抽出
した。抽出液より溶媒を減圧下留去し、残渣に２
％塩酸−メタノール25mlを加えて室温下３時間攪
拌した。反応物をトリエチルアミンで中和後、溶
媒を減圧下留去し、水を加え、塩化メチレンで抽
出した。抽出液を水洗し、溶媒を減圧下に留去し
た。残渣にメタノールを加え、析出する結晶を
去した後、母液を減圧濃縮し、クロロホルムを加
えて析出する結晶を取して融点181〜183℃を示
す3′−Ｏ−エチル−2′−デオキシ−５−トリフル
オロメチルウリジン0.61ｇ（収率52％）を得た。 実施例 １ 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジンの製造 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジン1.25ｇ（２
ミリモル）及び銅末2.95ｇ（46ミリモル）に
HMPA20mlを加え、ヨウ化トリフルオロメタン
7.1ｇ（36ミリモル）を導入して、封管中110℃で
20時間攪拌した。反応物を氷水中に注ぎ、エーテ
ル−酢酸エチルで抽出した。抽出液より減圧下溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフイーに付し、クロロホルム（30）／エタノ
ール(1)溶出部より3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリ
フエニルメチル−2′−デオキシ−５−トリフルオ
ロメチルウリジン0.46ｇ（収率37％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（TMS内部標準、DMSO
−d6中） δppm；12付近（1H、broad、NH）、8.13（1H、
ｓ、H6）、7.5〜7.1（15H、ｍ、芳香族Ｈ）、5.95
（1H、ｔ、H1′）、4.04（2H、ｍ、H3′及びH4′）、
3.40（2H、ｑ、−OCH2 CH3）、3.27（2H、ｍ、
H5′）、2.37（1H、ｍ、H2′）、1.07（3H、ｔ、−
COH2CH3 ）。 実施例 ２ 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジンの製造 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジン1.25ｇ（２
ミリモル）及び銅末1.27ｇ（20ミリモル）にジメ
チルホルムアミド(3)／ピリジン(1)20mlを加え、臭
化トリフルオロメタン8.9ｇ（60ミリモル）を導
入して、封管中140℃で20時間攪拌した。溶媒を
減圧下留去して残渣に水を加え、塩化メチレンで
抽出した。抽出液より減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付
し、エーテル(1)／石油エーテル(1)溶出部より3′−
Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−
デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン0.39
ｇ（収率34％）を得た。 実施例 ３ 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウ
リジンの製造 銅末6.4ｇ（0.1モル）及びHMPA25mlにヨウ化
トリフルオロメタン9.8ｇ（0.05モル）を加え、
封管中、120℃で2.5時間攪拌した。窒素ガス気流
下、反応物をセライトで過し、母液に3′−Ｏ−
ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デ
オキシ−５−ヨウドウリジン1.72ｇ（2.5ミリモ
ル）を加え、室温にて10時間攪拌した。反応を氷
水中に注ぎ、エーテル−酢酸エチルで抽出した。
抽出液より溶媒を減圧下留去し、残渣をメタノー
ルで再結晶することにより融点154〜156℃を示す
3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジ
ン0.80ｇ（収率51％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（TMS内部標準、DMSO
−d6中） δppm；11.94（1H、broad、NH）、8.09（1H、ｓ、
H6）、7.5〜7.1（20H、ｍ、芳香族Ｈ）、6.04
（1H、ｔ、H1′）、4.46（2H、ｓ、
オロメチルウリジン誘導体に関する。本発明の
2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン
誘導体は、優れた制癌作用を有する一般式 〔式中、Ｒは低級アルキル基又はベンジル基を、
Ｙは水素原子又はベンゾイル基を示す。〕 で表わされる2′−デオキシ−５−トリフルオロメ
チルウリジン誘導体を製造するための中間体とし
て有用である。 従来の技術及びその問題点 従来、上記一般式（）で表わされる2′−デオ
キシ−５−トリフルオロメチルウリジン誘導体
は、2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジンを出発原料とし、これに安息香酸ハライドを
反応させて式 で表わされる３−ベンゾイル−2′−デオキシ−５
−トリフルオロメチルウリジンを得、次いで得ら
れる一般式（）の化合物に酸化銀等の金属酸化
物触媒の存在下アルキルハライド又はベンジルハ
ライドを反応させて一般式 〔式中、Ｒは前記に同じ。〕 で表わされる３−ベンゾイル−2′−デオキシ−５
−トリフルオロメチルウリジンのモノエーテル誘
導体を得るか、或は更にこの一般式（′）の化
合物に酸又はアルカリを作用させて脱ベンゾイル
化反応を行なうことにより製造されている（特開
昭59−216899号公報参照）。 しかしながら、上記従来方法には化合物（′）
を得る工程において、一般式 〔式中、Ｒは前記に同じ。〕 で表わされる化合物等が副生するため化合物
（）から化合物（′）を得る収率が10％以下と
非常に低いという問題点がある。加えて、化合物
（′）と（）を分離するためにカラムクロマト
グラフイー等の使用が必要で操作が煩雑であるこ
と、触媒として用いる酸化銀等が高価であること
等の問題点もある。従つて、上記従来方法は、工
業的製造法としては不適当であつた。 解決手段 本発明者は、上記問題点が解消された化合物
（）の好適な工業的製造法を開発するべく鋭意
研究した。その結果、この目的を達成できる、化
合物（）製造のための新規中間体を見出し、本
発明を完成するに至つた。 発明の開示 本発明は、一般式 〔式中、Trはトリフエニルメチル基を、Ｒは低
級アルキル基又はベンジル基を示す。〕 で表わされる2′−デオキシ−５−トリフルオロメ
チルウリジン誘導体に係る。 上記一般式（）で表わされる本発明化合物
は、容易に且つ極めて高収率で化合物（）に導
くことができる。また、その際煩雑な分離操作は
不要で、高価な触媒を用いる必要もない。従つ
て、化合物（）の好適な工業的製造に極めて有
用である。 上記一般式（）中、Ｒで表わされる低級アル
キル基としては炭素数１〜６のアルキル基、例え
ばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル
基等を挙げることができる。 一般式（）で表わされる本発明化合物は、例
えば下記反応工程式Ａに従つて製造できる。 〔式中、Tr及びＲは前記に同じ。Ｘはヨウ素原
子又は臭素原子を示す。〕 即ち、一般式（）で表わされる2′−デオキシ
−５−ヨウドウリジン誘導体をハロゲノトリフル
オロメタンで金属銅の存在下にトリフルオロメチ
ル化反応に付することにより製造できる。ここで
用いる一般式（）で表わされる化合物は、新規
化合物であり、例えば後記参考例１及び２の如く
して製造できる。 上記トリフルオロメチル化反応は、通常、適当
な溶媒中或は無溶媒で、ハロゲノトリフルオロメ
タンと金属銅を用いて、適当な密閉容器中例えば
オートクレーブ中、封管中等で行なわれる。 ここで用いられる溶媒としては、反応に影響を
与えない限り限定されないが、具体的にはアセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、リン酸ヘキサメチルトリアミド
（HMPA）等の非プロトン性極性溶媒、トリエチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、ジメチ
ルアミノピリジン等のアミン類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン等のエーテル類、３−ペンタノ
ン等のケトン類を挙げることができ、これらを単
独で或は複数混合して用いることができる。 ハロゲノトリフルオロメタンの使用量は、ハロ
ゲン原子の種類により変動し一概には言及できな
いが、通常、一般式（）で表わされる化合物に
対し１乃至100倍モル程度、好ましくは２乃至50
倍モルが望ましい。金属銅の使用量も、ハロゲノ
トリフルオロメタンの種類により一概に言及はで
きないが、一般式（）で表わされる化合物に対
し１乃至100倍モル程度、好ましくは２乃至80倍
モルが望ましい。反応温度は、ハロゲノトリフル
オロメタンの種類により異なるが、室温乃至200
℃程度、好ましくは50乃至160℃が望ましい。反
応時間は、ハロゲノトリフルオロメタンの種類と
反応温度により異なるが、通常は24時間以内で充
分である。 尚、上記トリフルオロメチル化反応に際して
は、予めハロゲノトリフルオロメタンと金属銅を
反応させて成績体を得た後、一般式（）で表わ
される化合物と反応させることも可能である。ハ
ロゲノトリフルオロメタンと金属銅の反応成績体
と、一般式（）で表わされる化合物との反応に
おいては、反応温度は室温乃至100℃程度が好ま
しい。反応時間は、反応温度により異なるが、通
常15時間以内で充分である。 斯くして得られる本発明化合物（）は、例え
ば下記反応工程式Ｂに従つて化合物（）に導く
ことができる。 〔式中、Tr及びＲは前記に同じ。〕 即ち、本発明化合物（）を後記参考例に示す
反応条件下に脱トリフエニルメチル化を行ない一
般式（″）で表わされる化合物を得るか、又は
本発明化合物（）を塩基の存在下ベンゾイル化
し、一般式（）で表わされる化合物を得、更に
脱トリフエニルメチル化を行なつて化合物（′）
を得ることができる。上記各工程は、いずれもほ
ぼ定量的に進行する。尚、上記反応工程式Ｂで用
いる本発明化合物（）としては、前記トリフル
オロメチル化反応の反応混合物から分離したもの
でも勿論良いが、該混合物をそのまま用いても良
い。 以上の各方法で製造される各化合物は、通常公
知の精製手段、例えば再結晶等により、単離精製
することができる。 実施例 本発明を詳細に説明するための実施例及び参考
例を掲げる。尚、参考例４は、本発明化合物を経
由するものの単離することなく脱トリフエニルメ
チル化反応を行ない、有用な化合物を導いた上で
簡単な操作で単離する方法の一例を示すものであ
る。 参考例 １ 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジンの製造 5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デオキシ−
５−ヨウドウリジン23.9ｇ（0.04モル）及び水素
化ナトリウム2.4ｇ（0.1モル）にテトラヒドロフ
ラン200mlを加え、室温下0.5時間攪拌後、ヨウ化
エチル9.4ｇ（0.06モル）を加え、50℃の温度下、
６時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、水を加え
て酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗後、減圧下
溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付し、クロロホルム溶出部より
3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−
2′−デオキシ−５−ヨウドウリジン20.5ｇ（収率
82％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（TMS内部標準、DMSO
−d6中） δppm；11.70（1H、ｓ、NH）、8.00（1H、ｓ、
H6）、7.5〜7.1（15H、ｍ、芳香族Ｈ）、6.00
（1H、ｔ、H1′）、4.1〜3.9（2H、ｍ、H3′及び
H4′）、3.38（2H、ｑ、−OCH2 CH3）、3.1〜3.4
（2H、ｍ、H5′）、2.28（1H、broad ｔ、H2′）、
1.07（3H、ｔ、−COH2CＨ 3）。 参考例 ２ 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジンの製造 5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デオキシ−
５−ヨウドウリジン29.8ｇ（0.05モル）及び水素
化ナトリウム３ｇ（0.125モル）にテトラヒドロ
フラン250mlを加え、室温下0.5時間攪拌後、臭化
ベンジル12.8ｇ（0.075モル）を加え、50℃の温
度下、４時間攪拌した。メタノールを加えて過剰
の水素化ナトリウムを分解し、溶媒を減圧下留去
した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出し、抽
出液を水洗後、減圧下溶媒を留去した。残渣をジ
クロルメタン−メタノールより再結晶して3′−Ｏ
−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−
デオキシ−５−ヨウドウリジン30.8ｇ（収率90
％）を得た。融点189〜191℃。 参考例 ３ 3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−５−トリフ
ルオロメチルウリジンの製造 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジン3.14ｇ（５ミリモル）に２％塩酸−メタノー
ル20mlを加え、室温下３時間攪拌した。反応物を
トリエチルアミンで中和後、溶媒を減圧下留去
し、水を加え、塩化メチレンで抽出した。抽出液
を水洗し、溶媒を減圧下に留去した。残渣にメタ
ノールを加え、析出する結晶を去した後、母液
を減圧濃縮し、クロロホルムを加えて析出する結
晶を取して融点157〜158℃を示す3′−Ｏ−ベン
ジル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウ
リジン1.78ｇ（収率92％）を得た。 参考例 ４ 3′−Ｏ−エチル−2′−デオキシ−５−トリフル
オロメチルウリジンの製造 銅末3.0ｇ（0.047モル）にジメチルホルムアミ
ド(3)／ピリジン(1)24mlを加え、臭化トリフルオロ
メタン10.8ｇ（0.072モル）を導入して、封管中、
140℃の温度下、５時間攪拌した。冷却後、3′−
Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−
デオキシ−５−ヨウドウリジン2.25ｇ（3.6ミリ
モル）を加え、60℃で５時間攪拌した。反応物よ
り減圧下溶媒を留去した後、塩化メチレンで抽出
した。抽出液より溶媒を減圧下留去し、残渣に２
％塩酸−メタノール25mlを加えて室温下３時間攪
拌した。反応物をトリエチルアミンで中和後、溶
媒を減圧下留去し、水を加え、塩化メチレンで抽
出した。抽出液を水洗し、溶媒を減圧下に留去し
た。残渣にメタノールを加え、析出する結晶を
去した後、母液を減圧濃縮し、クロロホルムを加
えて析出する結晶を取して融点181〜183℃を示
す3′−Ｏ−エチル−2′−デオキシ−５−トリフル
オロメチルウリジン0.61ｇ（収率52％）を得た。 実施例 １ 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジンの製造 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジン1.25ｇ（２
ミリモル）及び銅末2.95ｇ（46ミリモル）に
HMPA20mlを加え、ヨウ化トリフルオロメタン
7.1ｇ（36ミリモル）を導入して、封管中110℃で
20時間攪拌した。反応物を氷水中に注ぎ、エーテ
ル−酢酸エチルで抽出した。抽出液より減圧下溶
媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフイーに付し、クロロホルム（30）／エタノ
ール(1)溶出部より3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリ
フエニルメチル−2′−デオキシ−５−トリフルオ
ロメチルウリジン0.46ｇ（収率37％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（TMS内部標準、DMSO
−d6中） δppm；12付近（1H、broad、NH）、8.13（1H、
ｓ、H6）、7.5〜7.1（15H、ｍ、芳香族Ｈ）、5.95
（1H、ｔ、H1′）、4.04（2H、ｍ、H3′及びH4′）、
3.40（2H、ｑ、−OCH2 CH3）、3.27（2H、ｍ、
H5′）、2.37（1H、ｍ、H2′）、1.07（3H、ｔ、−
COH2CH3 ）。 実施例 ２ 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリ
ジンの製造 3′−Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−ヨウドウリジン1.25ｇ（２
ミリモル）及び銅末1.27ｇ（20ミリモル）にジメ
チルホルムアミド(3)／ピリジン(1)20mlを加え、臭
化トリフルオロメタン8.9ｇ（60ミリモル）を導
入して、封管中140℃で20時間攪拌した。溶媒を
減圧下留去して残渣に水を加え、塩化メチレンで
抽出した。抽出液より減圧下溶媒を留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイーに付
し、エーテル(1)／石油エーテル(1)溶出部より3′−
Ｏ−エチル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−
デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン0.39
ｇ（収率34％）を得た。 実施例 ３ 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウ
リジンの製造 銅末6.4ｇ（0.1モル）及びHMPA25mlにヨウ化
トリフルオロメタン9.8ｇ（0.05モル）を加え、
封管中、120℃で2.5時間攪拌した。窒素ガス気流
下、反応物をセライトで過し、母液に3′−Ｏ−
ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デ
オキシ−５−ヨウドウリジン1.72ｇ（2.5ミリモ
ル）を加え、室温にて10時間攪拌した。反応を氷
水中に注ぎ、エーテル−酢酸エチルで抽出した。
抽出液より溶媒を減圧下留去し、残渣をメタノー
ルで再結晶することにより融点154〜156℃を示す
3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジ
ン0.80ｇ（収率51％）を得た。 核磁気共鳴スペクトル（TMS内部標準、DMSO
−d6中） δppm；11.94（1H、broad、NH）、8.09（1H、ｓ、
H6）、7.5〜7.1（20H、ｍ、芳香族Ｈ）、6.04
（1H、ｔ、H1′）、4.46（2H、ｓ、
【式】）、4.13（2H、ｍ、H3′及
びH4′）、3.24（2H、ｍ、H5′）、2.40（2H、ｍ、
H2′）。 実施例 ４ 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウ
リジンの製造 銅末3.0ｇ（0.047モル）にジメチルホルムアミ
ド(3)／ピリジン(1)24mlを加え、臭化トリフルオロ
メタン5.4ｇ（0.036モル）を導入して、封管中、
140℃で５時間攪拌した。冷却後、3′−Ｏ−ベン
ジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デオキ
シ−５−ヨウドウリジン824mg（1.2ミリモル）を
加え、60℃で10時間攪拌した。反応物より溶媒を
減圧下留去し、残渣を塩化メチレンで抽出した。
抽出液より溶媒を減圧下留去し、残渣をメタノー
ル再結晶することにより融点154〜155℃を示す
3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジ
ン438mg（収率58％）を得た。
H2′）。 実施例 ４ 3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチ
ル−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウ
リジンの製造 銅末3.0ｇ（0.047モル）にジメチルホルムアミ
ド(3)／ピリジン(1)24mlを加え、臭化トリフルオロ
メタン5.4ｇ（0.036モル）を導入して、封管中、
140℃で５時間攪拌した。冷却後、3′−Ｏ−ベン
ジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−2′−デオキ
シ−５−ヨウドウリジン824mg（1.2ミリモル）を
加え、60℃で10時間攪拌した。反応物より溶媒を
減圧下留去し、残渣を塩化メチレンで抽出した。
抽出液より溶媒を減圧下留去し、残渣をメタノー
ル再結晶することにより融点154〜155℃を示す
3′−Ｏ−ベンジル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル
−2′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジ
ン438mg（収率58％）を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、Trはトリフエニルメチル基を、Ｒは低
級アルキル基又はベンジル基を示す。〕 で表わされる2′−デオキシ−５−トリフルオロメ
チルウリジン誘導体。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60294977A JPS62153296A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ２′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン誘導体 |
| PCT/JP1986/000660 WO1987003881A1 (fr) | 1985-12-26 | 1986-12-26 | Derives de 2'-deoxy-5-trifluoromethyluridine et leur procede de preparation |
| EP87900289A EP0252989A1 (en) | 1985-12-26 | 1986-12-26 | 2'-deoxy-5-trifluoromethyluridine derivatives and process for their preparation |
| KR1019870700775A KR880700810A (ko) | 1985-12-26 | 1987-08-25 | 2'-데옥시-5-트리플루오로메틸우리딘 유도체 및 그의 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60294977A JPS62153296A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ２′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62153296A JPS62153296A (ja) | 1987-07-08 |
| JPH0535157B2 true JPH0535157B2 (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=17814755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60294977A Granted JPS62153296A (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | ２′−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン誘導体 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0252989A1 (ja) |
| JP (1) | JPS62153296A (ja) |
| KR (1) | KR880700810A (ja) |
| WO (1) | WO1987003881A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE68920304T2 (de) * | 1988-07-11 | 1995-05-11 | Taiho Pharmaceutical Co Ltd | 5-substituierte uridinderivate und zwischenprodukte. |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3058999B2 (ja) * | 1992-08-06 | 2000-07-04 | 日本特殊陶業株式会社 | 目白配置配線基板 |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60294977A patent/JPS62153296A/ja active Granted
-
1986
- 1986-12-26 EP EP87900289A patent/EP0252989A1/en not_active Withdrawn
- 1986-12-26 WO PCT/JP1986/000660 patent/WO1987003881A1/ja not_active Ceased
-
1987
- 1987-08-25 KR KR1019870700775A patent/KR880700810A/ko not_active Withdrawn
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| J.CHEM.SOC.PERKIN TRANSACTION 1=1980 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1987003881A1 (fr) | 1987-07-02 |
| JPS62153296A (ja) | 1987-07-08 |
| EP0252989A1 (en) | 1988-01-20 |
| KR880700810A (ko) | 1988-04-12 |
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